WO2003100794A1 - Film stratifie conducteur transparent, panneau tactile comprenant un tel film et procede de fabrication dudit film - Google Patents

Film stratifie conducteur transparent, panneau tactile comprenant un tel film et procede de fabrication dudit film Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a transparent conductive laminated film that is simple, has low production cost, and has little coloring, and a touch panel using the same.
  • Touch panels are known as devices that are placed on the display surface of various types of display devices such as liquid crystal display devices and cathode ray tubes (CRTs), and that input information by touching the screen.
  • a typical type of the touch panel there is a resistive touch panel including two electrode substrates in which conductive layers provided on the respective touch panels are opposed to each other.
  • a conventional electrode substrate for a resistive touch panel has a substrate such as a glass plate, a resin plate, or a thermoplastic polymer film, and a conductive layer laminated on the substrate.
  • the conductive layer contains a conductive metal oxide such as indium tin oxide (ITO) or zinc oxide.
  • ITO indium tin oxide
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-218864 discloses a first conventional example in which a refractive index between a conductive layer and a substrate is higher than that of either the conductive layer or the substrate.
  • a laminate having a high refractive index layer having a high refractive index and a laminate having a low refractive index layer having a lower refractive index than any of the conductive layer and the substrate are proposed.
  • the first conventional laminated body the reflectance at a wavelength around 550 nm is reduced as shown in FIG. 5, and the transmittance at a wavelength around 550 nm is reduced as shown in FIG. improves. As a result, the total light transmittance is improved.
  • the problem of the transmitted light turning yellow or brown has not been solved.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 11_2866666 discloses a second conventional example in which a conductive layer and a substrate are interposed. Also proposed a conductive film in which multilayer optical films are laminated.
  • the conductive film of the second conventional example has a large number of optical films, and therefore has a complicated configuration and a high manufacturing cost.
  • An object of the present invention is to provide a transparent conductive laminated film having a simple structure, low production cost, and little coloring of transmitted light, and a touch panel provided with the laminated film.
  • the present inventors can suppress the coloring of transmitted light by laminating a base material, an intermediate refractive index layer having specific properties, and a conductive layer having specific properties in a specific order. It has been found that a transparent conductive material is manufactured, and the present invention has been completed.
  • a light-transmissive substrate an intermediate layer directly or indirectly laminated via at least one layer on one surface or both surfaces of the substrate, and an intermediate layer laminated on the intermediate layer
  • the transparent conductive laminated film provided with a conductive layer is provided.
  • the optical thickness of the intermediate layer is 100 to 175 nm
  • the optical thickness of the conductive layer is 100 to 60 nm
  • the refractive index of the intermediate layer is different from the refractive index of the base material and that of the conductive layer. It is a value between the refractive index and 1.7 to 1.85.
  • a method for producing a transparent conductive laminated film comprises the steps of providing a light-transmitting base material, and having, on one surface of the base material, a refractive index greater than the refractive index of the base material and 1.7 to 1.85. Forming an intermediate layer with an optical thickness of 100-175 nm, and forming a conductive layer having a refractive index larger than that of the intermediate layer on the intermediate layer with a thickness of 100-60 nm. Forming with an optical film thickness.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive laminated film of Example 1 of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic sectional view of a touch panel according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 and 4 are graphs respectively showing the reflectance and the transmittance of the transparent conductive laminated film of the preferred embodiment of the present invention.
  • Figures 5 and 6 show the reflectance and transmittance of the conventional transparent conductive laminated film, respectively.
  • the transparent conductive laminated film of the present embodiment comprises a light-transmissive substrate A and an intermediate refractive index layer B directly or indirectly laminated on one or both sides of the substrate A via one or more layers. And a conductive layer C.
  • the optical thickness of the intermediate refractive index layer B is 100 to 175 nm, and the optical thickness of the conductive layer C is 10 to 60 nm.
  • the refractive index of the intermediate refractive index layer B is 1.7 to 1.85, the refractive index of the substrate A is smaller than the refractive index of the intermediate refractive index layer B, and the refractive index of the intermediate refractive index layer B is the conductive layer.
  • the optical film thickness is the product of the refractive index n of the layer and the thickness d (nxD).
  • the substrate A is not particularly limited as long as it is a known transparent material.
  • the base material A include glass, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate copolymer, triacetyl cellulose, polyolefin, polyamide, polyvinyl chloride, and amorphous polyolefin.
  • PET polyethylene terephthalate
  • polybutylene terephthalate polycarbonate
  • polymethyl methacrylate copolymer polymethyl methacrylate copolymer
  • triacetyl cellulose polyolefin
  • polyamide polyamide
  • polyvinyl chloride polyvinyl chloride
  • amorphous polyolefin amorphous polyolefin.
  • a transparent resin such as resin is preferable.
  • the shape of the substrate A is, for example, a plate shape or a film shape. Plastic films are preferred from the viewpoint of productivity and transportability. From the viewpoints of transparency and productivity, the thickness of the substrate A is preferably from 10 to 500 ⁇ m, and more preferably from 50 to 200 im.
  • the intermediate refractive index layer B Since the intermediate refractive index layer B having a specific refractive index and an optical film thickness is provided between the base material A and the conductive layer C, the transparent conductive laminated film of the present embodiment can emit violet to blue light. The reflection of light is reduced, and coloring of transmitted light is reduced.
  • the refractive index of the intermediate refractive index layer B is 1.7 to 1.85, is larger than the refractive index of the base material A, and is smaller than the refractive index of the conductive layer C.
  • the refractive index of the intermediate refractive index layer B is If it is less than 1.7 or greater than 1.85, the degree of coloring of transmitted light increases.
  • the optical film thickness of the intermediate refractive index layer B is preferably in the range of 100 to 175 nm. By setting the optical film thickness of the intermediate refractive index layer B in a predetermined range, the reflectance of blue light (wavelength around 400 nm) is reduced. When the optical film thickness is less than 10 nm or greater than 17.5 nm, the coloring of transmitted light increases.
  • the material forming the intermediate refractive index layer B is not particularly limited as long as the refractive index does not deviate from a specific range and does not impair the purpose of the present embodiment, and known materials can be used.
  • An inorganic substance or a mixture of an inorganic substance and an organic substance can be used.
  • examples of the inorganic substance include metal oxides such as zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, silane oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, zirconium oxide, indium tin oxide, and antimony tin oxide. Can be used.
  • zirconium oxide, titanium oxide, indium tin oxide, antimony tin oxide and cerium oxide are preferred, and zirconium oxide is most preferred from the viewpoints of refractive index, electrical insulation and light resistance.
  • the method for forming the intermediate refractive index layer B is not particularly limited, and for example, a dry coating method such as a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a plating method, and a wet coating method are employed.
  • a dry coating method such as a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a plating method, and a wet coating method are employed.
  • a dry coating method such as a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a plating method, and a wet coating method are employed.
  • CVD chemical vapor deposition
  • the intermediate refractive index layer B is formed from a mixture of an inorganic substance and an organic substance
  • the inorganic substance is fine particles of the above-described metal oxide and the organic substance is a curable monomer
  • the refractive index of the refractive index layer B can be easily set, and the intermediate refractive index layer B can be easily manufactured.
  • the average particle diameter of the metal oxide fine particles does not greatly exceed the thickness of the intermediate refractive index layer B.
  • the average particle size of the metal oxide fine particles is preferably 0.1 ⁇ or less, more preferably 0.05 m or less, and 0.01 to 0.05 ⁇ m. Most preferably, it is in. 'If the average particle size is large, scattering occurs, and the transparency of the intermediate refractive index layer B is undesirably reduced.
  • the surface of the fine particles can be modified with a force coupling agent.
  • a force coupling agent for example, a metal alkoxide organic acid salt obtained by organically substituting a metal-containing compound such as a silicon compound, aluminum, titanium, zirconium, or antimony can be used.
  • the curable monomer is not particularly limited, and a known one can be used.
  • silicon compounds such as monofunctional or polyfunctional (meth) acrylates and tetraethoxysilane can be used.
  • the curable monomer is preferably an ultraviolet curable monomer from the viewpoints of productivity and layer strength of the intermediate refractive index layer B, and a polyfunctional monomer is used from the viewpoint of improving layer strength. Is preferred. Therefore, a UV-curable and multifunctional acrylate-silicon compound is most preferable.
  • UV-curable and polyfunctional acrylates include, for example, dipentaerythritol hexacrylate, tetramethylol methane tetra acrylate, te tramethylol methane tri ate acrylate, pentaerythritol tonole penta acrylate, and trimethylol propane trilate.
  • Polyfunctional alcohol derivatives such as atalylate, 1,6-hexanediol diatalate, 1,6-bis (3-atalyloe / reoxy-12-hydroxypropyloxy) hexane, polyethylene glycol diacrylate, Urethane acrylates such as pentaerythritol triatalylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer can be used.
  • the curable monomer one or a mixture of two or more of the above-mentioned monomers, or a further addition of other components can be used.
  • the mixing ratio between the metal oxide fine particles and the curable monomer may be 50 Z 50 to 90 Z 10. More preferably, it is more preferably 640 to 8515. If the proportion of the metal oxide fine particles is less than 50 parts by weight, that is, if the proportion of the curable monomer exceeds 50 parts by weight, an intermediate refractive index layer having a desired refractive index cannot be obtained. When the proportion of the metal oxide fine particles exceeds 90 parts by weight, that is, when the proportion of the curable monomer is less than 10 parts by weight, the moldability and strength of the intermediate refractive index layer tend to decrease.
  • an inorganic or organic pigment for example, a polymer, a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a dispersant, a surfactant, Mix additives such as light stabilizer, light absorber, leveling agent be able to.
  • the intermediate refractive index layer B is usually formed by a wet coating method.
  • wet coating methods for example, a mouth coating method, a spin coating method, and a dip coating method are known.
  • Preferred wet coating methods are a roll coating method and a dip coating method, which can form a continuous layer and have high productivity.
  • a conductive circuit of a transparent conductive laminated film is formed on the conductive layer C.
  • the material of the conductive layer is not particularly limited, but it is preferable to use a metal or a metal oxide.
  • a transparent conductive layer containing a metal or metal oxide such as gold, silver, copper, platinum, nickel, tin oxide, indium tin oxide (ITO), and antimony tin oxide is preferable.
  • ITO indium tin oxide
  • ITO indium tin oxide
  • the method for forming the conductive layer C is not particularly limited, and for example, a dry coating method such as an evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a CVD method, or a plating method can be employed. Among them, the vapor deposition method and the sputtering method are particularly preferable from the viewpoint of controlling the thickness of the layer.
  • the layer thickness of the conductive layer C is in the range of 10 to 60 nm in optical film thickness. If the optical film thickness is less than 10 nm, the surface resistance becomes high. On the other hand, when the optical film thickness is larger than 60 nm, the transparency is reduced.
  • a hard coat layer for improving hardness may be provided between the base material A and the intermediate refractive index layer B.
  • at least one or more functional layers may be provided for preventing glare, preventing generation of Newton's rings, improving adhesion between layers, and blocking light of a specific wavelength.
  • an inorganic substance such as silicon oxide, an organic substance such as an ultraviolet curable and multifunctional acrylate, or a mixture thereof can be used.
  • the functional layer preferably has a thickness of 0.005 to 20 and a refractive index of preferably 1.45 to 1.65.
  • the method for forming the functional layer is not particularly limited, and may be a known method such as a dry coating method and a wet coating method. A method can be used.
  • the material of the functional layer may be, for example, an inorganic filler, an inorganic or organic pigment, a polymer, a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a dispersant, a surfactant, Additives such as light stabilizers, light absorbers and leveling agents can be mixed. If a drying step is performed after forming a layer according to the wet coating method, an arbitrary amount of solvent can be added to the material of the functional layer.
  • the wavelength at which the reflectance shows the minimum value is referred to as the minimum reflectance wavelength.
  • the minimum reflectance wavelength is less than 380 nm or greater than 50,000 nm, the effect of reducing the reflection of violet to blue light is small or, conversely, the reflection is increased, so that the transmitted light is colored. Tend to be.
  • the refractive index and the optical film thickness are adjusted so that the minimum reflectance wavelength is in the range of 450 to 500 nm, reflection of violet to blue light can be further reduced. As a result, the coloring of transmitted light is further reduced, and the total light transmittance of the transparent conductive laminated film defined by JIS K73631-1 is 85% or more, which is more preferable.
  • the transparent conductive laminated film can be used for applications requiring high light transmittance and excellent color tone as a conductive material.
  • it can be used for an electronic image display device such as an organic or inorganic electorescence display or a liquid crystal display, and an electrode substrate of a resistive touch panel.
  • pre-coat the transparent conductive laminated film without the conductive layer can be used by providing an adhesive layer and attaching it to the object.
  • the material used for the adhesive layer is not particularly limited, examples thereof include a silicone-based adhesive, an acrylic-based adhesive, an ultraviolet-curable adhesive, and a thermosetting adhesive.
  • a hard coat layer for improving surface strength should be formed on the surface of the transparent conductive laminated film opposite to conductive layer C. Is preferred.
  • This hard coat layer has anti-glare and anti-static
  • One or more functions such as anti-reflection can be provided. Further, the surface of the transparent conductive laminated film opposite to the conductive layer C can be adhered to the back surface of the substrate having the hard coat layer via an adhesive layer.
  • a transparent conductive film When used as an electrode substrate at the lower part of the resistive touch panel (display side), a transparent conductive film can be used as it is or bonded to a base material such as glass or plastic.
  • a transparent conductive film When used as an electrode substrate at the lower part of the resistive touch panel (display side), a transparent conductive film can be used as it is or bonded to a base material such as glass or plastic.
  • at least one or more layers of the anti-reflection layer may be formed directly on the back side or through one or more layers to improve the light transmittance, or a substrate having the anti-reflection layer may be bonded.
  • the anti-reflection layer is not particularly limited, and a known one can be used.
  • the transparent conductive laminated film of the present embodiment has an intermediate refractive index layer B having an optical thickness of 100 to 175 nm on a base material A, and further has an optical thickness of 10 to 60 nm. It is composed of n ra conductive layers C laminated. That is, this transparent conductive laminated film has a configuration in which only the intermediate refractive index layer B is formed between the base material A and the conductive layer C. Therefore, it can be easily manufactured with a simpler configuration than in the case of a multilayer structure.
  • the refractive index of the intermediate refractive index layer B is 1.7 to 1.85, is larger than the refractive index of the base material A, and is smaller than the refractive index of the conductive layer C.
  • the transmittance (total light transmittance) is constant at approximately 85%, and the transmitted light is bright.
  • the refractive index of the intermediate refractive index layer B is set to an intermediate value between the refractive index of the substrate A and the refractive index of the conductive layer C, the reflectance of the transparent conductive laminated film with respect to wavelength is The characteristic curve of is relatively flat (the difference between the maximum value and the minimum value of the reflectance is relatively small). Therefore, coloring of transmitted light can be suppressed.
  • the transmittance is high regardless of the wavelength, and a substantially constant value is obtained, so that the transmitted light can be brightened.
  • the substrate A, the intermediate refractive index layer B, and the conductive layer C are laminated in that order, directly or via at least one layer.
  • the optical thickness of the intermediate refractive index layer B is 100 to 175 nm, and the optical thickness of the conductive layer C is 10 to 60 nm.
  • the refractive index of the intermediate refractive index layer B is 1.7 to 1.85, which is a value between the refractive index of the base material A and the refractive index of the conductive layer C. Therefore, coloring of transmitted light can be reduced. Further, since the number of layers constituting the laminated film is small, the configuration of the transparent conductive laminated film is simple, and the transparent conductive laminated film can be easily and inexpensively manufactured. Therefore, the transparent conductive laminated film of the present embodiment is useful as an electrode substrate for a touch panel.
  • the conductive layer C is formed of a metal or a metal oxide, a good surface resistance can be obtained.
  • the conductive layer C can be easily formed of indium tin oxide by any one method selected from a vapor deposition method, an ion plating method, a CVD method, and a sputtering method.
  • the transparent conductive laminated film can exhibit stable transparency.
  • the intermediate refractive index layer B is a layer formed by a raw material coating method, the film can be easily formed, and the production cost of the transparent conductive laminated film can be reduced.
  • the minimum reflectance wavelength of the transparent conductive laminated film near the conductive layer C and on the side surface is within the wavelength range of 380 to 500 nm. For this reason, blue reflected light in the reflection spectrum can be reduced, and yellow coloration can be reduced.
  • the total light transmittance is reduced because the minimum reflectance wavelength on the surface close to the conductive layer C is in the range of 450 to 500 nm. Without this, the yellow coloration can be reduced.
  • the refractive index of the layers except for the conductive layer was measured according to the following procedure.
  • the applied layer was dried, and the applied layer was cured by irradiating ultraviolet rays under a nitrogen atmosphere (an ultraviolet irradiation device manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., 12 OW high-pressure mercury lamp, 400 mJ).
  • the specular reflection spectrum (380 to 780 nm, + 5 °, 15 °) of the test piece was measured using (product name “U-best 50”, manufactured by JASCO Corporation).
  • the refractive index was calculated according to the following equation (1).
  • ⁇ ⁇ indicates the refractive index of the ⁇ film
  • ⁇ indicates the refractive index of the layer
  • the conductive layer has a refractive index of 1.63 PET film (product name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) so that the optical film thickness (nXd) is about 11 O nm. A layer was formed. The refractive index was measured according to the above procedures (3) and (4).
  • the cured product obtained by ultraviolet-curing the coating liquid H-1 had a refractive index of 1.77.
  • the coating liquid HC-1 was prepared by mixing parts by weight.
  • the cured product obtained by ultraviolet-curing the coating liquid HC-1 had a refractive index of 1.52.
  • the coating liquid HC-1 prepared in Production Example 3 was applied on a PET film with a thickness of 188 ⁇ m (product name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., refractive index: 1.63). It was applied so that the layer thickness after drying was about 5 ⁇ to form a coating liquid layer.
  • the coating liquid layer was irradiated with ultraviolet rays (an ultraviolet irradiation device manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., 120 W high-pressure mercury lamp, 400 mJ) and cured to produce a hard-coated PET film.
  • ultraviolet rays an ultraviolet irradiation device manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., 120 W high-pressure mercury lamp, 400 mJ
  • Tetramethylol methane triacrylate 25 parts by weight, dispersion of silica fine particles (product name: XBA-ST, Nissan Chemical Co., Ltd.) 220 parts by weight, butyl alcohol 900 parts by weight, photopolymerization initiator
  • a dispersion L-11 of silica fine particles was prepared.
  • the cured product obtained by subjecting Dispersion L-11 to UV curing had a refractive index of 1.50.
  • a PET film with a thickness of 188 / ⁇ m (product name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., refractive index: 1.63)
  • the intermediate refractive index layer B was formed by the method.
  • the coating liquid H_1 for the intermediate refractive index layer was applied using a dip coater (manufactured by Sugiyama Genri-Kagaku Kiki Co., Ltd.) in such an amount that the optical film thickness after curing became 160 nm, to form a coating liquid layer .
  • the coating liquid layer was dried, and irradiated with ultraviolet rays (a UV irradiation apparatus manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., 120 W high-pressure mercury lamp, 400 mJ) in a nitrogen atmosphere, and cured to form an intermediate refractive index layer B.
  • the film having the intermediate refractive index layer B was pre-dried at 100 ° C. for 1 hour.
  • Conductive layer C having an optical thickness of 40 nm is deposited on intermediate refractive index layer B by sputtering using a target. Formed.
  • a transparent conductive laminated film 100 of FIG. 1 was produced.
  • the transparent conductive laminated film 100 has a substrate A made of a PET film, an intermediate refractive index layer B laminated on the substrate A, and a conductive layer C laminated on the layer B.
  • the total light transmittance, the minimum reflectance wavelength, the transmitted color difference (a *, b *), and the surface resistance value of the film 100 were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.
  • Total light transmittance was measured using a haze meter (product name: NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
  • the minimum reflectance wavelength is obtained from the spectrum by measuring the reflection spectrum of 380 to 780 nm using a spectrophotometer (product name: UV 1600, manufactured by Shimadzu Corporation). Was.
  • the surface resistance was measured using a surface resistance meter (product name: Loresta MPMC P-T350, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). 1
  • the optical film thickness after curing was changed to 12 O nm. Otherwise in the same manner as in Example 1, a transparent conductive laminated film was produced.
  • the hard-coated PET film produced in Production Example 4 was used instead of the PET film. Otherwise in the same manner as in Example 1, a transparent conductive laminated film was produced.
  • a transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 3, except that the refractive index of the intermediate layer was changed to 1.85.
  • a conductive layer C is formed directly on a PET film having a thickness of 188 m (product name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., refractive index: 1.63) in the same procedure as in Example 1 to obtain a transparent conductive film.
  • a laminated film was prepared.
  • the optical film thickness after curing was changed to 9 O nm. Otherwise in the same manner as in Example 1, a transparent conductive laminated film was produced.
  • the optical film thickness after curing was changed to 190 nm. Otherwise in the same manner as in Example 1, a transparent conductive laminated film was produced.
  • the optical film thickness after curing was changed to 16 O nm, and a dispersion liquid L-1 of silica fine particles (refractive index: 1.50) was used instead of the coating liquid H-1 for the intermediate refractive index layer. Otherwise, a transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1.
  • Comparative Examples 1 and 6 without the intermediate refractive index layer B Comparative Examples 2 and 3 where the optical film thickness of the intermediate refractive index layer is out of the predetermined range, and the refractive index of the intermediate refractive index layer is out of the predetermined range.
  • Comparative Example 4 which is also small, it became clear that the transmitted light was colored by increasing the value of the transmitted color difference, particularly b *.
  • the back surface of the hard-coated PET film prepared in Production Example 4 was uniformly applied to the back surface of the transparent conductive laminated film of Examples 3 and 4 via an acryl-based adhesive sheet (product name: Non-Carrier, manufactured by Lintec Corporation). Bonded.
  • a glass plate having a thickness of 2 mm product name: FL 2.0, manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.
  • the conductive layer of the transparent conductive laminated film and the conductive layer of the glass plate faced each other, and their four sides were adhered to each other with a double-sided adhesive tape, thereby producing a resistive touch panel 200 shown in FIG.
  • the resistive touch panel 200 includes a transparent conductive laminated film 100a in which an intermediate refractive index layer B and a conductive layer C are laminated via a first hard coat layer 1 provided on a base material A.
  • the transparent conductive laminated film 100 a is bonded via an adhesive layer 4 to a PET film 3 having a second hard coat layer 2.
  • Touch panel 200 Includes a conductor layer 6 provided on a glass substrate 5.
  • the conductive layer 6 is joined to the conductive layer C of the transparent conductive laminated film 100a via the double-sided tape 7.
  • the total light transmittance and the transmitted color difference (a *, b *) of the resistive touch panel 200 were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
  • the film of Comparative Example 1 was used in Comparative Example 7
  • the film of Comparative Example 2 was used in Comparative Example 8
  • the film of Comparative Example 3 was used in Comparative Example 9. Otherwise, the procedure of Example 5 was followed to fabricate a resistive touch panel.
  • the total light transmittance and transmitted color difference (a *, b *) of the resistive touch panel were as shown in Table 2.
  • the color display was yellowish.
  • the intermediate refractive index layer B may be composed of two layers. Of the two intermediate refractive index layers B, the refractive index of the layer closer to the base material A is smaller within the range of 1.7 to 1.85, and the refractive index of the layer closer to the conductive layer C is smaller. It is preferable to increase the refractive index. In this case, the reflectance of the transparent conductive laminated film can be made smaller, and the transmittance can be made higher.
  • ⁇ is the wavelength of the reflected light.

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Description

明細書
パネル、 及び、 その透明導電性積層フィルムの製造方法
[技術分野]
本発明は、 簡単で製造コス トが低く、 かつ着色の少ない透明導電性積層フィル ムおよびそれを用いたタツチパネルに関する。
[背景技術]
液晶表示装置や陰極泉管 （C R T ) などの各種ディスプレイ装置の表示面上に 配置され、 画面に触れて情報の入力を行うデバイスとしてタツチパネルが知られ ている。 タツチパネルの代表的な形式として、 各々に設けられた導電層が互いに 対向するように配置された 2枚の電極基板を含む抵抗膜式タツチパネルがある。 従来の抵抗膜式タツチパネル用の電極基板は、 ガラス板、 樹脂板、 熱可塑性高 分子フィルムのような基板と、 その基板上に積層された導電層とを有する。 導電 層は酸化インジウム錫 （I T O ) や酸化亜鉛などの導電性金属酸化物を含有する 従来の電極基板では、 導電層での反射および吸収によって、 比較的短波長域の 可視光の透過率が低下する。 そのため、 全光線透過率が低下し、 タツチパネルの 透過光が黄色もしくは茶色に呈色し、 ディスプレイ装置の色が正確にタツチパネ ル上に表示することが困難であった。
この問題を解決するために、 特開平 6— 2 1 8 8 6 4号公報は、 第 1の従来例 として、 導電層と基材との間に、 導電層と基材のどちらよりも屈折率の高い高屈 折率層が配置された積層体、 及ぴ、 導電層、 基材のどちらよりも低い屈折率を有 する低屈折率層が配置された積層体を提案している。 第 1の従来例積層体によれ ば、 図 5に示すように、 5 5 0 n m付近の波長における反射率が低減され、 図 6 に示すように、 5 5 0 n m付近の波長における透過率が向上する。 その結果、 全 光線透過率が向上する。 しかし、 透過光が黄色もしくは茶色に呈色する問題につ いては未解決であった。
特開平 1 1 _ 2 8 6 0 6 6号公報は、 第 2の従来例として、 導電層と基材の間 に、 多層光学膜が積層された導電フィルムを提案している。
ところが、 第 2の従来例の導電フィルムは、 多数の光学膜を備えるため、 構成 が複雑で製造コストが高かった。
[発明の開示]
本発明の目的は、 簡単な構成で製造コス トが低く、 かつ透過光の着色の少ない 透明導電性積層フィルムおよびその積層フィルムが設けられたタツチパネルを提 供することである。
本発明者らは、 基材と、 特定の性質を有する中間屈折率層と、 特定の性質を有 する導電層とを特定の順序で積層することにより、 透過光の着色がを抑えること のできる透明導電材料が製造されることを見い出し、 本発明を完成した。
本発明の一態様では、 光透過性基材と、 前記基材の片面もしくは両面に、 直接 にまたは少なくとも一つの層を介して間接に積層された中間層と、 前記中間層上 に積層された導電層とを備える透明導電性積層フィルムが提供される。 中間層の 光学膜厚は 1 0 0〜1 7 5 n mであり、 導電層の光学膜厚は 1 0〜6 0 n mであ り、 中間層の屈折率が基材の屈折率と導電層の屈折率との間の値であり、 かつ、 1 . 7〜 1 . 8 5である。
本発明の別の態様では、 透明導電性積層フィルムの製造方法が提供される。 そ の方法は、 光透過性基材を用意する工程と、 前記基材の一面上に、 前記基材の屈 折率よりも大きく、 かつ、 1 . 7〜1 . 8 5の屈折率を有する中間層を 1 0 0〜 1 7 5 n mの光学膜厚で形成する工程と、 前記中間層上に、 前記中間層の屈折率 よりも大きい屈折率を有する導電層を 1 0〜6 0 n mの光学膜厚で形成する工程 とを備える。
[図面の簡単な説明]
図 1は本発明の実施例 1の透明導電性積層フィルムの模式的断面図。
図 2は本発明の実施例 5のタツチパネルの模式的断面図。
図 3及ぴ図 4は本発明の好ましい実施形態の透明導電性積層フィルムの反射率 と透過率をそれぞれ示すグラフ。 図 5及び図 6は従来の透明導電性積層フィルムの反射率と透過率をそれぞれ示
[発明を実施するための最良の形態]
以下、 本発明の好ましい実施形態を詳細に説明する。
本実施形態の透明導電性積層フィルムは、 光透過性基材 Aと、 その基材 Aの片 面もしくは両面に、 直接にもしくは一層以上の層を介して間接に積層された中間 屈折率層 Bと導電層 Cとを備える。 中間屈折率層 Bの光学膜厚は 1 0 0〜1 7 5 n mであり、 導電層 Cの光学膜厚は 1 0〜6 0 n mである。 中間屈折率層 Bの屈 折率は 1 . 7〜1 . 8 5であり、 基材 Aの屈折率は中間屈折率層 Bの屈折率より 小さく、 中間屈折率層 Bの屈折率は導電層 Cの屈折率よりも小さい （基材 Aの屈 折率 <中間屈折率層 Bの屈折率 <導電層 Cの屈折率） 。 光学膜厚とは層の屈折率 nと厚み dの積 （n X d ) である。
基材 Aは、 公知の透明材料であれば特に限定されない。 基材 Aとしては、 例え ば、 ガラスや、 ポリエチレンテレフタレート （P E T ) 、 ポリブチレンテレフタ レート、 ポリカーボネート、 ポリメタクリル酸メチル共重合体、 トリァセチルセ ルロース、 ポリオレフイン、 ポリアミ ド、 ポリ塩化ビニル、 非晶質ポリオレフィ ンなどの透明樹脂が好ましい。
基材 Aの形状としては、 例えば板状もしくはフィルム状である。 生産性、 運搬 性の点からプラスチックフィルムが好ましい。 透明性及ぴ生産性の点から、 基材 Aの厚みは 1 0〜 5 0 0 μ mであることが好ましく、 5 0〜2 0 0 i mであるこ とがざらに好ましい。
次に、 中間屈折率層 Bについて説明する。 特定の屈折率と光学膜厚とを有する 中間屈折率層 Bが基材 Aと導電層 Cの間に設けられているので、 本実施形態の透 明導電性積層フィルムは、 紫から青色の光の反射が低減され、 透過光の着色が低 減される。
中間屈折率層 Bの屈折率は 1 . 7〜1 . 8 5であり、 かつ、 基材 Aの屈折率よ りも大きく、 かつ、 導電層 Cの屈折率よりも小さい。 中間屈折率層 Bの屈折率が 1 . 7未満あるいは 1 . 8 5よりも大きい場合、 透過光の着色度が大きくなる。 中間屈折率層 Bの光学膜厚は 1 0 0〜1 7 5 n mの範囲であることが好ましい 。 中間屈折率層 Bの光学膜厚を所定の範囲に設定することにより、 特に青色 （波 長 4 0 0 n m付近） の光の反射率が低減される。 光学膜厚が 1 0ひ n m未満ある いは光学膜厚が 1 7 5 n mより大きい場合には、 透過光の着色が大きくなる。 中間屈折率層 Bを形成する材料としては、 屈折率が特定の範囲を逸脱せず、 本 実施形態の目的を損なわない限りは特に限定されず、 公知の材料を使用すること ができ、 例えば、 無機物、 または無機物と有機物との混合物を用いることができ る。 ここで、 無機物としては例えば酸化亜鉛、 酸化チタン、 酸化セリウム、 酸化 アルミニウム、 酸化シラン、 酸化タンタル、 酸化イッ トリ ウム、 酸化イツテルビ ゥム、 酸化ジルコニウム、 酸化インジウム錫、 酸化アンチモン錫などの金属酸化 物が使用できる。 これらのうち、 酸化ジルコニウム、 酸化チタン、 酸化インジゥ ム錫、 酸化アンチモン錫及ぴ酸化セリウムが好ましく、 酸化ジルコニウムが屈折 率、 電気絶縁性、 耐光性の観点から最も好ましい。
中間屈折率層 Bの形成方法は特に限定されず、 例えば蒸着法、 スパッタリ ング 法、 イオンプレーティング法、 化学蒸着 （C V D ) 法、 めっき法などのドライコ 一ティング法、 ウエットコーティング法を採用することができる。 これらの中で は、 層の厚みの制御が容易であるという観点から蒸着法おょぴスパッタリング法 が好ましい。
中間屈折率層 Bが無機物と有機物との混合物から形成される場合、 例えば、 無 機物が前述の金属酸化物の微粒子であり、 かつ、 有機物が硬化性単量体である場 合、 中間屈折率層 Bの屈折率を容易に設定することができ、 また中間屈折率層 B を容易に作製することができる。 金属酸化物の微粒子の平均粒径は中間屈折率層 Bの厚みを大きく超えないことが好ましい。 具体的には金属酸化物の微粒子の平 均粒径は 0 ·· 1 μ πι以下であることが好ましく、 0 . 0 5 m以下であることが さらに好ましく、 0 . 0 1〜0 . 0 5 inであることが最も好ましい。 '平均粒径 が大きくなると、 散乱が生じ、 中間屈折率層 Bの透明性が低下するため好ましく ない。
必要に応じて微粒子表面を力ップリング剤により修飾することができる。 各種 カップリング剤としては例えば、 珪素化合物、 アルミニウム、 チタニウム、 ジル コ-ゥム、 アンチモンなどの金属含有化合物を有機置換した金属アルコキシドゃ 有機酸塩が使用できる。
硬化性単量体としては、 特に限定されず、 公知のものを使用できる。 例えば単 官能もしくは多官能の （メタ） アクリル酸エステルや、 テトラエトキシシランな どの珪素化合物が使用できる。 さらに、 硬化性単量体は、 中間屈折率層 Bの生産 性および層強度の観点より紫外線硬化性単量体であることが好ましく、 層強度を 向上させる観点から、 多官能単量体を用いることが好ましい。 そのため、 紫外線 硬化型でかつ多官能型のァクリレートゃ珪素化合物が、 最も好ましい。
紫外線硬化型でかつ多官能型のァクリレートとしては、 例えば、 ジペンタエリ スリ トールへキサァクリ レート、 テトラメチロールメタンテ トラアタ リ レート、 テ トラメチロールメタントリアタ リ レート、 ペンタエリスリ トーノレペンタアタリ レート、 トリメチロールプロパントリアタリ レート、 1， 6—へキサンジオール ジアタ リ レート、 1， 6—ビス （ 3—アタ リ ロイ/レオキシ一 2—ヒ ドロキシプロ ピルォキシ） へキサンなどの多官能アルコール誘導体、 ポリエチレングリ コール ジァク リ レート、 ペンタエリスリ トールトリアタリ レートへキサメチレンジィソ シァネートウレタンプレポリマー等のウレタンァクリレートが使用できる。 硬化 性単量体として、 前述の単量体の 1種または 2種以上混合したもの、 またはその 他の成分をさらに添加したものを用いることができる。
金属酸化物の微粒子と硬化性単量体との混合比率 （金属酸化物の微粒子 Z硬化 性単量体、 単位：重量比） は、 5 0 Z 5 0〜9 0 Z 1 0であることが好ましく、 6 0 4 0〜8 5 1 5であることがさらに好ましい。 金属酸化物の微粒子の割 合が 5 0重量部未満、 すなわち硬化性単量体の割合が 5 0重量部を超える場合、 所望の屈折率を有する中間屈折率層 Βが得られない。 また金属酸化物の微粒子の 割合が 9 0重量部を超え、 すなわち硬化性単量体の割合が 1 0重量部未満の場合 、 中間屈折率層 Βの成形性および強度が低くなる傾向にある。
本実施形態の効果を損なわない範囲において、 中間屈折率層 Βの材料中に、 例 えば、 無機または有機顔料、 重合体、 重合開始剤、 重合禁止剤、 酸化防止剤、 分 散剤、 界面活性剤、 光安定剤、 光吸収剤、 レべリング剤などの添加剤を混合する ことができる。
ゥエツトコ一ティング法に従って層を形成した後、 乾燥工程を行なうのであれ ば、 任意の量の溶媒を中間屈折率層 Bの材料中に添加することができる。 中間屈 折率層 Bの材料が無機物と有機物との混合物の場合、 通常ウエットコーティング 法で中間屈折率層 Bが形成される。 ウエットコーティング法としては、 例えば口 ールコート法、 スピンコート法、 ディップコート法が知られている。 好ましいゥ エツトコーティング法は、 連続的な層形成が可能で生産性が高いロールコート法 及びディップコ一ト法である。
導電層 Cには、 透明導電性積層フィルムの導電回路が形成される。 導電層じの 材料としては特に限定されないが、 金属もしくは金属酸化物を用いることが好ま しい。 例えば、 金、 銀、 銅、 白金、 ニッケル、 酸化錫、 酸化インジウム錫 （ I T O ) 、 酸化アンチモン錫などの金属または金属酸化物を含む透明導電層が好まし い。 これらの中では、 導電性、 透明性、 安定性の観点より酸化インジウム錫 （ I T O) がより好ましい。
導電層 Cの形成方法は特に限定されず、 例えば蒸着法、 スパッタリング法、 ィ オンプレーティング法、 C V D法、 めっき法などのドライコーティング法を採用 することができる。 これらの中では、 層の厚み制御の観点より蒸着法およびスパ ッタリング法が特に好ましい。
導電層 Cの層厚は、 光学膜厚で 1 0〜6 0 n mの範囲である。 光学膜厚 1 0 n m未満では表面抵抗値が高くなる。 一方、 光学膜厚が 6 0 n mより大きい場合、 透明性が低下する。
基材 Aと中間屈折率層 Bの間に、 例えば硬度を向上させるためのハードコート 層を設けてもよい。 また、 防眩、 ニュートンリングの発生防止、 層同士の密着性 の向上、 特定波長の光を遮断するための少なくとも一層以上の機能層を設けても よい。 機能層の材料としては酸化珪素などの無機物、 紫外線硬化型で、 かつ多官 能型のァクリレートなどの有機物、 もしくはこれらの混合物を用いることができ る。 機能層の厚みは 0 . 0 0 5〜2 0 であることが好ましく、 その屈折率は 1 . 4 5〜1 . 6 5の範囲内であることが好ましい。 また、 機能層の形成方法は 特に限定されず、 ドライコーティング法、 ウエットコーティング法などの公知の 方法を用いることができる。
本実施形態の効果を損なわない範囲において、 機能層の材料に、 例えば、 無機 充填剤、 無機または有機顔料、 重合体、 重合開始剤、 重合禁止剤、 酸化防止剤、 分散剤、 界面活性剤、 光安定剤、 光吸収剤、 レべリング剤などの添加剤を混合す ることができる。 また、 ウエットコーティング法に従って層を形成した後、 乾燥 工程を行なうのであれば、 機能層の材料中に任意の量の溶媒を添加することがで きる。
透明導電性積層フィルムにおいて導電層に近い側の表面における反射率曲線が 3 8 0〜5 0 0 n mの波長範囲内に極小値を有するように、 各層の屈折率や光学 膜厚を調整することにより、 紫から青色の光の反射をより低減でき、 透過光の着 色をより低減できる。
以下、 反射率が極小値を示す波長を極小反射率波長と呼ぶ。 極小反射率波長が 3 8 0 n m未満あるいは 5 0 0 n mより大きい場合には、 紫から青色の光の反射 を低減する効果が小さいか、 逆に反射が大きくなることにより、 透過光が着色す る傾向にある。
前記導電層に近い側の表面における極小反射率波長が 3 8 0〜5 0 0 n mの範 囲内となるように各層の屈折率や光学膜厚を調整すると、 J I S Z 8 7 2 9に 定められる L * a * b *表色系に従って表わされる透過光の透過色差が、 一 2 < a * く 2、 一 2く b *く 2の範囲となる。 従って、 着色が実用上問題とならない透明 導電性積層フィルムができる。
極小反射率波長が 4 5 0〜5 0 0 n mの範囲内となるように屈折率と光学膜厚 を調整した場合、 紫から青色の光の反射をより低減できる。 その結果、 透過光の 着色がより低減され、 また、 透明導電性積層フィルムの J I S K 7 3 6 1 - 1 に定められる全光線透過率が 8 5 %以上となるのでさらに好ましい。
透明導電性積層フィルムは、 導電材料として高い光線透過率および優れた色調 を必要とする用途に用いることができる。 特に有機、 無機エレクト口ルミネッセ ンスディスプレイや液晶ディスプレイなどの電子画像表示装置や、 抵抗膜式タッ チパネルの電極基板に用いることができる。
必要に応じて透明導電性積層フィルムの導電層を形成していない面にあらかじ め接着層を設け、 対象物に貼り合せて用いることができる。 接着層に用いられる 材料としては特に限定されないが、 例えば、 シリコーン系粘着剤、 アクリル系粘 着剤、 紫外線硬化型接着剤、 熱硬化型接着剤などを挙げることができる。
抵抗膜式タツチパネルの上部 （接触面側） 電極基板として用いる場合には、 透 明導電性積層フィルムの導電層 Cとは反対側の面に、 表面強度向上のためのハー ドコート層を形成することが好ましい。 このハードコート層には防眩、 帯電防止
、 減反射などの一種類以上の機能を付与させることができる。 また透明導電性積 層フィルムの導電層 Cとは反対側の面は、 接着層を介してハードコート層を有す る基材の裏面に密着して貼り合せることもできる。
抵抗膜式タツチパネルの下部 （表示装置側） 電極基板として用いる場合には透 明導電性フィルムをそのまま、 もしくはガラス、 プラスチックなどの基材に貼り 合せて用いることができる。 また、 その裏側に光線透過率を向上させるために直 接もしくは 1層以上の層を介して、 少なくとも 1層以上からなる減反射層を形成 したり、 減反射層を有する基材を貼り合せることができる。 減反射層としては特 に限定されず、 公知のものを使用することができる。
さて、 本実施形態の透明導電性積層フィルムは、 基材 A上に光学膜厚が 1 0 0 〜 1 7 5 n mの中間屈折率層 B、 さらにその上に光学膜厚が 1 0 〜 6 0 n raの導 電層 Cが積層されて構成されている。 すなわち、 この透明導電性積層フィルムは 、 基材 Aと導電層 Cとの間に中間屈折率層 Bのみが形成されて構成されている。 従って、 多層構造の場合に比べて簡単な構成で、 容易に製造することができる。 中間屈折率層 Bの屈折率が 1 . 7 〜 1 . 8 5であり、 かつ、 基材 Aの屈折率よ り大きく、 かつ、 導電層 Cの屈折率より小さい。 このため、 透明導電性積層フィ ルムに入射した光は、 図 3に示すように、 4 0 0 〜 7 8 0 n mの範囲の波長で反 射率がほぼ一定となるように低下され、 透過光が着色するのが抑制される。 さら に、 図 4に示すように、 透過率 （全光線透過率） もほぼ 8 5 %で一定となり、 透 過光は明るい。 上記のように、 中間屈折率層 Bの屈折率が基材 Aの屈折率と導電 層 Cの屈折率との中間の値に設定されていることから、 波長に対する透明導電性 積層フィルムの反射率の特性曲線は比較的フラット （反射率の極大値と極小値と の差が比較的小さい） である。 従って、 透過光の着色を抑えることができる。 さ らに、 透過率も波長にかかわらず高く、 ほぼ一定した値が得られ、 透過光を明る くすることができる。
好ましい実施形態によれば、 以下の利点が得られる。
• 透明導電性積層フィルムは、 基材 Aと中間屈折率層 Bと導電層 Cが、 その 順序で、 直接または少なくとも一つの層を介して積層されている。 中間屈折率層 Bの光学膜厚は 1 0 0〜 1 7 5 n mであり、 導電層 Cの光学膜厚は 1 0〜 6 0 n mである。 中間屈折率層 Bの屈折率は 1 . 7〜1 . 8 5であり、 基材 Aの屈折率 と導電層 Cの屈折率との間の値である。 このため、 透過光の着色を少なくするこ とができる。 また、 積層フィルムを構成する層数が少ないので、 透明導電性積層 フィルムの構成は簡単であり、 透明導電性積層フィルムを容易にかつ安価に製造 することができる。 従って、 本実施形態の透明導電性積層フィルムはタツチパネ ル用の電極基板として有用である。
• 導電層 Cは金属もしくは金属酸化物で形成されていることから、 良好な表 面抵抗値を得ることができる。
. 導電層 Cは酸化インジウム錫を蒸着法、 イオンプレーティング法、 C V D 法およびスパッタリング法から選ばれるいずれか 1種の方法により容易に形成す ることができる。
• 基材 Aが 1 0〜5 0 0 μ mの厚みを持つプラスチックフィルムであるため 、 透明導電性積層フィルムは安定した透明性を発揮することができる。
• 中間屈折率層 Bが原料をゥエツトコ一ティング法により形成した層である ことから、 製膜を容易に行なうことができ、 透明導電性積層フィルムの製造コス トを低減することができる。
• 透明導電性積層フィルムにおいて導電層 Cに近レ、側の表面における極小反 射率波長が 3 8 0〜 5 0 0 n mの波長範囲内にある。 このため、 反射スペクトル の青色の反射光を低減させ、 黄色の呈色を低減させることができる。
• 透明導電性積層フィルムにお!/、て導電層 Cに近い側の表面における極小反 射率波長が 4 5 0〜5 0 0 n mの範囲内にあることにより、 全光線透過率を下げ ることなく、 黄色の呈色を低減させることができる。
• J I S Z 8 7 2 9に定められる L * a * b *表色系に従って表わされる透 過色差が、 一 2く a*く 2、 かつ、 ー2く b*く 2であり、 かつ、 ゼロに近いこと により、 透明導電性積層フィルムの呈色を抑制することができる。
[実施例]
以下に本発明をさらに詳細に示す実施例について記載するが、 本発明は以下の 実施例に限定されない。 なお、 導電層を除く層の屈折率は以下の手順に従って測 定した。
( 1 ) 屈折率 1. 6 3の PETフィルム （製品名 ： A 4 1 00、 東洋紡績株式会 社製） 上に、 ディップコーター （杉山元理化学機器株式会社製） を用いて、 乾燥 後の光学膜厚 （n X d) が 1 1 0 nm程度になるように調整しながら各層用塗液 を塗布した。
(2) 塗布した層を乾燥させ、 窒素雰囲気下で紫外線を照射 （岩崎電気株式会社 製紫外線照射装置、 1 2 OW高圧水銀灯、 400mJ) することにより、 塗布し た層を硬化させた。
(3) PETフィルムの裏面 （硬化された層と反対の面） をサンドペーパーを用 いて研磨して荒らし、 黒色塗料で塗りつぶして、 試験片を作成した。 分光光度計
(製品名 「U— b e s t 50」 、 日本分光株式会社製） を用いて、 試験片の正 反射スペク トル （380〜 780 n m、 +5° 、 一5° ) を測定した。
(4) 反射スぺク トルから読み取った反射率の極大値または極小値を用いて以下 の数式 （1) に従って屈折率を計算した。
反射率の極値（％)=' ト X 100 (1)
但し、 ηΜは Ρ ΕΤフィルムの屈折率、 ηは層の屈折率を表す。
導電層の屈折率は、 屈折率 1. 63の PETフィルム （製品名 ： A4 100、 東洋紡績株式会社製） 上に光学膜厚 （n X d) が 1 1 O nm程度になるように導 電層を形成した。 上記 （3) 、 (4) の手順で屈折率を測定した。
製造例 1 (中間屈折率層用塗液 （H— 1) の調製）
酸化ジルコニウムの微粒子 （平均粒径： 0. 04 ^ 111) 80重量部、 テトラメ チロールメタントリアクリレート 1 5重量部、 プチルアルコール 90 0重量部、 光重合開始剤 （製品名 ： I RGACURE 90 7、 チパガィギー株式会社製） 1重量部を混合することにより中間屈折率層用塗液 H— 1を調製した。 塗液 H— 1を紫外線硬化して得られた硬化物の屈折率は 1. 77であった。
製造例 2 (中間屈折率層用塗液 H— 2の調製）
酸化ジルコニウムの微粒子 （平均粒径： 0. 04 μιη) 80重量部に代えて酸 化チタンの微粒子 (平均粒径： 0. 0 3 μπι) 80重量部を用いた。 それ以外は 製造例 1と同様にして、 中間屈折率層用塗液 Η_ 2を調製した。 塗液 Η— 2を紫 外線硬化して得られた硬化物の屈折率は 1. 8 5であった。
製造例 3 (ハードコート層用塗液 （HC— 1) の調製）
ジペンタエリスリ トールへキサアタリレート 70重量部、 1 , 6—ジァクリ ロ ィルォキシへキサン 30重量部、 光重合開始剤 （製品名 ： I RGACURE 1 8 4、 チパガィギー株式会社製） 4重量部、 イソプロピルアルコール 1 00重量部 を混合することによりハードコート層用塗液 HC— 1を調製した。 塗液 HC— 1 を紫外線硬化して得られた硬化物の屈折率は 1. 52であった。
製造例 4 (ハードコート処理 PETフィルムの作製）
厚みが 1 88 μ mの P E Tフィルム （製品名 ： A 41 00、 東洋紡績株式会社 製、 屈折率 1. 6 3) 上に、 製造例 3で調製した塗液 HC— 1をバーコ一ターを 用いて乾燥後の層厚が 5 μπι程度になるように塗布し、 塗液層を形成した。 その 塗液層に、 紫外線を照射 （岩崎電気株式会社製紫外線照射装置、 1 20W高圧水 銀灯、 400mJ) し、 硬化させることによりハードコート処理 PETフィルム を作製した。
製造例 5 (シリカ微粒子の分散液 （L一 1) の調製）
テトラメチロールメタントリアクリレート 25重量部、 シリカ微粒子の分散液 (製品名 ： XBA— ST、 日産化学株式会社製） 220重量部、 プチルアルコー ル 900重量部、 光重合開始剤 （製品名 ： KAYACURE BMS、 日本化薬 株式会社製） 5重量部を混合することによりシリカ微粒子の分散液 L一 1を調製 した。 分散液 L一 1を紫外線硬化して得られた硬化物の屈折率は 1. 50であつ た。 実施例 1
厚みが 1 88 /^mの PETフィルム （製品名 ： A 4 1 00、 東洋紡績株式会社 製、 屈折率 1. 6 3) 上に、 中間屈折率層用塗液 H— 1を用いて以下の方法で中 間屈折率層 Bを形成した。
硬化後の光学膜厚が 1 60 nmになるような量の中間屈折率層用塗液 H_ 1を ディップコーター （杉山元理化学機器株式会社製） を用いて塗布し、 塗液層を形 成した。 その塗布液層を乾燥させ、 窒素雰囲気下で紫外線を照射 （岩崎電気株式 会社製紫外線照射装置、 1 2 0W高圧水銀灯、 400mJ) して硬化させて中間 屈折率層 Bを形成した。
中間屈折率層 Bを有するフィルムを 1 00°Cで 1時間予備乾燥した。 I TO ( インジウム：錫 = 92 ： 8、 層形成後の屈折率 2. 00) ターゲットを用いたス パッタリングにより、 40 nmの光学膜厚を有する導電層 Cを中間屈折率層 Bの 上に形成した。 図 1の透明導電性積層フィルム 1 00を作製した。
透明導電性積層フィルム 1 00は、 P ETフィルムよりなる基材 Aと、 基材 A 上積層された中間屈折率層 Bと、 その層 B上に積層された導電層 Cとを有する。 次に、 フィルム 1 00の全光線透過率、 極小反射率波長、 透過色差 （a*、 b* ) 、 および表面抵抗値を以下の方法により測定した。 その結果を表 1に示す。
(1) 全光線透過率はヘイズメーター （製品名 ： NDH2000、 日本電色ェ 業株式会社製） を用いて測定した。
(2) 極小反射率波長は分光光度計 （製品名 ： UV 1 600、 株式会社島津製 作所製） を用いて 380〜7 80 nmの反射スペク トルを測定し、 そのスぺクト ルから得た。
( 3 ) 透過色差 （ a *、 b *) は色差計 （製品名 ： SQ— 2000、 日本電色ェ 業株式会社製） を用いて測定した。
(4) 表面抵抗値は表面抵抗計 （製品名 ： L o r e s t a MP MC P— T 3 50、 三菱化学株式会社製） を用いて測定した。 1
Figure imgf000014_0001
実施例 2
硬化後の光学膜厚を 1 2 O nmに変更した。 それ以外は実施例 1と同様にして 透明導電性積層フィルムを作製した。
実施例 3
PETフィルムに代えて、 製造例 4で作製したハードコート処理 PETフィル ムを使用した。 それ以外は実施例 1と同様にして透明導電性積層フィルムを作製 した。
実施例 4
中間層の屈折率を 1. 8 5に変更すること以外、 実施例 3と同様にして透明導 電性フィルムを作製した。
比較例 1
厚みが 1 88 mの PETフィルム （製品名 ： A 41 00、 東洋紡績株式会社 製、 屈折率 1. 63) 上に直接、 実施例 1と同様の手順で導電層 Cを形成し、 透 明導電性積層フィルムを作製した。
比較例 2
硬化後の光学膜厚を 9 O nmに変更した。 それ以外は実施例 1と同様にして透 明導電性積層フィルムを作製した。
比較例 3
硬化後の光学膜厚を 1 90 n mに変更した。 それ以外は実施例 1と同様にして 透明導電性積層フィルムを作製した。
比較例 4
硬化後の光学膜厚を 1 6 O nmに変更し、 中間屈折率層用塗液 H— 1の代わり に、 シリカ微粒子の分散液 L一 1 (屈折率： 1. 50) を用いた。 それ以外は実 施例 1と同様に透明導電性フィルムを作製した。
比較例 5
厚みが 188 μηιの PETフィルム （製品名 ： A 41 00、 東洋紡績株式会社 製、 屈折率 1. 6 3) 上に、 酸化チタンターゲットを用いたスパッタリングによ り、 中間屈折率層としての金属酸化物層 （屈折率： 2. 30、 光学膜厚： 1 60 nm) を形成した。 金属酸化物層上に I TO (インジウム：錫 = 92 ： 8) ター ゲットを用いたスパッタリングにより、 導電層 （光学膜厚： 40 nm) を形成し て透明導電性積層フィルムを作製した。
比較例 6
P ETフィルムの一方の面に電子ビーム加熱法により、 1〜 2 X 1 0 "4Torr (1. 33〜 2. 6 6 X 1 0— 2 P a) の減圧下で酸化チタンを真空蒸着して、 厚さが l O O nmで、 屈折率が 2. 3 5の透明な誘電体膜を形成した。 その後、 実施例 1と同様にして導電層 Cを形成して透明導電性積層フィルムを作製した。 表 1に示したように、 実施例 1〜 4の透明導電性フィルムでは表面抵抗値が小 さく高導電性であった。 また透過色差 （a*、 b*) が小さいことから着色の少な いことが明らかとなった。
一方、 中間屈折率層 Bがない比較例 1および比較例 6、 中間屈折率層の光学膜 厚が所定の範囲外である比較例 2、 3、 中間屈折率層の屈折率が所定の範囲より も小さい比較例 4では、 透過色差、 特に b*の値が大きくなつて、 透過光が着色 することが明らかとなった。
中間屈折率層の屈折率が導電層の屈折率より高い比較例 5では、 透過色差、 特 に b*の値が非常に小さくなって、 透過光が着色することが明らかとなった。 実施例 5、 6
実施例 3、 4の透明導電性積層フィルムの裏面に、 ァクリル系粘着シート (製 品名 ： ノンキャリア、 リンテック株式会社製） を介して製造例 4で作製したハー ドコート処理 P ETフィルムの裏面を均一に貼り合わせた。 また厚さ 2mmのガ ラス板 （製品名 ： F L 2. 0、 日本板硝子株式会社製） に実施例 1と同様にして スパッタリング法により I TO (ィンジゥム：錫 = 92 ： 8) の導電層を形成し た。 次に、 透明導電性積層フィルムの導電層とガラス板の導電層が互いに向かい 合わせて、 その四辺を両面粘着テープにより貼り合せ、 図 2に示す抵抗膜式タツ チパネル 200を作製した。
抵抗膜式タツチパネル 200は、 基材 Aに設けられた第 1ハードコート層 1を 介して中間屈折率層 Bと導電層 Cとが積層された透明導電性積層フィルム 1 00 aを含む。 透明導電性積層フィルム 1 00 aは、 粘着剤層 4を介して、 第 2ハー ドコート層 2を有する P E Tフィルム 3と接合されている。 タツチパネル 200 は、 ガラス基板 5上に設けられた導体層 6を含む。 当該導体層 6は両面テープ 7 を介して透明導電性積層フィルム 1 0 0 aの導電層 Cと接合されている。
抵抗膜式タツチパネル 2 0 0の全光線透過率、 透過色差 （a *、 b *) を実施例 1と同様の方法により測定した。 その結果を表 2に示す。
比較例 7〜 9
透明導電性フィルムとして、 比較例 7では比較例 1のフィルム、 比較例 8では 比較例 2のフィルム、 比較例 9では比較例 3のフィルムをそれぞれ使用して。 そ れ以外は実施例 5と同様にして抵抗膜式タツチパネルを作製した。 その抵抗膜式 タツチパネルの全光線透過率、 透過色差 （a *、 b *) は表 2に示すとおりであつ た。
表 2
Figure imgf000017_0001
表 2に示したように、 実施例 5、 6のタツチパネルは透過色差が低く、 透過光 の着色は目立たなかった。
一方、 中間屈折率層 Bのないフィルムを使用した比較例 7のタツチパネル、 中 間屈折率層の光学膜厚が適切でないフィルムを使用した比較例 8、 9のタツチパ ネルでは、 透過色差、 特に b *の値が非常に大きく、 透過光が黄色に着色した。 得られたタツチパネルを C R Tディスプレイ上に装着し、 その機能を確認した 。 実施例 5、 6のタツチパネルでは、 C R Tディスプレイの発色をすベて正確に 表示できた。 一方、 比較例 7〜 9のタツチパネルでは、
色表示が黄色味がかっていた。
好ましい実施形態は次のように変更してもよい。 • 中間屈折率層 Bを 2層で構成してもよい。 2層の中間屈折率層 Bの内、 基 材 Aに近い側の層の屈折率を屈折率 1 . 7〜1 . 8 5の範囲内でより小さく、 導 電層 Cに近い側の層の屈折率をより大きくすることが好ましい。 この場合、 透明 導電性積層フィルムの反射率をより小さくでき、 透過率をより高くすることがで きる。
- 基材 Aの表面の反射光と中間屈折率層 Bの表面の反射光とが干渉して打ち 消し合うように、 中間屈折率層 Bの光学膜厚及ぴ屈折率を以下の式から決定して もよい。 尚、 λは反射光の波長である。
2 X (中間屈折率層 Βの光学膜厚） Ζ = ΐ Ζ 2
• 金属酸化物と硬化性単量体の混合物をゥエツトコ一ティング法により硬化 させて中間屈折率層 Βを形成する場合、 電子線を照射してもよい。 この場合、 中 間屈折率層 Βは速やかに硬化する。
• 中間屈折率層 Βを形成するための金属酸化物と硬化性単量体との混合液中 に粘度調整剤 （増粘剤） を加え、 所望とする光学膜厚が得られるように粘度調整 を行ってもよい。

Claims

請求の範囲
'つて、
光透過性基材と、
前記基材の片面もしくは両面に、 直接にまたは少なくとも一つの層を介して間 接に積層された、 100〜 1 7 5 nmの光学膜厚を有する中間層と、
前記中間層上に積層され、 1 0〜6 0 nmの光学膜厚を有する導電層とを備え 、 前記中間層の屈折率が前記基材の屈折率と前記導電層の屈折率との間の値であ り、 かつ、 1. 7〜1. 8 5であることを特徴とする透明導電性積層フィルム。
2. 前記導電層が金属もしくは金属酸化物製である請求項 1に記載の透明導電
3. 前記導電層が酸化ィンジゥム錫を含むことを特徴とする請求項 1に記載の 透明導電性積層フィルム。
4. 前記基材が 10〜500 μ mの厚みを有するプラスチックフィルムである 請求項 1に記載の透明導電性積層 '
5. 前記積層フィルムは前記導電層に近い側の第 1の表面を有し、 当該第 1の 表面の極小反射率波長が 380〜500 nmの範囲内にあることを特徴とする請 求項 1に記載の透明導電性積層フィルム。
6. 前記第 1の表面の極小反射率波長が 450〜500 nmの範囲内にあるこ とを特徴とする請求項 5に記載の透明導電性積層 '
7. L*a *b*表色系における透過色差が、 一 2く a*く 2、 かつ、 一 2く b* < 2であることを特徴とする請求項 1に記載の透明導電性積層'
8； 前記導電層は前記中間層及び前記基材と接触していることを特徴とする請 求項 1に記載の透明導電性積層'
9 . 前記中間層は無機物と有機物との混合物であることを特徴とする請求項 に記載の透明導電性積層'
1 0 . 前記無機物は金属酸化物であり、 前記有機物は硬化性単量体である請求 項 9に記載の透明導電性積層 ' 前記硬化性単量体は紫外線硬化性単量体である請求項 1 0に記載の透明
1 2 . 請求項 1〜 1 1のいずれか 1項に記載の透明導電性積層フィルムを有す るタツチパネル。
1 3 . 透明導電性積層フィルムの製造方法であって、
光透過性基材を用意する工程と、
前記基材の一面上に、 前記基材の屈折率よりも大きく、 かつ、 1 . 7〜1 . 8 5の屈折率を有する中間層を 1 0 0〜 1 7 5 n mの光学膜厚で形成する工程と、 前記中間層上に、 前記中間層の屈折率よりも大きい屈折率を有する導電層を 1 0〜6 0 n mの光学膜厚で形成する工程とを備える製造方法。
1 4 . 前記導電層を形成する工程が蒸着法、 イオンプレーティング法、 化学蒸 着法おょぴスパッタリング法から選ばれるいずれか 1種の方法に従って酸化イン ジゥム錫層を形成することを含む請求項 1 3に記載の製造方法。
1 5 . 前記中間層を形成する工程がゥエツトコ一ティング法に従って行なわれ ることを特徴とする請求項 1 3に記載の製造方法。
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