WO2009083193A3 - Procédé et appareil de traitement de surface par irradiation combinée de particules - Google Patents

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Abstract

L'invention concerne un procédé de traitement de surface d'un substrat par une irradiation de particules sur le substrat qui constitue la surface de substrat. Le procédé comprend les étapes consistant à appliquer des premières particules sur la surface du substrat, ce qui provoque un flux de particules positif sur la surface du substrat et à émettre des particules d'érosion sous la forme d'au moins un faisceau de particules d'érosion sur la surface du substrat, le faisceau de particules d'érosion provoquant un flux de particules négatif sur la surface du substrat. L'application est effectuée simultanément ou en alternance avec l'étape d'émission. Une zone de la surface du substrat sur laquelle les premières particules sont appliquées chevauche au moins partiellement une zone de la surface du substrat irradiée par le faisceau de particules d'érosion dans une zone de chevauchement de la surface du substrat. Le flux cumulatif résultant des flux positif et négatif combinés dans la zone de chevauchement étant non positif, le flux cumulatif résultant assure une diminution ou une quantité nette stable de particules dans la zone de chevauchement de la surface du substrat. Les premières particules et le faisceau de particules d'érosion comprennent des particules atomiques ou moléculaires, les premières particules étant fournies par une source située en dehors d'un plan qui s'étend avec au moins une partie de la surface du substrat. De plus, l'invention concerne un dispositif de traitement de surface et un dispositif cible qui permettent de réaliser le procédé de traitement de surface de l'invention.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2018391532B2 (en) 2017-12-22 2024-08-08 New Zealand Institute For Earth Science Limited Ion beam sputtering apparatus and method
CN116275015B (zh) * 2023-04-19 2025-09-16 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种Ag/Au纳米颗粒的制备方法与MIM结构
CN118225795B (zh) * 2024-05-24 2024-07-23 中国计量科学研究院 一种用于探测亚表面深度的标定板及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995023878A1 (fr) * 1994-03-03 1995-09-08 Diamonex, A Unit Of Monsanto Company Transducteurs revetus de carbone proche du diamant, pour supports d'enregistrement magnetiques
US20060258142A1 (en) * 2005-05-11 2006-11-16 Texas Instruments Incorporated Simultaneous deposition and etch process for barrier layer formation in microelectronic device interconnects

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995023878A1 (fr) * 1994-03-03 1995-09-08 Diamonex, A Unit Of Monsanto Company Transducteurs revetus de carbone proche du diamant, pour supports d'enregistrement magnetiques
US20060258142A1 (en) * 2005-05-11 2006-11-16 Texas Instruments Incorporated Simultaneous deposition and etch process for barrier layer formation in microelectronic device interconnects

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BERG S ET AL: "ATOM ASSISTED SPUTTERING YIELD AMPLIFICATION", JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY: PART A, AVS /AIP, MELVILLE, NY.; US, vol. 10, no. 4, PART 02, 1 July 1992 (1992-07-01), pages 1592 - 1596, XP000955399, ISSN: 0734-2101 *
HANS HOFSÃ SS ET AL: "Surfactant sputtering", APPLIED PHYSICS A; MATERIALS SCIENCE & PROCESSING, SPRINGER, BERLIN, DE, vol. 92, no. 3, 28 May 2008 (2008-05-28), pages 517 - 524, XP019626888, ISSN: 1432-0630 *

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