WO2014038066A1 - パワー半導体装置 - Google Patents

パワー半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2014038066A1
WO2014038066A1 PCT/JP2012/072908 JP2012072908W WO2014038066A1 WO 2014038066 A1 WO2014038066 A1 WO 2014038066A1 JP 2012072908 W JP2012072908 W JP 2012072908W WO 2014038066 A1 WO2014038066 A1 WO 2014038066A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
power semiconductor
capacitor
semiconductor device
stress relaxation
lead frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2012/072908
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
達也 深瀬
中島 泰
藤田 暢彦
政紀 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=50236714&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=WO2014038066(A1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2014534126A priority Critical patent/JP5989124B2/ja
Priority to EP12884280.4A priority patent/EP2894952B1/en
Priority to CN201280075682.1A priority patent/CN104604344B/zh
Priority to US14/402,538 priority patent/US9620444B2/en
Priority to PCT/JP2012/072908 priority patent/WO2014038066A1/ja
Publication of WO2014038066A1 publication Critical patent/WO2014038066A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/182Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in printed circuit boards [PCB], e.g. insert-mounted components [IMC]
    • H05K1/185Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in printed circuit boards [PCB], e.g. insert-mounted components [IMC] associated with components encapsulated in the insulating substrate of the PCBs; associated with components incorporated in internal layers of multilayer circuit boards
    • H05K1/186Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in printed circuit boards [PCB], e.g. insert-mounted components [IMC] associated with components encapsulated in the insulating substrate of the PCBs; associated with components incorporated in internal layers of multilayer circuit boards manufactured by mounting on or connecting to patterned circuits before or during embedding
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/103Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by bonding or embedding conductive wires or strips
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W42/00Arrangements for protection of devices
    • H10W42/121Arrangements for protection of devices protecting against mechanical damage
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/20Conductive package substrates serving as an interconnection, e.g. metal plates
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/421Shapes or dispositions
    • H10W70/442Shapes or dispositions of multiple leadframes in a single chip
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/464Additional interconnections in combination with leadframes
    • H10W70/465Bumps or wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/464Additional interconnections in combination with leadframes
    • H10W70/468Circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/475Capacitors in combination with leadframes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/481Leadframes for devices being provided for in groups H10D8/00 - H10D48/00
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/10Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition
    • H10W74/111Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition the semiconductor body being completely enclosed
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/811Multiple chips on leadframes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09009Substrate related
    • H05K2201/09118Moulded substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10007Types of components
    • H05K2201/10015Non-printed capacitor
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10007Types of components
    • H05K2201/10166Transistor
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10613Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
    • H05K2201/10621Components characterised by their electrical contacts
    • H05K2201/10636Leadless chip, e.g. chip capacitor or resistor
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10613Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
    • H05K2201/10954Other details of electrical connections
    • H05K2201/10962Component not directly connected to the PCB
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/20Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern
    • H05K3/202Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern using self-supporting metal foil pattern
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • H10W72/07531Techniques
    • H10W72/07532Compression bonding, e.g. thermocompression bonding
    • H10W72/07533Ultrasonic bonding, e.g. thermosonic bonding
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/531Shapes of wire connectors
    • H10W72/5363Shapes of wire connectors the connected ends being wedge-shaped
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/541Dispositions of bond wires
    • H10W72/547Dispositions of multiple bond wires
    • H10W72/5475Dispositions of multiple bond wires multiple bond wires connected to common bond pads at both ends of the wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/551Materials of bond wires
    • H10W72/552Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
    • H10W72/5524Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising aluminium [Al]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/551Materials of bond wires
    • H10W72/552Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
    • H10W72/5525Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • H10W72/951Materials of bond pads
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • H10W72/951Materials of bond pads
    • H10W72/952Materials of bond pads comprising metals or metalloids, e.g. PbSn, Ag or Cu
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/756Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Definitions

  • the present invention relates to a transfer mold type power semiconductor device including a capacitor therein, and more particularly to a power semiconductor device mounted on an in-vehicle device.
  • in-vehicle electrical components mounted on automobiles there is an urgent need for further reduction in size and weight.
  • a rotating electrical machine for a vehicle such as an alternator
  • efforts for improving power generation efficiency and power conversion efficiency are actively performed.
  • One approach is to convert the power converter such as a rectifier into an inverter.
  • a rotating electrical machine having an inverter as a power conversion unit has higher control of output current than a rotating electrical machine of a rectifier, and can add new functions such as regenerative power generation and engine start.
  • diodes are used as power semiconductor elements in rectifiers for in-vehicle devices, but MOS-FETs (Metal Oxide Semiconductor-Field Effect Transistors) and IGBTs (Insulated Gate Bipolar Transistors) are used in inverters for in-vehicle devices.
  • MOS-FETs Metal Oxide Semiconductor-Field Effect Transistors
  • IGBTs Insulated Gate Bipolar Transistors
  • Switching elements such as MOS-FETs and IGBTs are also used in power semiconductor devices for controlling field current of alternators and motor generators.
  • the power semiconductor element for controlling the field current is in a path for supplying power to the field winding of the rotor, which is a rotor, and controls the field current.
  • in-vehicle power semiconductor devices mounted on these in-vehicle electrical components are soldered with a power semiconductor element on an insulating substrate on which wiring is patterned, and those connected by a wiring member are sealed with silicone gel or the like. It has been manufactured by combining a stopped case type power semiconductor device, a single-function discrete type power semiconductor device in which an element such as a diode or a MOS-FET is transfer-molded, and the like.
  • This power semiconductor device is disposed near a radiator such as a heat sink of an in-vehicle device, and the heat generated by the power semiconductor element is released from the radiator.
  • Power semiconductor devices for in-vehicle electrical components need to be reduced in size due to the small mounting space.
  • a power semiconductor device equipped with a power semiconductor element that is a switching element such as a MOF-FET or IGBT mounted on an in-vehicle electrical component current flows intermittently by switching of the power semiconductor element.
  • a capacitor for reducing voltage fluctuation during switching of the power semiconductor element it is necessary to provide a capacitor for reducing voltage fluctuation during switching of the power semiconductor element. This capacitor needs to be installed in the vicinity of the power semiconductor device, which is an obstacle to downsizing of the rotating electrical machine.
  • Patent Document 1 discloses a molded semiconductor device in which a chip capacitor is attached between a power supply and a ground of a lead frame, and a low-power integrated circuit (IC chip) and the chip capacitor are sealed with resin.
  • This semiconductor device has a structure in which a capacitor is mounted on a tie bar of a lead frame and sealed with resin. As a result, a capacitor can be mounted in the vicinity of the low-power integrated circuit, and noise is reduced.
  • Patent Document 1 describes a structure of a semiconductor device in which an integrated circuit (IC chip) and a chip capacitor are resin-sealed to reduce inductance and increase mounting density. Even in a power semiconductor device equipped with a power semiconductor element such as MOF-FET or IGBT, the power semiconductor element and a capacitor for reducing voltage fluctuation at the time of switching of the power semiconductor element are sealed to form a small transfer mold type. We wanted to obtain a power semiconductor device. Since a power semiconductor device needs to operate in a harsh environment as compared with a semiconductor device such as a low-power integrated circuit, the temperature cycle experienced by the power semiconductor device is large.
  • a power semiconductor device needs to operate in a harsh environment as compared with a semiconductor device such as a low-power integrated circuit, the temperature cycle experienced by the power semiconductor device is large.
  • Patent Document 1 simply mounting a capacitor on a tie bar of a lead frame and encapsulating it with a resin makes it possible to operate a power semiconductor device in a harsh environment or during manufacturing.
  • the capacitor will fail.
  • the capacitor fails due to a temperature cycle received by the power semiconductor device, a molding pressure at the time of molding, or the like.
  • the present invention has been made to solve the above-described problems, and in a transfer mold type power semiconductor device having a capacitor therein, it is possible to prevent the capacitor from being damaged during operation or manufacture. With the goal.
  • a power semiconductor device is a power semiconductor device sealed with a mold resin, and a plurality of lead frames molded into a wiring pattern and power semiconductor elements bonded on the lead frame are adjacent to each other.
  • the stress relaxation structure portion having a rigidity lower than that of the capacitor is used.
  • the stress generated in the capacitor during operation and manufacturing can be relieved and the capacitor can be prevented from being broken.
  • FIG. 1 is a schematic view of the inside of a power semiconductor device according to the first embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a diagram showing a stress relaxation structure portion according to the first embodiment of the present invention.
  • the power semiconductor device 50 according to the first embodiment includes a plurality of lead frames 1 molded into a wiring pattern, a switchable power semiconductor element 2, and a ceramic capacitor that relaxes voltage fluctuation due to switching of the power semiconductor element 2 (
  • a chip component such as a chip resistor 100 (also referred to as a capacitor as appropriate), a chip resistor 20 (also referred to as a resistor as appropriate), a plurality of lead frames 1 on which terminals are formed, a lead frame 1 and a power semiconductor element 2
  • a wiring member 3 that connects the two, a lead frame 1, a power semiconductor element 2, a mounting component such as a chip component, and a mold resin 5 that seals the wiring member 3.
  • FIG. 1 an example of a power semiconductor device 50 in which three power semiconductor elements 2a, 2b and 2c are mounted and which includes five power terminals 11a, 11b, 11c, 11d and 11e and three signal terminals 12a, 12b and 12c.
  • symbol of a power semiconductor element uses 2 generally, and uses 2a, 2b, 2c in the case of distinguishing and explaining.
  • the reference numerals of the power terminals are generally 11, and 11a, 11b, 11c, 11d, and 11e are used when they are described separately.
  • the reference numerals of the signal terminals are generally 12, and 12a, 12b, and 12c are used when they are described separately.
  • the power semiconductor device 50 is fixed to an in-vehicle device through an insulating adhesive, an insulating substrate, an insulating sheet, and the like. Further, the power semiconductor device 50 may have an insulating layer on the surface facing the fixed portion of the power semiconductor device 50 and may be pressure-fixed through soldering or heat radiation grease.
  • the terminals protruding to the outside of the power semiconductor device 50 are a power terminal 11 through which a large current of several A to a few tens of A flows, and a control signal terminal 12 such as a gate signal line or a sensor signal line of the power semiconductor element 2.
  • the power terminal 11 is connected to a power supply device and a power source such as a battery via a relay member, and the control signal terminal 12 is connected to a control board mounted on the in-vehicle device.
  • the power semiconductor device 50 is equipped with a power semiconductor element 2 such as a switchable MOS-FET or IGBT, and is switched by a signal transmitted from a gate signal line connected to the control substrate, whereby an output power terminal 11 (for example, 11a, 11b, and 11c) are controlled.
  • a power semiconductor element 2 such as a switchable MOS-FET or IGBT
  • the lower surface of the power semiconductor element 2 (the surface facing the lead frame 1) and the lead frame 1 are joined by a solder 4 or a conductive bonding agent such as a conductive paste.
  • the electrode part formed on the chip of the power semiconductor element 2 and the lead frame 1 are wire bonds for joining aluminum or copper circular or rectangular cross-section wires by ultrasonic vibration, lead frames 1 for wiring, They are connected by a wiring member 3 such as a metal terminal.
  • the mounting components such as the lead frame 1 and the ceramic capacitor 100 and the chip resistor 20 are joined with a joining agent such as solder 4.
  • the ceramic capacitor 100 is a multilayer ceramic capacitor in which a dielectric portion and an electrode portion are laminated, and includes an external electrode 101 made of an external electrode layer.
  • the ceramic capacitor 100 is mounted between the two lead frames 1, and the potential between the two lead frames 1 is different.
  • the plurality of lead frames 1 are formed by pressing or etching, and there are steps of about several ⁇ m to several tens of ⁇ m between the lead frames 1.
  • the power semiconductor element 2 and the mounting component are bonded to the lead frame 1 with a bonding agent, and the connection with the wiring member 3 is sealed with the mold resin 5.
  • the heat semiconductor device 2 mounted therein is efficiently discharged to the power semiconductor device joint portion to which the power semiconductor device 50 in the in-vehicle device is joined.
  • a lead frame exposed surface where the lead frame 1 is partially exposed is provided on the surface of the in-vehicle device facing the power semiconductor device joint.
  • the lead frame exposed surface of the power semiconductor device 50 is formed, for example, on the surface (back surface) side on which the power semiconductor element 2 and chip components are not mounted in FIG.
  • the exposed surface of the lead frame of the power semiconductor device 50 is joined to the power semiconductor device joint portion of the in-vehicle device via an insulating portion having a low thermal resistance. Thereby, the heat generated from the power semiconductor element 2 is efficiently radiated to the power semiconductor junction of the in-vehicle device and radiated from a heat sink or the like installed in the in-vehicle device.
  • the power semiconductor device 50 of the present invention includes a plurality of metal lead frames 1 molded into a wiring pattern, a power semiconductor element 2 joined on the lead frame 1, and a plurality of terminals formed.
  • a wiring member 3 that connects between the lead frame 1 and between the lead frame 1 and an electrode portion formed on the power semiconductor element 2, and a lower surface electrode portion and a lead formed on the lower surface of the power semiconductor element 2
  • a bonding agent for bonding the frame 1, a lead frame 1, a power semiconductor element 2, a wiring member 3, and a mold resin 5 that wraps the bonding agent it is formed inside the power semiconductor device 50.
  • a capacitor 100 for reducing voltage fluctuation at the time of switching of the power semiconductor element 2 is provided.
  • the power semiconductor device 50 of the present invention includes a stress relaxation structure 39 between the external electrode 101 of the capacitor 100 and the capacitor mounting portion 13 of the lead frame 1 as shown in FIG.
  • the temperature of the power semiconductor device 50 greatly fluctuates due to the operation of the on-vehicle equipment, the change in the installed ambient temperature, the energization of the power semiconductor element 2, and the like.
  • the temperature change of the power semiconductor device 50 is large, the thermal stress generated in the capacitor 100 due to the difference in coefficient of linear expansion between the capacitor 100 and the surrounding members becomes large. Therefore, the capacitor 100 is simply mounted on the lead frame 1 and molded resin It was difficult to take a structure sealed with 5.
  • the configuration of the present invention even when the power semiconductor device 50 is mounted on an in-vehicle device having a large temperature change, the capacitor 100 is mounted between the two lead frames 1 and sealed with the mold resin 5.
  • a power semiconductor device 50 having a structure can be used.
  • the stress relaxation structure 39 is also caused by vibration when the intermediate manufacturing body in which the capacitor 100 is bonded between the two lead frames 1 is transported on the manufacturing line.
  • the production yield can be improved by relaxing the stress on the capacitor 100 and the stress on the capacitor 100 when an external force is applied during transportation, and preventing the failure.
  • the external electrode 101 of the capacitor 100 and the capacitor mounting portion 13 of the lead frame 1 are joined by solder 4.
  • the power semiconductor device 50 according to the present invention includes a stress relaxation structure portion 39 having rigidity lower than that of the conductive bonding agent between the solder 4 that is the conductive bonding agent of the capacitor mounting portion 13 and the external electrode 101, and a mold resin. 5 is used to wrap the surroundings.
  • a stress relaxation structure portion 39 a conductive stress relaxation portion 30 that is a stress relaxation layer in which a conductive filler is blended with a low elastic modulus resin such as an epoxy resin or a silicone resin may be used.
  • the stress relaxation structure 39 is made of a conductive member containing a conductive filler.
  • FIG. 2 shows an example in which the stress relaxation structure portion 39 is disposed only in the vicinity of the conductive bonding agent (solder 4), the stress relaxation structure portion 39 may be disposed so as to cover the external electrode 101. In the two cases exemplified, the efficiency of the production process is improved by performing the pretreatment for adding the stress relaxation structure 39 to the external electrode 101 of the capacitor 100.
  • a step of about several ⁇ m to several tens of ⁇ m occurs between the capacitor mounting portions 13 of the two lead frames 1 on which the capacitor 100 is mounted.
  • the step between the two lead frames 1 has a molding pressure that reaches about 100 atm.
  • the step changes so as to be small, and the capacitor 100 may crack. Accordingly, even when sealing with the mold resin 5, the stress generated in the capacitor 100 can be relieved by preferentially deforming the stress relaxation structure 39 having a lower rigidity than the conductive adhesive (solder 4). it can.
  • the capacitor 100 is prevented from being cracked and to prevent the manufacturing process yield from being lowered.
  • the stress relaxation structure portion 39 is subjected to stress on the capacitor 100 due to vibration, It is possible to relieve stress on the capacitor 100 when an external force is applied to the capacitor 100.
  • the joint between the capacitor 100 including the stress relaxation structure 39 and the lead frame 1 is finally covered with the mold resin 5.
  • the stress relaxation structure 39 relaxes the above-described stress, even if the stress relaxation structure 39 is distorted or a deformation such as a slit is formed in a part of the stress relaxation structure 39, the capacitor 100 and the lead frame 1 Is held by the mold resin 5, the capacitor fixing strength is not lowered, and the loss of function of the power semiconductor device 50 and the occurrence of functional failure can be prevented.
  • the stress relaxation structure portion 39 is lower in rigidity than the solder 4 and the capacitor 100, the stress relaxation structure portion 39 is stress-relieved if it is out of specification, such as when there is a particularly large step between the two capacitor mounting portions 13. Since the structural portion 39 is destroyed and becomes an open defect, the defect can be easily found, and the cost of equipment such as an inspection apparatus can be reduced.
  • FIG. 3 is a diagram showing a stress relaxation structure according to Embodiment 1 of the present invention.
  • the stress relaxation structure 39 is composed of a mixture of a conductive filler and a resin agent.
  • the rigidity of the stress relaxation structure 39 is significantly lower than the rigidity of the conductive bonding agent (solder 4) for bonding the capacitor 100 to the lead frame 1.
  • the capacitor 100 and the lead frame 1 may be affected by a temperature cycle during the operation of the power semiconductor device 50, a deformation that reduces the step between the two lead frames 1 during molding, or stress during transportation.
  • the stress relaxation structure 39 is positively deformed to prevent the capacitor 100 from being damaged.
  • the stress relaxation structure portion 39 may be composed of a conductive stress relaxation portion 30 and a metal plating layer 31 such as Ni or Sn provided on the surface of the conductive stress relaxation portion 30.
  • a metal plating layer 31 such as Ni or Sn provided on the surface of the conductive stress relaxation portion 30.
  • FIG. 4 is an enlarged view of another stress relaxation structure according to the first embodiment of the present invention. By providing the metal plating layer 31 such as Ni or Sn, soldering can be facilitated as compared with the case where only the conductive stress relaxation portion 30 is provided.
  • FIG. 5 is an enlarged view of still another stress relaxation structure portion according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 5 is an example in the case where there is a defect portion 40 that is a portion where a part of the solder 4 or a part of the conductive stress relaxation portion 30 is missing.
  • the broken line 6 corresponds to the end portion where the solder 4 shown in FIG. 3 was present, and the broken line 35 corresponds to the end portion where the conductive stress relaxation portion 30 shown in FIG. 3 was present.
  • the capacitor 100 has a non-connection portion 111 to which the stress relaxation structure portion 39 is not connected on the side of the external electrode 101 facing the lead frame 1.
  • the power semiconductor device 50 according to the first embodiment is accompanied by breakage such that a slit or crack is formed in a part of the stress relaxation structure portion 39 provided between the capacitor 100 and the capacitor mounting portion 13 of the lead frame 1. Even when the deformation occurs before the molding process, the mold resin 5 is filled in the defect 40 generated in the stress relaxation structure 39 in the molding process. That is, even when the non-connection portion 111 exists, the non-connection portion 111 is covered with the mold resin 5 in the molding process. Therefore, the power semiconductor device 50 according to the first embodiment can mold the defective portion 40 even if the defective portion 40 in which the solder 4 or the conductive stress relaxation portion 30 is lost in the joint portion between the capacitor 100 and the lead frame 1 occurs. The resin 5 is filled.
  • the stress generated in the capacitor 100 is relieved by deformation or partial destruction of the stress relaxation structure 39.
  • the lead frame 1 and the mounting components such as the power semiconductor element 2 and the capacitor 100 are covered with the mold resin 5 in that state, that is, the stress relaxation structure 39 is deformed or partially destroyed.
  • the mold resin 5 enters the (defect portion 40) is provided. Therefore, power semiconductor device 50 of the first embodiment is deformed or partially destroyed even when stress of capacitor 100 is reduced by deformation or partial destruction of stress relaxation structure 39.
  • the strength for holding the capacitor 100 can be maintained by the mold resin 5 that fills the (defect portion 40).
  • a plurality of lead frames 1 molded into a wiring pattern, a power semiconductor element 2 bonded on the lead frame 1, and two lead frames 1 adjacent to each other. And a capacitor 100 disposed therebetween, and is sealed with a mold resin 5.
  • the capacitor 100 is characterized in that the external electrode 101 of the capacitor 100 is connected to the lead frame 1 via the stress relaxation structure portion 39 having a rigidity lower than that of the capacitor 100, and therefore has a lower rigidity than the capacitor.
  • the stress relaxation structure 39 can relieve the stress generated in the capacitor 100 during operation or manufacturing, and can prevent the capacitor 100 from being broken.
  • the stress relaxation structure portion 39 of the first embodiment includes the conductive stress relaxation portion 30 having a rigidity lower than that of the solder 4 and the capacitor 100, the stress generated in the capacitor during operation and manufacturing is relaxed, and the capacitor is destroyed. Can be prevented.
  • the capacitor 100, the capacitor mounting portion 13 of the lead frame 1, and the stress relaxation structure portion 39 are sealed with the mold resin 5, so that the conductive stress relaxation portion 30 is deformed or partially. By destroying, the thermal stress due to the temperature cycle during molding or in the operating environment can be relaxed, and the capacitor crack can be prevented.
  • the capacitor 100 and the capacitor mounting portion 13 are held by the mold resin 5, so that the energization between the lead frame 1 and the capacitor 100 is performed.
  • the path or circuit configuration is not destroyed.
  • the conductive stress relaxation portion 30 of the stress relaxation structure portion 39 of the first embodiment is made of a mixture of a conductive filler and a resin, the rigidity can be significantly reduced as compared with the solder 4 and the capacitor 100.
  • the power semiconductor device 50 includes a structure in which the lead frame 1 and the mounting components such as the power semiconductor element 2 and the capacitor 100 are covered with the mold resin 5, the stress relaxation structure 39 is deformed or partially formed. Even when the stress of the capacitor 100 is reduced by being broken, the strength for holding the capacitor 100 can be maintained by the mold resin 5 that compensates for the deformed or partially broken portion (defect portion 40).
  • the capacitor 100 for relaxing the voltage fluctuation at the time of switching of the power semiconductor element 2 is connected to the lead frame 1 with the stress relaxation structure portion 39 interposed therebetween.
  • the capacitor 100 can be installed in the vicinity of 2, and the power semiconductor device 50 can be reduced in size.
  • the power semiconductor device 50 according to the first embodiment can be used as a power semiconductor device that controls an armature current or a field current of an inverter-integrated rotating machine.
  • the armature current is a current that flows through the armature when the stator is an armature.
  • the field current is a current that flows through the field winding wound around the rotor when the rotor is an armature.
  • the power semiconductor device 50 In a power semiconductor device that controls the armature current and field current of an inverter-integrated rotating machine, heat from the rotating machine is transferred to the power semiconductor device, the temperature of the power semiconductor device rises, and the stress due to the difference in linear expansion coefficient also increases. . Even in such an inverter-integrated rotating machine that operates in a harsh environment, the power semiconductor device 50 according to the first embodiment includes the stress relaxation structure portion 39. Therefore, the stress generated in the capacitor 100 is relaxed. The capacitor 100 can be prevented from being broken.
  • FIG. FIG. 6 is an enlarged view of the stress relaxation structure according to the second embodiment.
  • the stress relaxation structure portion 39 in the power semiconductor device 50 of the second embodiment includes an electrode connection portion 37 connected to the external electrode 101 of the capacitor 100 and an electrode non-connection portion 38 not connected to the external electrode 101.
  • a portion connected to the electrode connection portion 37 of the stress relaxation structure portion 39 is referred to as a first electrode portion 102
  • a portion not connected to the electrode connection portion 37 of the stress relaxation structure portion 39 is referred to as a second electrode portion 103.
  • the first electrode portion 102 is a portion indicated by an arrow interval 102
  • the second electrode portion 103 is a portion indicated by an arrow interval 103.
  • the second electrode portion 103 is formed not on the upper side of the external electrode 101 in FIG. 6, that is, on the capacitor mounting portion 13 side, not on the upper limit portion (limit portion) to which the solder 4 is joined.
  • the stress relaxation structure portion 39 of the second embodiment includes the electrode non-connecting portion 38, the second electrode portion 103 of the capacitor 100 can be prevented from being fixed to the lead frame 1.
  • the stress relaxation structure portion 39 according to the second embodiment prevents the second electrode portion 103 of the capacitor 100 from being fixed to the lead frame 1, so that when the molding pressure during molding is applied, the second electrode Since the vicinity of the portion 103, that is, the electrode non-connecting portion 38 moves slightly, the stress at the time of molding acting on the capacitor 100 is reduced, and the capacitor 100 can be prevented from being broken.
  • the second electrode portion 103 is made of a highly heat-resistant polyimide resin or the like that prevents the conductive stress relaxation portion 30 to be the electrode non-connecting portion 38 from being connected to the surface of the external electrode 101 and prevents the solder 4 from getting wet. It can be formed by coating.
  • polyimide aluminum may be used. By applying aluminum to the surface of the external electrode 101, it is possible to prevent the conductive stress relaxation portion 30 that becomes the electrode non-connecting portion 38 from being connected and not to be wetted by solder. Such an aluminum layer can be formed on the electrode of the capacitor 100 by firing using aluminum powder.
  • the first electrode portion 102 that can be connected to the electrode connecting portion 37 and can be soldered with the solder 4 is disposed on the side surface of the external electrode 101 of the capacitor 100, and the capacitor 100 is opposed to the lead frame 1.
  • the configuration example in which the electrode non-connecting portion 38 can be formed on the surface and the second electrode portion 103 that cannot be soldered with the solder 4 is arranged is shown.
  • the lead frame 1 may be devised in order to form the second electrode unit 103.
  • the lead frame 1 in the power semiconductor device 50 according to the second embodiment has a structure in which an electrode layer that is not soldered is arranged on a part of the capacitor mounting portion 13 of the lead frame 1 facing the capacitor 100.
  • a structure in which a part of the capacitor mounting portion 13 is provided with a polyimide resin layer that is not soldered may be used.
  • the lead frame 1 side since the lead frame 1 side is devised, it is not necessary to dispose a polyimide resin or an aluminum layer, which is a material different from that of the external electrode 101, in a portion to be the first electrode portion 102 of the capacitor 100.
  • FIG. FIG. 7 is a diagram showing a stress relaxation structure according to Embodiment 3 of the present invention.
  • the power semiconductor device 50 according to the third embodiment includes a stress relaxation structure 39 made of a metal plate 32 having rigidity lower than that of the capacitor 100 main body. One end of the metal plate 32 is connected to the external electrode 101 of the capacitor 100, and the other end of the metal plate 32 is connected to the capacitor mounting portion 13 of the lead frame 1.
  • the stress relaxation structure portion 39 is arranged so that the metal plate 32 is interposed between the capacitor 100 and the lead frame 1, the molding pressure applied to the capacitor 100 during the molding process, mold clamping during molding, power
  • the stress generated in the capacitor 100 due to the temperature cycle or the like during the operation of the semiconductor device 50 can be reduced by the deformation of the metal plate 32. As a result, it is possible to prevent a capacitor defect due to the stress generated in the capacitor 100 and improve the yield of the manufacturing process.
  • the lower the rigidity of the metal plate 32 the greater the effect of reducing the capacitor stress.
  • the effect of reducing the capacitor stress increases as the length corresponding to the distance d between the capacitor 100 and the lead frame 1 increases.
  • the material of the metal plate 32 is preferably an Invar material having a linear expansion coefficient close to that of the capacitor 100. Since the power semiconductor device 50 of the third embodiment includes the stress relaxation structure portion 39 made of the metal plate 32, the rigidity of the metal plate 32 is such that the capacitor 100, the stress relaxation structure 39, and the lead frame 1 are sealed with the mold resin 5. It suffices to satisfy the condition that it can withstand the manufacturing process.
  • the case-type power semiconductor device has a structure in which a power semiconductor element or chip component is mounted on an insulating substrate on which wiring is patterned, and the power semiconductor element or chip component is connected by a wiring member, such as a silicone gel. Since the silicone gel is easily vibrated, the reliability cannot be satisfied even if only the metal plate 32 is applied.
  • the power semiconductor device 50 according to the third embodiment includes the stress relaxation structure portion 39 made of the metal plate 32 and includes the power semiconductor element 2 mounted on the lead frame 1 and Since chip parts such as the capacitor 100 are sealed with the mold resin 5 which is less likely to vibrate than the silicone gel, reliability can be satisfied.
  • the members that need to be insulated include the lead frame 1, the wiring member 3, the electrodes of the power semiconductor element 2, and the electrodes of chip components such as the external electrodes 101 of the capacitor 100.
  • the sealing by transfer molding applied to the power semiconductor device 50 of the third embodiment is performed by molding at a high pressure reaching 100 atm. It is not included and the insulation distance required in order to maintain the insulation between the said members can be taken small. As a result, the power semiconductor device 50 can be downsized.
  • FIG. FIG. 8 is a diagram showing a capacitor mounting structure according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the wiring pattern 22 formed on the insulating wiring substrate 21 fixed between the two lead frames 1 and the external electrode 101 of the capacitor 100 are joined to each other.
  • the wiring pattern 22 formed in 21 and the lead frame 1 are electrically connected by a wiring member 3 such as another wire bond. That is, the power semiconductor device 50 according to the fourth embodiment includes the stress relaxation structure portion 39 including the wiring substrate 21 having rigidity lower than that of the lead frame 1 and the capacitor 100.
  • the wiring substrate 21 is disposed between the capacitor 100 and the lead frame 1, so that the molding pressure during molding and the stress due to mold clamping caused by wiring can be reduced. Since it is alleviated by the substrate 21, it does not occur directly in the capacitor 100, and it is possible to prevent the capacitor 100 from failing.
  • the wiring substrate 21 is interposed between the capacitor 100 and the lead frame 1, so that the capacitor 100 can be used even when a temperature cycle occurs during the operation of the power semiconductor device 50. And the linear expansion coefficient difference between the wiring board 21 and the wiring board 21 are reduced. For this reason, in the power semiconductor device 50 according to the fourth embodiment, the thermal stress generated in the capacitor 100 is reduced, and the capacitor 100 can be prevented from failing.
  • the material of the wiring board 21 preferably has a small difference in linear expansion coefficient from the material of the lead frame 1, and for example, FR-4 (Flame Retardant-4) in which an epoxy resin is impregnated into a glass fiber cloth is preferable.
  • FIG. 8 shows the case where the insulating wiring substrate 21 is used
  • another capacitor mounting structure using the second lead frame 7 as shown in FIG. 9 may be used.
  • FIG. 9 is a diagram showing another capacitor mounting structure according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the capacitor 100 is bonded onto the second lead frame 7 that is fixed in an insulated state from the lead frame 1.
  • the capacitor thermal stress due to the temperature cycle can be relaxed.
  • the second lead frame 7 insulated from the wiring substrate 21 and the lead frame 1 is disposed between the capacitor 100 and the lead frame 1, so that molding at the time of molding is performed. It is possible to prevent thermal stress due to pressure and temperature cycles during operation from being transmitted directly to the capacitor 100. Therefore, the power semiconductor device 50 of the fourth embodiment relieves stress generated in the capacitor 100 during operation or manufacture by the stress relieving structure portion 39 having lower rigidity than the capacitor as in the first to third embodiments. The capacitor 100 can be prevented from being broken.
  • the power semiconductor element 2 may be formed of silicon.
  • a wide band gap semiconductor material having a larger band gap than silicon may be used.
  • the wide band gap semiconductor material include silicon carbide, a gallium nitride-based material, and diamond.
  • the power semiconductor element 2 formed of such a wide band gap semiconductor material has high voltage resistance and high allowable current density, the power semiconductor element 2 can be miniaturized. By using the element 2, it is possible to reduce the size of the power semiconductor device 50 incorporating these elements.
  • SYMBOLS 1 ... Lead frame 2, 2a, 2b, 2c ... Power semiconductor element, 3 ... Wiring member, 4 ... Solder, 5 ... Mold resin, 7 ... 2nd lead frame, 21 ... Wiring board, 30 ... Conductive stress relaxation Part 32, metal plate 37, electrode connection part 38 ... electrode non-connection part 39 ... stress relaxation structure part 50 ... power semiconductor device 100 ... capacitor 101 ... external electrode 111 ... non-connection part.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Inverter Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

 本発明のパワー半導体装置(50)によれば、配線パターン状に成型された複数のリードフレーム(1)と、リードフレーム(1)上に接合されたパワー半導体素子(2)と、互いに隣接した2つのリードフレーム(1)の間に配置されたコンデンサ(100)とを備え、モールド樹脂(5)で封止される。コンデンサ(100)は、当該コンデンサ(100)の外部電極(101)が、当該コンデンサ(100)よりも剛性が低い応力緩和構造部(39)を介してリードフレーム(1)に接続されたことを特徴とする。

Description

パワー半導体装置
 本発明は、コンデンサを内部に備えるトランスファーモールド型のパワー半導体装置に関し、特に、車載機器に搭載されるパワー半導体装置に関するものである。
 現在、地球温暖化を背景とした輸送機器への燃費改善要求が高まっている。特に自動車に搭載される車載電装品では、さらなる小型及び軽量化が急務となっている。また、車載電装品でも、オルタネータなどの車両用回転電機では、発電効率や電力変換効率の向上に向けた取組みが盛んに行われている。その一つとして、整流器などの電力変換部をインバータ化する取組みがある。電力変換部をインバータ化した回転電機は、整流器の回転電機と比較して、出力電流の制御が高度化され、回生発電やエンジン始動など新たな機能を付加できる。
 また、車載用機器の整流器では、パワー半導体素子としてダイオードを使用するが、車載用機器のインバータでは、MOS-FET(Metal Oxide Semiconductor - Field Effect Transistor)やIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)を使用する。インバータに使用するこれらのパワー半導体素子は、ゲートに電圧を印加することでオン-オフ(ON-OFF)するスイッチング素子であり、ダイオードと比較してゲートオン時の通電損失(以下、オン抵抗と表記)が小さい。これにより、電力変換部をインバータ化した車載用機器では、発電効率や電力変換効率が向上する。また、MOS-FETやIGBTなどのスイッチング素子は、オルタネータやモータジェネレータの界磁電流制御用のパワー半導体装置にも用いられる。界磁電流制御用のパワー半導体素子は、回転子であるロータの界磁巻線に電力を供給する経路にあり、界磁電流の制御を行う。
 従来、これらの車載電装品に搭載される車載用のパワー半導体装置は、配線がパターニングされた絶縁性の基板上にパワー半導体素子をはんだ付けし、配線部材で接続したものをシリコーンゲルなどで封止したケース型パワー半導体装置や、ダイオードやMOS-FETなどの素子をトランスファー成型した単機能のディスクリート型のパワー半導体装置等を組み合わせることで製造されてきた。このパワー半導体装置を車載機器のヒートシンクなどの放熱器の近くに配置し、パワー半導体素子が発する熱量を、放熱器から放出する。
 車載用電装品のパワー半導体装置は、その搭載スペースの狭さから、省サイズ化する必要がある。しかしながら、車載用電装品に搭載されるMOF-FETやIGBTなどのスイッチグ素子であるパワー半導体素子を搭載するパワー半導体装置では、パワー半導体素子のスイッチングにより電流が間欠的に流れる。パワー電力半導体装置において、パワー半導体素子のスイッチング時の電圧変動を緩和させるためのコンデンサを設ける必要がある。このコンデンサは、パワー半導体装置の近傍に設置する必要があり、回転電機の小型化の阻害因子となっている。
 例えば、特許文献1には、リードフレームの電源-接地間にチップコンデンサを取付けて、小電力の集積回路(ICチップ)とチップコンデンサとが樹脂封止されたモールド型半導体装置が示されている。この半導体装置は、リードフレームのタイバー上にコンデンサを実装し、樹脂封止する構造をとっている。これにより、小電力の集積回路の近傍にコンデンサを搭載することが可能になるとともに、ノイズの低減を図っている。
特開昭59-72757号公報(第2図)
 特許文献1では、集積回路(ICチップ)とチップコンデンサとを樹脂封止することで、インダクタンスを小さくすると共に実装密度を上げる半導体装置の構造が記載されている。MOF-FETやIGBTなどのパワー半導体素子を搭載するパワー半導体装置においても、パワー半導体素子とパワー半導体素子のスイッチング時の電圧変動を緩和させるためのコンデンサとを封止して、小型のトランスファーモールド型のパワー半導体装置を得たいと我々は考えた。パワー半導体装置は、小電力の集積回路等の半導体装置と比べて過酷な環境下で動作する必要があるので、パワー半導体装置が受ける温度サイクルが大きい。
 したがって、特許文献1に示されたように、単にリードフレームのタイバー上にコンデンサを実装して樹脂封止するだけでは、パワー半導体装置の場合には、過酷な環境下で動作時や製造の際にコンデンサが故障してしまう。すなわち、特許文献1に示されたような構造では、パワー半導体装置が受ける温度サイクルや、モールド成型時の成型圧などによって、コンデンサが故障するという問題がある。
 また、パワー半導体装置においては、通常の集積回路(ICチップ)に比べて大電流が流れるので、リードフレームの厚さは厚くなる。したがって、パワー半導体装置においては、コンデンサを実装するリードフレームの端子間では数μmから数十μm程度の段差が生じることが不可避であり、コンデンサを実装するリードフレームのコンデンサ実装部とコンデンサの外部電極との平行性が、2つの外部電極において異なってしまう。この段差がモールド成型時の成型圧により段差を小さくするように変化したり、製造プロセス中でリードフレームが搬送時の振動がコンデンサに伝わることによって、コンデンサに大きな応力がかかる。このように、コンデンサに大きな応力がかかることで、コンデンサが故障し、生産時の歩留まりが低下するという問題もある。
 本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、コンデンサを内部に備えるトランスファーモールド型のパワー半導体装置において、動作時や製造の際にコンデンサが故障するのを防止することを目的とする。
 本発明に係るパワー半導体装置は、モールド樹脂で封止されたパワー半導体装置であって、配線パターン状に成型された複数のリードフレームと、リードフレーム上に接合されたパワー半導体素子と、互いに隣接した2つのリードフレームの間に配置されたコンデンサとを備え、コンデンサは、当該コンデンサの外部電極が、当該コンデンサよりも剛性が低い応力緩和構造部を介してリードフレームに接続されたことを特徴とする。
 本発明に係るパワー半導体装置によれば、コンデンサの外部電極が、当該コンデンサよりも剛性が低い応力緩和構造部を介してリードフレームに接続されたので、コンデンサよりも剛性が低い応力緩和構造部によって動作時や製造の際にコンデンサに生じる応力を緩和し、コンデンサが破壊するのを防止できる。
本発明の実施の形態1によるパワー半導体装置の内部の概観模式図である。 本発明の実施の形態1による応力緩和構造部を示す図である。 本発明の実施の形態1による応力緩和構造部を拡大した図である。 本発明の実施の形態1による他の応力緩和構造部を拡大した図である。 本発明の実施の形態1による更に他の応力緩和構造部を拡大した図である。 本発明の実施の形態2による応力緩和構造部を拡大した図である。 本発明の実施の形態3による応力緩和構造部を示す図である。 本発明の実施の形態4によるコンデンサ実装構造を示す図である。 本発明の実施の形態4による他のコンデンサ実装構造を示す図である。
実施の形態1.
 図1は本発明の実施の形態1によるパワー半導体装置の内部の概観模式図であり、図2は本発明の実施の形態1による応力緩和構造部を示す図である。本実施の形態1のパワー半導体装置50は、配線パターン状に成型された複数のリードフレーム1と、スイッチング可能なパワー半導体素子2と、パワー半導体素子2のスイッチングによる電圧変動を緩和させるセラミックコンデンサ(適宜、コンデンサとも称する)100と、チップ抵抗器(適宜、抵抗器とも称する)20などのチップ部品と、端子が形成される複数のリードフレーム1の間や、リードフレーム1とパワー半導体素子2との間を接続する配線部材3と、リードフレーム1、パワー半導体素子2、チップ部品等の実装部品、及び配線部材3を封止するモールド樹脂5とを備える。図1では、3つのパワー半導体素子2a、2b、2cが実装され、5つのパワー端子11a、11b、11c、11d、11eと3つの信号端子12a、12b、12cを備えるパワー半導体装置50の例を示した。なお、パワー半導体素子の符号は、総括的に2を用い、区別して説明する場合に2a、2b、2cを用いる。パワー端子の符号は、総括的に11を用い、区別して説明する場合に11a、11b、11c、11d、11eを用いる。信号端子の符号は、総括的に12を用い、区別して説明する場合に12a、12b、12cを用いる。
 パワー半導体装置50は、絶縁性の接着剤、絶縁性の基板、絶縁性シートなどを介して車載用機器に固定される。また、パワー半導体装置50は、パワー半導体装置50の被固定部に対向する面に絶縁層を持ち、はんだ付けや放熱グリースを介して加圧固定される場合もある。パワー半導体装置50の外部に突出する端子は、数Aから百数十A程度の大電流が流れるパワー端子11と、パワー半導体素子2のゲート信号線やセンサ信号線などの制御用の信号端子12があり、パワー端子11は電力を供給する装置およびバッテリーなどの電源と中継部材を介して接続し、制御用の信号端子12は車載用機器に搭載された制御基板へ接続される。
 パワー半導体装置50は、スイッチング可能なMOS-FETやIGBTなどのパワー半導体素子2を搭載し、制御基板と接続したゲート信号線から伝わる信号によりスイッチングすることで、出力用のパワー端子11(例えば、11a、11b、11c)に通電する電流量を制御する。パワー半導体素子2の下面(リードフレーム1と対抗する面)とリードフレーム1の接合は、はんだ4もしくは、導電性ペーストなどの導電性接合剤で接続されている。パワー半導体素子2のチップ上に形成された電極部とリードフレーム1とは、アルミや銅製の円形断面もしくは矩形断面の線材を超音波振動によって接合するワイヤーボンドや、配線用のリードフレーム1や、金属製ターミナル等の配線部材3で接続されている。
 リードフレーム1とセラミックコンデンサ100やチップ抵抗器20などの実装部品は、はんだ4等の接合部剤で接合される。セラミックコンデンサ100は、誘電体部と電極部を積層した積層セラミックコンデンサであり、外部電極層からなる外部電極101を備える。セラミックコンデンサ100が実装されるのは、2つのリードフレーム1の間であり、この2つのリードフレーム1の間は電位が異なる。また、複数のリードフレーム1は、プレス加工やエッチング加工で形成され、それぞれのリードフレーム1の間には、数μmから数十μm程度の段差がある。
 パワー半導体装置50は、リードフレーム1にパワー半導体素子2と実装部品を接合部剤で接合し、配線部材3で接続したものをモールド樹脂5で封止する。パワー半導体装置50は、内部に搭載するパワー半導体素子2の通電時に生じる発熱を、車載機器におけるパワー半導体装置50が接合されるパワー半導体装置接合部に効率よく放出するために、パワー半導体装置50における車載機器のパワー半導体装置接合部と対向する面に、リードフレーム1が一部露出したリードフレーム露出面を設ける場合がある。パワー半導体装置50のリードフレーム露出面は、例えば図1において、パワー半導体素子2やチップ部品等が実装されていない面(裏面)側に形成される。パワー半導体装置50のリードフレーム露出面は、車載機器のパワー半導体装置接合部に、熱抵抗が小さい絶縁部を介して接合される。これにより、パワー半導体素子2から発生する熱は、効率よく車載機器のパワー半導体接合部に放熱され、車載機器に設置されたヒートシンクなどから放熱する。
 ここで、本発明のパワー半導体装置50は、配線パターン状に成型された複数の金属製のリードフレーム1と、リードフレーム1上に接合されたパワー半導体素子2と、端子が形成される複数のリードフレーム1との間や、リードフレーム1とパワー半導体素子2の上部に形成された電極部との間を接続する配線部材3と、パワー半導体素子2の下面に形成された下面電極部とリードフレーム1を接合する接合部剤と、リードフレーム1とパワー半導体素子2と配線部材3と接合部剤を包むモールド樹脂5を備える従来の構成に加えて、パワー半導体装置50の内部に形成される回路中に、パワー半導体素子2のスイッチング時の電圧変動を緩和させるためのコンデンサ100を備える。本発明のパワー半導体装置50は、図2に示すようにコンデンサ100の外部電極101とリードフレーム1のコンデンサ実装部13との間に応力緩和構造部39を備える。
 車載用機器の動作や、設置される雰囲気温度の変動や、パワー半導体素子2の通電などによって、パワー半導体装置50の温度は大きく変動する。パワー半導体装置50の温度変化が大きい場合、コンデンサ100と周りの部材との線膨張係数差によってコンデンサ100に生じる熱応力が大きくなるので、単純にリードフレーム1上にコンデンサ100を実装し、モールド樹脂5で封止する構造をとることが困難であった。しかし、本発明の構成を備えることで、温度変化が大きい車載用機器にパワー半導体装置50を搭載する場合でも、2つのリードフレーム1に間にコンデンサ100を実装し、モールド樹脂5で封止する構造のパワー半導体装置50を用いることができる。また、パワー半導体装置50の製造の際に、2つのリードフレーム1の間にコンデンサ100を接合した中間製造体を、製造ライン上で搬送する際にも、応力緩和構造部39が振動に起因したコンデンサ100への応力や、搬送中に外力が加わったときのコンデンサ100への応力を緩和し、故障になることを防止することで、製造の歩留まりを向上することができる。
 コンデンサ100の外部電極101とリードフレーム1のコンデンサ実装部13とは、はんだ4で接合されている。本発明によるパワー半導体装置50は、コンデンサ実装部13の導電性接合剤であるはんだ4と外部電極101との間に、導電性接合剤よりも剛性が低い応力緩和構造部39を備え、モールド樹脂5により周りが包まれる構造をとる。例えば応力緩和構造部39としては、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの低弾性率の樹脂に導電性フィラーを配合した応力緩和層である導電性応力緩和部30を用いるとよい。この場合、導電性応力緩和部30の弾性率をモールド樹脂5よりも低い弾性率とすることで、必要な応力緩和作用を発揮できる。導電性フィラーは、金属微粒子が適切である。これにより、パワー半導体装置50に温度変化が生じ、パワー半導体装置50を構成する構成部材の線膨張係数差によるひずみが生じたときに、応力緩和構造部39が変形することでコンデンサ100に生じる熱応力を緩和し、コンデンサ100とリードフレーム1との接合部が破断することや、コンデンサ100が故障するのを防止する。
 この応力緩和構造部39は、導電性フィラーを含んだ導電性部材で構成されている。図2では、応力緩和構造部39を導電性接合剤(はんだ4)の付近のみに配置した例を示したが、外部電極101を覆うように配置してもよい。例示した2つの場合、コンデンサ100の外部電極101に応力緩和構造部39を付加する前処理を行うことで、生産プロセスの効率が向上する。
 また、コンデンサ100を実装する2つのリードフレーム1のコンデンサ実装部13の間には、前述のとおり、数μmから数十μm程度の段差が発生する。この段差が存在する状態において、コンデンサ100を実装した中間製造体をモールド樹脂5で封止すると、2つのリードフレーム1の間における段差が、100気圧程度にも達する成型圧やモールド時の型締めによってこの段差が小さくなるように変化し、コンデンサ100にクラックが生じる場合がある。したがって、モールド樹脂5で封止する場合においても、導電性接着剤(はんだ4)よりも剛性の低い応力緩和構造部39が優先的に変形することで、コンデンサ100に生じる応力を緩和することができる。これにより、コンデンサ100にクラックが生じるのを防止し、製造プロセスの歩留まりが低下するのを防止することができる。また、モールド封止前のリードフレーム1にコンデンサ100を接合した中間製造体を、製造ライン上で搬送する際にも、応力緩和構造部39が振動に起因したコンデンサ100への応力や、搬送中に外力が加わったときのコンデンサ100への応力を緩和できる。
 応力緩和構造部39を含んでいるコンデンサ100とリードフレーム1との接合部は、最終的にモールド樹脂5で覆われる。応力緩和構造部39が前述の応力を緩和したときに、応力緩和構造部39が歪んだり、応力緩和構造部39の一部にスリットが入るなどの変形が大きい場合でも、コンデンサ100及びリードフレーム1はモールド樹脂5で保持されているために、コンデンサ固定強度が低下することがなく、パワー半導体装置50の機能喪失や、機能障害の発生を防止できる。また、応力緩和構造部39は、はんだ4やコンデンサ100よりも剛性が低いため、2つのコンデンサ実装部13の間に特に大きな段差がある場合など、万が一規格外であった場合には、応力緩和構造部39が破壊され、オープン不良となるため、容易に不良を発見することができ、検査装置などの設備費用を低減できる。
 図3は、本発明の実施の形態1による応力緩和構造部を示す図である。前述したように、応力緩和構造部39は、導電性フィラーと樹脂剤の混合物から構成されている。応力緩和構造部39の剛性は、コンデンサ100をリードフレーム1に接合する導電性接合剤(はんだ4)の剛性よりも大幅に低くなる。これにより、パワー半導体装置50の動作時における温度サイクルや、モールド成型時における2つのリードフレーム1間の段差を小さくするような変形や、搬送時のストレスなどによって、コンデンサ100とリードフレーム1との接合部に応力が生じた場合に、応力緩和構造部39が積極的に変形し、コンデンサ100の故障を防止する。
 また、図4に示すように、応力緩和構造部39を、導電性応力緩和部30と導電性応力緩和部30の表面に設けられたNiやSnなどの金属めっき層31とで構成してもよい。図4は、本発明の実施の形態1による他の応力緩和構造部を拡大した図である。NiやSnなどの金属めっき層31を設けることで、導電性応力緩和部30だけの場合に比べて、はんだ付けされ易くすることができる。
 図5は、本発明の実施の形態1による更に他の応力緩和構造部を拡大した図である。図5は、はんだ4の一部や導電性応力緩和部30の一部が欠損した部分である欠損部40がある場合の例である。破線6は図3に示したはんだ4があった端部に該当し、破線35は図3に示した導電性応力緩和部30があった端部に該当する。コンデンサ100は、外部電極101におけるリードフレーム1に対向する側において、応力緩和構造部39が接続されない非接続部111を有する。実施の形態1のパワー半導体装置50は、コンデンサ100とリードフレーム1のコンデンサ実装部13との間に設けられた応力緩和構造部39において、その一部にスリットやクラックが入るような破壊をともなう変形がモールド工程前に生じた場合でも、モールド工程において応力緩和構造部39に生じた欠損部40にモールド樹脂5が充填される。すなわち非接続部111が存在する場合でも、モールド工程において非接続部111はモールド樹脂5により覆わる。したがって、実施の形態1のパワー半導体装置50は、コンデンサ100とリードフレーム1との接合部におけるはんだ4や導電性応力緩和部30が欠損した欠損部40が生じても、この欠損部40にモールド樹脂5が充填される構造になっている。
 実施の形態1のパワー半導体装置50は、モールド工程以前にコンデンサ100に応力が作用した場合に、応力緩和構造部39が変形もしくは部分的に破壊することで、コンデンサ100に生じる応力が緩和される構造を備えるとともに、その状態のままでリードフレーム1及び、パワー半導体素子2やコンデンサ100等の実装部品がモールド樹脂5に覆われる構造、すなわち、応力緩和構造部39が変形もしくは部分的に破壊されたところ(欠損部40)にモールド樹脂5が入り込む構造を備える。このため、実施の形態1のパワー半導体装置50は、応力緩和構造部39が変形もしくは部分的に破壊されることでコンデンサ100の応力が低減された場合でも、変形もしくは部分的に破壊されたところ(欠損部40)に補填するモールド樹脂5によって、コンデンサ100を保持する強度が保つことができる。
 実施の形態1のパワー半導体装置50とは異なる構造、例えば、応力緩和構造部39があったとしても、回りにモールド樹脂5が配置されない構造を考える。この構造を備えたパワー半導体装置は、製造プロセス中で生じた応力緩和構造部39の破壊をともなう変形が生じており、パワー半導体装置50が受ける温度変化が大きい場合には、切り欠形状(クラック)となった変形部(欠損部40)に、パワー半導体装置を構成する部材間の線膨張係数差に起因した繰り返し応力が集中して作用するため、クラックが進行し、このクラックが最終的に故障となる。したがって、この場合、製造プロセス中で応力緩和構造部39が破壊をともなう変形をしているかどうかを検査する必要が生じ、検査コストが増大することとなる。しかしながら、本発明の構成を備えることで、これらのコスト増大の回避が可能となる。
 実施の形態1のパワー半導体装置50によれば、配線パターン状に成型された複数のリードフレーム1と、リードフレーム1上に接合されたパワー半導体素子2と、互いに隣接した2つのリードフレーム1の間に配置されたコンデンサ100とを備え、モールド樹脂5で封止さる。このコンデンサ100は、当該コンデンサ100の外部電極101が、当該コンデンサ100よりも剛性が低い応力緩和構造部39を介してリードフレーム1に接続されたことを特徴とするので、コンデンサよりも剛性が低い応力緩和構造部39によって動作時や製造の際にコンデンサ100に生じる応力を緩和し、コンデンサ100が破壊するのを防止できる。
 実施の形態1の応力緩和構造部39は、はんだ4およびコンデンサ100よりも剛性の低い導電性応力緩和部30を備えるので、動作時や製造の際にコンデンサに生じる応力を緩和し、コンデンサが破壊するのを防止できる。実施の形態1のパワー半導体装置50は、コンデンサ100、リードフレーム1のコンデンサ実装部13及び応力緩和構造部39がモールド樹脂5により封止されるので、導電性応力緩和部30が変形もしくは部分的に破壊することで、モールド成型時や動作環境下の温度サイクルによる熱応力を緩和し、コンデンサクラックを防止することができる。この際、導電性応力緩和部30は、その一部が変形もしくは破壊されたとしても、コンデンサ100およびコンデンサ実装部13はモールド樹脂5により保持されるため、リードフレーム1とコンデンサ100の間の通電経路もしくは回路構成が破壊されることはない。
 実施の形態1の応力緩和構造部39の導電性応力緩和部30は、導電性フィラーと樹脂の混合物からなるので、はんだ4およびコンデンサ100よりも大幅に剛性を低くすることができる。
 実施の形態1のパワー半導体装置50は、リードフレーム1及び、パワー半導体素子2やコンデンサ100等の実装部品がモールド樹脂5に覆われる構造を備えるので、応力緩和構造部39が変形もしくは部分的に破壊されることでコンデンサ100の応力が低減された場合でも、変形もしくは部分的に破壊されたところ(欠損部40)に補填するモールド樹脂5によって、コンデンサ100を保持する強度が保つことができる。
 実施の形態1のパワー半導体装置50は、パワー半導体素子2のスイッチング時の電圧変動を緩和させるためのコンデンサ100を、応力緩和構造部39を介在させてリードフレーム1に接続するので、パワー半導体素子2の近傍にコンデンサ100を設置することができ、パワー半導体装置50を小型化することができる。実施の形態1のパワー半導体装置50は、インバータ一体型の回転機の電機子電流あるいは界磁電流を制御するパワー半導体装置として用いることができる。電機子電流は、固定子が電機子となる場合の電機子に流れる電流である。界磁電流は、回転子が電機子となる場合の回転子に巻かれた界磁巻線に流れる電流である。インバータ一体型の回転機の電機子電流や界磁電流を制御するパワー半導体装置は、回転機の熱がパワー半導体装置に伝わり、パワー半導体装置の温度が上昇し線膨張係数差による応力も大きくなる。このように過酷な環境下で動作するインバータ一体型の回転機であっても、実施の形態1のパワー半導体装置50は、応力緩和構造部39を備えるので、コンデンサ100に生じる応力を緩和し、コンデンサ100が破壊するのを防止できる。
実施の形態2.
 図6は、実施の形態2による応力緩和構造部を拡大した図である。実施の形態2のパワー半導体装置50における応力緩和構造部39は、コンデンサ100の外部電極101に接続する電極接続部37と外部電極101に接続しない電極非接続部38とを備える。外部電極101において、応力緩和構造部39の電極接続部37に接続する部分を第1電極部102とし、応力緩和構造部39の電極接続部37に接続しない部分を第2電極部103とする。図6において、第1電極部102は矢印区間102で示した部分であり、第2電極部103は矢印区間103で示した部分である。第2電極部103は、図6における外部電極101の上側、すなわち、はんだ4が接合した上限部(限界部)よりも上側ではなく、コンデンサ実装部13の側に形成される。
 実施の形態2の応力緩和構造部39は、電極非接続部38を備えるので、コンデンサ100の第2電極部103がリードフレーム1と固定されていないようにすることができる。実施の形態2の応力緩和構造部39は、コンデンサ100の第2電極部103がリードフレーム1と固定されていないようにすることで、モールド成型時の成型圧が作用したときに、第2電極部103付近、すなわち電極非接続部38が多少動くので、コンデンサ100に作用するモールド成型時の応力が低減し、コンデンサ100が破壊されることを防止することができる。
 また、実施の形態2のパワー半導体装置50は、モールド成形後に、第2電極部103と電極非接続部38との間にモールド樹脂5が充填されるので、十分なコンデンサ固定強度を得ることができる。第2電極部103は、外部電極101の表面に、電極非接続部38となる導電性応力緩和部30が接続しないようにすると共に、はんだ4が濡れないようにする耐熱の高いポリイミド樹脂などを塗布することで、形成することができる。ポリイミドの他にも、アルミニウムを用いてもよい。外部電極101の表面にアルミニウムを塗布することで、電極非接続部38となる導電性応力緩和部30が接続しないようにすると共に、はんだに濡れないようにすることができる。このようなアルミ層は、アルミ粉末を用いて焼成により、コンデンサ100の電極に重ねて形成することができる。
 図6では、コンデンサ100の外部電極101の側面に、電極接続部37が接続でき、かつ、はんだ4ではんだ付け可能な第1電極部102を配置し、リードフレーム1と対向するコンデンサ100の対向面に、電極非接続部38が形成でき、かつ、はんだ4ではんだ付けができない第2電極部103が配置された構成例を示した。なお、実施の形態2のパワー半導体装置50は、第2電極部103を形成するために、リードフレーム1を工夫してもよい。具体的には、実施の形態2のパワー半導体装置50におけるリードフレーム1は、コンデンサ100に対向するリードフレーム1のコンデンサ実装部13の一部に、はんだ付けされない電極層を配置した構造を備えたり、コンデンサ実装部13の一部がはんだ付けされないポリイミド樹脂の層を配置した構造であってもよい。この場合、リードフレーム1側が工夫されているので、コンデンサ100の第1電極部102となる部分に、外部電極101とは別材料のポリイミド樹脂やアルミ層を配置する必要はない。
実施の形態3.
 図7は、本発明の実施の形態3による応力緩和構造部を示す図である。実施の形態3のパワー半導体装置50は、コンデンサ100本体よりも剛性が低い金属板32からなる応力緩和構造部39を備える。金属板32の一端はコンデンサ100の外部電極101に接続され、金属板32の他の一端はリードフレーム1のコンデンサ実装部13に接続されている。この応力緩和構造部39は、コンデンサ100とリードフレーム1の間に金属板32が介在するように配置された構造なので、モールド工程の際にコンデンサ100に加わる成型圧、モールド時の型締め、パワー半導体装置50の動作時における温度サイクル等によるコンデンサ100に生じる応力を、金属板32が変形することにより緩和することができる。この結果、コンデンサ100に生じる応力に起因したコンデンサ不良を防止することができ、製造プロセスの歩留まりを向上できる。
 実施の形態3の応力緩和構造部39では、金属板32の剛性が低いほど、コンデンサ応力を低減する効果が大きくなる。また、実施の形態3の応力緩和構造部39では、コンデンサ100とリードフレーム1の距離dに相当する長さが長いほど、コンデンサ応力を低減する効果が大きくなる。金属板32の材質としては、コンデンサ100と線膨張係数が近い、インバー系材料が好ましい。実施の形態3のパワー半導体装置50は、金属板32からなる応力緩和構造部39を備えるので、金属板32の剛性は、コンデンサ100、応力緩和構造39、リードフレーム1をモールド樹脂5で封止する製造プロセスに耐えられるという条件を満たせばよい。
 また、車載用機器では、高い耐振動性能を求められる。従来の車載用のパワー半導体装置として説明したケース型パワー半導体装置に、実施の形態3の応力緩和構造部39、すなわち金属板32のみを適用しても信頼性を満たすことはできない。理由を説明する。上述したように、ケース型パワー半導体装置は、配線がパターニングされた絶縁性の基板上にパワー半導体素子やチップ部品を実装し、パワー半導体素子やチップ部品を配線部材で接続したものをシリコーンゲルなどで封止しているので、シリコーンゲルが振動し易く、金属板32のみを適用しても信頼性を満たすことはできない。
 これに対して、高い耐振動性能を求められる場合でも、実施の形態3のパワー半導体装置50は、金属板32からなる応力緩和構造部39を備え、リードフレーム1に実装したパワー半導体素子2やコンデンサ100等のチップ部品を、シリコーンゲルよりも振動し難いモールド樹脂5で封止するので、信頼性を満たすことが可能となる。
 弾性が高い、エポキシ樹脂などでポッティングすることで封止する手法もあるが、これらはエポキシ樹脂を流し込むプロセス時間が長く、内部に気泡を含んでしまう。ポッティングされた樹脂に気泡が含まれると、絶縁を保つ必要がある部材間の絶縁距離を大きくする必要がある。絶縁を保つ必要がある部材とは、リードフレーム1、配線部材3、パワー半導体素子2の電極、コンデンサ100の外部電極101等のチップ部品の電極等である。これに対して、実施の形態3のパワー半導体装置50に適用されるトランスファーモールドによる封止は、100気圧にも達する高圧でモールド成型して封止するため、モールド樹脂5の内部に気泡などを含まず、上記部材間の絶縁を保つために必要とされる絶縁距離を小さくとることができる。この結果、パワー半導体装置50の小型化が可能となる。
実施の形態4.
 図8は、本発明の実施の形態4によるコンデンサ実装構造を示す図である。実施の形態4のパワー半導体装置50は、2つのリードフレーム1の間に固定された絶縁性の配線基板21上に形成された配線パターン22とコンデンサ100の外部電極101とが接合され、配線基板21に形成された配線パターン22とリードフレーム1とが別のワイヤーボンドなどの配線部材3により電気的に接続される構造を備える。すなわち、実施の形態4のパワー半導体装置50は、リードフレーム1及びコンデンサ100よりも剛性が低い配線基板21からなる応力緩和構造部39を備える。このように、実施の形態4のパワー半導体装置50は、コンデンサ100とリードフレーム1の間に配線基板21を配置することにより、モールド成型時の成型圧やモールド成型による型締めによる応力が、配線基板21により緩和されるので、直接コンデンサ100に生じることがなく、コンデンサ100が故障するのを防止することがきる。
 また、実施の形態4のパワー半導体装置50は、配線基板21がコンデンサ100とリードフレーム1との間に介在することで、パワー半導体装置50の動作時における温度サイクルが生じた際も、コンデンサ100と配線基板21との線膨張率差が小さくなる。このため、実施の形態4のパワー半導体装置50は、コンデンサ100に生じる熱応力は小さくなり、コンデンサ100が故障するのを防止することがきる。配線基板21の材料としては、リードフレーム1の材料との線膨張係数差が小さいことが好ましく、たとえば、ガラス繊維の布にエポキシ樹脂を染み込ませたFR-4(Flame Retardant -4)が好ましい。
 なお、図8では、絶縁性の配線基板21を使用した場合を示したが、図9に示すような、第2のリードフレーム7を使用した他のコンデンサ実装構造であってもよい。図9は、本発明の実施の形態4による他のコンデンサ実装構造を示す図である。図9では、リードフレーム1と絶縁した状態で固定される第2のリードフレーム7上にコンデンサ100が接合される。この場合、第2のリードフレーム7の厚みをリードフレーム1の厚みよりも小さくすることで、温度サイクルによるコンデンサ熱応力を緩和することができる。
 実施の形態4のパワー半導体装置50は、コンデンサ100とリードフレーム1の間に、配線基板21やリードフレーム1から絶縁された第2のリードフレーム7を配置することにより、モールド成形時のモールド成型圧や動作時における温度サイクルによる熱応力が直接コンデンサ100に伝わることを防止することができる。したがって、実施の形態4のパワー半導体装置50は、実施の形態1~3と同様にコンデンサよりも剛性が低い応力緩和構造部39によって動作時や製造の際にコンデンサ100に生じる応力を緩和し、コンデンサ100が破壊するのを防止できる。
 上記いずれの実施の形態においても、パワー半導体素子2は、珪素によって形成されてもよい。また、珪素に比べてバンドギャップが大きいワイドバンドギャップ半導体材料によって形成してもよい。ワイドバンドギャップ半導体材料としては、例えば、炭化珪素、窒化ガリウム系材料又はダイヤモンドがある。
 このようなワイドバンドギャップ半導体材料によって形成されたパワー半導体素子2は、耐電圧性が高く、許容電流密度も高いため、パワー半導体素子2の小型化が可能であり、これら小型化されたパワー半導体素子2を用いることにより、これらの素子を組み込んだパワー半導体装置50の小型化が可能となる。
 なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
 1…リードフレーム、2、2a、2b、2c…パワー半導体素子、3…配線部材、4…はんだ、5…モールド樹脂、7…第2のリードフレーム、21…配線基板、30…導電性応力緩和部、32…金属板、37…電極接続部、38…電極非接続部、39…応力緩和構造部、50…パワー半導体装置、100…コンデンサ、101…外部電極、111…非接続部。

Claims (11)

  1.  モールド樹脂で封止されたパワー半導体装置であって、
    配線パターン状に成型された複数のリードフレームと、
    前記リードフレーム上に接合されたパワー半導体素子と、
    互いに隣接した2つの前記リードフレームの間に配置されたコンデンサとを備え、
    前記コンデンサは、当該コンデンサの外部電極が、当該コンデンサよりも剛性が低い応力緩和構造部を介して前記リードフレームに接続されたことを特徴とするパワー半導体装置。
  2.  前記コンデンサと前記リードフレームとの接続構造は、
    当該コンデンサの外部電極に接続した前記応力緩和構造部と、前記応力緩和構造部と前記リードフレームを接続するはんだとを有し、
    前記応力緩和構造部は、前記はんだよりも剛性が低いことを特徴とする請求項1記載のパワー半導体装置。
  3.  前記応力緩和構造部は、樹脂に導電性フィラーを配合した導電性応力緩和部を有することを特徴とする請求項1または2に記載のパワー半導体装置。
  4.  前記コンデンサは、当該コンデンサの前記外部電極における前記リードフレームに対向する側において、前記応力緩和構造部が接続されない非接続部を有し、
    前記非接続部は前記モールド樹脂により覆われたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のパワー半導体装置。
  5.  前記応力緩和構造部は、前記コンデンサの前記外部電極に接続する電極接続部と、前記外部電極に接続しない電極非接続部とを有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のパワー半導体装置。
  6.  前記応力緩和構造部は、金属板であることを特徴とする請求項1または2に記載のパワー半導体装置。
  7.  前記応力緩和構造部は、前記コンデンサの前記外部電極に接続する配線パターンを有する絶縁性の配線基板であることを特徴とする請求項1または2に記載のパワー半導体装置。
  8.  前記応力緩和構造部は、前記リードフレーム上に配置されると共に当該リードフレームと絶縁された第2のリードフレームであり、
    前記第2のリードフレームは、前記コンデンサの前記外部電極に接続されると共に、配線部材により前記リードフレームに接続されたことを特徴とする請求項1または2に記載のパワー半導体装置。
  9.  請求項1乃至8のいずれか1項に記載のパワー半導体装置は、車載用の回転電機に設置され、前記回転電機の電機子に電流を供給することを特徴とするパワー半導体装置。
  10.  前記パワー半導体素子は、ワイドバンドギャップ半導体材料により形成されていることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載のパワー半導体装置。
  11.  前記ワイドバンドギャップ半導体材料は、炭化珪素、窒化ガリウム系材料、またはダイヤモンドのうちいずれかであることを特徴とする請求項10記載のパワー半導体装置。
PCT/JP2012/072908 2012-09-07 2012-09-07 パワー半導体装置 Ceased WO2014038066A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014534126A JP5989124B2 (ja) 2012-09-07 2012-09-07 パワー半導体装置
EP12884280.4A EP2894952B1 (en) 2012-09-07 2012-09-07 Power semiconductor device
CN201280075682.1A CN104604344B (zh) 2012-09-07 2012-09-07 功率半导体装置
US14/402,538 US9620444B2 (en) 2012-09-07 2012-09-07 Power semiconductor device
PCT/JP2012/072908 WO2014038066A1 (ja) 2012-09-07 2012-09-07 パワー半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2012/072908 WO2014038066A1 (ja) 2012-09-07 2012-09-07 パワー半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014038066A1 true WO2014038066A1 (ja) 2014-03-13

Family

ID=50236714

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/072908 Ceased WO2014038066A1 (ja) 2012-09-07 2012-09-07 パワー半導体装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9620444B2 (ja)
EP (1) EP2894952B1 (ja)
JP (1) JP5989124B2 (ja)
CN (1) CN104604344B (ja)
WO (1) WO2014038066A1 (ja)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3012861A1 (de) * 2014-10-21 2016-04-27 Robert Bosch Gmbh Schaltungsanordnung und leistungsmodul
JP2017203709A (ja) * 2016-05-12 2017-11-16 株式会社東海理化電機製作所 モジュール及びその製造方法
JP2018032670A (ja) * 2016-08-22 2018-03-01 Koa株式会社 チップ部品、チップ部品の実装構造、チップ抵抗器の製造方法
JP2018049999A (ja) * 2016-09-23 2018-03-29 Tdk株式会社 電子部品及び電子部品装置
JP2019047091A (ja) * 2017-09-07 2019-03-22 Tdk株式会社 電子部品
JP2019047092A (ja) * 2017-09-07 2019-03-22 Tdk株式会社 電子部品
JP2019050278A (ja) * 2017-09-08 2019-03-28 Tdk株式会社 電子部品及び電子部品装置
JP2019067787A (ja) * 2017-09-28 2019-04-25 Tdk株式会社 電子部品
JP2019083253A (ja) * 2017-10-30 2019-05-30 Tdk株式会社 電子部品及び電子部品装置
JP2019083252A (ja) * 2017-10-30 2019-05-30 Tdk株式会社 電子部品
JP2019083254A (ja) * 2017-10-30 2019-05-30 Tdk株式会社 電子部品
JPWO2019132017A1 (ja) * 2017-12-29 2020-12-17 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサ、積層セラミックコンデンサの実装構造体および電子部品連
JPWO2021019867A1 (ja) * 2019-07-30 2021-02-04
CN112863874A (zh) * 2016-09-23 2021-05-28 Tdk株式会社 电子部件和电子部件装置
WO2022004332A1 (ja) * 2020-07-01 2022-01-06 株式会社オートネットワーク技術研究所 回路構成体

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9949378B2 (en) * 2014-04-14 2018-04-17 Presidio Components, Inc. Electrical devices with solder dam
US9647363B2 (en) * 2014-09-19 2017-05-09 Intel Corporation Techniques and configurations to control movement and position of surface mounted electrical devices
KR102029493B1 (ko) * 2014-09-29 2019-10-07 삼성전기주식회사 적층 세라믹 커패시터 및 그 실장 기판
US10074590B1 (en) * 2017-07-02 2018-09-11 Infineon Technologies Ag Molded package with chip carrier comprising brazed electrically conductive layers
DE112019002333T5 (de) * 2018-05-09 2021-01-21 Mitsubishi Electric Corporation Leistungshalbleitermodul, Verfahren zum Herstellen desselben und Leistungswandlungsvorrichtung
FR3092453A1 (fr) 2019-01-31 2020-08-07 Valeo Equipements Electriques Moteur Module électronique de puissance, convertisseur de tension et système électrique
CN112448561B (zh) * 2019-08-30 2022-04-15 台达电子企业管理(上海)有限公司 电源模块及电源模块的制备方法
FR3117267B1 (fr) * 2020-12-04 2023-03-03 St Microelectronics Alps Sas Puce électronique
US11495549B2 (en) 2021-02-25 2022-11-08 Texas Instruments Incorporated Electronic device with crack arrest structure
TWI863473B (zh) * 2023-08-01 2024-11-21 信容科技股份有限公司 具有內置式引線的小型化電容器

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5972757A (ja) 1982-10-20 1984-04-24 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH11238963A (ja) * 1998-02-21 1999-08-31 Mitsui High Tec Inc 電子部品の面実装方法及びその実装構造体
JP2002076605A (ja) * 2000-06-12 2002-03-15 Hitachi Ltd 半導体モジュール及び半導体装置を接続した回路基板
JP2004031768A (ja) * 2002-06-27 2004-01-29 Denso Corp 電子装置の実装方法
JP2006324629A (ja) * 2005-04-21 2006-11-30 Denso Corp 電子部品の実装構造およびその実装方法
JP2009032865A (ja) * 2007-07-26 2009-02-12 Hitachi Ltd 電子装置及び電子装置の製造方法
JP2011003818A (ja) * 2009-06-22 2011-01-06 Denso Corp モールドパッケージ
JP2012164796A (ja) * 2011-02-07 2012-08-30 Mitsubishi Electric Corp パワー半導体装置

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01276655A (ja) * 1988-04-27 1989-11-07 Japan Radio Co Ltd トランスファーモールド型集積回路
JPH03220712A (ja) * 1990-01-25 1991-09-27 Nec Corp ワイヤボンディング構造体
JPH06232332A (ja) * 1993-02-08 1994-08-19 Hitachi Ltd 半導体装置
JPH08203771A (ja) * 1995-01-27 1996-08-09 Murata Mfg Co Ltd セラミック電子部品
JPH0936298A (ja) * 1995-07-25 1997-02-07 Denso Corp リードフレーム
JP2000133909A (ja) 1998-10-22 2000-05-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd チップコンデンサのプリント配線基板実装構造
JP3376970B2 (ja) * 1999-09-08 2003-02-17 株式会社村田製作所 セラミック電子部品
JP3376971B2 (ja) * 1999-09-09 2003-02-17 株式会社村田製作所 セラミック電子部品
KR100398716B1 (ko) 2000-06-12 2003-09-19 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 반도체 모듈 및 반도체 장치를 접속한 회로 기판
JP2002057064A (ja) 2000-08-11 2002-02-22 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミック電子部品
JP2002232110A (ja) 2001-02-02 2002-08-16 Tohoku Pioneer Corp 積層セラミックコンデンサを実装した回路基板
JP4923367B2 (ja) * 2001-09-13 2012-04-25 株式会社デンソー 電気素子の実装構造
JP2003243595A (ja) 2002-02-19 2003-08-29 New Japan Radio Co Ltd 受動部品内蔵型半導体装置
JP4296472B2 (ja) 2002-10-31 2009-07-15 ソニー株式会社 情報処理装置及び電源回路
JP2004179568A (ja) 2002-11-29 2004-06-24 Kyocera Corp 積層セラミック部品の製造方法
JP2004296936A (ja) * 2003-03-27 2004-10-21 Kyocera Corp セラミック電子部品
JP2006032774A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Denso Corp 電子装置
US6917510B1 (en) * 2004-10-27 2005-07-12 Kemet Corporation Extended terminal ceramic SMD
JP4046120B2 (ja) 2005-01-27 2008-02-13 三菱電機株式会社 絶縁シートの製造方法およびパワーモジュールの製造方法
JP4640214B2 (ja) * 2006-02-28 2011-03-02 株式会社デンソー 電子部品の接続構造
CN101454852B (zh) 2006-06-28 2011-03-23 株式会社村田制作所 陶瓷电子部件及其制造方法
JP4803451B2 (ja) * 2006-12-26 2011-10-26 Tdk株式会社 電子部品及びその実装構造
JP2009059888A (ja) 2007-08-31 2009-03-19 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミックコンデンサ
JP5163069B2 (ja) * 2007-11-20 2013-03-13 株式会社デンソー 半導体装置
JP2009238923A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Toyota Industries Corp 電子機器
JP5099243B2 (ja) * 2010-04-14 2012-12-19 株式会社デンソー 半導体モジュール
AU2011303259B2 (en) * 2010-09-15 2014-08-14 Mitsubishi Electric Corporation Power conversion device, motor containing same, air conditioner containing motor, and ventilation fan containing motor
JP5162685B2 (ja) 2011-02-17 2013-03-13 三菱電機株式会社 Dc/dc電圧変換装置
JPWO2012114818A1 (ja) * 2011-02-23 2014-07-07 株式会社村田製作所 セラミック電子部品、及びセラミック電子部品の設計方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5972757A (ja) 1982-10-20 1984-04-24 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH11238963A (ja) * 1998-02-21 1999-08-31 Mitsui High Tec Inc 電子部品の面実装方法及びその実装構造体
JP2002076605A (ja) * 2000-06-12 2002-03-15 Hitachi Ltd 半導体モジュール及び半導体装置を接続した回路基板
JP2004031768A (ja) * 2002-06-27 2004-01-29 Denso Corp 電子装置の実装方法
JP2006324629A (ja) * 2005-04-21 2006-11-30 Denso Corp 電子部品の実装構造およびその実装方法
JP2009032865A (ja) * 2007-07-26 2009-02-12 Hitachi Ltd 電子装置及び電子装置の製造方法
JP2011003818A (ja) * 2009-06-22 2011-01-06 Denso Corp モールドパッケージ
JP2012164796A (ja) * 2011-02-07 2012-08-30 Mitsubishi Electric Corp パワー半導体装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2894952A1

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3012861A1 (de) * 2014-10-21 2016-04-27 Robert Bosch Gmbh Schaltungsanordnung und leistungsmodul
JP2017203709A (ja) * 2016-05-12 2017-11-16 株式会社東海理化電機製作所 モジュール及びその製造方法
JP2018032670A (ja) * 2016-08-22 2018-03-01 Koa株式会社 チップ部品、チップ部品の実装構造、チップ抵抗器の製造方法
US12142438B2 (en) 2016-09-23 2024-11-12 Tdk Corporation Electronic component and electronic component device
JP2018049999A (ja) * 2016-09-23 2018-03-29 Tdk株式会社 電子部品及び電子部品装置
US11264172B2 (en) 2016-09-23 2022-03-01 Tdk Corporation Electronic component and electronic component device
CN112863874B (zh) * 2016-09-23 2023-02-03 Tdk株式会社 电子部件和电子部件装置
US11594378B2 (en) 2016-09-23 2023-02-28 Tdk Corporation Electronic component and electronic component device
CN112863874A (zh) * 2016-09-23 2021-05-28 Tdk株式会社 电子部件和电子部件装置
US11763996B2 (en) 2016-09-23 2023-09-19 Tdk Corporation Electronic component and electronic component device
JP2019047091A (ja) * 2017-09-07 2019-03-22 Tdk株式会社 電子部品
JP2019047092A (ja) * 2017-09-07 2019-03-22 Tdk株式会社 電子部品
JP2019050278A (ja) * 2017-09-08 2019-03-28 Tdk株式会社 電子部品及び電子部品装置
JP2019067787A (ja) * 2017-09-28 2019-04-25 Tdk株式会社 電子部品
JP7003541B2 (ja) 2017-09-28 2022-01-20 Tdk株式会社 電子部品及び電子部品装置
JP2019083254A (ja) * 2017-10-30 2019-05-30 Tdk株式会社 電子部品
JP2019083252A (ja) * 2017-10-30 2019-05-30 Tdk株式会社 電子部品
JP2019083253A (ja) * 2017-10-30 2019-05-30 Tdk株式会社 電子部品及び電子部品装置
JP7040534B2 (ja) 2017-12-29 2022-03-23 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサ、積層セラミックコンデンサの実装構造体および電子部品連
JPWO2019132017A1 (ja) * 2017-12-29 2020-12-17 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサ、積層セラミックコンデンサの実装構造体および電子部品連
JP7166464B2 (ja) 2019-07-30 2022-11-07 三菱電機株式会社 チップ部品、チップ部品の製造方法、および電子機器の製造方法
JPWO2021019867A1 (ja) * 2019-07-30 2021-02-04
JP2022012428A (ja) * 2020-07-01 2022-01-17 株式会社オートネットワーク技術研究所 回路構成体
WO2022004332A1 (ja) * 2020-07-01 2022-01-06 株式会社オートネットワーク技術研究所 回路構成体
JP7528573B2 (ja) 2020-07-01 2024-08-06 株式会社オートネットワーク技術研究所 回路構成体

Also Published As

Publication number Publication date
US20150287670A1 (en) 2015-10-08
JP5989124B2 (ja) 2016-09-07
CN104604344B (zh) 2019-04-16
JPWO2014038066A1 (ja) 2016-08-08
EP2894952A1 (en) 2015-07-15
US9620444B2 (en) 2017-04-11
CN104604344A (zh) 2015-05-06
EP2894952A4 (en) 2017-01-25
EP2894952B1 (en) 2018-06-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5989124B2 (ja) パワー半導体装置
US9171773B2 (en) Semiconductor device
CN109727960B (zh) 半导体模块、其制造方法以及电力变换装置
JP6945418B2 (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
US9572291B2 (en) Semiconductor device and method for manufacturing same
EP4203010B1 (en) Power module, converter, and electronic device
CN104637832B (zh) 半导体装置及其制造方法
CN112074954B (zh) 功率半导体模块及其制造方法以及电力变换装置
US12218018B2 (en) Semiconductor encapsulant strength enhancer
JP2011119489A (ja) 半導体パッケージおよびその製造方法
CN110880488B (zh) 半导体装置及电力转换装置
CN109997221A (zh) 半导体装置、控制装置以及半导体装置的制造方法
JP2016197677A (ja) パワー半導体装置および車載用回転電機の駆動装置
CN108735614B (zh) 半导体装置及半导体装置的制造方法
CN117438386A (zh) 半导体装置、半导体装置的制造方法及电力转换装置
JP6870249B2 (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
CN111276448B (zh) 半导体装置及电力转换装置
KR102371636B1 (ko) 양면 기판 반도체 제조 방법
JP2013135161A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2013157398A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2004048084A (ja) 半導体パワーモジュール
JP4861200B2 (ja) パワーモジュール
WO2013157172A1 (ja) 半導体パッケージ及びその製造方法、半導体モジュール、並びに半導体装置
WO2017086248A1 (ja) 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法
JP2021077661A (ja) 半導体パワーモジュール

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12884280

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2014534126

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14402538

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2012884280

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE