WO2005094907A1 - 滅菌方法及び装置 - Google Patents

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WO2005094907A1
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sterilization
hydrogen peroxide
ozone
gas
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Akira Mizuno
Hiroyuki Yuyama
Yoshinori Shirahara
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Yuyama Manufacturing Co Ltd
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    • A61L2202/12—Apparatus for isolating biocidal substances from the environment
    • A61L2202/122—Chambers for sterilisation

Definitions

  • the present invention relates to a sterilization method and apparatus for sterilizing medical instruments and the like.
  • sterilizers include a combination of hydrogen peroxide and plasma, a combination of ozone and plasma, and a combination of hydrogen peroxide and ozone.
  • Patent Document 1 discloses a process of arranging an article to be sterilized in a chamber, and adding the hydrogen peroxide to the article. Contacting the article with the article for a time sufficient to bring it into intimate contact, generating a plasma around the article, and holding the article for a sufficient period of time to sterilize the plasma. Sterilization methods are described.
  • Patent Document 2 discloses a process in which an article to be sterilized is brought into contact with hydrogen peroxide, a step in which an article containing residual hydrogen peroxide is placed in a decompression chamber, and a step in which the article is placed around the article in the decompression chamber.
  • a sterilization method is described which includes a step of generating plasma and a step of maintaining an article in plasma for a time sufficient to sterilize with active species of residual hydrogen peroxide.
  • Patent Document 3 discloses a plasma in which a liquid hydrogen peroxide solution is made into a gaseous state before sterilization with plasma, and then gaseous hydrogen peroxide is adjusted to a desired pressure using a flow rate regulator and injected. Disinfection system is listed! RU
  • Patent Document 4 discloses a plasma sterilization method in which a sterilization chamber and a plasma generation chamber communicating with the sterilization chamber are provided, and the plasma and the sterilizing agent generated in the plasma generation chamber are supplied to the sterilization chamber. The device is described.
  • Patent Literature 5 discloses that a plasma is generated by discharging and exciting oxygen or a mixed gas containing oxygen in a processing chamber containing an object to be processed, and gaseous water is discharged. A sterilization and dry cleaning device that sprays and irradiates ultraviolet light is described. Further, in Patent Document 6, oxygen or a gas containing oxygen in a gas supply pipe is converted into plasma and supplied to a sterilization chamber, the gas supplied into the sterilization chamber is converted into plasma, and these plasmas are arranged in the sterilization chamber. A magnet sterilized plasma sterilizer is described.
  • Patent Document 7 discloses a sterilization apparatus that supplies hydrogen peroxide into a processing container containing an object to be sterilized and then adds ozone into the processing container. Is described.
  • the conventional sterilization apparatus has a configuration in which no harmful gas remains even when the displacement is V, the sterilization effect is not sufficient. If the sterilizing effect is increased by increasing the concentration of the sterilizing agent, gas remains in the chamber after sterilization, and there is a problem that a long time is required for the decomposition (residual air) of the residual gas.
  • Patent Document 1 JP-A-61-293465 (Patent No. 1636983)
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 1-293871
  • Patent Document 3 JP-T-2003-533248
  • Patent Document 4 JP 2003-310720 A
  • Patent Document 5 JP-A-2003-159570
  • Patent Document 6 JP-A-2003-250868
  • Patent Document 7 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-360672
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and it is an object of the present invention to provide a harmless sterilization method and apparatus which can obtain a sufficient sterilization effect and have no residual gas. You. It is another object of the present invention to provide a sterilization method and apparatus capable of shortening the sterilization time.
  • An ozone supply step of supplying ozone into the chamber A sterilization step of dispersing the hydrogen peroxide and ozone supplied into the chamber to sterilize the object to be sterilized,
  • a plasma generating step of generating plasma in the chamber A plasma generating step of generating plasma in the chamber.
  • the object to be sterilized is sterilized by hydrogen peroxide supplied into the chamber and vaporized, and then the object to be sterilized is sterilized by ozone supplied into the chamber.
  • plasma generated in the chamber decomposes hydrogen peroxide and ozone remaining in the vicinity of the object to be sterilized to generate radicals, which promotes sterilization. Let it. This decomposes the hydrogen peroxide and ozone remaining near the object to be sterilized and renders them harmless.
  • the exhausting step preferably includes a decomposition step of decomposing gas exhausted from the chamber into oxygen and water.
  • a decomposition step for decomposing ozone in the gas exhausted from the channel may be provided.
  • the sterilization step preferably includes a step of circulating the sterilization gas in the chamber.
  • the sterilizing gas in the chamber can be uniformly dispersed, and the sterilizing effect can be improved.
  • the sterilization apparatus comprises:
  • a chamber capable of containing an object to be sterilized
  • a hydrogen peroxide supply unit for supplying hydrogen peroxide in the chamber
  • An ozone supply unit that supplies ozone into the chamber
  • An exhaust unit for exhausting gas in the chamber and
  • a plasma generating unit for generating plasma in the chamber.
  • the dead bacteria are sterilized by the combined use of hydrogen peroxide, ozone, and plasma.
  • various types of radicals generated when hydrogen peroxide remaining in the vicinity of the object to be sterilized is not only decomposed but further accelerates the sterilization of the object to be sterilized.
  • the hydrogen peroxide supply unit is configured to be supplied in a liquid state into the chamber. It is preferable to provide a scattering prevention member for preventing scattering of hydrogen water. This prevents scattering due to rapid evaporation when the liquid hydrogen peroxide is supplied into the depressurized chamber.
  • the exhaust unit has a residual gas decomposition unit that decomposes gas exhausted from the chamber into oxygen and water.
  • the residual gas is decomposed into oxygen and water, so that it is harmless and the chamber can be used immediately after the sterilization is completed.
  • an ozone decomposition catalyst for decomposing ozone in the gas exhausted from the chamber may be included.
  • the apparatus further includes a sterilizing gas circulation unit for circulating the sterilizing gas in the chamber.
  • a sterilizing gas circulation unit for circulating the sterilizing gas in the chamber.
  • the plasma generator has an anode and a cathode in the chamber, and one of the anode and the cathode also has a plurality of point-like electrode forces surrounded by an insulator. As a result, uniform plasma can be generated by causing the discharge spaces generated by the plurality of point electrodes to interfere with each other.
  • the anode is preferably connected to a high-voltage power supply, and the cathode is preferably grounded.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a sterilizer according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a front view of the sterilization apparatus according to the present invention with the door opened;
  • FIG. 3 is a side sectional view of the sterilizer shown in FIG. 2.
  • FIG. 4 (a) is a bottom view of an anode, and (b) is a perspective view of a hole portion of an insulator.
  • FIG. 5 is a block diagram of a hydrogen peroxide supply unit.
  • FIG. 6 is a block diagram of an ozone supply unit.
  • FIG. 7 is a block diagram of an exhaust unit.
  • FIG. 8 A pressure change diagram in a chamber.
  • FIG. 10 A schematic configuration diagram of a sterilizer according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a block diagram of a hydrogen peroxide supply unit.
  • FIG. 12 (a) is a block diagram of an ozone supply unit, and (b) is a configuration diagram of an ozone concentration meter.
  • FIG. 13 is a block diagram of an exhaust unit.
  • FIG. 14 is a block diagram of a sterilization gas circulation unit.
  • FIG. 15 is a flowchart showing the operation of the sterilizer.
  • FIG. 16 A pressure change diagram in a chamber.
  • FIG. 17 is a flowchart of a hydrogen peroxide supply step.
  • FIG. 19 is a flowchart of an ozone supply step.
  • FIG. 20 is a time chart of the ozone supply step.
  • FIG. 22 is a flowchart showing the operation of the sterilization apparatus according to a modification of FIG.
  • FIG. 23 (a) is a view showing another embodiment of the hydrogen peroxide supply unit
  • FIG. 23 (b) is a view showing still another embodiment of the hydrogen peroxide supply unit.
  • FIG. 24 is a view showing a structure for sterilizing a thin tubular article to be sterilized.
  • FIG. 25 is a partially enlarged view of FIG. 24.
  • FIG. 26 is a view showing another example of an electrode.
  • FIG. 1 shows a sterilizer according to a first embodiment of the present invention.
  • This sterilizer comprises a chamber 1, a hydrogen peroxide supply unit 2, an ozone supply unit 3, an exhaust unit 4, an automatic pressure control unit 5, and a control unit 6.
  • the chamber 1 has a cylindrical shape as shown in FIGS. 2 and 3, and has flanges 7 attached to both ends thereof.
  • a door 8 is attached to the front flange 7 so as to be openable and closable.
  • the door 8 is provided with a glass window 10 so that the inside can be visually recognized.
  • a frame 11 is provided, and a rectangular anode 12 and a cathode 13 are provided above and below the frame 11, respectively.
  • a dielectric 15 insulator
  • holes 14 diameter 5 mm in this embodiment
  • the portion exposed from each hole 14 is a point electrode 12a.
  • the cathode 13 may be used as the point electrode. As shown in FIG.
  • the anode 12 is connected to a high voltage power supply HV via a plasma generator 16 so that the discharge sustaining voltage becomes 1100 V, and the cathode 13 is grounded.
  • the voltage applied by the high-voltage power supply HV may be a DC voltage or an AC voltage.
  • the type of plasma generated by the plasma generator 16 is preferably high-frequency discharge plasma discharged at a high frequency of a force of not less than MHz, or microwave plasma discharged in a microwave region (10 3 to 10 4 MHz). .
  • a number of shelves 17 each having a stick force are provided at regular intervals, and the object A to be sterilized is placed on the shelves 17.
  • infrared heaters 18 are attached, and behind them, protection plates 19 for protecting the thermal power chamber 1 of the infrared heater 18 are attached. Further, in the chamber 1, a peroxidation hydrogen evaporating dish 21 filled with glass wool 20 is provided, and a peroxidation hydrogen injection pipe 22 is inserted into the glass wool 20 in the evaporation dish 21. Below the glass wool 20, a cartridge heater 23 for promoting the vaporization of the hydrogen peroxide solution is provided!
  • a pressure gauge 24 for detecting the pressure inside the chamber 1 and an intake valve 25 for opening the inside of the chamber 1 to the atmosphere are attached to the outside of the chamber 1.
  • an operation panel 26 for displaying the pressure, temperature, sterilization process and the like in the chamber 1 and performing various operations and settings is provided on a side of the door 8 of the chamber 1.
  • a journal printer 27 that prints out the display on the roll paper as appropriate and outputs it.
  • the hydrogen peroxide supply unit 2 includes a hydrogen peroxide solution tank 28 and a cylinder 29.
  • the hydrogen peroxide tank 28 can be opened to the atmosphere via a solenoid valve 30.
  • the cylinder 29 is connected to a peroxylin hydrogen water tank 28 via an electromagnetic valve 31, and is connected to the peroxygen hydrogen injection pipe 22 of the chamber 1 via an electromagnetic valve 32.
  • the piston 33 fitted to the cylinder 29 is reciprocated by the pushing motor 34 via the rack-and-pion mechanism 35, and the hydrogen peroxide is transferred from the hydrogen peroxide tank 28 into the cylinder 29. It sucks 3 cc and pushes it into the glass wool 20 via the hydrogen peroxide supply pipe 22 in the chamber 1.
  • the ozone supply unit 3 cools the air sucked by the fan 36 through the oxygen-enriched membrane 37 and cools it with the Peltier element 38 to obtain air having a high oxygen concentration of 30%.
  • the high-oxygen-concentration air is supplied to an ozone generator 41 by a pump 40 via a filter 39, where ozone is generated and stored in an ozone tank 43 via a solenoid valve 42.
  • a pump 40 via a filter 39
  • ozone is generated and stored in an ozone tank 43 via a solenoid valve 42.
  • the ozone in the ozone tank 43 is returned to the ozone generator 41 via an electromagnetic valve 45 as necessary.
  • the exhaust unit 4 includes an exhaust line 4a connected to the chamber 1 and a gas that branches off from the upstream side of the exhaust line 4a and joins the downstream side of the exhaust line 4a. Disassembly line 4 b.
  • the exhaust line 4a downstream of the branch point and the gas decomposition line 4b downstream are provided with solenoid valves 46 and 47, respectively, and the gas decomposition line 4b upstream of the junction is provided with a solenoid valve 49 respectively. Have been.
  • a vacuum pump 50 and an oil mist separator 51 are provided downstream of the solenoid valve 48 of the exhaust line 4a, and the upstream side force is also applied between the solenoid valves 47 and 49 of the gas decomposition line 4b in the order of the gas decomposition device 52 and the cooling device.
  • drain separator (water drain) 54 is provided.
  • the gas decomposer 52 has a stainless pipe 57 disposed on the outer surface of an aluminum pipe 56 having a heater 55 disposed therein, and the stainless pipe 57 is connected to the gas decomposition line 4b.
  • the temperature of the heater 55 is adjusted by the temperature controller 58 so that the temperature of hydrogen peroxide and ozone passing through the stainless steel pipe 57 becomes 200 ° C.
  • the cooling device 53 has a stainless steel pipe 60 disposed in a water tank 59 containing water, and the stainless steel pipe 60 is connected to the gas decomposition line 4b.
  • the automatic pressure control unit 5 drives the vacuum pump 50 of the exhaust unit 4 based on the detected pressure of the pressure gauge 24, and controls the pressure in the chamber 1 to a predetermined pressure. You.
  • the control unit 6 includes the infrared heaters 18 and 23, the plasma generator 16, the hydrogen peroxide supply unit 2, the ozone supply unit 3, the exhaust unit 4, and the automatic pressure control unit 5 in the chamber 1. I started to control!
  • the object A to be sterilized is placed on the shelf 17 of the chamber 1, the infrared heater 18 is turned on to control the temperature inside the chamber 1 to a constant temperature, and the vacuum pump 50 of the exhaust unit 4 is driven. As shown in FIG. 8, the pressure in the chamber 1 is reduced to about 10 Torr (1333.2 Pa). At the time of this pressure reduction, since air exists in the chamber 1, the air is exhausted through the exhaust line 4a without passing through the gas decomposition line 4b in the exhaust unit 4. Next, the piston 33 of the hydrogen peroxide supply unit 2 is driven to supply hydrogen peroxide water into the chamber 1.
  • the hydrogen peroxide solution supplied into the decompressed chamber 1 is immediately vaporized, but the hydrogen peroxide solution is pushed into the glass wool 20 through the hydrogen peroxide supply pipe 22. In addition, scattering of the hydrogen peroxide solution when it evaporates is prevented. Further, the vaporization of the hydrogen peroxide solution is promoted by the cartridge heater 23 provided below the glass wool 20.
  • the supply of hydrogen peroxide raises the pressure in chamber 1 to about 70 Torr (9332.5 Pa), and after a predetermined time has elapsed, the solenoid valve 44 of the ozone supply unit 3 is opened and stored in the ozone tank 43. The ozone is supplied into the chamber 1.
  • Equation 1 The hydrogen peroxide supplied to the chamber 1 acts on the material to be sterilized as an oxidizing agent. This sterilization produces water and oxygen, as shown in Equation 1.
  • Ozone supplied into the chamber 1 also acts on the material to be sterilized as an oxidizing agent. This sterilization produces oxygen and oxygen ions as shown in Equation 2.
  • the infrared heater 18 is turned off, and the vacuum pump 50 of the exhaust unit 4 is driven again to exhaust the gas in the chamber 1.
  • the gas exhausted at this time contains hydrogen peroxide and ozone! Therefore, the gas is exhausted through the gas decomposition line 4b without passing through the exhaust line 4a in the exhaust unit 4.
  • the hydrogen peroxide and ozone led to the gas decomposition device 52 of the gas decomposition line 4a are heated to 200 ° C., decomposed into water and oxygen as shown in the above equation 3, and cooled by the cooling device 53.
  • the power is also exhausted via the vacuum pump 50 and the oil mist separator 51, so it is harmless.
  • the temperature in the chamber 1 is reduced to about 40 ° C. by turning off the infrared heater 18, hydrogen peroxide is condensed and adheres to the material A to be sterilized. Then, the pressure in chamber 1 is about lTorr (133. When the pressure is reduced to 32 Pa), plasma is generated in the chamber 1 by the plasma generator 16 for a predetermined time. As shown in Equation 4, oxygen and electrons react with the plasma generated in the atmosphere of hydrogen peroxide and ozone to generate superoxide, and the superoxide reacts with water to generate active oxygen species (hydroxy radicals). I do. The object A to be sterilized is further sterilized by this hydroxyradical.
  • the anode 12 in the chamber 1 is composed of a plurality of point-like electrodes 12a, plasma discharge occurs uniformly between each point-like electrode 12a and the cathode 13. As a result, the sterilizing action of the object A is uniformly performed over all the objects A in the chamber 1. Further, since the high-frequency voltage as described above is applied by the high-voltage power supply HV, the discharge starting voltage is reduced, so that it is easy to maintain the discharge and plasma with high uniformity can be generated. As a result, more radicals can be generated in the chamber 1, and a further sterilization effect can be expected.
  • the hydrogen peroxide and ozone in the chamber 1 are exhausted in the exhaust process and decomposed by the gas decomposer 52. Therefore, the above reaction remains very close to the material A to be sterilized. It is considered that the reaction was caused by hydrogen peroxide and ozone. Therefore, sterilization is further promoted by sterilization by radicals generated by plasma discharge following sterilization by hydrogen peroxide and ozone.
  • the intake valve 25 is opened to open the inside of the chamber 1 to the atmosphere.
  • the above radicals are instantaneously changed to oxygen and water, so that there is no toxic gas in the chamber 1 after sterilization and it is harmless. It should be noted that it takes about one hour to start the decompression in the sterilization process and open it to the atmosphere.
  • the present inventors conducted an experiment for evaluating sterilization by the sterilization method of the present invention.
  • Bacillus subtilis was used as a biological indicator. Only the spores of Bacillus subtilis were allowed to survive on a polypropylene sheet by the following procedure to obtain a sample.
  • the resulting spore fluid is filtered through sterile gauze, and the spores are separated from the medium components by centrifugation.
  • FIG. 9 shows the sterilization rate under the above four conditions, that is, the temporal change in the order of the number of bacteria.
  • the decimating digit is calculated by Equation 5.
  • Decreasing digit 1 og (Bacterial count before treatment [CFU] / [CFU] after bacterial count after treatment)
  • the time required for the number of bacteria to decrease by one digit is called a D value, and this D value is calculated according to Equation 6, and is used as a value indicating the sterilization effect. Note that the processing time shown here does not include the time for decompression and evacuation of the chamber 1, and the time for hydrogen peroxide injection diffusion, ozone injection diffusion, Indicates.
  • the D value is 600 [secZ digits].
  • the D value is 180 [secZ digits] because it takes 3 minutes for the bacterial count to decrease from 7 digits to 6 digits.
  • SAL sterility assurance level
  • FIG. 10 shows a sterilizer according to a second embodiment of the present invention.
  • This sterilization apparatus includes a hydrogen peroxide supply unit 2A, an ozone supply unit 3A, instead of the hydrogen peroxide supply unit 2, the ozone supply unit 3, and the exhaust unit 4 of the first embodiment shown in FIG. Since it is the same as the first embodiment except that the exhaust unit 4A is provided and the sterilizing gas circulation unit 1A is provided, corresponding parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
  • the hydrogen peroxide supply unit 2A has a hydrogen peroxide vapor chamber 61.
  • the hydrogen peroxide vaporization chamber 61 is provided with a heater 62 such as a silicon rubber heater wound around the outer surface, and is entirely covered with a heat insulating material 63.
  • a pressure sensor 64 is attached to the hydrogen peroxide vaporization chamber 61, and a decompression pump 66 is connected via a solenoid valve 65 so that the inside can be depressurized.
  • the hydrogen peroxide vaporizing chamber 61 is connected to a hydrogen peroxide source (not shown) via an electromagnetic valve 67, and connected to the chamber 1 via an electromagnetic valve 68.
  • the ozone supply unit 3A has an oxygen-enriched portion composed of the same fan 36, oxygen-enriched film 37, and Peltier element 38 as in the first embodiment.
  • Oxygen enrichment department The high-oxygen-concentration air enriched in the above is sucked into a pump 72 through a first three-way valve 71 and supplied to an ozone generator 41 through a filter 73 such as silica gel.
  • Ozone generated by the ozone generator 41 is stored in an ozone tank 75 via a solenoid valve 74.
  • Ozone in the ozone tank 74 is supplied into the chamber 1 through the electromagnetic valve 76.
  • the ozone tank 75 is connected to a first three-way valve 71 on the suction side of the pump 72 via a circulation line 79 having a solenoid valve 77 and a second three-way valve 78.
  • the third connection port of the second three-way valve 78 of the circulation line 79 is open to the atmosphere.
  • the ozone tank 75 is provided with an ozone concentration meter 80 for detecting the concentration of ozone in the ozone tank 75.
  • the ozone densitometer comprises a UV lamp 80a and a photodiode 80b mounted on opposing walls of an ozone tank 75, respectively, and a concentration detection circuit (not shown).
  • the light from the UV lamp 80a passes through the collimating lens 80c, the visible light filter 80d, and the quartz glass 80e to become ultraviolet rays and is radiated into the ozone tank 75.
  • Part of the ultraviolet light transmitted through the ozone tank 75 is absorbed by ozone, and the rest is received by the photodiode 80b.
  • the amount of light received by the photodiode 80b is converted to an ozone concentration by a concentration detection circuit (not shown). Until the concentration of ozone detected by the ozone concentration meter 80 reaches a predetermined value, ozone in the ozone tank 75 is returned to the suction side of the pump 72 via the circulation line 79 and circulated.
  • the exhaust unit 4A includes an exhaust line 8la connected to the chamber 1 and a gas that branches on the upstream side of the exhaust line 8la and joins the downstream side of the exhaust line 8la. It has a decomposition line of 8 lb. Solenoid valves 82 and 83 are provided for the exhaust line 8 la downstream of the branch point and the gas decomposition line 81 b downstream, respectively, and a solenoid valve 84 is provided for the gas decomposition line 8 lb upstream of the junction. ing.
  • the exhaust line 81a is provided with an ozone concentration meter 85, a vacuum pump 50, and an oil mist separator 51 in this order downstream of the junction with the gas decomposition line 81b, and is open to the atmosphere.
  • the gas decomposition line 81b is provided with a desiccant 86 such as silica gel, an ozone decomposition catalyst 87, and a hydrogen peroxide adsorbent 88 such as activated carbon in order from the upstream side.
  • the sterilization gas circulation unit 1A includes a sterilization gas circulation line 91 connected between one end and the other end of the chamber 1, a circulation pump 92 provided in the sterilization gas circulation line 91, and a circulation pump.
  • the solenoid valves 93 and 94 provided on the suction side and the discharge side of the pump 92 also act as a force, and the driving of the circulation pump 92 circulates the sterilizing gas in the chamber 1 to make sufficient contact with the material to be sterilized. .
  • step S101 the exhaust unit 4A is operated to reduce the pressure in the chamber 1.
  • a predetermined pressure for example, 3.8 Torr (500Pa) in step S102
  • the pressure in the chamber 1 is increased in step S103.
  • the hydrogen peroxide supply unit 2A to supply hydrogen peroxide to the chamber 1.
  • the ozone supply unit 3A is operated in step S104 to supply ozone into the chamber 1.
  • step S105 When the pressure in the chamber 1 rises to, for example, about 700 Torr (93325 Pa) by the supply of ozone, this state is maintained for a predetermined time in step S105 to diffuse the sterilizing gas into the chamber 1 and sterilize the object to be sterilized ( Main sterilization process).
  • the sterilizing gas circulation unit 1A is operated to circulate the sterilizing gas in the chamber 1.
  • step S106 the gas in the chamber 1 is exhausted by operating the exhaust unit 4A and decomposed.
  • the exhaust unit 4A is further operated in step S108 to reduce the pressure in the chamber 1.
  • step S109 When the pressure in the chamber 1 reaches a predetermined pressure, for example, 1. OTorr (133 Pa) in step S109, plasma is generated in the chamber 1 for a predetermined time by the plasma generator 16 in step S110, and the object to be sterilized is sterilized. (Sub-sterilization step). When the sub-sterilization step is completed, the intake valve 25 is opened in step S111 to open the chamber 1 to the atmosphere.
  • step S201 the heater 62 is turned on, the electromagnetic valve 65 is opened, and the pump 66 is driven to reduce the pressure in the hydrogen peroxide vaporization chamber 61.
  • step S202 the solenoid valve 65 is closed and the pump 66 is stopped in step S203 to reduce the force. Open 67 and pour peroxydani hydrogen water into chamber for peroxydani hydrogen water vaporization 61 Enter.
  • step S204 the hydrogen peroxide water vaporizing chamber 61 is heated by the heat of the heater 62 to vaporize the hydrogen peroxide solution.
  • the pressure in the peroxidation hydrogen water vaporization chamber 61 becomes a predetermined pressure, for example, a positive pressure in step S205 due to the vaporization of the hydrogen peroxide water, or when the pressure increase stops, in step S206, the pressure in the chamber 1 Check pressure. If the pressure in the chamber 1 is a predetermined pressure, for example, 3.8 Torr (500 Pa) in step S207, the solenoid valve 67 is closed and the solenoid valve 68 is opened for a predetermined time in step S208, so that the vaporized hydrogen peroxide is channeled. Inject into 1. When the injection of hydrogen peroxide is completed, if there is a second or subsequent sterilization, return to step S201 in preparation for the next injection of hydrogen peroxide.If not, return to the next step ( (Ozone supply step).
  • step S301 the ozone generator 41 is stopped, the solenoid valve 74 and the solenoid valve 77 are opened, and the first three-way valve 71 and the second three-way valve 78 are switched to the opening direction (OPEN direction in the figure) to change the circulation line 79.
  • the pump 72 is driven to guide the oxygen-containing gas from the oxygen-enriched section to the ozone tank 75, and further discharged to the atmosphere via the circulation line 79 for preliminary circulation.
  • step S302 the first three-way valve 71 and the second three-way valve 78 are switched to the closing direction (CLOSE direction in the figure) to make the circulation line 79 a closed circuit, and the ozone generator 41 is operated to generate ozone. I do.
  • the ozone concentration in the ozone tank 75 reaches a predetermined concentration, for example, the concentration indicated by the ozone concentration meter 80 reaches 6000 ppm in step S303
  • the pressure in the chamber 1 is checked in step S304. If the pressure in the chamber 1 is a predetermined pressure, for example, 22.6 Torr (3013 Pa) in step S305, the pump 72 and the ozone generator 41 are stopped in step S306, and the electromagnetic valve 74 and the electromagnetic valve 77 are closed.
  • the electromagnetic valve 82 is closed, the electromagnetic valves 83 and 84 are opened, and the vacuum pump 50 is operated to operate the sterilizing gas in the chamber 1.
  • solenoid valve 83 to exhaust / decomposition line 81b to decompose sterile gas. From, release to the atmosphere.
  • the electromagnetic valve 83 is closed, the electromagnetic valve 82 is opened, and the vacuum pump 50 is operated to reduce the pressure in the chamber 1.
  • the plasma discharge step of step S110 the electromagnetic valve 82 and the electromagnetic valve 83 are closed, the plasma generator 16 is turned on, and plasma is generated in the chamber 1.
  • the atmosphere introduction step of step S111 the intake valve 25 of the chamber 1 is opened while the solenoid valve 82 and the solenoid valve 83 are closed, and the atmosphere is introduced into the chamber 1.
  • FIG. 22 is a modification of the flowchart in FIG.
  • a step 110-1 is provided for determining whether or not this sterilization is the first time. If it is the first time, the process returns to step S102, and the sterilization is repeated once. Upon completion, the process is terminated after step S111. Thereby, sterilization can be repeated twice, and a higher and more reliable sterilization effect can be obtained. If necessary, the number of repetitions may be increased.
  • the hydrogen peroxide supply pipe 95 is attached to the inner end of the hydrogen peroxide injection pipe 95 attached to the wall of the chamber 1.
  • One end of a tubular ceramic heater 96 bent at 90 ° may be connected, the other end of the ceramic heater 96 may be directed upward, and stainless steel wool 97 may be filled inside.
  • Hydrogen peroxide injection pipe 95 The hydrogen peroxide water injected through the solenoid valve 32 is also heated by the ceramic heater 96 to be vaporized and supplied to the chamber 1 through the stainless steel wool 97. Part of the hydrogen peroxide water condensed by contacting the stainless steel wool 97 flows downward by gravity along the bent portion of the ceramic heater 96, and flows into the hydrogen peroxide water injected from the hydrogen peroxide injection pipe 95.
  • a bench lily tube 98 is provided between the solenoid valve 76 at the outlet of the ozone tank 75 and the chamber 1, and a solenoid valve 99 is provided at the throttle portion of the bench lily tube 98.
  • a hydrogen peroxide suction pipe 100 is provided through the air inlet, the hydrogen peroxide suction pipe 100 is inserted into the hydrogen peroxide tank 101, and the ozone supplied from the ozone tank 75 into the chamber 1 is discharged from the ozone tank 75. It is also possible to supply hydrogen peroxide by multiplying the air current.
  • sterilization is performed using hydrogen peroxide and ozone in combination.
  • the material to be sterilized is cellulose, latex rubber, silicon rubber, etc.
  • sterilization with ozone alone may be selected.
  • Figs. 24 and 25 show a structure for sterilizing a thin tubular object such as a catheter or an infusion tube.
  • a thin tubular article to be sterilized has been difficult to sterilize. Therefore, as shown in the figure, at the suction end located in the chamber 1 of the sterilizing gas circulation line 91 of the sterilizing gas circulation unit 1A, a thin-tube adapter 101 which is also made of an insulating material such as plastic is attached.
  • the thin-tube object to be sterilized Ap may be inserted into the tip of the thin-tube adapter 101. Accordingly, by driving the circulation pump 92, the sterilizing gas can be distributed to the inner hole of the object Ap to be sterilized, and the sterilizing gas can be prevented from remaining in the thin tube.
  • a needle electrode 102 is attached to the end surface of the capillary adapter 101, and the needle electrode 102 is connected to the plasma generator 16.
  • the plasma generator 16 is switchable so that a voltage can be applied to either the anode 12 or the needle electrode 102.
  • a high-frequency voltage By applying a high-frequency voltage to the needle electrode 102, the inside of the thin tube can be turned into plasma, and the sterilization effect is enhanced.
  • FIG. 26 shows another electrode structure.
  • an anode 12 is mounted in the center of a rack 103 which is provided inside the chamber 1 and has a strong insulating material, and a cathode 13 is provided on the inner peripheral surface of the chamber 1.
  • the rack 103 itself provided inside the chamber 1 is formed of a conductive material to serve as an anode, and the cathode 13 is provided on the inner peripheral surface of the chamber 1.
  • FIG. 26 (c) shows a porous cylindrical anode 12 made of a conductive material surrounding the rack 103 provided inside the chamber 1 and along the inner peripheral surface of the chamber 1. The cathode 13 is provided on the inner peripheral surface. Even with these electrode structures, uniform plasma can be generated, and a sufficient sterilization effect can be obtained.

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Abstract

　本発明は、充分な滅菌効果を得ることができ、且つ、残留ガスのない無害な滅菌方法および装置を提供する。被滅菌物を収容するチャンバ内を減圧する減圧工程、チャンバ内に過酸化水素を供給する過酸化水素供給工程、チャンバ内にオゾンを供給するオゾン供給工程、チャンバ内に供給した過酸化水素とオゾンを拡散させて被滅菌物を滅菌する減菌工程、チャンバ内のガスを排気する排気工程、及びチャンバ内にプラズマを発生させて、被滅菌物近傍に残留した過酸化水素およびオゾンを分解してラジカルを生成させ、該ラジカルにより滅菌を促進させるプラズマ発生工程とからなる。

Description

明 細 書
滅菌方法及び装置
技術分野
[0001] 本発明は、医療器具等を滅菌する滅菌方法及び装置に関する。
背景技術
[0002] 従来、滅菌装置には、過酸ィ匕水素とプラズマを組み合わせたもの、オゾンとプラズ マを組み合わせたもの、過酸ィ匕水素とオゾンを組み合わせたものがある。
[0003] 過酸ィ匕水素 +プラズマ滅菌の例として、特許文献 1には、滅菌すべき物品をチャン バ内に配置する工程と、物品に過酸ィ匕水素を該過酸ィ匕水素が物品とごく緊密な状態 となるに足る時間に亘り接触させる工程と、物品の周囲にプラズマを発生させる工程 と、物品をプラズマ中に滅菌を行うのに足りる期間に亘り保持する工程とを備えた滅 菌方法が記載されている。
また、特許文献 2には、滅菌すべき物品を過酸ィ匕水素に接触させる工程と、残留過 酸ィ匕水素を含む物品を減圧チャンバ内に置く工程と、減圧チャンバ内で物品の周囲 にプラズマを発生させる工程と、残留過酸ィ匕水素の活性種によって滅菌を行わせる のに十分な時間、物品をプラズマ内に維持する工程とを備えた滅菌方法が記載され ている。
特許文献 3には、プラズマで滅菌する前に、液状の過酸化水素溶液を気体状態と した後、流量調節器を利用して気体状の過酸化水素を所望の圧力に調節し注入す るプラズマ消毒システムが記載されて！、る。
特許文献 4には、滅菌用チャンバと、該滅菌用チャンバと連通するプラズマ発生用 チャンバとを設け、プラズマ発生用チャンバで発生させたプラズマと滅菌剤を滅菌用 チャンバに供給するようにしたプラズマ滅菌装置が記載されて 、る。
[0004] オゾン +プラズマ滅菌の例として、特許文献 5には、被処理物が収容された処理室 に、酸素あるいは酸素を含む混合気体を放電励起してプラズマを発生させ、ガス状 の水を噴射するとともに、紫外線を照射する滅菌およびドライ洗浄装置が記載されて いる。 また、特許文献 6には、ガス供給管内の酸素または酸素を含むガスをプラズマ化し て滅菌室に供給し、該滅菌室内に供給されたガスをプラズマ化し、これらのプラズマ を滅菌室内に配置された磁石で閉じ込めるプラズマ滅菌装置が記載されている。
[0005] 過酸化水素 +オゾン滅菌の例として、特許文献 7には、被滅菌物が収容された処 理容器内に過酸化水素を供給した後、当該処理容器内にオゾンを添加する滅菌装 置が記載されている。
[0006] しかし、前記従来の滅菌装置は、 V、ずれも有害なガスを残留させな 、構成になって いるものの、滅菌効果が充分ではな力つた。滅菌剤の濃度を上げて滅菌効果を高め ると、滅菌後のチャンバ内にガスが残留し、残留ガスの分解作業 (エアレーシヨン）に 長時間を要すると 、う問題がある。
[0007] 特許文献 1 :特開昭 61— 293465号公報 (特許第 1636983号）
特許文献 2 :特開平 1— 293871号公報
特許文献 3：特表 2003 - 533248号公報
特許文献 4：特開 2003— 310720号公報
特許文献 5 :特開 2003— 159570号公報
特許文献 6：特開 2003 - 250868号公報
特許文献 7：特開 2002 - 360672号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0008] 本発明は、前記従来の問題点に鑑みてなされたもので、充分な滅菌効果を得ること ができ、且つ、残留ガスのない無害な滅菌方法および装置を提供することを課題とす る。また、滅菌時間を短縮することができる滅菌方法および装置を提供することを課 題とする。
課題を解決するための手段
[0009] 前記課題を解決するために、本発明に力かる滅菌方法は、
被滅菌物を収容するチャンバ内を減圧する減圧工程、
前記チャンバ内に過酸化水素を供給する過酸化水素供給工程、
前記チャンバ内にオゾンを供給するオゾン供給工程、 前記チャンバ内に供給した過酸ィ匕水素とオゾンを拡散させて被滅菌物を滅菌する 減菌工程、
前記チャンバ内のガスを排気する排気工程、及び
前記チャンバ内にプラズマを発生させるプラズマ発生工程とからなるものである。
[0010] 本発明の滅菌方法では、チャンバ内に供給され気化した過酸ィ匕水素により被滅菌 物を滅菌し、続いてチャンバ内に供給されるオゾンにより被滅菌物を滅菌する。チヤ ンバ内のガスを排気してから、チャンバ内で発生するプラズマにより、被滅菌物近傍 に残留した過酸ィ匕水素およびオゾンを分解してラジカルを生成させ、該ラジカルによ り滅菌を促進させる。これにより、被滅菌物近傍に残留する過酸化水素およびオゾン が分解されるので無害となる。
[0011] 前記排気工程は、前記チャンバから排気されるガスを酸素と水に分解する分解ェ 程を含むことが好ましい。これにより、残留ガスが酸素と水に分解されるので、無害で あり、滅菌終了後にチャンバをすぐに使用することができる。この代わりに、前記チヤ ンノくから排気されるガス中のオゾンを分解する分解工程を設けてもよい。
[0012] 前記滅菌工程では、前記チャンバの滅菌ガスを循環させる工程を含むことが好まし い。これにより、チャンバの滅菌ガスを均一に分散させることができ、滅菌効果を向上 させることがでさる。
[0013] また、本発明にかかる滅菌装置は、
被滅菌物を収容可能なチャンバ、
該チャンバ内を減圧する減圧ユニット、
前記チャンバ内に過酸ィ匕水素を供給する過酸ィ匕水素供給ユニット、
前記チャンバ内にオゾンを供給するオゾン供給ユニット、
前記チャンバ内のガスを排気する排気ユニット、及び
前記チャンバ内にプラズマを発生させるプラズマ発生ユニットを備えたものである。
[0014] 本発明の滅菌装置では、過酸化水素、オゾン、およびプラズマの併用により、被滅 菌物が滅菌される。また、被滅菌物近傍に残留した過酸化水素を分解するだけでな ぐ分解した際に生成する各種ラジカルにより、被滅菌物の滅菌をさらに促進させる。
[0015] 前記過酸化水素供給ユニットは、前記チャンバ内に液体状態で供給される過酸ィ匕 水素水の飛散を防止する飛散防止部材を設けることが好ましい。これにより、液体状 態の過酸化水素が減圧されたチャンバ内に供給されるときの急激な蒸発による飛散 が防止される。
[0016] 前記排気ユニットは、前記チャンバから排気されるガスを酸素と水に分解する残留 ガス分解ユニットを有することが好ましい。これにより、残留ガスが酸素と水に分解さ れるので、無害であり、滅菌終了後にチャンバをすぐに使用することができる。この分 解ユニットの代わりに、前記チャンバから排気されるガス中のオゾンを分解させるォゾ ン分解触媒を含めてもよい。
[0017] 前記チャンバの滅菌ガスを循環させる滅菌ガス循環ユニットをさらに含むことが好ま しい。これにより、チャンバの滅菌ガスを均一に分散させることができ、滅菌効果を向 上させることができる。
[0018] 前記プラズマ発生装置は、前記チャンバ内に陽極と陰極とを有し、前記陽極又は 陰極の何れか一方は、絶縁体に囲まれた複数の点状電極力もなることが好ましい。こ れにより、複数の点状電極から生じる放電空間が互いに干渉することで均一なプラズ マを発生することができる。なお、前記陽極は高圧電源に接続され、陰極はグランド に接地されて 、ることが好まし 、。
発明の効果
[0019] 本発明の滅菌方法および装置によれば、過酸化水素、オゾン、およびプラズマの 併用により、より高い滅菌効果を発揮する。また、被滅菌物近傍に残留した過酸化水 素を分解するだけでなぐ分解した際に生成する各種ラジカルにより、被滅菌物の滅 菌をさらに促進させ、滅菌時間を大幅に短縮することができる。
図面の簡単な説明
[0020] [図 1]本発明の第 1実施形態に係る滅菌装置の概略構成図。
[図 2]本発明に係る滅菌装置の扉を開!、た状態の正面図。
[図 3]図 2の滅菌装置の側面断面図。
[図 4] (a)は陽極の底面図、（b)は絶縁体の孔部分の斜視図。
[図 5]過酸ィ匕水素供給ユニットのブロック図。
[図 6]オゾン供給ユニットのブロック図。 [図 7]排気ユニットのブロック図。
[図 8]チャンバ内の圧力変化図。
圆 9]各種条件における滅菌速度を示す図。
圆 10]本発明の第 2実施形態に係る滅菌装置の概略構成図。
[図 11]過酸ィ匕水素供給ユニットのブロック図。
[図 12] (a)はオゾン供給ユニットのブロック図、（b)はオゾン濃度計の構成図。
[図 13]排気ユニットのブロック図。
[図 14]滅菌ガス循環ユニットのブロック図。
[図 15]滅菌装置の動作を示すフローチャート。
[図 16]チャンバ内の圧力変化図。
[図 17]過酸ィ匕水素供給工程のフローチャート。
圆 18]過酸ィ匕水素供給工程のタイムチャート。
[図 19]オゾン供給工程のフローチャート。
[図 20]オゾン供給工程のタイムチャート。
圆 21]減圧排気行程のタイムチャート。
[図 22]図 15の変形例による滅菌装置の動作を示すフローチャート。
[図 23] (a)は過酸化水素供給ユニットの他の実施形態、（b)は過酸化水素供給ュ ットのさらに他の実施形態を示す図。
[図 24]細管状の被滅菌物を滅菌する構造を示す図。
[図 25]図 24の一部拡大図。
[図 26]電極の他の例を示す図。
符号の説明
1 チャンバ
1A 滅菌ガス循環ユニット
2, 2A 過酸ィ匕水素供給ユニット
3, 3 A オゾン供給ユニット
4, 4A 排気ユニット
12 陽極 12a 点状電極
13 陰極
15 誘電体
16 プラズマ発生装置
20 グラスウール (飛散防止部材）
50 真空ポンプ
52 ガス分解装置
87 オゾン分解触媒
発明を実施するための最良の形態
[0022] 以下、本発明の実施形態を添付図面に従って説明する。
[0023] 図 1は、本発明の第 1実施形態に係る滅菌装置を示す。この滅菌装置は、チャンバ 1、過酸ィ匕水素供給ユニット 2、オゾン供給ユニット 3、排気ユニット 4、自動圧力制御 ユニット 5、制御ユニット 6から構成されている。
[0024] チャンバ 1は、図 2,図 3に示すように円筒形状で、その両端にフランジ 7が取り付け られ、正面側のフランジ 7には扉 8が開閉自在に取り付けられ、背面側のフランジ 7に は閉蓋 9が取り付けられている。扉 8には、内部を視認できるようにガラス窓 10が設け られている。
[0025] チャンバ 1内には、フレーム 11が設けられ、該フレーム 11の上部及び下部に矩形 の陽極 12および陰極 13が配設されている。陽極 12の陰極 13と対向する面には、図 4に示すように、一定ピッチ（20mmから 100mm)で孔 14 (本実施形態では径 5mm) が形成された誘電体 15 (絶縁体)が貼り付けられ、各孔 14から露出する部分が点電 極 12aになっている。このように陽極 12を点状電極 12aとする代わりに，陰極 13を点 状電極としてもよ ヽ。陽極 12は図 1に示すようにプラズマ発生装置 16を介して放電 維持電圧が 1100Vとなるように高圧電源 HVに接続され、陰極 13は接地されて 、る 。高圧電源 HVにより印加する電圧は、直流電圧でもよいし、交流電圧でもよい。 また、プラズマ発生装置 16により発生させるプラズマの種類は任意である力 MHz 以上の高周波で放電させた高周波放電プラズマ、マイクロ波領域（103〜104MHz) で放電させたマイクロ波プラズマが好ま 、。フレーム 11の左側部と右側部の間には 、一定間隔で配設された多数の棒力もなる棚 17が取り付けられ、該棚 17に被滅菌物 Aが載置されるようになっている。フレーム 11の両側部には、赤外線ヒータ 18が取り 付けられ、その背後には赤外線ヒータ 18の熱力 チャンバ 1を保護する保護板 19が 取り付けられている。また、チャンバ 1内には、ガラスウール 20を充填した過酸ィ匕水素 蒸発皿 21が設けられ、該蒸発皿 21内のガラスウール 20に過酸ィ匕水素注入管 22が 挿入されている。ガラスウール 20の下方には、過酸化水素水の気化を促進するため のカートリッジヒータ 23が配設されて!/、る。
[0026] チャンバ 1の外側には、図 1に示すように、チャンバ 1内の圧力を検出する圧力計 2 4と、チャンバ 1内を大気に開放する吸気弁 25が取り付けられている。また、チャンバ 1の扉 8の側方には、図 2に示すように、チャンバ 1内の圧力、温度、滅菌工程等を表 示するとともに各種の操作，設定を行う操作パネル 26と、操作パネル 26上の表示を ロール紙に適宜印刷して出力するジャーナルプリンタ 27が設けられている。
[0027] 過酸化水素供給ユニット 2は、図 5に示すように、過酸化水素水タンク 28とシリンダ 2 9とからなっている。過酸ィ匕水素水タンク 28は電磁弁 30を介して大気に開放可能に なっている。シリンダ 29は過酸ィ匕水素水タンク 28に電磁弁 31を介して接続されるとと もに、前記チャンバ 1の過酸ィ匕水素注入管 22に電磁弁 32を介して接続されている。 シリンダ 29に嵌合するピストン 33は、押込モータ 34によりラックアンドピ-オン機構 3 5を介して往復運動し、過酸ィ匕水素水タンク 28からシリンダ 29内に過酸ィ匕水素水を 約 3cc吸引し、チャンバ 1の過酸ィ匕水素水供給管 22を介してガラスウール 20に押込 むようになっている。
[0028] オゾン供給ユニット 3は、図 6に示すように、ファン 36により吸引した空気を酸素富化 膜 37に通してペルチエ素子 38で冷却することで 30%の高酸素濃度の空気とした後 、この高酸素濃度空気をフィルタ 39を介してポンプ 40によりオゾン発生装置 41に供 給し、ここでオゾンを発生させて電磁弁 42を介してオゾンタンク 43に貯溜しておき、 電磁弁 44を介してチャンバ 1内に供給するようになって!/、る。オゾンタンク 43のォゾ ンは、必要に応じて電磁弁 45を介してオゾン発生装置 41に戻される。
[0029] 排気ユニット 4は、図 7に示すように、チャンバ 1に接続された排気ライン 4aと、該排 気ライン 4aの上流側カゝら分岐して排気ライン 4aの下流側に合流するガス分解ライン 4 bとを有して 、る。分岐点より下流側の排気ライン 4aと下流側のガス分解ライン 4bに はそれぞれ電磁弁 46, 47が設けられ、合流点より上流側のガス分解ライン 4bにはそ れぞれ電磁弁 49が設けられている。排気ライン 4aの電磁弁 48の下流側には、真空 ポンプ 50とオイルミストセパレータ 51が設けられ、ガス分解ライン 4bの電磁弁 47, 49 の間には上流側力も順にガス分解装置 52、冷却装置 53、ドレンセパレータ (水抜き） 54が設けられている。ガス分解装置 52は、内部にヒータ 55を配設したアルミ管 56の 外面にステンレスパイプ 57を配設して、該ステンレスパイプ 57をガス分解ライン 4bに 連通させたものである。ヒータ 55は温調器 58によりステンレスパイプ 57内を通る過酸 化水素とオゾンが 200°Cになるように温度調節される。冷却装置 53は、水が収容され た水槽 59内にステンレスパイプ 60配設し、該ステンレスパイプ 60をガス分解ライン 4 bに連通させたものである。
[0030] 自動圧力制御ユニット 5は、圧力計 24の検出圧力に基づいて前記排気ユニット 4の 真空ポンプ 50を駆動し、チャンバ 1内の圧力を所定の圧力に制御するようになって!/、 る。
[0031] 制御ユニット 6は、前記チャンバ 1内の赤外線ヒータ 18, 23、プラズマ発生装置 16、 過酸ィ匕水素供給ユニット 2、オゾン供給ユニット 3、排気ユニット 4および自動圧力制 御ユニット 5等を制御するようになって!/ヽる。
[0032] 以上の構成力 なる第 1実施形態の滅菌装置の作用について説明する。
[0033] チャンバ 1の棚 17に被滅菌物 Aを載置し、赤外線ヒータ 18をオンしてチャンバ 1内 を一定温度に温調するとともに、排気ユニット 4の真空ポンプ 50を駆動して、図 8に示 すように、チャンバ 1内を約 10Torr (1333. 2Pa)に減圧する。この減圧時には、チヤ ンバ 1内は空気が存在しているので、排気ユニット 4内のガス分解ライン 4bを通さず に排気ライン 4aを通して排気する。次に、過酸ィ匕水素供給ユニット 2のピストン 33を 駆動してチャンバ 1内に過酸化水素水を供給する。減圧されたチャンバ 1内に供給さ れる過酸ィ匕水素水は直ちに気化するが、過酸ィ匕水素水は過酸ィ匕水素水供給管 22 を介してガラスウール 20内に押込まれるので、過酸化水素水が気化するときの飛び 散りが防止される。また、ガラスウール 20の下方に設けたカートリッジヒータ 23によつ て過酸化水素水の気化が促進される。 [0034] 過酸化水素の供給によりチャンバ 1内の圧力が約 70Torr (9332. 5Pa)に上昇して 力も所定時間が経過した後、オゾン供給ユニット 3の電磁弁 44を開きオゾンタンク 43 内に貯溜されたオゾンをチャンバ 1内に供給する。オゾンの供給によりチャンバ 1内の 圧力が大気圧以下、例えば 700Torr(93325Pa)前後に上昇すると、この状態を所 定時間保持して、過酸ィ匕水素およびオゾンをチャンバ 1内に拡散させ、被滅菌物の 滅菌を行う。
[0035] チャンバ 1に供給された過酸ィ匕水素は、酸化剤として被滅菌物に作用する。この滅 菌作用により、数 1に示すように水と酸素が生成される。
[数 1]
2 H 2 02→ 2 H 2 0十02
[0036] チャンバ 1内に供給されたオゾンもまた、酸化剤として被滅菌物に作用する。この滅 菌作用により、数 2に示すように酸素と酸素イオンが生成される。
[数 2]
o3→o2 + o
[0037] またチャンバ 1内の過酸ィ匕水素とオゾンが反応して、数 3に示すように、水と酸素を 生成する。
[数 3]
03 十 2 H 2 02 →H 2 O十 2 0 2
[0038] 次に、赤外線ヒータ 18をオフするとともに、再度排気ユニット 4の真空ポンプ 50を駆 動してチャンバ 1内のガスを排気する。このとき排気されるガスは過酸ィ匕水素とオゾン が含まれて！/、るので、排気ユニット 4内の排気ライン 4aを通さずにガス分解ライン 4b を通してカゝら排気する。ガス分解ライン 4aのガス分解装置 52に導かれた過酸ィ匕水素 とオゾンは、 200°Cに加熱されて上記数 3に示すように、水と酸素に分解され、冷却 装置 53で冷却されて力も真空ポンプ 50、オイルミストセパレータ 51を介して排気され るので、無害である。
[0039] 赤外線ヒータ 18のオフによりチャンバ 1内の温度が約 40°Cまで低下すると、過酸ィ匕 水素が凝縮し被滅菌物 Aに付着する。そして、チャンバ 1内の圧力が約 lTorr(133. 32Pa)に減圧されると、プラズマ発生装置 16によりチャンバ 1内で所定時間、プラズ マを発生させる。過酸化水素およびオゾン雰囲気下で発生するプラズマにより、数 4 に示すように、酸素と電子が反応してスーパーオキサイドが生成され、スーパーォキ サイドが水と反応して活性酸素種 (ヒドロキシラジカル)を生成する。このヒドロキシラジ カルにより被滅菌物 Aはさらに滅菌される。なお、チャンバ 1内の陽極 12は、複数の 点状電極 12aとなっているので、各点状電極 12aと陰極 13との間で均一にプラズマ 放電が生じる。この結果、被滅菌物 Aの殺菌作用は、チャンバ 1内の全ての被滅菌物 Aにわたつて均一に行われる。また、高圧電源 HVにより前述したような高周波電圧を 印加しているので、放電開始電圧が低下するため放電を維持させることが容易となり 、均一性の高いプラズマを発生させることができる。この結果、チャンバ 1内でより多く のラジカルを生成させることができるので、さらなる滅菌効果が期待できる。
画
o 2 十 e→o2 · -
02 · + H 2 02→O H ·十 O H 十 02
[0040] この段階では、チャンバ 1内の過酸ィ匕水素とオゾンは上記排気工程で排気されガス 分解装置 52で分解されているため、上記反応は、被滅菌物 Aのごく近傍に残留した 過酸ィ匕水素およびオゾンによる反応であると考えられる。したがって、過酸化水素と オゾンによる滅菌に続いて、さらにプラズマ放電で発生するラジカルによる滅菌が行 われるので、滅菌がさらに促進される。
[0041] プラズマ放電による滅菌が終了すると、吸気弁 25を開いて、チャンバ 1内を大気に 開放する。プラズマ放電を停止すると、上記ラジカルは瞬時に酸素と水に変化するの で、滅菌後のチャンバ 1内には有毒なガスは存在せず、無害である。なお、以上の滅 菌工程の減圧開始力 大気開放までは、約 1時間である。
[0042] 本発明者らは、本発明の滅菌方法による滅菌の評価のための実験を行った。バイ ォロジカルインジケータ (指標菌）として枯草菌を使用した。以下の手順でポリプロピ レン製のシート上に枯草菌の胞子のみを生存させて試料とした。
(1)標準寒天培地を用い、インキュベータにより 35°Cの条件で 24時間枯草菌の前 培養を行う。 (2)前培養後、枯草菌を加熱処理した白金耳によりルービンに均一に植菌する。 ( 単一コロニーを用いる）
(3)ルービン 500ml容器内でインキュベータを用いて 35°Cで 7日間培養（塗抹)す る。
(4)培養後、釣菌し顕微鏡にて芽胞生成率 80%を確認する。
(5)ルービンにガラスビーズ 20個と滅菌水 20mlをいれ、前後左右にルービンを傾 けて培地表面の芽法を剥離する。
(6)生成した芽胞液を滅菌ガーゼによりろ過し、遠心分離を用いて培地成分と芽胞 を分離する。
(7)芽胞液を 80°Cで 10分間加熱し、栄養細胞を死滅させる。
(8)芽胞懸濁液を三角フラスコに移し、冷蔵庫 (5°C)に保管する。
(9)芽胞懸濁液の芽胞濃度を測定する。（標準平板菌数測定法）
(10)殺菌処理を行った検体フィルム上に芽胞濃度 106CFU/0. 1mlとなるように 菌液を滴下する。
(11)室温で一晩乾燥させる。
(12)乾燥後、検体を滅菌シャーレ内にいれ冷蔵庫 (5°C)に保管する。 上記手順で作成された試料をチャンバ 1内に置き、過酸ィ匕水素のみを供給した場 合、オゾンのみを供給した場合、プラズマ放電のみを行った場合、本願発明の過酸 化水素とオゾンを供給しさらにプラズマ放電を行った場合の 4つの条件で滅菌を行つ た。各条件において、標準平板菌数測定法により滅菌処理前と滅菌処理後の菌数（ CFU)を測定した。
[0043] 図 9は、上記 4つの条件における滅菌速度、すなわち、菌数の桁の時間的変化を 示す。減少桁は、数 5により計算される。
[数 5]
減少桁 = 1 o g (処理前の菌数 [C F U ] /処理後の菌数後の [ C F U] )
[0044] 菌数が 1桁減少するまでの時間を D値と呼び、この D値は数 6にょうに計算され、滅 菌効果を示す値として用いられる。なお、ここで示す処理時間は、チャンバ 1の減圧 や排気時間を含まず、過酸化水素注入拡散、オゾン注入拡散、プラズマ放電の時間 を示す。
[数 6]
D値 [sec/桁] =処理時間 [sec] /減少桁 [桁]
[0045] 図 9に示すように、オゾン殺菌のみの条件では、菌数が 7桁から 6桁に減少するのに 10分を要しているので、 D値は 600[secZ桁]である。プラズマ滅菌のみの条件では 、菌数が 7桁から 6桁に減少するのに 3分を要しているので、 D値は 180[secZ桁]で ある。過酸化水素滅菌のみの条件では、 7桁から 2桁に減少するのに 30秒を要して いるので、 D値は 30Z (7— 2) =6 [secZ桁]である。本願発明の過酸化水素とォゾ ンを供給しさらにプラズマ放電を行った条件では、 7桁カゝら 0桁に減少するのに 30秒 を要しているので、 D値は 30Z (7— 0) =4. 3 [secZ桁]である。したがって、本発明 では、 D値が大幅に減少し、オゾン滅菌、過酸化水素滅菌、プラズマ滅菌のみの場 合に比べて非常に滅菌効果が高いことがわかる。また、図 9に示すように、本発明は 30秒以下の短時間で無菌性保障水準 (SAL)を下まわり、滅菌速度が非常に速いこ とがわかる。
[0046] 図 10は、本発明の第 2実施形態に係る滅菌装置を示す。この滅菌装置は、図 1〖こ 示す前記第 1実施形態の過酸化水素供給ユニット 2、オゾン供給ユニット 3、排気ュ ニット 4の代わりに、過酸ィ匕水素供給ユニット 2A、オゾン供給ユニット 3A、排気ュ-ッ ト 4Aを設けるとともに滅菌ガス循環ユニット 1Aを設けた以外は、第 1実施形態と同一 であるので、対応する部分には同一符号を附して説明を省略する。
[0047] 過酸ィ匕水素供給ユニット 2Aは、図 11に示すように、過酸ィ匕水素気化用チャンバ 61 を有する。過酸ィ匕水素気化用チャンバ 61は、外面に巻き付けられたシリコンラバーヒ ータ等のヒータ 62が設けられ、全体が断熱材 63で覆われている。過酸化水素気化 用チャンバ 61には、圧力センサ 64が取り付けられるとともに、電磁弁 65を介して減 圧ポンプ 66が接続され、内部を減圧できるようになつている。また、過酸化水素気化 用チャンバ 61は、電磁弁 67を介して図示しない過酸ィ匕水素水源に接続され、電磁 弁 68を介してチャンバ 1に接続されて!、る。
[0048] オゾン供給ユニット 3Aは、図 12 (a)に示すように、前記第 1実施形態と同様のファ ン 36、酸素富化膜 37、ペルチ 素子 38からなる酸素富化部を有する。酸素富化部 で富化された高酸素濃度空気は、第 1三方弁 71を介してポンプ 72に吸引され、シリ 力ゲル等のフィルタ 73を介してオゾン発生装置 41に供給される。オゾン発生装置 41 で発生したオゾンは電磁弁 74を介してオゾンタンク 75に貯溜される。オゾンタンク 74 のオゾンは電磁弁 76を介してチャンバ 1内に供給される。オゾンタンク 75は、電磁弁 77と第 2三方弁 78を有する循環ライン 79を介して、前記ポンプ 72の吸込側にある第 1三方弁 71に接続されている。循環ライン 79の第 2三方弁 78の第 3の接続口は大気 に開放されている。
[0049] オゾンタンク 75には、オゾンタンク 75内のオゾンの濃度を検出するオゾン濃度計 80 が設けられている。このオゾン濃度計は、図 12 (b)に示すように、オゾンタンク 75の対 向する壁にそれぞれ取り付けた UVランプ 80aとフォトダイオード 80b、及び図示しな い濃度検出回路からなっている。 UVランプ 80aからの光は、コリメートレンズ 80c、可 視光フィルタ 80d、石英ガラス 80eを透過して紫外線となってオゾンタンク 75内に照 射される。オゾンタンク 75内を透過する紫外線一部はオゾンに吸収され、残りはフォト ダイオード 80bに受光される。フォトダイオード 80bの受光量は図示しない濃度検出 回路でオゾン濃度に変換される。前記オゾン濃度計 80で検出されたオゾンの濃度が 所定値になるまで、オゾンタンク 75内のオゾンを循環ライン 79を介してポンプ 72の吸 込側に戻して循環させるようになって 、る。
[0050] 排気ユニット 4Aは、図 13に示すように、チャンバ 1に接続された排気ライン 8 laと、 該排気ライン 8 laの上流側力 分岐して排気ライン 8 laの下流側に合流するガス分 解ライン 8 lbとを有している。分岐点より下流側の排気ライン 8 laと下流側のガス分解 ライン 81bにはそれぞれ電磁弁 82, 83が設けられ、合流点より上流側のガス分解ラ イン 8 lbには電磁弁 84が設けられている。排気ライン 81aは、ガス分解ライン 81bと の合流点より下流側に、オゾン濃度計 85、真空ポンプ 50、オイルミストセパレータ 51 が順に設けられ、大気に開放されている。ガス分解ライン 81bには、上流側から順に シリカゲル等の乾燥剤 86、オゾン分解触媒 87、活性炭等の過酸ィ匕水素吸着剤 88が 設けられている。
[0051] 滅菌ガス循環ユニット 1 Aは、チャンバ 1の一端と他端の間に接続された滅菌ガス循 環ライン 91と、該滅菌ガス循環ライン 91に設けられた循環ポンプ 92と、該循環ボン プ 92の吸込側と吐出側に設けられた電磁弁 93, 94と力もなり、循環ポンプ 92の駆 動により、チャンバ 1内の滅菌ガスを循環させ、被滅菌物に充分に接触させるもので ある。
[0052] 以上の構成力もなる第 2実施形態の滅菌装置の作用を図 15のフローチャートと図 1 6の圧力変化図に従って説明する。
[0053] ステップ S101で排気ユニット 4Aを作動させてチャンバ 1の減圧を行い、ステップ S 102でチャンバ 1内の圧力が所定圧力例えば 3. 8Torr (500Pa)に到達すると、ステ ップ S 103で過酸ィ匕水素供給ユニット 2Aを作動させて過酸ィ匕水素をチャンバ 1内に 供給する。過酸化水素の供給により、チャンバ 1内の圧力が所定圧力例えば 22. 6 Torr(3013Pa)に上昇すると、ステップ S 104でオゾン供給ユニット 3Aを作動させて オゾンをチャンバ 1内に供給する。オゾンの供給により、チャンバ 1内の圧力が例えば 700Torr (93325Pa)前後に上昇すると、ステップ S105でこの状態を所定時間保持 して滅菌ガスをチャンバ 1内に拡散させ、被滅菌物の滅菌を行う (メイン滅菌工程)。 ここで、滅菌ガス循環ユニット 1Aを作動させて、チャンバ 1内の滅菌ガスを循環させる 。メイン滅菌工程が終了すると、ステップ S106で、排気ユニット 4Aを作動させてチヤ ンバ 1内のガスを排気し、分解させる。チャンバ 1内のガスの排気により、ステップ S 10 7で圧力が所定圧力例えば 3. 8Torr(500Pa)に到達すると、ステップ S108でさらに 排気ユニット 4Aを作動させてチャンバ 1の減圧を行う。ステップ S 109でチャンバ 1内 の圧力が所定圧力例えば 1. OTorr (133Pa)に到達すると、ステップ S110でプラズ マ発生装置 16によりチャンバ 1内で所定時間プラズマを発生させ、被滅菌物の滅菌 を行う（サブ滅菌工程)。サブ滅菌工程が終了すると、ステップ S111で吸気弁 25を 開いてチャンバ 1を大気に開放する。
[0054] ステップ 103の過酸化水素供給工程の詳細を図 17のフローチャート及び図 18のタ ィムチャートに従って説明する。まずステップ S 201で、ヒータ 62をオンし、電磁弁 65 を開いてポンプ 66を駆動することにより、過酸ィ匕水素水気化用チャンバ 61を減圧す る。ステップ S202で過酸ィ匕水素水気化用チャンバ 61内の圧力が所定圧力例えば 約 7. 5Torr (lkPa)に到達すると、ステップ S203で電磁弁 65を閉じてポンプ 66を停 止して力も電磁弁 67を開き、過酸ィ匕水素水を過酸ィ匕水素水気化用チャンバ 61に注 入する。ステップ S204でヒータ 62の熱により過酸化水素水気化用チャンバ 61をカロ 熱し、過酸化水素水を気化させる。過酸ィ匕水素水の気化により、ステップ S205で、 過酸ィ匕水素水気化用チャンバ 61内の圧力が所定圧力例えば陽圧になり、又は圧力 上昇が停止すると、ステップ S206でチャンバ 1内の圧力を確認する。ステップ S207 でチャンバ 1内の圧力が所定圧力例えば 3. 8Torr(500Pa)であれば、ステップ S20 8で、電磁弁 67を閉じ、電磁弁 68を所定時間開いて、気化した過酸化水素をチャン ノ 1に注入する。過酸化水素の注入を終了すると、 2回目以降の滅菌がある場合に は、次回の過酸ィ匕水素注入の準備のためにステップ S201に戻る力 ない場合は、リ ターンして次のステップ (オゾン供給工程）に移行する。
[0055] ステップ S104のオゾン供給工程の詳細を図 19のフローチャート及び図 20タイムチ ヤートに従って説明する。まず、ステップ S301で、オゾン発生装置 41を停止し、電磁 弁 74と電磁弁 77を開き、第 1三方弁 71と第 2三方弁 78を開方向（図中 OPEN方向） に切り換えて循環ライン 79をオープン回路とし、ポンプ 72を駆動して酸素富化部か らの酸素含有ガスをオゾンタンク 75に導き、さらに循環ライン 79を経て大気に放出す ることで、予備循環させる。次に、ステップ S302で、第 1三方弁 71と第 2三方弁 78を 閉方向（図中 CLOSE方向）に切り換えて循環ライン 79をクローズ回路とし、オゾン発 生装置 41を運転してオゾンを生成する。ステップ S303でオゾンタンク 75内のオゾン 濃度が所定濃度例えばオゾン濃度計 80の示す濃度が 6000ppmに到達した時点で 、ステップ S304でチャンバ 1内の圧力を確認する。ステップ S305でチャンバ 1内の 圧力が所定圧力例えば 22. 6Torr(3013Pa)であれば、ステップ S306で、ポンプ 72 とオゾン発生装置 41を停止し、電磁弁 74と電磁弁 77を閉じてから、電磁弁 76を所 定時間開き、オゾンをチャンバ 1に注入する。オゾンの注入を終了すると、 2回目以降 の滅菌がある場合には、次回のオゾンの準備のためにステップ S301に戻る力 ない 場合は、リターンして次ぎのステップ (メイン滅菌工程）に移行する。
[0056] メイン滅菌工程以降の排気工程の詳細を図 21のタイムチャートに従って説明する。
前述した図のフローチャートのステップ S 106の滅菌ガスの排気 ·分解工程では、電 磁弁 82を閉じ、電磁弁 83と電磁弁 84を開き、真空ポンプ 50を運転して、チャンバ 1 内の滅菌ガスを電磁弁 83を介して排気 ·分解ライン 81bに導き、滅菌ガスを分解して から、大気に開放する。ステップ 108の滅菌チャンバ減圧工程では、電磁弁 83を閉 じ、電磁弁 82を開き、真空ポンプ 50を運転して、チャンバ 1内を減圧する。ステップ S 110のプラズマ放電工程では、電磁弁 82と電磁弁 83を閉じ、プラズマ発生装置 16 をオンにして、チャンバ 1にプラズマを発生させる。ステップ S 111の大気導入工程で は、電磁弁 82と電磁弁 83を閉じたまま、チャンバ 1の吸気弁 25を開いて、チャンバ 1 内に大気を導入する。
[0057] 図 22は、図 15のフローチャートの変形例である。ここでは、ステップ S110のサブ滅 菌工程の終了後に、今回の滅菌が初回か否かを判断するステップ 110— 1を設け、 初回であればステップ S102に戻って、滅菌をもう一度繰り返し、 2回目が終了すると 、ステップ S111に以降して終了するようにしている。これにより、 2回の滅菌を繰り返 すことができ、より高く確実な滅菌効果を得ることができる。必要に応じて、この繰り返 し回数を増加してもよい。
[0058] なお、過酸ィ匕水素供給ユニットの他の実施形態としては、図 23 (a)に示すように、 チャンバ 1の壁に取り付けた過酸ィ匕水素注入管 95の内側端部に、 90° に屈曲した 管状のセラミックヒータ 96の一端を接続し、該セラミックヒータ 96の他端を上方に向け るとともに内部にステンレスウール 97を充填したものでもよい。過酸化水素注入管 95 力も電磁弁 32を介して注入された過酸ィ匕水素水はセラミックヒータ 96で加熱されて 気化し、ステンレスウール 97を通過してチャンバ 1内に供給される。ステンレスウール 97に接触して凝縮した一部の過酸ィ匕水素水はセラミックヒータ 96の屈曲部に沿って 重力で下方に流下し、過酸化水素注入管 95から注入される過酸化水素水に戻る。
[0059] また、図 23 (b)に示すように、オゾンタンク 75の出口の電磁弁 76とチャンバ 1の間 にベンチユリ一管 98を設けるとともに、該ベンチユリ一管 98の絞り部に電磁弁 99を介 して過酸ィ匕水素吸引管 100を設け、該過酸ィ匕水素吸引管 100を過酸ィ匕水素タンク 1 01に挿入して、オゾンタンク 75からチャンバ 1内に供給されるオゾンの気流に乗じて 過酸化水素を供給するものでもよ 、。
[0060] 以上の実施形態では、過酸ィ匕水素とオゾンを併用して滅菌を行うようしたが、被滅 菌物の種類に応じて、どちらか一方のみによる殺菌をユーザがスィッチにより選択で きるよう〖こしてもよい。例えば、被滅菌物がセルロース、ラテックスゴム、シリコンゴム等 で形成されている場合、過酸ィ匕水素が吸着して滅菌できない虞れがあるので、ォゾ ン単独での滅菌を選択すればよい。オゾン単独で滅菌を行う場合、チャンバ 1内の湿 度を 80%程度に維持した状態でオゾンを注入することが好ましい。これにより、ォゾ ンの滅菌力が増大する。
[0061] 図 24, 25は、カテーテルや輸液チューブのような細管状の被滅菌物を滅菌する構 造を示す。従来、細管状の被滅菌物は滅菌しにくいものであった。そこで、同図に示 すように、滅菌ガス循環ユニット 1Aの滅菌ガス循環ライン 91のチャンバ 1内に位置す る吸込端に、プラスチック等の絶縁性材料力もなる細管用アダプタ 101を取り付けて 、この細管用アダプタ 101の先端に細管状の被滅菌物 Apを差し込むようにしてもよ い。これにより、循環ポンプ 92を駆動することにより、滅菌ガスを被滅菌物 Apの内孔 に行き渡らせることができるとともに、細管内に滅菌ガスが残留するのを防止すること ができる。また、細管用アダプタ 101の端面には、針状電極 102が取り付けられ、該 針状電極 102はプラズマ発生装置 16に接続されている。プラズマ発生装置 16は、 陽極 12と前記針状電極 102のいずれかに電圧を印加できるように切り換え可能にな つている。針状電極 102に高周波電圧を印加することにより、細管内をプラズマ化す ることができ、滅菌効果が高まる。
[0062] 図 26は、他の電極構造を示す。図 26 (a)は、チャンバ 1の内部に設けた絶縁材料 力もなるラック 103の中央に陽極 12を取り付け、チャンバ 1の内周面に陰極 13を配設 したものである。図 26 (b)は、チャンバ 1の内部に設けたラック 103自体を導電性材 料で形成して陽極とし、チャンバ 1の内周面に陰極 13を配設したものである。図 26 (c )は、チャンバ 1の内部に設けたラック 103を囲みかつチャンバ 1の内周面に沿って導 電性材料カゝらなる多孔円筒状の陽極 12を配設し、チャンバ 1の内周面に陰極 13を 配設したものである。これらの電極構造でも、均一なプラズマを発生させることができ 、充分な滅菌効果を得ることができる。

Claims

請求の範囲
[1] 被滅菌物をチャンバ内に収容して滅菌する滅菌方法において、
前記チャンバを減圧する減圧工程、
前記チャンバ内に過酸化水素を供給する過酸化水素供給工程、
前記チャンバ内にオゾンを供給するオゾン供給工程、
前記チャンバ内に供給した過酸ィ匕水素とオゾンを拡散させて被滅菌物を滅菌する 減菌工程、
前記チャンバ内のガスを排気する排気工程、及び
前記チャンバ内にプラズマを発生させるプラズマ発生工程とからなることを特徴とす る滅菌方法。
[2] 前記排気工程は、前記チャンバから排気されるガスを酸素と水に分解する分解ェ 程を含むことを特徴とする請求項 1に記載の滅菌方法。
[3] 前記排気行程は、前記チャンバから排気されるガス中のオゾンを分解する分解ェ 程を含むことを特徴とする請求項 1に記載の滅菌方法。
[4] 前記滅菌工程では、前記チャンバの滅菌ガスを循環させる工程を含むことを特徴と する請求項 1に記載の殺菌方法。
[5] 被滅菌物を収容可能なチャンバ、
該チャンバ内を減圧する減圧ユニット、
前記チャンバ内に過酸ィ匕水素を供給する過酸ィ匕水素供給ユニット、
前記チャンバ内にオゾンを供給するオゾン供給ユニット、
前記チャンバ内のガスを排気する排気ユニット、及び
前記チャンバ内にプラズマを発生させるプラズマ発生ユニットを備えたことを特徴と する滅菌装置。
[6] 前記過酸ィ匕水素供給ユニットは、前記チャンバ内に液体状態で供給される過酸ィ匕 水素の飛散を防止する飛散防止部材を設けたことを特徴とする請求項 5に記載の滅 菌装置。
[7] 前記排気ユニットは、前記チャンバから排気されるガスを酸素と水に分解するガス 分解ユニットを有することを特徴とする請求項 5に記載の滅菌装置。
[8] 前記排気ユニットは、前記チャンバから排気されるガス中のオゾンを分解させるォゾ ン分解触媒を含むことを特徴とする請求項 5に記載の滅菌装置。
[9] 前記チャンバの滅菌ガスを循環させる滅菌ガス循環ユニットをさらに含むことを特徴 とする請求項 5に記載の殺菌装置。
[10] 前記プラズマ発生装置は、前記チャンバ内に陽極と陰極とを有し、前記陽極又は 陰極の何れか一方は、絶縁体に囲まれた複数の点状電極カゝらなることを特徴とする 請求項 5に記載の滅菌装置。
[11] 前記陽極は高圧電源に接続され、陰極はグランドに接地されていることを特徴とす る請求項 10に記載の滅菌装置。
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