WO2009041237A1 - Ⅲ族窒化物半導体発光素子 - Google Patents
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Definitions
- the present invention comprises a substrate and a light emitting layer having a multiple quantum well structure including a barrier layer and a well layer made of a m-group nitride semiconductor material containing gallium provided on the surface of the substrate.
- the present invention relates to a nitride semiconductor light emitting device. Background art
- IE group nitride semiconductor materials such as gallium nitride 'indium (Ga I n N) have been used for short-wavelength light-emitting diodes (English: LED) and laser diodes (English: LD) such as white or blue. It is used to construct a light emitting layer (see, for example, Japanese Patent Publication No. 55-3834).
- aluminum nitride 'gallium (AIGAN) is used as a material for forming a light emitting layer of a near ultraviolet LED or ultraviolet LED (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-60719).
- a type of conventional white LED is a chip-like or lamp-like red LED that emits light of each of the three primary colors of light (red (R), green (G), and blue (B)), green Color LEDs and blue LEDs are arranged on the same substrate in a number corresponding to the relative ratio of their emission intensity, and as a whole, white light is emitted by color mixing.
- red (R), green (G), and blue (B) green Color LEDs and blue LEDs are arranged on the same substrate in a number corresponding to the relative ratio of their emission intensity, and as a whole, white light is emitted by color mixing.
- Another type of conventional white LED uses a light emitting layer made of, for example, a group II nitride semiconductor that emits red light, green light, or blue light separately formed on one substrate.
- a light emitting layer made of, for example, a group II nitride semiconductor that emits red light, green light, or blue light separately formed on one substrate.
- a group II nitride semiconductor that emits red light, green light, or blue light separately formed on one substrate.
- RGB-type white LED that has a white color by mixing the light emission corresponding to the three primary colors (red (R), green (G), and blue (B)).
- Another type of conventional white LED is a white LED in which a light emitting layer that emits light of a complementary color is provided on a single substrate.
- a group III nitride semiconductor light emitting layer that emits blue light and a light emitting layer that emits yellow light are formed on the same substrate, and two colors of two different wavelengths emitted from the respective light emitting layers (
- a white LED is obtained by mixing blue and yellow light (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-257379).
- It is a complementary color type white LED that uses the fact that two colors (two wavelengths) that are complementary colors are mixed, and is recognized as white.
- a phosphor that emits fluorescence having a wavelength different from that of the light emitted from the light-emitting layer using light emitted from the Group IB nitride semiconductor light-emitting layer is provided. It is an LED that excites and converts the wavelength of emitted light (see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 07-99345).
- an LED that emits white light by exciting a phosphor using blue light or ultraviolet light emitted from a Group III nitride semiconductor light emitting layer is a fluorescent white LED (for example, Japanese Patent) No. 2900928, Japanese Patent No. 3724490, Japanese Patent No. 3724498).
- Yttrium 'aluminum garnet' (Y 3 AI 5 0 12 ) or the like is used as a phosphor exhibiting white color when excited by blue light or ultraviolet light (for example, Japanese Patent No. 2927279, Japanese Patent No. 35031 39). And Japanese Patent No. 3700 502).
- each of those colors is compared with the installation plane area required to integrate and arrange the red or green or blue LED chips or lamps.
- the plane area of the light-emitting layer that emits light is remarkably small (see the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open Nos. 06-31, 824, 07-15044 to 07-335942).
- the plane area occupied by the light-emitting layer that emits light is very small compared to the plane area required for laying the lamp, so that a light-emitting device with high luminous intensity (lumen Z area) can be obtained.
- a light-emitting device with high luminous intensity luminance
- the outer diameter (diameter) is generally 3 mm to 5 mm (see paragraph (0007) of the above-mentioned Japanese Unexamined Patent Publication No. 06-314824).
- the light-emitting layer is used to confine carriers (electrons and holes) in the light-emitting layer and to confine the light emission caused by their radiative recombination. It is also necessary to provide a clad (c I ad) layer or the like for each of the light emitting layers. Therefore, it is necessary to provide a plurality of light emitting layers on a single substrate, and more desirably, a cladding layer or the like by heterojunction to each light emitting layer.
- the process is cumbersome and redundant. In that case, it is necessary to provide p-type and n-type electrodes for each light-emitting layer that emits light of different colors, and the light-emitting layer is scraped to provide electrodes for the corresponding electrically conductive cladding layers. As a result, the luminous intensity of each light emission also deteriorates.
- complementary color type white LED two or more light emitting layers are also required in order to emit light of complementary colors.
- a single (sin g I e) heteroaryl (abbr: SH) for the respective light-emitting layers, by joining a clad layer, a single (sin g I e) heteroaryl (abbr: SH)
- SH single (sin g I e) heteroaryl
- DH double hetero junction structure
- the resulting color tone of the white light slightly changes depending on the wavelength of the two colors of light that are complementary to each other to obtain white light.
- complementary color white LEDs it is usually light of two wavelengths at most, so in any case, in order to stably obtain a white LED that provides high and constant color rendering. It is accompanied by technical difficulties.
- fluorescent white LED in order to stably obtain white light with a fixed color tone by exciting the phosphor, the wavelength of light emitted from the light emitting layer, which becomes the excitation light, is reproduced well and constant. There are technical difficulties that must be made.
- the present invention has been proposed in view of the above circumstances, and can be easily formed with a simple structure, can increase luminous intensity, and can be stably stabilized with high color rendering properties.
- the object is to provide an X-ray nitride semiconductor light-emitting device that does not require delicate composition adjustment. Disclosure of the invention
- a first invention is a multiple quantum well comprising a substrate, a barrier layer made of a m-group nitride semiconductor material containing gallium provided on the surface of the substrate, and a well layer
- each of the well layers having the multiple quantum well structure is composed of an m-group nitride semiconductor layer having the same conductivity type as that of the barrier layer. Impurities are added and the layer thicknesses are different from each other.
- each of the well layers having the multi-well structure takes light from the light emitting layer from the surface side of the substrate.
- the layer thickness is decreasing in order toward the direction where it comes out.
- each of the well layers having the multiple quantum well structure has an atomic concentration of acceptor impurities. They are different from each other.
- the substrate is made of a silicon single crystal and forms the multiple quantum well structure.
- Each of the well layers is intentionally doped with magnesium as an acceptor impurity.
- the light emitting layer has a multiple quantum well structure of a barrier layer and a well layer, a white light emitting element can be easily formed with a simple structure, and the laying area is also the light emitting layer. Therefore, the luminous intensity can be increased.
- a light emitting layer with a multi-quantum well structure that can emit light of multiple wavelengths even though it is numerically single, so if p-type and n-type electrodes are provided only for that single light-emitting layer, In comparison with the conventional RGB type white LED, it is possible to greatly reduce the area where the light emitting layer must be scraped off, and to improve the light emission efficiency.
- the well layer is composed of a plurality of well layers having different layer thicknesses, it is possible to superimpose a plurality of wavelengths of light emitted by each well layer exhibiting multicolor light emission, and color rendering of white light emission
- white light can be obtained without using a fluorescent material
- fine composition adjustment of the phosphor becomes unnecessary.
- the acceptor impurity is intentionally added to each of the well layers, a single well layer can be formed that emits multicolor light having different wavelengths.
- the color rendering property of white light emission can be stabilized stably and white light can be obtained without using a fluorescent material. Subtle composition adjustment of the phosphor is also unnecessary.
- the well layer is composed of a layer having the same conductivity type as that of the barrier layer, it is possible to avoid the formation of a pn junction with the barrier layer, and therefore, a multi-well structure having excellent conductivity.
- the light emitting layer can be configured.
- a well layer made of a thin-layered nitride-based nitride semiconductor layer is arranged in the direction of extracting light emitted from the light emitting layer from the surface side of the substrate. Therefore, each of the multiple quantum well structures Light emitted from the well layer can be efficiently extracted in the viewing direction.
- Short-wavelength light emission is absorbed by the well layer that emits long-wavelength light.
- the quantum well level is formed with a wide well layer width on the surface side of the substrate.
- a well layer that emits multi-wavelength light including a long-wavelength light-emitting component is arranged, and the well layer width is narrowly formed in the light extraction direction.
- a well layer that emits light of a wavelength is arranged to form a light emitting layer having a multiple quantum well structure. That is, a configuration is adopted in which short-wavelength light is not passed through a well layer that emits light having a longer wavelength.
- the light emitted from the well layer arranged on the substrate surface side is not absorbed by the well layer arranged in the direction of taking out the light emission, and the external Light emission can be extracted in the viewing direction, and light emitted from each well layer can be efficiently extracted in the viewing direction.
- the color rendering properties can be improved, and a high-intensity white LED can be realized.
- a light emitting layer having a multi-quantum well structure is configured by using a plurality of well layers exhibiting a plurality of light emissions having different wavelengths and having different atomic concentrations of the added acceptor impurities. Therefore, it is possible to obtain a light emitting layer that emits light of multiple wavelengths while being numerically single, for example, by mixing two different wavelengths of light having complementary colors into white light, the so-called above-mentioned Compared to complementary white LEDs, we can provide white LEDs with better color rendering.
- FIG. 1 is a schematic view schematically showing a cross-sectional structure of an I [group nitride semiconductor light emitting device of the present invention.
- FIG. 2 is an example of a multi-wavelength emission spectrum from a multiple quantum well structure light emitting layer according to the present invention.
- FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the LED according to the first embodiment.
- FIG. 4 is a spectrum of multi-wavelength light emission from the laminated structure described in the first example.
- FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a multiple quantum well structure light emitting layer described in the second embodiment.
- FIG. 6 is a spectrum of multi-wavelength emission from the laminated structure described in the second example.
- FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the multiple quantum well structure light emitting layer described in the third embodiment.
- FIG. 8 is a spectrum of multiwavelength emission from the laminated structure described in the third example.
- FIG. 9 is a schematic plan view of the LED according to the third embodiment. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
- FIG. 1 is a schematic view schematically showing a cross-sectional structure of a group IV nitride semiconductor light-emitting device of the present invention.
- a group III nitride semiconductor light-emitting device of the present invention comprises a substrate 1, a barrier layer 5 a made of an m-group nitride semiconductor material containing gallium provided on the surface of the substrate 1, and a well
- Each of the well layers 5b having the multi-quantum well structure has the same conductivity type as the barrier layer 5a. It consists of an m-group nitride semiconductor layer, and has an acceptor impurity added, and is configured with different layer thicknesses.
- Substrate 1 includes an insulating or conductive oxide crystal such as sapphire (one AI 2 0 3 single crystal) or zinc oxide (Z n O) with a polar or nonpolar crystal surface, 6 H or 4 H
- a substrate made of a carbide crystal such as 3 C-type silicon carbide (S i C) or a semiconductor crystal of silicon (S i)
- a silicon single crystal exhibiting n-type or p-type conductivity and having a surface with a ⁇ 1 1 1 ⁇ crystal plane is suitable as a substrate for forming the multiple quantum well structure according to the present invention on the surface.
- the well layer 5 b having a multiple quantum well structure formed on the surface of the substrate 1 is made of a material that can emit light of a plurality of wavelengths having different wavelengths independently.
- the well layer 5b Considering the color rendering properties of light emitted from the LED, it is desirable that many (multi-wavelength) light emitted from the well layer 5b is dispersed in a wide wavelength range. In order to obtain multi-wavelength light emission over a wide wavelength range, it is desirable to form the well layer 5b from a semiconductor material with a large forbidden bandwidth energy.
- gallium (G a) As a large semiconductor material, gallium (G a) is included!
- Nitride semiconductor materials can be mentioned.
- a wide / gap gap semiconductor material such as Ga x I ⁇ , — X N (0 ⁇ x ⁇ 1), which is a mixed crystal of gallium nitride (G a N) or indium nitride (I n N). It can be preferably configured.
- the barrier layer 5 a that forms a multiple quantum well structure together with the well layer 5 b is made of, for example, a group m nitride semiconductor material having a larger forbidden band width energy than the well layer 5 b.
- the barrier layer 5 a is formed from G a N.
- the barrier layer 5a and the well layer 5b having a multiple quantum well structure are composed of layers having the same conductivity type.
- an n-type well layer 5 b and an n-type barrier layer 5 a together form an n-type multiple quantum well structure as a whole.
- the formation of a pn junction between the well layer 5 and the barrier layer 5a can be avoided, and therefore the light emitting layer 5 having a multiple quantum well structure excellent in conductivity can be formed.
- the carrier concentration is 5 due to impurity contamination caused by negligence. If it is in the range of X 1 0 17 cm— 3 or more and 5 XI 0 19 cm— 3 or less, it can be used as the well layer 5 b according to the present invention.
- the well layer 5b having a multi-quantum well structure is particularly composed of a 1 [group nitride semiconductor layer containing Ga doped with an acceptor impurity.
- the well layer 5 b is composed of an n-type Ga 0.75 ⁇ n 025 N mixed crystal to which an acceptor impurity is added while maintaining the same n-type conductivity as the barrier layer 5 a.
- the well layer 5 b having the same conductivity type as that of the barrier layer 5 a and containing an acceptor impurity is a single wavelength, but multi-wavelength light emission having different wavelengths that are advantageous for obtaining white light by color mixing. Can be brought.
- a technique for forming a light emitting layer 5 made of GaInN by adding zinc (Zn) as an acceptor impurity has been disclosed (see Japanese Patent Publication No. 55-3834).
- Zn zinc
- the well layer 5 b in which only Zn is added as an acceptor impurity has a high resistance, and the well layer 5 b having sufficient conductivity cannot be stably formed.
- magnesium (Mg) can be suitably used among the group impurities that can serve as acceptors for the group III nitride semiconductor.
- the light emitting layer 5 having a multiple quantum well structure includes, for example, an organic metal vapor phase deposition (abbreviated as MOCVD or MOVPE) method, a molecular beam epitaxy (MBE) method, a hydride method, It can be formed by vapor phase epitaxy such as the ha I yde method.
- MOCVD organic metal vapor phase deposition
- MBE molecular beam epitaxy
- hydride method hydride method
- the MBE method can form the barrier layer 5a and the well layer 5b at a lower temperature than the other vapor phase growth methods described above. For this reason, for example, this is an advantageous growth means for suppressing thermal diffusion of Mg used to form the well layer 5b according to the present invention into the barrier layer 5a.
- the layer thickness is preferably 1 nm or more and 20 nm or less.
- the extremely thin well layer 5b of less than 1 nm lacks the two-dimensional continuity of the layer (film).
- the operation current flows to the light emitting element, especially in the horizontal (lateral) direction. This is inconvenient because the electrical resistance related to diffusion increases or the light emitting area decreases.
- even if a thick film exceeding 20 nm is used as the well layer 5b it does not lead to the formation of many quantum levels with different energy levels. Therefore, there is a disadvantage that a lot of light emission with different wavelengths cannot be obtained.
- the MBE method generally allows the growth of a group III nitride semiconductor layer in a vacuum environment that does not contain hydrogen.
- it has a low resistance p-type containing a large amount of electrically activated (acceptor) Mg. G a x I ⁇ , - ⁇ (0 ⁇ 1) Layers can be easily formed.
- the Mg concentration in the layer is 1.5 X 10 19 cm- 3
- the carrier concentration is 8.0 X 10
- a p-type GaN layer with a low resistance of 18 cm- 3 can be formed.
- the electrical activation rate of Mg (for convenience, the carrier concentration is expressed by dividing the atomic concentration of Mg (percentage)) is 53% in the as-grown state.
- the MBE method does not require dehydrogenation from the same layer as the Mg-doped GaN layer grown by the MOCVD method, and the p-type has an electrical activation rate of 50% or more.
- a Ga x I ⁇ , — ⁇ (0 ⁇ 1) layer or the like can be easily formed.
- the multi-quantum well structure with one pair of structural units consisting of a junction structure of one well layer 5 b containing acceptor impurities such as Mg and one barrier layer 5 a having the same conductivity type as well layer 5 b
- the multi-quantum well structure The logarithm of the structural units to be configured is preferably 3 to 40 pairs. Even if the well layer 5b according to the present invention is a single layer, it can emit multi-wavelength light. However, in order to obtain light with excellent color rendering, the number of pairs is preferably 4 or more. For example, Mg doped n-type G a grown by MBE method.
- Figure 2 shows an example of the photoluminescence (abbreviation: PL) spectrum of the multi-quantum well structured light-emitting layer 5 composed of a combination.
- the thickness of the well layer 5 b that forms this multiple quantum well structure is 4 nm, and the thickness of the barrier layer 5 a is 1 O nm.
- the horizontal axis represents the emission wavelength (unit: A), and the vertical axis represents the emission intensity (unit: arbitrary unit).
- the light emitting layer 5 having a multi-quantum well structure including the well layer 5b containing an acceptor impurity according to the present invention has a wavelength of 400 nm (4000 angstroms). ) or 500 nm (5000 angstroms) below the range of the wavelength emission of the three that are different wavelengths is emitted to the (symbol lambda 2 ⁇ in Figure 2; 1 represented by 4)..
- the emission corresponding to the band edge emission symbol in Fig.
- L B band-edge emission
- the light emission on the long side for example, between 1 and 2 is 17.5 nm, but as the light emission wavelength becomes longer, the wavelength difference between the light emission tends to gradually increase.
- the characteristic feature is that the light emission between ⁇ 5 and ⁇ 6 is 55.5 nm.
- the appearance of this multi-wavelength emission peak occurs, for example, in the “shoulder” portion of the main emission spectrum from the light-emitting layer 5 doped with both Si and Mg formed by the MOCVD method.
- the reason why multi-wavelength light is emitted even when the thickness of the well layer is constant is presumed to be due to the formation of various levels that cause radiative recombination due to the addition of the acceptor.
- the light emitting layer 5 having a multiple quantum well structure is formed using the well layer 5 b according to the present invention, which can emit light of multiple wavelengths at the same time, the light emitted from the light emitting layer 5 from the surface side of the substrate 1. If the well layer 5b containing an acceptor with a thin layer thickness is arranged in the direction in which the light is extracted to the outside, it is convenient to obtain a white LED having excellent efficiency of extracting light emitted to the outside.
- the well layer 5b having a small layer thickness provides multi-wavelength light emission including many short-wavelength light emission components.
- the well layer 5b having a large layer thickness provides multi-wavelength light emission containing a large amount of long-wavelength light-emitting components. Short-wavelength light is absorbed by the well layer 5b, which results in long-wavelength light. For this reason, when the well layer 5b having a thinner thickness is arranged in the direction of taking out the light emitted from the light emitting layer 5 to the outside from the surface side of the substrate 1, the well layer 5 located on the surface side of the substrate 1 is arranged. This is because the light emitted from b can be prevented from being absorbed, and is suitable for transmission toward the external visual field direction.
- a multi-quantum well structure When a multi-quantum well structure is fabricated using well layers 5b having different layer thicknesses, light emission having different wavelengths is emitted from each well layer 5b according to the layer thickness. Since the emitted light can be superimposed and taken out to the outside, white LEDs with excellent color rendering can be provided. For example, a white LED having excellent color rendering can be formed even if the well layer 5b exhibiting multi-wavelength emission with a layer thickness suitable for mainly providing light in a red, green, or blue band is provided.
- a plurality of well layers 5 b having the same layer thickness that emit light in a low visibility band are arranged, and a well layer 5 b having a reduced thickness is arranged in the direction of external extraction of light emission above.
- Each well layer 5 b that emits light in a red, green, or blue band as a main component is, for example, a well layer 5 b made of a mixed crystal of G a x I ⁇ , — ⁇ ⁇ (0 ⁇ ⁇ 1). Therefore, the indium composition (1 — X) can be made different.
- the growth temperature, G a and I n can be obtained by the growth method such as 1 ⁇ / 1 8 already method 1 ⁇ 1 0 0 0 etc. It is necessary to change the raw material supply ratio. For this reason, it is necessary to perform a complicated operation as compared with the technical means that controls the layer thickness of the well layer 5b by simply adjusting the growth time under the conditions of the same growth temperature and raw material supply ratio.
- the wavelength of light emitted from each well layer 5b having different atomic concentrations of acceptor impurities differs depending on the atomic concentration of acceptor impurities.
- the wavelength range in which multi-wavelength light appears can be controlled by changing the atomic concentration of the acceptor impurity contained in the well layer 5 b. Is more convenient. For example, in the case of Mg-doped n-type G a 0.
- the concentration of Mg atoms inside well layer 5 b is 1 1 0 19 atoms 0 1 ⁇ 3 , 8
- the wavelength 4 Multi-wavelength light emission can appear within a range from 0 nm to 600 nm.
- the light emitting layer 5 since the light emitting layer 5 has a multi-quantum well structure of the barrier layer 5a and the well layer 5b, a light emitting layer exhibiting multiple wavelengths can be easily formed with a simple structure. Since the laying area is almost the same as the plane area of the light emitting layer 5, the luminous intensity can be increased. In addition, since the light emitting layer 5 is single, it is only necessary to provide p-type and n-type electrodes corresponding to only the light emitting layer 5, compared to the case of RGB type white LED or complementary color type white LED. The area where the light emitting layer 5 is scraped off can be greatly reduced, and the luminous efficiency can be improved.
- the well layer 5 b is composed of a plurality of well layers 5 b, 5 b,... Having different layer thicknesses, the wavelengths of the plurality of light emissions produced by the well layers 5 b are different from each other. Multi-color emission can be achieved, white light emission color rendering property is stabilized to a high level, and white light can be obtained without using fluorescent materials, so fine composition adjustment of the phosphor is not required. .
- the acceptor impurity is intentionally added to each of the well layers 5b, it is possible to construct the light emitting layer 5 that emits multicolored light having different wavelengths while being numerically single. Due to the color emission characteristics, the color rendering property of white light emission can be stabilized at a high level, and white light can be obtained without using a fluorescent material, so fine composition adjustment of the phosphor is not necessary. .
- the well layer 5 b is composed of a layer having the same conductivity type as that of the barrier layer 5 a, it is possible to avoid the formation of a pn junction with the barrier layer 5 a.
- the light emitting layer 5 having a multiple quantum well structure excellent in the above can be configured.
- the multi-well well-structured light-emitting layer 5 is formed by arranging well layers 5 b, 5 b,... Composed of group nitride semiconductor layers, a multi-quantum well structure is formed. The light emitted from each well layer 5 b, 5 b,... Can be efficiently extracted in the viewing direction.
- the well layer that emits long wavelength light it is formed with a wide well layer width on the surface side of the substrate 1, and the quantum level is low.
- a well layer 5 b that emits multi-wavelength light including a long-wavelength light-emitting component is arranged, and a light-emitting component with a high quantum level and a shorter wavelength is formed by narrowing the well layer width in the light extraction direction.
- the light emitting layer 5 having a multi-quantum well structure is configured by arranging the well layer 5 b that emits light of multiple wavelengths including. Under this configuration, short-wavelength light does not pass through the well layer 5b that emits light with a longer wavelength.
- the emission power emitted from the well layer 5b arranged on the substrate surface side can be extracted in the external visual field direction without being absorbed by the well layer 5b arranged in the emission extraction direction.
- the light emitted from each well layer 5 can be efficiently extracted in the viewing direction.
- the color rendering property can be improved, and a white LED with high brightness can be realized.
- the light emitting layer 5 having a multi-well structure is formed by using a plurality of well layers 5b having a plurality of light emission different in wavelength even if the atomic concentration of the added acceptor impurity is different from each other.
- a light emitting layer 5 exhibiting multi-wavelength light emission in which light from each well layer 5 b is superimposed is obtained.
- light of two different wavelengths having a complementary color relationship is mixed to produce white light.
- FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a m-group nitride semiconductor light-emitting device including a light-emitting layer having a multiple quantum well structure according to the first embodiment.
- Figure 4 shows the photoluminescence spectrum emitted from the light emitting layer of the multiple quantum well structure.
- the horizontal axis shows the emission wavelength (unit: A), and the vertical axis shows the emission intensity (unit: arbitrary unit).
- the surface of the substrate 101 was cleaned using an inorganic acid, transferred to a growth chamber of a molecular beam epitaxy (MB E) growth apparatus, and the inside of the growth chamber was evacuated to an ultra-high vacuum. After that, while maintaining the vacuum in the growth chamber, the temperature of the substrate 101 is raised to 780 ° C, and continues until the surface 101 a force ⁇ (7 X 7) structure of the substrate 101 is exhibited. And heated.
- MBE molecular beam epitaxy
- the carrier concentration was 8 ⁇ 10 18 cm ⁇ 3 .
- a multi-quantum well structure in which a pair of structural units consisting of this n-type barrier layer 1 05 a and n-type well layer 1 05 b are stacked to form an n-type conductivity as a whole.
- the light emitting layer 1 05 was formed.
- the atomic concentration of Mg contained in the well layer was 4 ⁇ 10 17 atoms / cm 3 .
- G a Q ⁇ n which forms the final edge (outermost layer) of the multi-quantum well structure light-emitting layer 105.
- the atomic concentration of Mg inside the p-type G a N layer 106 is 1 X 1 0 19 cm— 3.
- the concentration was 8 XI 0 18 cm- 3 . That is, the electrical activation rate was 80%.
- the region for forming the n-type ohmic electrode was removed by a general dry etching method to form an n-type ohmic electrode 107.
- the surface of the p-type GaN layer 106 [this is a p-type ohmic electrode 108, and a square light emitting device (LED) 10 having a side length of 35 OjUm was fabricated.
- the forward voltage (V f) was 3.5 V when the forward current of the light emitting element (LED) 10 was 2 OmA.
- V f The forward voltage
- a current of 5 OmA was passed in the forward direction, white light emission with a greenish color was emitted from the entire surface of the light emitting layer of the LED 10 in the chip state.
- the color rendering property of light emission when a forward current of 5 mA is passed is expressed by the coordinate values on the chromaticity diagram, it is 0.26 in the X coordinate value and 0.38 in the y coordinate value.
- the z coordinate value was 0.36.
- FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a light emitting layer having a multiple quantum well structure of a group IV nitride semiconductor light emitting device (LED) of a second embodiment.
- LED group IV nitride semiconductor light emitting device
- AIG a N mixed crystal layer and n-type GaN layer (reference numeral “204” in FIG. 5) provided on the Si substrate described in the first embodiment.
- a light emitting layer 205 having a multiple quantum well structure shown in FIG. 5 was formed by nitrogen plasma MBE method as described below.
- the n-type Ga N layer 204 is first provided with an n-type Ga N barrier layer 205 a having a thickness of 16 nm by nitrogen plasma MBE method. It was. Next, Mg-doped Ga as an n-type well layer 205 b which is bonded to the barrier layer 205 a to form a multiple quantum well structure. 8 . I ⁇ 20 ⁇ Well layer was provided. A light emitting layer having a multi-quantum well structure in which a pair of structural units composed of the ⁇ -type barrier layer 205 a and the ⁇ -type well layer 205 b are stacked to form an n-type conduction as a whole. 305 was formed.
- the thickness of the 10 well layer 2 05 b which forms a multiple quantum well structure formed by stacking 10 pairs of structural units, is the product from the n-type GaN layer 204 side toward the surface of the multiple quantum well structure. Decrease in the layer direction.
- the stacking direction and light emission of the light emitting element (LED) The direction of taking out is the same direction.
- the layer thickness of the well layer 205b is 12 nm at the bottom well layer of the multiple quantum well structure, the layer thickness of the next well layer is 11 nm, and the layer thickness of the next well layer is The thickness was set to 1 O nm, ie, decreased by 1 nm toward the outermost layer side of the multiple quantum well structure, and the thickness of the uppermost well layer was set to 3 nm (see Fig. 5). Although the thickness of each well layer 205 b was changed, Mg was doped in each well layer 205 b so that the atomic concentration was substantially constant at 6 ⁇ 10 17 atoms / cm 3 .
- the layer thickness is set to 10 nm by nitrogen plasma MBE method.
- C3 G a. 97 N layers were deposited to complete the formation of a laminated structure for light emitting device (LE D) applications.
- FIG. 6 shows a photoluminescence spectrum at room temperature obtained from the multilayer structure including the light emitting layer 205 having the multiple quantum well structure.
- the horizontal axis represents the emission wavelength (unit: A), and the vertical axis represents the emission intensity (unit: arbitrary unit).
- FIG. 6 shows a spectrum as a result of superimposing multi-wavelength light emitting components from the well layers 205b having different layer thicknesses. A total of 10 emissions were emitted over a wide wavelength range from 400 nm to 800 nm. The wavelength difference between adjacent luminescence ranges from 1 7.501 ⁇ to 78.0 nm, and the wavelength interval increases as the emission wavelength becomes longer.
- H e-Cd helium-cadmium
- the region for forming the n-type ohmic electrode was removed by a general dry etching method to form the n-type ohmic electrode.
- a p-type ohmic electrode was formed on the surface of the p-type AI () 3 Ga Q 97 N layer to produce a light emitting device (LED).
- the forward voltage (V f) was 3.4 V when the forward current of the light emitting device (LED) was 2 OmA.
- V f the forward voltage of the light emitting device
- a current of 2 OmA was passed in the forward direction, white light was emitted visually from the ED in the chip (ch i p) state.
- FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a light emitting device of group m nitride semiconductor provided with a light emitting layer having a multiple quantum well structure according to the third embodiment.
- FIG. 8 shows a phosphorescence spectrum of a laminated structure for use in a group nitride semiconductor light emitting device (LED) having the light emitting layer of the multiple quantum well structure of the third embodiment.
- LED group nitride semiconductor light emitting device
- a light emitting layer having a multiple quantum well structure was formed by the elementary plasma MBE method as described below.
- the AIG a N mixed crystal layer 303 described in the first and second examples is first formed into an n-type with a layer thickness of 10 nm by nitrogen plasma MBE method.
- a G a N barrier layer 305 a was provided.
- a 25 N well layer 30 5 b was provided.
- the atomic concentration of Mg inside the five well layers 30 5 b, 305 b,..., which are formed by stacking five pairs of structural units, is from the AIG a N mixed crystal layer 303 side in the stacking direction ( The emission direction was reduced in the same direction as the emission direction.
- the atomic concentration of Mg inside the well layer 305 b is 1 X 1 0 19 atoms / cm 3 in the bottom well layer of the multiple quantum well structure, and 8 X 1 0 18 in the well layer above it Atomic Zcm 3 , 6 X 10 18 atoms Zcm 3 , 4 X 10 18 atoms / cm 3 , and 2 X 10 18 atoms cm 3 were sequentially decreased in atomic concentration of Mg.
- a light emitting layer 305 having a multiple quantum well structure including five well layers 305 b having different atomic concentrations of Mg while maintaining a constant layer thickness was formed.
- the Mg-doped p-type G a N layer 306 was deposited to complete the formation of the laminated structure for light-emitting device (LED) applications.
- FIG. 8 shows the photoluminescence spectrum.
- the horizontal axis represents the emission wavelength (unit: A), and the vertical axis represents the emission intensity (unit: arbitrary unit).
- FIG. 8 shows a spectrum formed by superimposing the multi-wavelength light-emitting components from the well layers 305 b having different layer thicknesses and different Mg atom concentrations.
- the emission peak wavelengths are 402.5 nm, 429.0 nm, 458. O nm, 493.0 nm, 538.0 nm, and 593. O nm.
- Luminescence was confirmed.
- FIG. 9 is a cross-sectional plan view of a light emitting device (LED) fabricated using the laminated structure of FIG.
- the p-type G a N layer 306 and the light emitting layer 305 having a multi-quantum well structure in the region 30 7 a in the n-type ohmic electrode 307 are removed by a general dry etching method to emit light.
- the surface of the n-type AIG a N mixed crystal layer 303 under the layer 305 was exposed. Thereafter, an n-type ohmic electrode 307 was formed on the surface of the n-type AIG a N mixed crystal layer 303 exposed in the region 307 a as shown in FIG.
- a p-type ohmic electrode 308 having a planar lattice pattern formed by using a general photolithographic technique was formed.
- the p-type ohmic electrode 308 having a width of 4 m arranged in a lattice shape is composed of a platinum (Pt) -based metal having an ohmic contact angle with the p-type GaN layer 310. Also, at one end on the surface of the p-type Ga N layer 306, a pedestal (pad) electrode 309 is provided for electrical connection to the lattice-shaped p-type ohmic electrode 308 and is connected to the light-emitting element ( LED) 30 was produced.
- Pt platinum
- a pedestal (pad) electrode 309 is provided for electrical connection to the lattice-shaped p-type ohmic electrode 308 and is connected to the light-emitting element ( LED) 30 was produced.
- the forward voltage (V f) was 3.4 V when the forward current of the light emitting device (LED) was 2 OmA.
- LED light emitting device
- the group m nitride semiconductor light emitting device since the light emitting layer has a multiple well structure of a barrier layer and a well layer, a white light emitting device can be easily formed with a simple structure, and an installation area is also large. Since the luminous area is substantially the same as the plane area of the light emitting layer, the luminous intensity can be increased. Therefore, an IE group nitride semiconductor light emitting device with increased industrial applicability can be provided.
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- Led Devices (AREA)
Abstract
基板(1)と、その基板の表面上に設けたガリウムを含むⅢ族窒化物半導体材料からなる障壁層(5a)及び井戸層(5b)を備えた多重量子井戸構造の発光層(5)とを具備したⅢ族窒化物半導体発光素子において、多重量子井戸構造をなす井戸層の各々が、アクセプター不純物が添加され、互いに層厚を異にしている、障壁層と同一の伝導形を呈するⅢ族窒化物半導体層からなり、光度が高く、また演色性も高いⅢ族窒化物半導体白色系発光素子を、蛍光体の微妙な組成調整なども不要として簡単な構造で簡易に形成することができる。
Description
明 細 書 m族窒化物半導体発光素子 技術分野
本発明は、 基板と、 その基板の表面上に設けたガリウムを含む m族窒化物半導 体材料からなる障壁層及び井戸層を備えた多重量子井戸構造の発光層とを具備し た π族窒化物半導体発光素子に関する。 背景技術
従来から、 窒化ガリウム 'インジウム (Ga I n N) 等の IE族窒化物半導体材 料は、 白色又は青色等の短波長の発光ダイオード (英略称: LED) やレーザー ダイオード (英略称: LD) の発光層を構成するために利用されている (例えば、 日本特公昭 55— 3834号公報参照) 。 また、 窒化アルミニウム 'ガリウム ( A I G a N) は、 近紫外 L ED又は紫外 LEDの発光層を構成するための材料と して用いられている (例えば日本特開 2001 -6071 9号公報参照) 。
従来の白色 L EDの一種は、 光の 3原色 (赤 (R) 、 緑 (G) 及び青 (B) ) の各色光を各々出射する、 チップ (c h i p) 状又はランプ状の赤色 LED、 緑 色 L E D及び青色 L E Dを、 それらの発光強度の相対的比率に相応した個数をも つて、 同一の基体上に集積して配列させ、 総体として、 混色により白色光を発す るようにしたものである (例えば日本特開平 06— 31 4824号公報、 日本特 開平 07— 7223号公報、 日本特開平 07— 1 5044号公報、 日本特開平 0 7-235624号公報、 日本特開平 07— 288341号公報、 日本特開平 0 7-283438号公報、 日本特開平 07— 335942号公報参照) 。 言わば、 配列型 (モジュール) 白色 LEDである。
また、 従来の白色 LEDの別の一種は、 一基板上に別個に形成された、 赤色光 又は緑色光又は青色光をそれぞれ出射する、 例えば II族窒化物半導体からなる発 光層を利用して構成されている (例えば日本特開平 06— 53549号公報及び 日本特開平 07— 1 83576号公報参照) 。 個々の発光層から出射される光の
3原色 (赤 (R) 、 緑 (G) 及び青 (B) ) に相応する発光を混色させることに より、 白色を呈することとした、 言わば、 RGB型白色 LEDである。
また、 従来の白色 LEDの他の一種は、 補色の関係にある色の光を出射する発 光層を、 単一の基板上に各々設けて構成した白色 LEDである。 例えば、 青色光 を出射する Π族窒化物半導体発光層と、 黄色光を出射する発光層とを、 同一基板 上に各々形成し、 その各々の発光層から出射される異なる 2波長の 2色 (例えば、 青色及び黄色) の光を混色させることによる白色 LEDである (例えば日本特開 2001 -257379号公報参照) 。 補色関係にある 2色 ( 2波長) の光を混 色させれば、 白色と視認されることを利用した、 言わば、 補色型白色 LEDであ る。
また、 上記の 3種の型の LEDとは別に、 IB族窒化物半導体発光層から出射さ れる光を利用して、 その発光層から出射される光とは異なる波長の蛍光を発する 蛍光体を励起させ、 発光の波長を変換させる LEDである (例えば日本特開平 0 7— 99345号公報参照) 。 例えば、 ΙΠ族窒化物半導体発光層から出射される 青色光又は紫外光を利用して蛍光体を励起し、 白色光を発する LEDとした、 言 わば、 蛍光型白色 LEDである (例えば日本特許第 2900928号公報、 日本 特許第 3724490号公報、 日本特許第 3724498号公報参照) 。 青色光 又は紫外光により励起されて白色を呈する蛍光体として、 イットリウム 'アルミ ニゥム 'ガーネット (Y3A I 5012) などが用いられている (例えば日本特許第 2927279号公報、 日本特許第 35031 39号公報、 日本特許第 3700 502号公報参照) 。
し力、しながら、 上記の配列型白色 LEDにあっては、 例えば、 赤色又は緑色又 は青色 L E Dのチップ又はランプを集積して配列するに必要な据え付け平面積に 比較して、 それらの各色を出射する発光層の平面積は格段に小さい (上記の日本 特開平 06— 31 4824号公報, 日本特開平 07— 1 5044号公報乃至日本 特開平 07— 335942号公報参照) 。
すなわち、 ランプを敷設するために必要とされる平面積に対して、 発光をもたら す発光層が占有する平面積が極小であるため、 高い光度 (ルーメン Z面積) の発 光素子を得るには不利である。
例えば、 一辺を 0. 3mmとする略正方形の LEDチップを、 樹脂で囲繞して、 垂直断面を砲弾型とし、 水平断面を円形とする一般的な形状のランプとなした場 合、 そのランプの外径 (直径) は、 一般的には、 3 mmから 5 mmである (上記 の日本特開平 06— 31 4824号公報の段落 (0007) 参照) 。 従って、 外 径を 5 mmとするランプの場合を例にすれば、 そのランプの平面積 (約 2 Omm 2) に比較して、 発光層がチップの平面全体に存在しているとしても、 その平面 積は 0. 09mm2と格段に小さし、。 従って、 より高光度の発光素子を得るに決 して優位とはならない。
また、 上記の RGB型白色 LEDにあっては、 赤色 (R) 又は緑色 (B) 又は 青色 (B) を各々出射できる発光層を、 個別に設ける必要がある。 複数の発光層 を設ける必要があることに加えて、 発光層に担体 (c a r r i e r ;電子及び正 孔) を閉じ込めて、 また、 それらの放射再結合によりもたらされる発光を閉じ込 めるために、 発光層に付帯してクラッド (c I a d) 層等を上記の各発光層につ き設けることも必要となる。 従って、 単一の基板上に複数の発光層と、 更に望ま しくは、 各々の発光層にヘテロ (異種) 接合させてクラッド層等を設ける必要が あるなど、 RGB型白色 LEDを形成するための工程は煩雑であり、 また冗長で ある。 その場合、 異なる色の光を出射する発光層毎に p形及び n形用の電極を設 ける必要があり、 対応する電気伝導型のクラッド層等に電極を設けるために発光 層が削リ取られることとなり、 各発光の光度も悪化することになる。
また、 上記の補色型白色 LEDにあっては、 補色関係にある色の光を出射させ るために、 やはり 2またはそれ以上の複数の発光層が必要とされる。 更に、 高い 強度の発光を得るためには、 上記の RGB型白色 LEDの場合と同様に、 各発光 層について、 クラッド層を接合させ、 単一 (s i n g I e) ヘテロ (英略称: S H) 又は二重 (d o u b l e) ヘテロ (英略称: DH) 接合構造の発光部を形成 する必要がある。 従って、 補色型白色 LEDの形成には、 RGB型白色 LEDの 場合と同じく、 煩雑で冗長な工程を要する。
また、 補色の関係にある色、 例えば、 青色と黄色とを個別に発光する LEDを 近接させて配置して、 白色 LEDを構成する場合においても ( 「ワイドギャップ 半導体光■電子デバイス」 (2006年 3月 31日、 森北出版 (株) 発行、 第 1
版第 1刷) 、 1 73〜1 74頁参照) 、 LEDを配置するのに必要な平面積に比 較して、 青色又は黄色の光を出射する発光層の合計の平面積が小さいため、 高い 光度の発光素子を得るのに必ずしも優位とは成リ得ない。
加えて、 補色型白色 LEDにあっては、 白色光を得るために混色させる補色の 関係にある 2色の光の波長に依存して、 帰結される白色光の色調が微妙に変化し てしまう問題がある。 すなわち、 補色型白色 LEDにあって、 混色させるのは、 通常高々、 2波長の光であるため、 いずれにしても、 高く一定した演色性をもた らす白色 LEDを安定して得るには技術上の困難さを伴うものとなっている。 また、 上記の蛍光型白色 LEDにあってもやはり、 蛍光体を励起して色調の一 定した白色光を安定して得るには、 励起光となる発光層からの発光の波長を再現 良く一定にしなければならない技術上の困難さが付随する。 また、 発光層からの 発光の波長のばらつきに応じて、 蛍光体として用いる希土類 ( r a r e— e a r t h) 元素を添加した Y3A I 5012などの組成を人為的に細々と調整する必要が あ 。
本発明は上記事情に鑑み提案されたもので、 簡単な構造で簡易に形成すること ができ、 光度を高めることができ、 また演色性も高く一定に安定させることがで き、 さらに蛍光体の微妙な組成調整も不要となる ΠΙ族窒化物半導体発光素子を提 供することを目的としている。 発明の開示
上記目的を達成するために、 (1 ) 第 1の発明は、 基板と、 その基板の表面上 に設けたガリウムを含む m族窒化物半導体材料からなる障壁層及び井戸層を備え た多重量子井戸構造の発光層とを具備した m族窒化物半導体発光素子において、 上記多重量子井戸構造をなす井戸層の各々は、 障壁層と同一の伝導形を呈する m 族窒化物半導体層からなり、 ァクセプタ一不純物が添加され、 互いに層厚を異に している、 ことを特徴としている。
(2) 第 2の発明は、 上記した (1 ) 項に記載の発明の構成において、 上記多 重量子井戸構造をなす井戸層の各々が、 基板の表面側よリ発光層からの発光を取 リ出す方向に向けて、 層厚が順に薄くなっているものである。
( 3 ) 第 3の発明は、 上記した (1 ) 項または (2 ) 項に記載の発明の構成に おいて、 上記多重量子井戸構造をなす井戸層の各々は、 ァクセプター不純物の原 子濃度が互いに異なつているものである。
( 4 ) 第 4の発明は、 上記した (1 ) 項乃至 (3 ) 項の何れかに 1項に記載の 発明の構成において、 上記基板は珪素単結晶からなり、 上記多重量子井戸構造を なす井戸層の各々は、 ァクセプタ一不純物としてマグネシウムが故意に添加され ているものである。
本発明の第 1の発明によれば、 発光層が障壁層と井戸層の多重量子井戸構造と なるので、 簡単な構造で簡易に白色系発光素子を形成することができ、 敷設面積 も発光層の平面積と略同一となるので光度も高めることができる。 また、 数的に 単一ながら、 多波長の発光をもたらせる多重量子井戸構造の発光層を用いること としたので、 その唯一の発光層についてのみ p形及び n形用の電極を設ければよ く、 従来の R G B型白色 L E Dの場合に比較して、 発光層を削り取らなければな らない領域を大幅に低減でき、 発光効率を改善することができる。
特に、 井戸層を、 層厚を相違する複数の井戸層から構成することとしたので、 多色発光を呈する各井戸層がもたらす複数の発光の波長を重畳することができ、 白色発光の演色性を高く一定に安定させることができ、 また、 蛍光材料を利用し なくても白色光を得ることができるので、 蛍光体の微妙な組成調整も不要となる。 また、 井戸層の各々にァクセプター不純物を故意に添加したので、 単独でも、 波長を相違する多色の発光をもたらす井戸層を構成することができ、 数的に単一 でありながら多色発光を呈する多重量子井戸構造の発光層をもたらせるので、 白 色発光の演色性を高く一定に安定させることができ、 また、 蛍光材料を利用しな くても白色光を得ることができるので、 蛍光体の微妙な組成調整も不要となる。 さらに、 井戸層を、 障壁層と同一の伝導形を呈する層から構成することとした ので、 障壁層との間での p n接合の形成を回避でき、 従って、 導通性に優れる多 重量子井戸構造の発光層を構成できる。
本発明の第 2の発明によれば、 基板の表面側よリ発光層からの発光を取リ出す 方向に向けて、 よリ層厚の薄い ΙΠ族窒化物半導体層からなる井戸層を配置して多 重量子井戸構造の発光層を構成することとしたので、 多重量子井戸構造を成す各
井戸層から出射される発光を効率的に視野方向に取り出すことができる。
短波長の発光は、 長波長の発光を行う井戸層に吸収されてしまうが、 本発明の 第 2の発明の構成下では、 基板の表面側に井戸層幅が広く形成された、 量子準位 が低く長波長の発光成分を含む多波長の発光をもたらす井戸層を配置し、 発光の 取り出し方向に、 井戸層幅が狭く形成された、 量子準位が高くより短波長の発光 成分を含む多波長の発光をもたらす井戸層を配置して多重量子井戸構造の発光層 を構成することとした。 即ち、 すなわち、 短波長の発光を、 より長波長の発光を 行う井戸層を通過させない構成とした。 このため、 本発明の第 2の発明の構成下 では、 基板表面側に配置された井戸層から出射される発光が、 発光の取り出し方 向に配置された井戸層に吸収されることなく、 外部視野方向に発光を取り出すこ とができ、 各井戸層から出射される発光を効率的に視野方向に取り出すことがで きる。 また演色性を優れたものとすることができ、 且つ高輝度の白色 L E Dを実 現することができる。
本発明の第 3の発明によれば、 添加されたァクセプター不純物の原子濃度を互 いに相違する、 波長を相違する複数の発光を呈する井戸層を複数用いて多重量子 井戸構造の発光層を構成することとしたので、 数的に単一ながら多波長の発光を 呈する発光層が得られ、 例えば、 補色関係にある二つの異なる波長の光を混色さ せて白色光とする、 所謂、 上記の補色型白色 L E Dに比較して、 よリ演色性に優 れる白色 L E Dを提供できる。 図面の簡単な説明
第 1図は、 本発明の I [族窒化物半導体発光素子の断面構造を概略的に示す模式 図である。
第 2図は、 本発明に係る多重量子井戸構造発光層からの多波長発光スぺクトル 例である。
第 3図は、 第 1実施例に係る L E Dの断面模式図である。
第 4図は、 第 1実施例に記載の積層構造体からの多波長発光のスぺクトルであ る。
第 5図は、 第 2実施例に記載の多重量子井戸構造発光層の断面模式図である。
第 6図は、 第 2実施例に記載の積層構造体からの多波長発光のスぺクトルであ る。
第 7図は、 第 3実施例に記載の多重量子井戸構造発光層の断面模式図である。 第 8図は、 第 3実施例に記載の積層構造体からの多波長発光のスぺクトルであ る。
第 9図は、 第 3実施例に係る L E Dの平面模式図である。 発明を実施するための最良の形態
本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
第 1図は本発明の] Π族窒化物半導体発光素子の断面構造を概略的に示す模式図 である。 本発明の Π族窒化物半導体発光素子は、 第 1図に示すように、 基板 1と、 その基板 1の表面上に設けたガリウムを含む m族窒化物半導体材料からなる障壁 層 5 a及び井戸層 5 bを備えた多重量子井戸構造からなる発光層 5とを具備した 白色発光素子であり、 多重量子井戸構造をなす井戸層 5 bの各々は、 障壁層 5 a と同一の伝導形を呈する m族窒化物半導体層からなり、 ァクセプター不純物が添 加され、 互いに層厚を異にして構成されている。
基板 1としては、 極性又は無極性の結晶面を表面とするサファイア ( 一 A I 203単結晶) や酸化亜鉛 (Z n O) 等の絶縁性又は導電性酸化物結晶、 6 H又は 4 H又は 3 C型炭化珪素 (S i C ) 等の炭化物結晶、 シリコン (S i ) の半導体 結晶からなる基板を例示できる。 特に、 n形又は p形の伝導性を呈し、 表面を { 1 1 1 } 結晶面とするシリコン単結晶は、 その表面上に本発明に係る多重量子井 戸構造を形成するための基板として好適に使用できる。
基板 1の表面上に形成する多重量子井戸構造をなす井戸層 5 bは、 本発明では、 単独で波長を相違する複数の波長の発光を同時に出射できる材料から構成する。
L E Dからの発光の演色性を勘案すれば、 井戸層 5 bから出射される多数 (多波 長) の発光は、 広い波長範囲に分散していることが望ましい。 広い波長範囲にわ たり、 多波長の発光を得るには、 多重量子井戸構造にあって、 井戸層 5 bを禁止 帯幅エネルギーの大きな半導体材料から形成するのが望ましく、 このようなバン ドギャップエネルギーの大きな半導体材料として、 ガリウム (G a ) を含む! [[族
窒化物半導体材料を挙げられる。 例えば、 窒化ガリウム (G a N) 又はそれと窒 化インジウム ( I n N) の混晶である G ax I η,— XN (0< x< 1 ) 等のワイ ド/くンドギヤップ半導体材料から好ましく構成できる。
井戸層 5 bと共に多重量子井戸構造をなす障壁層 5 aは、 井戸層 5 bよりも禁 止帯幅エネルギーが大きな、 例えば m族窒化物半導体材料から構成する。 例えば、 G a ess I n。15N混晶からなる井戸層 5 bについて、 障壁層 5 aを G a Nから形 成する。 多重量子井戸構造をなす障壁層 5 aと井戸層 5 bとは同一の伝導形を呈 する層から構成する。 例えば、 n形の井戸層 5 bと、 同じく n形の障壁層 5 aと で、 全体として n形の多重量子井戸構造を形成する。 これにより、 井戸層 5 と 障壁層 5 aとの間での p n接合が形成されるのを回避でき、 従って、 導通性に優 れる多重量子井戸構造の発光層 5を構成できる。
井戸層 5 bと障壁層 5 aとを同一の伝導型の層とするために井戸層 5 bに不純 物を添加することは必須ではない。 例えば、 不純物を故意に添加しない、 所謂、 アンド一プ (u n d o p e) の状態で、 または井戸層 5 bを形成するための成長 環境から意図せず、 過失による不純物の汚染に因り、 キャリア濃度が 5 X 1 017 cm— 3以上で 5 X I 019cm— 3以下の範囲にあれば、 本発明に係る井戸層 5 bとし て利用できる。
本発明では多重量子井戸構造をなす井戸層 5 bを、 特に、 ァクセプター不純物 を添加した G aを含む 1 [族窒化物半導体層から構成する。 例えば、 障壁層 5 aと 同一の n形の伝導形を保持しつつも、 ァクセプター不純物が添加された n形の G a 0.75〖 n025N混晶から井戸層 5 bを構成する。 障壁層 5 aと同一の伝導形を有 し、 且つ、 ァクセプター不純物を含む井戸層 5 bは、 単独でありながら、 混色に より、 白色光を得るに好都合となる波長を相違する多波長の発光をもたらせる。 ァクセプター不純物として亜鉛 (Z n) を添加して G a I n Nからなる発光層 5を形成する技術が開示されている (日本特公昭 55— 3834号参照) 。 しか しながら、 Z nのみをァクセプター不純物として添加した井戸層 5 bは、 抵抗が 大きく、 充分に導電性のある井戸層 5 bを安定して形成するに至らない。 一方で、 本発明に係る井戸層 5 bの形成には、 Π族窒化物半導体についてァクセプターと なり得る第! [族不純物の中でも、 マグネシウム (Mg) を好適に使用できる。
本発明に係る多重量子井戸構造の発光層 5は、 例えば、 有機金属気相堆積 (M OCVD又は MOVPEなどと略称される) 法、 分子線ェピタキシャル (MBE ) 法、 ハイドライド (h y d r i d e) 法、ノ、ライド (h a I y d e ) 法などの 気相成長法により形成できる。 特に、 MBE法は、 上記の他の気相成長法と比較 すれば、 より低温で障壁層 5 aや井戸層 5 bを形成できる。 このため、 例えば、 本発明に係る井戸層 5 bを形成するために用いた Mgの障壁層 5 aへの熱拡散を 抑制するのに優位な成長手段となる。
ァクセプター不純物として Mgを含む井戸層 5 bにあって、 その層厚は 1 nm 以上で 20 nm以下とするのが好適である。 1 n m未満の極端に薄い井戸層 5 b は、 層 (膜) の 2次元的な連続性に欠けるため、 結果として、 発光素子への動作 電流の通流、 特に水平 (横) 方向への電流拡散に係る電気抵抗が増大する、 或い は発光領域が減少することとなり不都合である。 一方、 20 nmを超える厚膜を 井戸層 5 bとして使用しても、 エネルギーレベルを相違する多くの量子準位を充 分に形成するに至らず、 従って、 様々な量子準位間の遷移に基く、 波長を互いに 異にする発光が多く得られない不都合がある。
また、 MBE法は、 一般に水素を含まない真空環境下で ΙΠ族窒化物半導体層を 成長できるため、 例えば、 電気的に活性化した (ァクセプター化した) Mgを多 量に含む低抵抗の p形 G ax I η,-χΝ (0≤Χ≤ 1 ) 層等を簡易に形成できる利 点がある。 例えば、 窒素 (Ν2) プラズマを窒素源として用いる MBE法によれ ば、 層内の Mg原子の濃度が 1. 5 X 1 019cm-3であるところ、 キャリア濃度 を 8. 0 X 1 018cm— 3とする低抵抗の p形 G a N層を形成できる。 従って、 M gの電気的活性化率 (便宜上、 キャリア濃度を Mgの原子濃度を除した値 (百分 率値) で表わす。 ) は、 ァズグロン (a s— g r own) 状態で 53%である。 本例の如く、 MBE法によれば、 MOCVD法で成長させた Mg ドープ G a N層 の如く、 同層から脱水素処理を必要とせずに、 電気的活性率を 50%以上とする p形 GaxI η,—χΝ (0≤Χ≤ 1 ) 層等を容易に形成できる利点がある。
Mgなどのァクセプター不純物を含む一井戸層 5 bと、 井戸層 5 bと同一の伝 導形を呈する一障壁層 5 aとの接合構造からなる一対 (o n e p a i r ) の構 造単位をもって多重量子井戸構造を構成するにあって、 その多重量子井戸構造を
構成する構造単位の対数は、 3対以上で 40対以下とするのが好適である。 本発 明に係る井戸層 5 bは一層であっても、 多波長の発光を放射できるが、 よリ演色 性に優れる発光を得るには、 対の数を 4以上とするのが望ましい。 例えば、 MB E法で成長させた Mgドープ n形 G a。.85 I n 015N混晶からなる井戸層 5 bと、 同じく MB E法で成長させた G a N障壁層 5 aとを 30対 (一つの障壁層 5 aと 一つの井戸層 5 bとの接合体を一対とする) 組み合わせて構成した多重量子井戸 構造発光層 5のフォトルミネッセンス (英略称: P L) スぺクトルの一例を第 2 図に示す。 この多重量子井戸構造をなす井戸層 5 bの層厚は 4 nmであり、 障壁 層 5 aの厚さは 1 O nmである。 第 2図において、 横軸は発光波長 (単位: A) を示し、 縦軸は、 発光強度 (単位:任意単位) を示す。
第 2図に例示したフォトルミネッセンススぺクトルに示すように、 本発明に係 るァクセプタ一不純物を含む井戸層 5 bを備えた多重量子井戸構造の発光層 5か らは、 400 nm ( 4000オングストローム) 以上 500 n m (5000オン グストローム) 以下の波長の範囲に波長を相違する 3本の発光が出射される (第 2図に記号 λ2〜; 14で表わす。 ) 。 バンド (b a n d) 端発光に対応する発光 ( 第 2図に記号; lBで表わす) とは別に、 そのバンド端の発光の波長 (本例では、 365 nm) 以上で 650 n m以下の波長範囲において、 波長を相違する合計 6 本の発光 (第 2図に記号 A〜;i6で表わす。 ) が出射され得る。
また、 バンド端発光 ( LB) とは相違する波長の複数の発光 ( 〜 6) にあつ て、 隣接する発光 (例えば、 と λ2、 λ3と λ4など) の波長の差違は、 短波 長側での発光間、 例えば とス2の発光間では 1 7. 5 nmであるが、 発光の 波長が長波長となるに伴い、 発光間の波長の差異は徐々に大となる傾向があり、 λ5と λ6との発光間では 55. 5 nmとなっているのが特徴である。 この多波 長の発光ピークの出現の態様は、 例えば、 MOCVD法により形成された S iと Mgを共にドーピングした発光層 5からの主たる発光スペクトルの 「肩」 部に生 ずる、 通称、 ショルダー (肩) ピークとは、 発光間の波長の間隔においても明ら かに出現の態様を異にするものである。 井戸層の層厚が一定であっても多波長の 発光となるのは、 ァクセプターの添加に因って、 放射再結合をもたらす種々の準 位が形成されるためと推察される。
単独でありながら多波長の発光を同時に発光できる、 本発明に係る井戸層 5 b を用いて多重量子井戸構造の発光層 5を構成するに際し、 基板 1の表面側より発 光層 5からの発光を外部へ取リ出す方向に向けて、 よリ層厚の薄いァクセプタ一 不純物を含む井戸層 5 bを配置すると、 外部への発光の取り出し効率に優れる白 色 L E Dを得るに好都合となる。 層厚が薄い井戸層 5 bからは、 短波長の発光成 分を多く含む多波長発光がもたらされる。 他方、 層厚が厚い井戸層 5 bからは、 長波長の発光成分を多く含む多波長発光がもたらされる。 短波長の発光は、 長波 長の発光を帰結する井戸層 5 bに吸収されてしまう。 このため、 基板 1の表面側 よリ発光層 5からの発光を外部へ取り出す方向に向けて、 よリ層厚の薄い井戸層 5 bを配置すると、 基板 1の表面側に位置する井戸層 5 bからの発光が吸収され るのを抑止でき、 外部視野方向に向けて透過させるのに好適となるからである。 全て層厚を異にする井戸層 5 bを用いて多重量子井戸構造を作製した場合は、 層厚に相応して各井戸層 5 bからは互いに波長を相違する発光が出射され、 それ らの発光を重畳して外部へ取リ出せるため、 演色性に優れる白色 L E Dを提供で きる。 例えば、 赤色又は緑色又は青色の何れかの帯域の光を主にもたらすのに好 適な層厚の多波長発光を呈する井戸層 5 bを配置しても演色性に優れる白色 L E Dを構成できる。 視感度の低い帯域の光を出射する同一の層厚の井戸層 5 bを複 数、 配置し、 その上方の発光の外部取り出し方向に層厚を順次、 薄くした井戸層 5 bを配置して、 発光層 5をなす多重量子井戸構造を構成する例を挙げられる。 赤色又は緑色又は青色の何れかの帯域の発光を主成分としてもたらす各井戸層 5 bは、 例えば、 G a x I η ,—χ Ν ( 0 < χ < 1 ) 混晶からなる井戸層 5 bにあつ て、 インジウムの組成 (1 — X ) を相違させて形成することができる。 しカヽし、 1\/1 8已法ゃ1\ 1 0 0 0等の成長方法にょリ、 I n組成を相違する井戸層 5 bを形 成するには、 成長温度や G aと I nとの原料供給比率を変化させる必要がある。 このため、 同一の成長温度及び原料供給比率の条件下で、 成長時間を単純に調整 して井戸層 5 bの層厚を制御する技術手段と比較すれば煩雑な操作を余儀なくさ れる。
また、 ァクセプター不純物の原子濃度を互いに相違する各井戸層 5 bから出射 される光の波長は、 ァクセプタ一不純物の原子濃度に対応して異なったものとな
る。 これにより、 井戸層 5 bの層厚が一定である場合でも、 井戸層 5 bの内部に 含まれるァクセプター不純物の原子濃度を変化させることで、 多波長の光を出現 させる波長範囲を制御するのにより好都合となる。 例えば、 M g ドープ n形 G a 0. 75 I n Q 25 N井戸層 5 bの場合で、 その井戸層 5 bの内部の M g原子の濃度を 1 1 019原子 0 1^3、 8 X 1 018原子 Z c m3、 及び 2 X 1 018原子 Z c m3と相 違する井戸層 5 bを用いて多重 (3重) の量子井戸構造発光層 5を形成したとき は、 波長 4 0 0 n m以上で 6 0 0 n m以下の範囲に多波長発光を出現させること ができる。
以上述べたように、 本発明では、 発光層 5が障壁層 5 aと井戸層 5 bの多重量 子井戸構造となるので、 多波長を呈する発光層を、 簡単な構造で簡易に形成する ことができ、 敷設面積も発光層 5の平面積と略同一となるので光度も高めること ができる。 また、 発光層 5が単一であるので、 その発光層 5のみに対応して p形 及び n形の電極を設ければよく、 R G B型白色 L E Dや補色型白色 L E Dの場合 に比較して、 発光層 5を削り取る領域を大幅に低減でき、 発光効率を改善するこ とができる。
また、 井戸層 5 bを、 層厚を相違する複数の井戸層 5 b, 5 b , …から構成す ることとしたので、 各井戸層 5 bがもたらす複数の発光の波長を互いに異にする 多色発光とすることができ、 白色発光の演色性を高く一定に安定させられ、 蛍光 材料を利用しなくても白色光を得ることができるので、 蛍光体の微妙な組成調整 も不要となる。
また、 井戸層 5 bの各々にァクセプター不純物を故意に添加したので、 数的に 単一でありながら、 波長を相違する多色の発光をもたらす発光層 5を構成するこ とができ、 その多色発光特性により、 白色発光の演色性を高く一定に安定させる ことができ、 また、 蛍光材料を利用しなくても白色光を得ることができるので、 蛍光体の微妙な組成調整も不要となる。
さらに、 井戸層 5 bを、 障壁層 5 aと同一の伝導形を呈する層から構成するこ ととしたので、 障壁層 5 aとの間での p n接合の形成を回避でき、 従って、 導通 性に優れる多重量子井戸構造の発光層 5を構成できる。
また、 基板 1の表面側より発光層 5からの発光を取り出す方向に向けて、 より
層厚の薄い]! [族窒化物半導体層からなる井戸層 5 b , 5 b , …を配置して多重量 子井戸構造の発光層 5を構成することとしたので、 多重量子井戸構造を成す各井 戸層 5 b , 5 b , …から出射される発光を効率的に視野方向に取り出すことがで ぎる。
すなわち、 短波長の光が、 長波長の光を発する井戸層に吸収されてしまうのを 回避するために、 基板 1の表面側に井戸層幅を広くして形成した、 量子準位が低 く長波長の発光成分を含む多波長の発光をもたらす井戸層 5 bを配置し、 発光の 取り出し方向に、 井戸層幅を狭くして形成した、 量子準位が高くより短波長の発 光成分を含む多波長の発光をもたらす井戸層 5 bを配置して多重量子井戸構造の 発光層 5を構成することとした。 この構成下では、 短波長の発光は、 より長波長 の発光を行う井戸層 5 bを通過しない。 このため、 基板表面側に配置された井戸 層 5 bから出射される発光力 発光の取り出し方向に配置された井戸層 5 bに吸 収されることなく、 外部視野方向に発光を取り出すことができ、 各井戸層 5 か ら出射される発光を効率的に視野方向に取り出すことができる。 また演色性を優 れたものとすることができ、 且つ高輝度の白色 L E Dを実現することができる。 また、 本発明によれば、 添加されたァクセプター不純物の原子濃度を互いに相 違する、 単独でも波長を相違する複数の発光を呈する井戸層 5 bを複数用いて多 重量子井戸構造の発光層 5を構成することとしたので、 各井戸層 5 bからの発光 が重畳した多波長の発光を呈する発光層 5が得られ、 例えば、 補色関係にある二 つの異なる波長の発光を混色させて白色光とする、 所謂、 補色型白色 L E Dに比 較して、 ょリ演色性に優れる白色 L E Dを提供できる。
以下、 本発明の m族窒化物半導体発光素子の実施例を図面を参照して説明する。 第 1実施例
第 3図は、 第 1実施例の多重量子井戸構造の発光層を備えた m族窒化物半導体 発光素子の構造を示す断面模式図である。 また、 第 4図は、 その多重量子井戸構 造の発光層から放射されるフォトルミネッセンススぺクトルである。 第 4図にお し、て、 横軸は発光波長 (単位: A) を示し、 縦軸は、 発光強度 (単位:任意単位 ) を示す。
m族窒化物半導体発光素子 1 0を作製するための構造体を形成するにあたって
は、 基板 101として、 {1 1 1 } 珪素単結晶 (シリコン) を用いた。
基板 101の表面は、 無機酸を使用して洗浄後、 分子線ェピタキシャル (MB E) 成長装置の成長室に搬送し、 その成長室の内部を超高真空に排気した。 その 後、 成長室の真空度を維持しながら、 基板 1 01の温度を 780°Cに昇温して、 基板 101の表面 101 a力《 (7 X 7) 構造の再構成を呈する迄、 継続して加熱 した。
(7 X 7) 構造の再構成を呈する様に清浄化された基板 101の表面 101 a 上には、 プラズマ化させた窒素を窒素源とする MB E成長法 (窒素プラズマ MB E法) により、 アンド一プの窒化アルミニウム(A I N)層 102 (層厚 =60nm ) を形成した。 A I N層 1 02上には、 窒素プラズマ MB E法により、 アン 一 プ窒化アルミニウム■ガリウム混晶(A I xGai— XN)層"! 03 (層厚 =300 n m) を堆積した。 混晶層 1 03をなす A I XG a i_xN層のアルミニウム (A I ) 組成比 (X) は、 下層の A I N層 102との接合面から、 混晶層 103の表面に 向けて、 0. 25から0 (零) へと連続的に変化させた。
A I XG ai_xN層 1 03上には、 窒素プラズマ M B E法により、 珪素 (S i ) ドープ n形 G a N層 1 04 (層厚 = 1 200 n m) を堆積した。 キャリア濃度は 8 X 1 018 cm— 3であった。
n形 Ga N層 1 04上には、 窒素プラズマ M B E法により、 基板 1 01の温度 を 540°Cとして、 多重量子井戸構造の障壁層とする n形 Ga N層 1 05 a (層 厚 = 1 O nm) を堆積した。 次に、 窒素プラズマ M B E法により、 540°Cで、 この n形 G a N障壁層 1 05 aに接合させて、 マグネシウム (Mg) を含む n形 窒化ガリウム 'インジウム混晶 (GaQ.99I n。.clN) からなる井戸層 (層厚 =2 nm) 1 05 bを設けた。 この n形障壁層 1 05 aと n形井戸層 1 05 bとから なる一対の構造単位を 4対 (4ペア (p a i r ) ) 、 積層させて、 全体として n 形の伝導を呈する多重量子井戸構造の発光層 1 05を形成した。 井戸層に含まれ る Mgの原子濃度は、 一般的な 2次イオン質量分析法によれば、 4 X 1 017原子 cm3であった。
水素を実質的に含まない 1 0— 6パスカル (P a) 程度の高真空環境下で成長さ せた上記の障壁層 1 05 a及び井戸層 1 05 bからなる多重量子井戸構造の発光
層 1 05から得られる室温でのフォトルミネッセンススぺクトルを第 4図に示す。 数的に単一の発光層であっても、 波長を相違する多数の発光が出射されているこ とを明示するために表 1に発光ピーク波長とその波長における強度とを纏める。 表 1
数的に単一の発光層であっても、 バンド (b a n d) 端の発光波長 (波長 =3 66. 5 nm) より長波長であり、 波長 550 n mのより短波長の範囲に、 合計 7つの発光が出射されている。 隣接する発光ピーク間の波長の差異は、 6 nm以 上で 90 nm以下であった。 発光の波長が長波長である程、 隣接する発光ピーク 間の間隔 (波長差) は広がる傾向を示した。 また、 井戸層の層厚が一定で、 ァク セプターの原子濃度が一定であっても多波長の発光がもたらされるのは、 水素を 全くと云って良い程、 含まない高真空環境下で井戸層を形成したため、 電気的に 活性な Mgを井戸層内に多量に存在させることができ、 この電気的に活性な Mg により。 多くの放射再結合に寄与できる準位が多く形成できたためと推察された。 多重量子井戸構造の発光層 1 05の最終端 (最表層) をなす G a Q〖 n。.20N 井戸層 1 05 b上には、 窒素プラズマ MB E法により、 Mg ドープ p形 G a N層 1 06 (層厚 = 1 00 nm) を設けて、 構造体の形成を終了した。 p形 G a N層 1 06の内部の Mgの原子濃度は 1 X 1 019 cm— 3であり、 同層 1 06のキヤリ
ァ濃度は 8 X I 018cm— 3であった。 すなわち、 電気的活性化率は 80%であつ た。
n形ォ一ミック電極を形成する領域を、 一般的なドライエツチング法によリ除 去し、 n形ォ一ミック電極 1 07を形成した。 また、 p形 G a N層 1 06の表面 【こは p形ォーミック電極 1 08を形成し、 一辺の長さを 35 OjUmとする正方形 状の発光素子 (LED) 1 0を作製した。
発光素子 (LED) 1 0の順方向電流を 2 OmAとした際の順方向電圧 (V f ) は 3. 5 Vであった。 また、 順方向に 5 OmAの電流を通流した際には、 チッ プ (c h ί p) 状態の LED 1 0の発光層の全面から目視で緑色を帯びた白色の 発光が出射された。 5 OmAの順方向電流を通流した際の発光の演色性を色度図 上の座標値で表わすと、 X座標値で 0. 26、 y座標値で 0. 38であり、 従つ て、 z座標値で 0. 36であった。
第 2実施例
第 5図は、 第 2実施例の ΠΙ族窒化物半導体発光素子 (LED) の多重量子井戸 構造の発光層の構成を模式的に示す断面図である。
上記の第 1実施例に記載した S i基板上に設けた A I N層、 A I G a N混晶層 及び n形 GaN層 (第 5図では符号を 「204」 とする) からなる積層構造体上 に、 窒素プラズマ MB E法により、 第 5図に示す多重量子井戸構造の発光層 20 5を以下に記載の如く形成した。
多重量子井戸構造の発光層 205を形成するにあたって、 n形 Ga N層 204 には、 先ず、 窒素プラズマ MB E法により、 層厚を 1 6 nmとする n形 Ga N障 壁層 205 aを設けた。 次に、 この障壁層 205 aに接合させて、 多重量子井戸 構造をなす n形井戸層 205 bとして M gドープ G a。.8。 I η 20Ν井戸層を設け た。 この η形障壁層 205 aと η形井戸層 205 bとからなる一対の構造単位を 1 0対 (1 0ペア) 、 積層させて、 全体として n形の伝導を呈する多重量子井戸 構造の発光層 305を形成した。
1 0対の構造単位を積層して形成した多重量子井戸構造をなす 1 0の井戸層 2 05 bの層厚は、 n形 G a N層 204側から多重量子井戸構造の表面に向けて積 層方向に減少させた。 なお、 本実施例では積層方向と発光素子 (LED) の発光
の取り出し方向とは同一方向である。 井戸層 205 bの層厚は、 多重量子井戸構 造の最下の井戸層で 1 2 nmとし、 その次の井戸層の層厚は 1 1 nmとし、 また その次の井戸層の層厚は 1 O nmとし、 すなわち、 多重量子井戸構造の最表層側 に向けて 1 nmずつ減少させ、 最表層の井戸層の層厚は 3 nmとした (第 5図参 照) 。 各井戸層 205 bの層厚は変化させたものの、 各井戸層 205 b内には、 原子濃度にして 6 X 1 017原子 cm3と略一定となる様に Mgをドーピングし た。
多重量子井戸構造の発光層 205の最表層をなす Mgドープ G a Q I η 20Ν 井戸層 205 b (層厚 =3 nm) 上には、 窒素プラズマ M B E法により、 層厚を 1 0 nmとする Mgドープ p形 A I。C3G a。97N層を堆積して、 発光素子 (LE D) 用途の積層構造体の形成を終了した。
上記の多重量子井戸構造の発光層 205を含む積層構造体から得られる室温で のフォトルミネッセンススぺクトルを第 6図に示す。 第 6図において、 横軸は発 光波長 (単位: A) を示し、 縦軸は、 発光強度 (単位:任意単位) を示す。 第 6 図に示すのは、 上記の層厚を相違する各井戸層 205 bからの多波長発光成分が 重畳した結果としてのスぺクトルである。 波長 400 nmより 800 nmの広い 波長範囲に亘リ、 合計 1 0の発光が放射された。 隣接する発光間の波長の差異は 1 7. 501^から78. 0 nmであり、 その波長の間隔は、 発光波長が長波長と なる程、 広がっていた。 また、 ヘリウム一カドミウム (H e—Cd) レーザ一光 (波長 =325 nm) を励起光として照射した際に視認される積層構造体からの 発光色は白色であった。
第 1実施例に記載をしたのと同様【こ、 n形ォーミック電極を形成する領域を、 一般的なドライエッチング法により除去し、 n形ォ一ミック電極を形成した。 ま た、 上記の p形 A I ()3G aQ 97N層の表面には p形ォ一ミック電極を形成し、 発 光素子 (LED) を作製した。
発光素子 (LED) の順方向電流を 2 OmAとした際の順方向電圧 (V f ) は 3. 4Vであった。 また、 順方向に 2 OmAの電流を通流した際には、 チップ ( c h i p) 状態のし EDから目視で白色の発光が出射された。
第 3実施例
第 7図は、 第 3実施例の多重量子井戸構造の発光層を備えた m族窒化物半導体 発光素子の構造を示す断面模式図である。 第 8図は、 第 3実施例の多重量子井戸 構造の発光層を備えた]! [族窒化物半導体発光素子 (L ED) 用途の積層構造体に ついてのフォ卜ルミネッセンススぺクトルである。
上記の第 1及び第 2実施例に記載した S i基板上に設けた A I N層及び A I G a N混晶層 (第 7図では符号を 「303」 とする) からなる積層構造体上に、 窒 素プラズマ M B E法によリ、 多重量子井戸構造の発光層を以下に記載の如く形成 した。
多重量子井戸構造の発光層を形成するにあたって、 第 1及び第 2実施例に記載 した A I G a N混晶層 303には、 先ず、 窒素プラズマ M B E法により、 層厚を 1 0 nmとする n形 G a N障壁層 305 aを設けた。 次に、 この障壁層 305 a に接合させて、 層厚を 3 nmとする Mgドープ n形 G a0.75 I n。25N井戸層 30 5 bを設けた。 この n形障壁層 305 aと n形井戸層 305 bとからなる一対の 構造単位を 5対 (5ペア) 、 積層させて、 全体として n形の電気伝導を呈する多 重量子井戸構造の発光層 305を形成した。
5対の構造単位を積層して形成した多重量子井戸構造をなす 5つの井戸層 30 5 b, 305 b, …の内部の Mgの原子濃度は、 A I G a N混晶層 303側から 積層方向 (発光の取り出し方向と同一方向) に向けて減少させた。 井戸層 305 bの内部の Mgの原子濃度は、 多重量子井戸構造の最下の井戸層で 1 X 1 019原 子/ cm3とし、 それより上方の井戸層については、 8 X 1 018原子 Zcm3、 6 X 1 018原子 Zcm3、 4 X 1 018原子/ cm3、 及び 2 X 1 018原子 cm3と順 次、 Mgの原子濃度を減少させた。 これより、 層厚を一定としつつも、 Mgの原 子濃度を相違する 5つの井戸層 305 bを備えた多重量子井戸構造の発光層 30 5を形成した。
多重量子井戸構造の発光層 305の最表層をなす Mgドープ G a N井戸層 (M g原子濃度 =2 X I 018原子 Zcm3) 上には、 窒素プラズマ MBE法により、 層 厚を 1 0 nmとする Mg ドープ p形 G a N層 306を堆積して、 発光素子 (L E D) 用途の積層構造体の形成を終了した。
上記の多重量子井戸構造の発光層 305を含む積層構造体から得られる室温で
のフォトルミネッセンススぺクトルを第 8図に示す。 第 8図において、 横軸は発 光波長 (単位: A) を示し、 縦軸は、 発光強度 (単位:任意単位) を示す。 第 8 図に示すのは、 上記の層厚一定で Mg原子濃度を相違する各井戸層 305 bから の多波長発光成分が重畳してなるスぺクトルである。 波長 400 nmより 600 nmの波長範囲において、 発光ピーク波長を 402. 5 nm, 429. 0 n m、 458. O nm、 493. 0 n m、 538. 0 n m、 及び 593. O nmとする 計 6の発光が確認された。 波長 4 OO nmより 600 n mの波長範囲に出現した 上記の発光にあって、 隣接する発光間の波長の差異は 26. 5 !^ から55. 0 nmであり、 その波長の間隔は、 発光波長が長波長となる程、 広がっていた。 ま た、 ヘリウム一カドミウム (H e— Cd) レーザー光 (波長 =325 n m) を励 起光として照射した際に視認される積層構造体からの発光色は青白色であった。 第 9図は第 7図の積層構造体を用いて作製した発光素子 (LED) の平面断面 図である。 上記の積層構造体の、 n形ォーミック電極 307を形成する領域 30 7 aに在る p形 G a N層 306及び多重量子井戸構造の発光層 305を一般的な ドライエッチング法により除去し、 発光層 305の下方の n形 A I G a N混晶層 303の表面を露出させた。 然る後、 その領域 307 aに露出させた n形 A I G a N混晶層 303の表面上に、 第 9図に示す如く、 n形ォーミック電極 307を 形成した。 上記の p形 G a N層 306の表面には、 一般的なフォトリソグラフ技 術を利用してパターニングした平面格子状の p形ォーミック電極 308を形成し た。 格子状に配置した幅 4 mの p形ォ一ミック電極 308は、 p形 Ga N層 3 06にォーミック接角 をなす白金 (P t) 系金属から構成した。 また、 p形 Ga N層 306の表面上の一端には、 この格子状 p形ォーミック電極 308に電気的 に導通させて結線 (ボンデング) 用の台座 (パッド) 電極 309を設けて、 発光 素子 (LED) 30を作製した。
発光素子 (LED) の順方向電流を 2 OmAとした際の順方向電圧 (V f ) は 3. 4 Vであった。 また、 順方向に 2 OmAの電流を通流した際には、 一辺の長 さを 35 OjWmとする正方形状の LEDチップ (c h i p) から目視で白色の発 光が出射された。
産業上の利用可能性
本発明に依る m族窒化物半導体発光素子は、 発光層は障壁層と井戸層の多重井 戸構造となるので、 簡単な構造で簡易に白系発光素子を形成することができ、 敷 設面積も発光層の平面積と略同一となるので光度を高めることができるので、 産 業上利用可能性を高めた IE族窒化物半導体発光素子を提供することができる。
Claims
請 求 の 範 囲 基板 (1 ) と、 その基板の表面上に設けたガリウムを含む m族窒化物半導 体材料からなる障壁層 (5 a ) 及び井戸層 (5 b ) を備えた多重量子井戸構 造の発光層 (5 ) とを具備した ΙΠ族窒化物半導体発光素子 (1 0 ) において、 上記多重量子井戸構造をなす井戸層の各々は、 障壁層と同一の伝導形を呈 する Π族窒化物半導体層からなり、 ァクセプター不純物が添加され、 互いに 層厚を異にしている、
ことを特徴とする m族窒化物半導体発光素子。
上記多重量子井戸構造をなす井戸層の各々は、 基板の表面側より発光層か らの発光を取り出す方向に向けて、 層厚が順に薄くなつている、 請求項 1に 記載の m族窒化物半導体発光素子。
上記多重量子井戸構造をなす井戸層の各々は、 ァクセプター不純物の原子 濃度が互いに異なっている、 請求項 1または 2に記載の m族窒化物半導体発 光素子。
上記基板は珪素単結晶からなり、 上記多重量子井戸構造をなす井戸層の各 々は、 ァクセプター不純物としてマグネシウムが故意に添加されている、 請 求の範囲第 1項乃至第 3項の何れか 1項に記載の ΙΠ族窒化物半導体発光素子。
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