WO2025242510A1 - Verfahren zum betreiben eines festkörperaktuators in einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage, adaptives optisches element und projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

Verfahren zum betreiben eines festkörperaktuators in einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage, adaptives optisches element und projektionsbelichtungsanlage

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WO2025242510A1
WO2025242510A1 PCT/EP2025/063253 EP2025063253W WO2025242510A1 WO 2025242510 A1 WO2025242510 A1 WO 2025242510A1 EP 2025063253 W EP2025063253 W EP 2025063253W WO 2025242510 A1 WO2025242510 A1 WO 2025242510A1
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WO
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solid
charge
voltage
weighting
state actuator
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PCT/EP2025/063253
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Markus Raab
Eike Oliver Schaefer-Nolte
Cornelius RICHT
Stefan BAUEREGGER
Maximilian LODERER
Elena ROMMEL
Tien Luc LE
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Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
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Publication date
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    • H02N2/06—Drive circuits; Control arrangements or methods
    • H02N2/062—Small signal circuits; Means for controlling position or derived quantities, e.g. for removing hysteresis
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    • G03F7/70216—Mask projection systems
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    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70525—Controlling normal operating mode, e.g. matching different apparatus, remote control or prediction of failure

Definitions

  • the invention relates to a method for operating at least one solid-state actuator of an optical element or an adaptive optical element, in particular for adjusting and/or deforming an optical element and/or its surface.
  • the invention further relates to an adaptive optical element for a lithography system, in particular for a microlithographic projection exposure system, comprising at least one solid-state actuator for adjusting or changing an optical surface of the optical element, wherein the solid-state actuator comprises a dielectric medium that is deformable by means of an electric field, and electrodes for generating the electric field in the dielectric medium by applying an electrical operating voltage, comprising at least one measuring device configured to measure an electric charge and a voltage present on the electrodes when the operating voltage is applied, and a control unit.
  • the invention further relates to a projection exposure system.
  • Projection exposure systems are used to create extremely fine structures, particularly on semiconductor devices or other microstructured components.
  • the operating principle of these systems is based on the creation of ultra-fine structures down to the nanometer range by means of a generally reduced-size projection of structures onto a mask, a so-called reticle, onto a wafer, which is coated with photosensitive material.
  • the minimum dimensions of the generated structures depend directly on the wavelength of the light used. This light is shaped in an illumination optic to optimally illuminate the reticle.
  • light sources with emission wavelengths in the nanometer range for example between 1 nm and 120 nm, have been increasingly used, particularly in...
  • the wavelength range of 13.5 nm is used.
  • the described wavelength range is also referred to as the EUV range.
  • the microstructured components are manufactured not only using EUV systems but also with established DUV systems with wavelengths between 100 nm and 400 nm, particularly 193 nm. With the increasing demand for ever smaller structures, the requirements for optical correction in these systems have also risen.
  • the optical elements of the microlithographic projection exposure system such as lenses or mirrors, are adjusted, positioned, or their active surface is deformed by means of actuators.
  • These actuators are preferably solid-state actuators, which, according to the present invention, are electrostrictive or piezoelectric actuators.
  • the solid-state actuators are attached to the optical element, particularly to its back surface, and can actuate either perpendicular to or parallel to the surface. By controlling each individual actuator, the position or profile of the mirror can be precisely adjusted.
  • actuation behavior which can generally be categorized as aging effects, can lead to large and increasing actuation errors over the service life of the solid-state actuator.
  • the actuation behavior of the solid-state actuator changes over time when it is operated at a setpoint voltage for an extended period (burn-in).
  • the resulting change in the slope of the stress-strain curve is called the gain-dip effect. Since these changes can occur very locally, they can be particularly well observed in the The first derivative of the strain of the solid actuator can be identified via the stress.
  • the problem relating to the method is solved by a method having the features of claim 1.
  • the problem relating to the adaptive optical element is solved by an adaptive optical element having the features of claim 16, and the problem relating to the projection exposure system is solved by a projection exposure system having the features of claim 19.
  • Advantageous embodiments with expedient further developments are specified in the dependent claims.
  • the inventive method for operating an adaptive optical element with at least one solid-state actuator comprises at least the following steps:
  • the actual strain of the solid-state actuator can be detected and controlled by means of a feedback control system, whereby the control system, i.e., the determination of the controlled variable, takes into account both the detected charge and the detected voltage.
  • the control system i.e., the determination of the controlled variable
  • the displacement i.e., strain of the solid-state actuator
  • a calibration curve exhibiting a charge-strain correlation can be generated, particularly before carrying out the method.
  • a stress-strain correlation can also be created as an additional correlation curve.
  • the strain of the solid-state actuator can be determined by measuring the stress and charge.
  • a control unit can be set up to maintain the determined strain at the setpoint using the controlled variable and, if the measured strain deviates from the setpoint, to take appropriate measures to bring the setpoint strain into line with the actual strain, for example, by adjusting the operating voltage of a voltage generator using a control signal based on the controlled variable.
  • the measuring device includes at least one measuring capacitor and is configured to determine the electrical charge on the electrodes by measuring the voltage.
  • the measuring device includes a voltage measuring unit, which is configured to perform the voltage measurement at the measuring capacitor.
  • the measuring device is specifically designed as a Sawyer tower circuit.
  • the measuring device is specifically configured to repeatedly, and in particular continuously, measure the charge and/or voltage.
  • the procedure can include steps whereby an optical surface of the adaptive optical element is adjusted or locally deformed by means of the stretching of the solid actuator.
  • the weighting value is adjusted to the operating time of the solid-state actuator or the occurrence of an event.
  • the two weightings can be temporarily equal.
  • the values of the two weightings differ.
  • the values of the two weightings can change over the operating time of the solid-state actuator, or the weighting values can change only intermittently, i.e., temporarily at a predetermined or predeterminable time and/or period.
  • the weighting values can behave periodically or repeatedly; that is, in a first period, the weighting values are initial values, and in at least a second period, the weighting values are second values that differ from the initial values, with the first and second periods alternating.
  • one weighting is at least temporarily less than 10%, preferably less than 5%, and most preferably less than 2%.
  • the weightings can also be temporarily 0%.
  • the value of the first weighting is greater than the value of the second weighting until a predetermined or predetermined time or the occurrence of an event, and that the value of the second weighting is at least temporarily greater than the value of the first weighting from the predetermined or predetermined time or the occurrence of the event.
  • the value of one weighting is at least 60%, preferably at least 70%, and most preferably at least 80%.
  • the values of the first and second weightings can exhibit a sudden, step-like progression, or a continuous progression. Furthermore, the value of the first weighting can temporarily decrease, only to then increase again at at least one predetermined or predictable time, or after the occurrence of a specific event. to increase with each event or to rise abruptly to a value of over 50%, preferably over 70%, and most preferably over 80%. The value of the first weighting can then decrease again – preferably continuously. In particular, it is advantageous if the value of the first weighting decreases at least temporarily by the amount by which the value of the second weighting increases. This takes into account the surprising finding that control via charge exhibits lower control errors than control via a detected voltage over short operating times/durations, while control via charge can exhibit a larger control error than control via a detected voltage over longer operating durations.
  • a new reference point for the control system at a predetermined or predefinable time or upon the occurrence of an event.
  • This new reference point is based predominantly or exclusively on the measured voltage, and the control system is then referenced to this new reference point using the measured charge.
  • the system references the voltage measured at that time. This means that the measured voltage signal is considered error-free, and the determination of the controlled variable is temporarily or at a predetermined time based solely on the measured voltage.
  • the charge is measured again and defined as the new charge reference point. This means that the control error is set to zero at this charge level.
  • the first weighting is greater than the second weighting when determining the controlled variable, or if the controlled variable is determined exclusively by means of the recorded charge.
  • the procedure preferably includes the following steps:
  • the reference operating point can be higher or lower than the operating point. These process steps shift the operating point such that hysteresis, gain dip, and creep effects are at least reduced.
  • the solid-state actuator method ensures that the charge-strain correlation of the new operating point corresponds to that of the old operating point.
  • aging effects include effects such as hysteresis, creep, and gain dip.
  • the procedure includes the following steps:
  • a recalibration is performed by moving the solid-state actuator according to a predetermined or specifiable calibration signal, during which the charge and voltage are determined using the measuring device.
  • the calibration signal is particularly preferably an oscillating signal, especially a trigonometric signal.
  • the charge and voltage are determined by the measuring device and compared with stored or storeable target values as a disturbance observer.
  • the event is a wafer exchange or the end of an exposure time.
  • the method according to the invention can be used in particular for controlling a solid-state actuator configured to adjust a mirror.
  • the adaptive optical element is characterized in particular by the fact that the control unit is configured to control the at least one solid-state actuator by means of a control variable that takes into account the detected charge with at least a first weighting and the detected voltage with a second weighting.
  • the adaptive optical element is specifically configured to carry out the method for operating a solid-state actuator.
  • the adaptive optical element can also be designed as an optical element, the at least one of which has a solid-state actuator configured to adjust the optical element.
  • the control unit is configured to determine the displacement, i.e., strain, of the solid-state actuator and compare it to the setpoint as the controlled variable, maintaining it at the setpoint. If necessary, if the measured strain deviates from the setpoint, a manipulated variable or correction variable based on the controlled variable can, for example, regulate a voltage generator that sets an operating voltage.
  • the measuring device includes at least one measuring capacitor and is configured to determine the electrical charge on the electrodes by measuring the voltage.
  • the measuring device includes a voltage measuring unit configured to perform the voltage measurement across the measuring capacitor.
  • the measuring device is specifically designed as a Sawyer tower switching device. A circle is formed.
  • a measuring device suitable for the method and the adaptive element is described in German patent application DE 10 2023 202 040.8, which is hereby fully incorporated into the present disclosure.
  • the value of the weights is adjusted to the operating time of the solid-state actuator and/or the occurrence of an event, such as a wafer exchange or the end of an exposure time.
  • control unit includes a crossover network configured to reduce the value of the first weight by the increase in the value of the second weight.
  • the crossover network can be configured as a high-pass and a low-pass filter.
  • the low-pass filter is configured to reduce or suppress the weight value at times earlier than a predetermined or predefined time, while the high-pass filter is configured to reduce or suppress the weight value from the predetermined or predefined time onward, or upon the occurrence of an event.
  • the invention further relates to a projection exposure system with at least one adaptive element according to the invention.
  • the invention that is, the method according to the invention and the adaptive optical element, can also be used in a lithography system, in a lighting system for a lithography system, in particular a microlithography system, or in a projection lens for a lithography system, in particular a microlithography system.
  • Figure 1a shows a schematic representation of a microlithographic projection exposure system designed for operation in the EUV
  • Figure 1b shows a schematic representation of a microlithographic projection exposure system designed for operation in DUV
  • Figure 2 shows a first schematic representation of the process
  • FIG. 3 shows a second schematic representation of the process
  • Figure 4 shows a third schematic representation of the process.
  • Figure 5 shows a fourth schematic representation of the process
  • Figure 6 shows a fifth schematic representation of the process.
  • Figure 1a shows a schematic representation of an exemplary projection exposure system 600 designed for operation in the EUV, in which the present invention can be implemented.
  • a lighting device in a projection exposure system 600 designed for EUV has a field facet mirror 603 and a pupil facet mirror 604.
  • the light from a light source unit which comprises a plasma light source 601 and a collector mirror 602, is directed onto the field facet mirror 603.
  • a first telescope mirror 605 and a second telescope mirror 606 are arranged.
  • a deflecting mirror 607 which directs the incident radiation onto an object field in the object plane of a projection lens comprising six mirrors 651-656.
  • a reflective A structure-bearing mask 621 is arranged on a mask table 620, which is imaged into an image plane by means of the projection lens.
  • a substrate 661 coated with a photosensitive layer (photoresist) is located on a wafer table 660.
  • One or more of the mirrors of the EUV-designed projection exposure system 600 can be formed as the (adaptive) optical element 100 according to the invention.
  • the invention can also be used in a DUV system, as shown in Figure 1b.
  • a DUV system is fundamentally constructed like the EUV system described above in Figure 1a, except that mirrors and lenses can be used as optical elements in a DUV system, and the light source of a DUV system emits useful radiation in a wavelength range of 100 nm to 400 nm.
  • the DUV lithography system 700 shown in Figure 1b has a DUV light source 701.
  • a DUV light source 701 for example, an ArF excimer laser can be used as the DUV light source 701, which emits radiation 702 in the DUV range at, for example, 193 nm.
  • a beam shaping and illumination system 703 directs the DUV radiation 702 onto a photomask 704.
  • the photomask 704 is designed as a transmissive optical element and can be arranged outside the systems 703.
  • the photomask 704 has a structure which is reduced in size and projected onto a wafer 706 or the like by means of the projection system 705.
  • the projection system 705 has several lenses 707 and/or mirrors 708 for imaging the photomask 704 onto the wafer 706.
  • Individual lenses 707 and/or mirrors 708 of the projection system 705 can be arranged symmetrically to the optical axis 709 of the projection system 705. It should be noted that the number of lenses 707 and mirrors 708 of the DUV lithography system 700 is not limited to the number shown. More or fewer lenses 707 and/or mirrors 708 may be provided.
  • the beam shaping and illumination system 703 of the DUV lithography system 700 has several lenses 707 and/or mirrors 708.
  • the mirrors are typically curved on their front surface for beam shaping.
  • An air gap 710 between the last lens 707 and the wafer 706 can be replaced by a liquid medium having a refractive index > 1.
  • the liquid medium can, for example, be... It must be highly purified water.
  • Such a setup is also known as immersion lithography and exhibits increased photolithographic resolution.
  • Figure 2 shows a schematic representation of a control loop 103 for operating at least one solid-state actuator 100 of an (adaptive) optical element.
  • the solid-state actuator 100 is moved to an operating voltage 101.
  • a setpoint 102 for a strain of the solid-state actuator 100 is requested, and the solid-state actuator 100 is moved within the control loop 103 according to the setpoint 102.
  • a charge and a voltage measurement applied to the electrodes of the solid-state actuator are performed using a measuring device 108.
  • the charge C and the voltage U are measured repeatedly, and in particular continuously.
  • the strain of the solid-state actuator 100 is controlled by a control unit 104, whereby a controlled variable Stot is determined, which in this case is a strain.
  • the measured charge is weighted Gi in the first control variable Gi, and the measured voltage is weighted G2 in the second control variable G2.
  • the measured voltage and charge are each converted into a charge-based polarization Pc and a voltage-based polarization Pu, respectively, which, with weights G1 and G2, contribute to a total polarization Ptot.
  • the resulting total polarization is, in turn, proportional to the controlled variable Stot, i.e., the strain of the solid actuator 100.
  • a calibration curve can preferably be created that exhibits a charge-strain correlation.
  • a stress-strain correlation is created as an additional correlation curve.
  • the strain of the solid-state actuator 100 can be determined by measuring the stress and charge.
  • the control unit 104 is configured to maintain the determined strain at the setpoint using the control variable Stot.
  • the control unit 104 is prompted to take action if the detected strain deviates from the setpoint 102 by a predetermined or predefinable value, in order to bring the setpoint strain into conformity with the actual strain.
  • a voltage generator 109 can be prompted to generate a control signal based on the control variable Stot.
  • the control unit 104 includes a conversion specification for determining a target operating voltage Uo from the specified target strain 101.
  • the at least one solid-state actuator 100 has a dielectric medium which can be deformed by means of an electric field, as well as electrodes for generating the electric field in the dielectric medium by applying an electrical operating voltage.
  • FIG. 2 also shows an embodiment of a measuring device 108 that may be used to carry out the method.
  • the measuring device 108 is configured as a Sawyer tower circuit.
  • the electrodes of the at least one solid-state actuator are connected to the voltage generator 109.
  • the measuring device 108 is preferably connected between the solid-state actuator 100 and the voltage generator 109.
  • the measuring device 108 includes at least one measuring capacitor CM and is configured to determine the electrical charge on the electrodes by measuring the voltage.
  • the measuring device 108 includes a voltage measuring unit 110, which is configured to perform the voltage measurement at the measuring capacitor CM, i.e., to detect the voltage drop UM ZU across the measuring capacitor CM.
  • An ohmic resistor RM can be connected in parallel with the measuring capacitor CM.
  • another ohmic resistor RA also referred to as a shunt resistor, can be connected in parallel with the electrode arrangement of the solid-state actuator 100.
  • the measuring voltage UM corresponds to the difference between the operating voltage Uo and an actuator voltage UA.
  • the measuring device is also configured to use the voltage drop UM across the measuring capacitor CM to determine the electric charge Q. This charge corresponds to the charge present on the electrodes of the solid-state actuator when the actuator voltage UA is applied.
  • the measuring device 108 can also be connected downstream of the solid-state actuator 100, i.e., between ground and one of the electrodes.
  • the measuring device 108 is specifically designed to repeatedly, and in particular continuously, detect the charge and/or voltage.
  • the charge QM determined by measuring device 108 is converted into a strain S of the solid-state actuator.
  • the charge QM is converted into the polarization Pc on the electrodes.
  • Pc is proportional to QM.
  • the proportionality constant can be determined by suitable calibration or by model-based calculation.
  • the strain is then calculated from the determined polarization P, where the strain S is proportional to the square of the polarization (S ⁇ P2 ).
  • the determined voltage UM is also converted into a polarization Pu on the electrodes.
  • the polarization Pc contributes to the total polarization Ptot with the first weighting Gi, and the polarization Pu contributes to the second weighting G2.
  • the strain is then calculated from the polarization Ptot thus determined, where the strain S is proportional to the square of the polarization (S ⁇ P2 ).
  • the proportionality constant can be determined by suitable calibration
  • the values of the weights GI, G2 are preferably adapted to the operating time of the solid-state actuator 100 or to the occurrence of an event (for example, a wafer change).
  • the two weights GI, G2 can be temporarily equal.
  • the values of the two weights GI, G2 differ.
  • the values of the two weights GI, G2 can change over the operating time of the solid-state actuator 100, or the values of the weights GI, G2 can change only intermittently, i.e., temporarily, especially at a predetermined or predeterminable time and/or period.
  • the values of the weights GI, G2 can behave periodically or repeatedly, that is, in a first period, the values of the weights GI, G2 are initial values, and in at least a second period, the values of the weights GI, G2 are second values that differ from the initial values, with the first and second periods alternating.
  • the value of one weighting GI,G2 is at least temporarily less than 10%, preferably less than 5%, and most preferably less than 2%.
  • the weightings GI,G2 can also temporarily be 0%.
  • the value of the first weighting G1 is greater than the value of the second weighting G2 until a predetermined or predeterminable time or the occurrence of an event.
  • the value of the second weighting G2 is, at least temporarily, greater than the value of the first weighting Gi from the specified or specifiable time or the occurrence of the event.
  • the value of the first weighting GI ,G2 is at least 60%, preferably at least 70%, and most preferably at least 80%.
  • the values of the first and second weights GI,G2 can exhibit a discontinuous, step-like, or continuous profile. Furthermore, the value of the first weight GI can temporarily decrease, then increase at at least one predetermined or predeterminable time or after the occurrence of an event, or increase abruptly to a value exceeding 50%, preferably exceeding 70%, and most preferably exceeding 80%. The value of the first weight GI can subsequently decrease again—preferably continuously. In particular, the value of the first weight GI,G2 can decrease at least temporarily by the same amount by which the value of the second weight GI increases.
  • the controlled variable Stot is initially determined exclusively by charge measurement (i.e., by means of Pc) until a predetermined or predeterminable time or the occurrence of an event. Upon the occurrence of the time or event, the controlled variable Stot is determined exclusively by voltage measurement (i.e., Pu).
  • control via charging has lower control errors than control via a detected voltage for short operating times/durations, while control via charging can have a larger control error than control via the detected voltage for longer operating times.
  • control unit 104 can also include a crossover network configured to reduce the value of the first weighting Gi by the increase in the value of the second weighting G2ZU.
  • the crossover network can be configured as a high-pass filter 111 and a low-pass filter 112.
  • the method according to Figure 4 differs in that, in addition to at least one predetermined or predefinable time or the occurrence of an event, a new reference point 105 is defined for the control, which is based predominantly or exclusively on the determined voltage, and that the control is referenced to the new reference point 105 using the detected charge.
  • a predetermined or predefinable time or the occurrence of an event for example, a wafer exchange
  • the reference is therefore made to the voltage detected at that time.
  • the detected voltage signal is considered error-free and the determination of the controlled variable is temporarily or at a predetermined time based exclusively on the detected voltage.
  • the charge is again detected and defined as the new charge reference point. That is, the control error is set to zero at this charge.
  • the first weighting G1 is greater than the second weighting G2.
  • the controlled variable is determined exclusively using the detected charge Pc.
  • a new voltage-based reference point 105 is regularly referenced over the operating lifetime of the solid-state actuator 100. This reduces the control error for the charge-based control even for longer operating lifetimes.
  • the method according to Figure 5 differs by the following additional process steps, whereby at least one predetermined or predeterminable event or time, the solid-state actuator is moved by means of a calibration signal 106, preferably by means of an oscillating, in particular trigonometric, calibration signal 106, and the charge and voltage are thereby recorded by means of the measuring device 108.
  • the charges and voltages thus recorded are used as an additional quantity 107 in the determination of the controlled variable Stot. This is taken into account.
  • a recalibration is performed by moving the solid-state actuator 100 according to a predetermined or specifiable calibration signal, during which the charge and voltage are determined using the measuring device.
  • Figure 6 shows a further embodiment of the method.
  • the method preferably comprises the following steps:
  • the reference operating point 101b can be larger or smaller than the operating point 101a. Using these process steps, the operating point 101 is shifted such that hysteresis, gain dip, and creep effects are at least reduced compared to the first operating point.
  • the solid-state actuator 100 process ensures that the charge-strain correlation of the new operating point 101c corresponds to that of the old operating point 101a, i.e., it is free of aging effects.
  • the reference operating point 101b is selected within a voltage range that is free of aging and/or drift effects.
  • the effects of aging include, in this case, effects such as hysteresis, creep, or gain dip.
  • the charge and voltage can be determined using the measuring device and compared with stored or storeable target values as a disturbance observer.
  • the method is preferably used to control a solid-state actuator 100 of an optical element in a lithography system, preferably an adaptive optical element.
  • the event is a wafer exchange or the end of the exposure time.
  • the solid-state actuator 100 can adjust an optical element and/or deform its surface, at least locally.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben mindestens eines Festkörperaktuators (100) eines optischen Elementes umfassend die Schritte: - Verfahren des Festkörperaktuators (100) auf eine Arbeitsspannung (101) - Anfordern einer Sollgröße (102) für eine Dehnung des Festkörperaktuators (100), - Verfahren des Festkörperaktuators (100) gemäß der Sollgröße (102) innerhalb eines Regelkreises (103), - Durchführen einer Ladungs- und einer Spannungsmessung, welche an den Elektroden des Festkörperaktuators (100) anliegt mittels einer Messeinrichtung (108) und - Regeln der Dehnung s des Festkörperaktuators (100) durch Ermitteln einer Regelgröße Stot der Dehnung basierend auf der erfassten Ladung und der erfassten Spannung, wobei die erfasste Ladung mit einer ersten Gewichtung G1 und die erfasste Spannung mit einer zweiten Gewichtung G2 in die Ermittlung der Regelgröße Stot eingeht. Die Erfindung betrifft darüber hinaus ein adaptives optisches Element und eine Projektionsbelichtungsanlage.

Description

Verfahren zum Betreiben eines Festkörperaktuators in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, adaptives optisches Element und Projektionsbelichtungsanlage
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben mindestens eines Festkörperaktuators eines optischen Elementes oder eines adaptiven optischen Elementes, insbesondere zum Verstellen und/oder deformieren eines optischen Elementes und/oder seiner Oberfläche. Die Erfindung betrifft darüber hinaus ein adaptives optisches Element für eine Lithographieanlage, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Festkörperaktuator zur Verstellung oder Veränderung einer optischen Oberfläche des optischen Elements, wobei der Festkörperaktuator ein dielektrisches Medium aufweist, welches mittels eines elektrischen Feldes deformierbar ist, sowie Elektroden zur Erzeugen des elektrischen Feldes im dielektrischen Medium durch Anlegen einer elektrischen Arbeitsspannung aufweist, mit mindestens einer Messeinrichtung, welche konfiguriert ist eine elektrische Ladung und eine Spannung zu messen, welche sich beim Anlegen der Arbeitsspannung auf den Elektroden befindet, sowie mit einer Regeleinheit. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage.
Projektionsbelichtungsanlagen werden zur Erzeugung feinster Strukturen, insbesondere auf Halbleiterbauelementen oder anderen mikrostrukturierten Bauteilen verwendet. Das Funktionsprinzip der genannten Anlagen beruht dabei darauf, mittels einer in der Regel verkleinernden Abbildung von Strukturen auf einer Maske, einem sogenannten Retikel, auf einem mit photosensitivem Material versehenen zu strukturierenden Element, einem sogenannten Wafer, feinste Strukturen bis in den Nanometerbereich zu erzeugen. Die minimalen Abmessungen der erzeugten Strukturen hängen dabei direkt von der Wellenlänge des verwendeten Lichts ab. Dieses wird zur optimalen Ausleuchtung des Retikels in einer Beleuchtungsoptik geformt. In jüngerer Zeit werden vermehrt Lichtquellen mit einer Emissionswellenlänge im Bereich weniger Nanometer, beispielsweise zwischen 1 nm und 120 nm, insbesondere im Bereich von 13,5 nm verwendet. Der beschriebene Wellenlängenbereich wird auch als EUV-Bereich bezeichnet.
Die mikrostrukturierten Bauteile werden außer mit im EUV-Bereich arbeitenden Systemen auch mit den im Markt etablierten DUV-Systemen mit einer Wellenlänge zwischen 100 nm und 400 nm, insbesondere von 193 nm hergestellt. Mit der Anforderung immer kleinere Strukturen herstellen zu können, sind auch die Anforderungen an die optische Korrektur in den Systemen weiter gestiegen. Zur Reduzierung von Abbildungsfehler werden die optischen Elemente der mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, also beispielsweise die Linsen oder die Spiegel, mittels Aktuatoren verstellt, positioniert oder ihre aktive Oberfläche deformiert. Die Aktuatoren sind dabei bevorzugt als Festkörperaktuatoren gebildet, wobei Festkörperaktuatoren im Sinne der vorliegenden Erfindung elektrostriktive oder piezoelektrische Aktuatoren sind. Die Festkörperaktuatoren sind dabei an dem optischen Element, insbesondere an dessen Rückseite, befestigt, wobei die Aktuatoren flächennormal oder flächenparallel aktuieren können. Durch die Ansteuerung jedes einzelnen Aktuators kann gezielt die Position oder das Profil des Spiegels eingestellt werden.
Bei der Steuerung der Festkörperaktuatoren kann es zu Abweichungen zwischen der vorgegebenen oder gewünschten Dehnung (Sollwert) und der tatsächlichen Dehnung unter anderem aufgrund von Hysterese- und Kriech und Drifteffekten (engl. creep) kommen. Dabei werden insbesondere bei der Anwendung einer Vorsteuerung (engl. feed forward) hohe Anforderungen an die Genauigkeit gestellt, so dass eine Steuerung des mindestens einen Festkörperaktuators mittels Vorsteuerung eine große Herausforderung darstellt.
Zusätzlich können auch zeitliche Änderungen des Aktuationsverhaltens, die allgemein als Alterungseffekte kategorisiert werden können, zu großen und über die Lebensdauer des Festkörperaktuators anwachsende Stellfehlem führen. Dabei verändert sich das Aktuationsverhalten des Festkörperaktuators über die Zeit, wenn dieser über eine längere Zeit bei einer Sollspannung, also bei einem Arbeitspunkt (engl. setpoint) betrieben wird (Einbrennen). Die dadurch hervorgerufene Änderung der Steigung der Spannungs-Dehnungs-Kurve wird als gain-dip Effekt bezeichnet. Da diese Veränderungen sehr lokal auftreten kann, kann diese besonders gut in der ersten Ableitung der Dehnung des Festkörperaktuators über die Spannung erkannt werden.
Neben einer feed-forward Steuerung ist es auch möglich, den mindestens einen Festkörperaktuator alternativ oder zusätzlich mittels der Messung der auf den Elektroden bei Anliegen der Arbeitsspannung befindlichen Ladung zu regeln. Dies ist beispielsweise in der DE 10 2023 202 040 A1 beschrieben.
Dabei hat sich herausgestellt, dass eine Regelung des Festkörperaktuators allein über eine Ladungsmessung als feed-back Steuerung mit zunehmender Betriebsdauer ebenfalls zu Stellfehlern oder Abweichungen zwischen der gewollten Dehnung und der tatsächlichen Dehnung führt.
Es ist daher die Aufgabe dieser Erfindung ein Verfahren zum Betreiben mindestens eines Festkörperaktuators, ein adaptives optisches Element und eine Projektionsbelichtungsanlage bereit zu stellen, die die oben genannten Nachteile überwindet oder reduziert.
Die das Verfahren betreffende Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Die das adaptive optische Element betreffende Aufgabe wird durch ein adaptives optisches Element mit den Merkmalen des Anspruchs 16 gelöst, und die die Projektionsbelichtungsanlage betreffende Aufgabe wird durch eine Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 19 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen mit zweckmäßigen Weiterbildungen sind in den Unteransprüchen angegeben.
Das erfindungsgemäße Verfahren zum Betreiben eines adaptiven optischen Elementes mit mindestens einem Festkörperaktuator umfasst zumindest die folgenden Schritte:
- Verfahren des Festkörperaktuators auf eine Arbeitsspannung
- Anfordern einer Sollgröße für eine Dehnung des Festkörperaktuators
- Verfahren des Festkörperaktuators gemäß der Sollgröße innerhalb eines Regelkreises - Durchführen einer Ladungs- und einer Spannungsmessung, welche an den Elektroden des Festkörperaktuators anliegt mittels einer Messeinrichtung und
- Regeln der Dehnung des Festkörperaktuators durch Ermitteln einer Regelgröße basierend auf der erfassten Ladung und der erfassten Spannung, wobei die erfasste Ladung mit einer ersten Gewichtung und die erfasste Spannung mit einer zweiten Gewichtung in die Ermittlung der Regelgröße eingeht.
Mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens kann die tatsächliche Dehnung des Festkörperaktuators erfasst und in Form einer feed-back-Regelung geregelt werden, wobei die Regelung, also die Ermittlung der Regelgröße, sowohl die erfasste Ladung als auch die erfasste Spannung berücksichtigt. Auf Grundlage der erfassten Spannung mit einer zweiten Gewichtung und der erfassten Ladung mit einer ersten Gewichtung kann die Auslenkung, also Dehnung des Festkörperaktuators ermittelt werden. Dazu kann, insbesondere vor dem Durchführen des Verfahrens eine Kalibrationskurve erstellt werden, die eine Ladungs-Dehnungs-Korrelation aufweist.
Ebenso kann eine Spannung-Dehnung-Korrelation als zusätzliche Korrelationskurve erstellt werden. Mittels dieser oder diesen Korrelationen kann die Dehnung des Festkörperaktuators mittels der Spannungs und Ladungsmessung ermittelt werden. Weiterhin kann eine Regeleinheit eingerichtet sein, die ermittelte Dehnung auf die Sollgröße mittels der Regelgröße zu halten und bei Abweichung der erfassten Dehnung von der Sollgröße entsprechende Maßnahmen zu ergreifen, um die Solldehnung mit der Istdehnung in Übereinstimmung zu bringen, beispielsweise, indem mittels eines auf der Regelgröße basierendes Stellsignals eine Arbeitsspannung eines Spannungsgenerators angepasst wird. Die Messeinrichtung umfasst dabei zumindest einen Messkondensator und ist dazu konfiguriert, die elektrische Ladung auf den Elektroden durch eine Spannungsmessung zu bestimmen. Dazu umfasst die Messeinrichtung eine Spannungsmesseinheit, welche dazu konfiguriert ist, die Spannungsmessung am Messkondensator durchzuführen. Die Messeinrichtung ist insbesondere als ein Sawyer-Tower-Schaltkreis gebildet. Die Messeinrichtung ist dabei insbesondere eingerichtet, die Ladung und/oder Spannung wiederholt, insbesondere kontinuierlich zu erfassen. Weiterhin kann das Verfahren die Schritte umfassen, wonach mittels der Dehnung des Festkörperaktuators eine optische Oberfläche des adaptiven optischen Elementes verstellt oder lokal deformiert wird.
Weiterhin ist es von Vorteil, wenn der Wert der Gewichtung angepasst ist an eine Betriebsdauer des Festkörperaktuators oder dem Eintreten eines Ereignisses. Die beiden Gewichtungen können vorübergehend gleich sein. Bevorzugt unterscheiden sich die Werte der beiden Gewichtungen. Insbesondere können sich die Werte der beiden Gewichtungen über die Betriebsdauer des Festkörperaktuators ändern oder die Werte der Gewichtung können sich nur abschnittsweise, also vorübergehend zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt und/oder Zeitraum ändern. Die Werte der Gewichtung können sich dabei periodisch oder wiederholt verhalten, das heißt in einer ersten Periode betragen die Werte der Gewichtungen erste Werte und zu mindestens einer zweiten Periode betragen die Werte der Gewichtungen sich von den ersten Werten unterscheidende zweite Werte, wobei sich die erste und die zweite Periode abwechseln.
Weiterhin ist es von Vorteil, wenn der Wert der einen Gewichtung zumindest vorübergehend geringer als 10%, bevorzugt weniger als 5% und ganz bevorzugt weniger als 2% ist. Die Gewichtungen können vorübergehend auch 0% betragen.
Ferner ist es bevorzugt, wenn der Wert der ersten Gewichtung bis zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt eines Ereignisses größer als der Wert der zweiten Gewichtung ist und dass der Wert der zweiten Gewichtung ab dem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt des Ereignisses zumindest vorübergehend größer als der Wert der ersten Gewichtung ist. Insbesondere beträgt der Wert der einen Gewichtung mindestens 60%, bevorzugt mindestens 70% und ganz besonders bevorzugt mindestens 80%.
Die Werte der ersten und der zweiten Gewichtung können einen sprunghaften Verlauf, einen treppenförmigen Verlauf oder einen kontinuierlichen Verlauf aufweisen. Weiterhin kann der Wert der ersten Gewichtung zeitweise abnehmen, um dann zu mindestens einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder nach Eintritt ei- nes Ereignisses zuzunehmen oder sprunghaft auf einen Wert von über 50%, bevorzugt von über 70% und ganz besonders bevorzugt von über 80% anzusteigen. Der Wert der ersten Gewichtung kann im Anschluss daran auch wieder - vorzugsweise kontinuierlich - abnehmen. Insbesondere ist es von Vorteil, wenn der Wert der ersten Gewichtung zumindest zeitweise abnimmt um denjenigen Wert, den der Wert der zweiten Gewichtung zunimmt. Dies trägt der überraschenden Erkenntnis Rechnung, dass die Regelung mittels der Ladung bei kurzen Zeiten/Betriebsdauern geringere Regelfehler aufweisen als die eine Regelung über eine erfasste Spannung, während die Regelung mittels der Ladung bei längeren Betriebsdauern einen größeren Regelfehler aufweisen können als die Regelung über die erfasste Spannung.
Darüber hinaus ist es vorteilhaft, wenn zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt eines Ereignisses ein neuer Referenzpunkt für die Regelung definiert wird, der überwiegend oder ausschließlich auf der ermittelten Spannung basiert, und dass die Regelung mittels der erfassten Ladung auf den neuen Referenzpunkt referenziert wird. Zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt eines Ereignisses wird folglich auf die zu diesem Zeitpunkt erfasste Spannung referenziert, das bedeutet, dass das erfasste Spannungssignal als regelfehlerfrei angesehen wird und die Ermittlung der Regelgröße vorübergehend oder zu einem vorgegebenen Zeitpunkt ausschließlich auf Grundlage der erfassten Spannung erfolgt. Bei diesem neuen Referenzpunkt wird wiederum die Ladung erfasst und als neuer Ladungs-Referenzpunkt definiert, das heißt bei dieser Ladung wird der Regelfehler auf null gesetzt.
In diesem Zusammenhang ist es besonders bevorzugt, wenn im Anschluss an die Definition des neuen Referenzpunkts bei der Ermittlung der Regelgröße die erste Gewichtung größer als die zweite Gewichtung ist oder die Regelgröße ausschließlich mittels der erfassten Ladung ermittelt wird.
Um auch Alterungseffekte, Hysterese-, creep-, Drift-, gain-dip und/oder Temperatureffekte noch besser in die Ermittlung der Regelgröße berücksichtigen zu können umfasst das Verfahren bevorzugt die folgenden Schritte:
- Erfassen einer Referenzladungsdifferenz zwischen einer Sollposition an einem ersten Arbeitspunkt mit einer ersten Ladungs-Dehnungs-Korrelation und einem von dem ersten Arbeitspunkt abweichenden Referenzarbeitspunkt mittels der Messeinrichtung
- Verfahren des Festkörperaktuators von dem ersten Arbeitspunkt auf den Referenzarbeitspunkt und dabei Messen der für das Verfahren des Festkörperaktuators notwendigen Ladung,
- Zurückfahren des Festkörperaktuators um die erfasste Ladung in entgegengesetzter Richtung auf einen neuen Arbeitspunkt, der dieselbe Ladungs-Deh- nungs-Korrelation wie der erste Arbeitspunkt aufweist.
Der Referenzarbeitspunkt kann größer oder kleiner als der Arbeitspunkt sein. Mittels dieser Verfahrensschritte wird der Arbeitspunkt derart verschoben, dass Hysterese, gain dip, creep Effekte zumindest reduziert sind. Durch das Verfahren des Festkörperaktuators ist sicher gestellt, dass die Ladungs-Dehnungs-Korrelation des neuen Arbeitspunktes derjenigen des alten Arbeitspunktes entspricht. Vorzugsweise liegt zwischen dem Arbeitspunkt und dem Referenzarbeitspunkt eine Spannungsdifferenz von mindestens 5V, bevorzugt 10V und besonders bevorzugt mindestens 20V vor. Insbesondere ist es von Vorteil, wenn der Referenzarbeitspunkt in einem Spannungsbereich gewählt ist, der frei von Alterungs- und/oder Drifteffekten ist. Alterungseffekten umfassen vorliegend Effekte wie Hysterese, creep oder gain dip.
Alternativ oder zusätzlich umfasst das Verfahren die folgenden Schritte:
- Verfahren des Festkörperaktuators zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Ereignis oder Zeitpunkt mit einem Kalibriersignal und dabei erfassen der Ladung und der Spannung mittels der Messeinrichtung und
- Berücksichtigen der erfassten Ladung und Spannung als zusätzlicher Faktor zur Ermittlung der Regelgröße.
Zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder des Eintritts eines Ereignisses wird folglich eine erneute Kalibration durchgeführt, indem der Festkörperaktuator gemäß eines vorgegebenen oder vorgebbaren Kalibriersignals verfahren wird und dabei die Ladung und die Spannung mittels der Messeinrichtung ermittelt wird. Diese neue Kalibrationswerte werden bei der Ermittlung der Regelgröße berücksichtigt. Besonders bevorzugt ist das Kalibriersignal ein oszillierendes Signal, insbesondere ein trigonometrisches Signal. Alternativ oder zusätzlich ist es bevorzugt, wenn zu mindestens einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder nach Eintritt eines Ereignisses die Ladung und die Spannung mittels der Messeinrichtung ermittelt wird und mit hinterlegten oder hinterlegbaren Sollgrößen als ein Störgrößenbeobachter verglichen wird. Vorzugsweise ist das Ereignis ein wafer-Tausch oder ein Ende einer Belichtungszeit.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann insbesondere zur Steuerung eines Festkörperaktuators, welcher zur Verstellung eines Spiegels konfiguriert ist, eingesetzt werden.
Das adaptive optische Element zeichnet sich insbesondere dadurch aus, dass die Regeleinheit eingerichtet ist, den mindestens einen Festkörperaktuator zu regeln mittels einer Regelgröße die zumindest mit einer ersten Gewichtung die erfasste Ladung und mit einer zweiten Gewichtung die erfasste Spannung berücksichtigt. Das adaptive optische Element ist insbesondere eingerichtet, das Verfahren zum Betreiben eines Festkörperaktuators durchzuführen. Das adaptive optische Element kann alternativ auch als optisches Element gebildet sein, dessen mindestens einer Festkörperaktuator zur Verstellung des optischen Elementes eingerichtet ist.
Auf Grundlage der erfassten Spannung und der erfassten Ladung ist die Regeleinheit konfiguriert, eine Auslenkung, also Dehnung, des Festkörperaktuators zu ermitteln und als Regelgröße mit der Sollgröße zu vergleichen und auf der Sollgröße zu halten. Gegebenenfalls, wenn die ermittelte Dehnung, von der Sollgröße abweicht, kann eine auf der Regelgröße basierende Stellgröße oder Korrekturgröße beispielsweise einen eine Arbeitsspannung einstellenden Spannungsgenerator regeln. Die Messeinrichtung umfasst dabei zumindest einen Messkondensator und ist dazu konfiguriert, die elektrische Ladung auf den Elektroden durch eine Spannungsmessung zu bestimmen. Dazu umfasst die Messeinrichtung eine Spannungsmesseinheit, welche dazu konfiguriert ist, die Spannungsmessung am Messkondensator durchzuführen. Die Messeinrichtung ist insbesondere als ein Sawyer-Tower-Schalt- kreis gebildet. Eine für das Verfahren und das adaptive Element günstige Messeinrichtung ist in der deutschen Patentanmeldung DE 10 2023 202 040.8 beschrieben, die hiermit vollständig in die vorliegende Offenbarung einbezogen wird.
Die zum Verfahren genannten Vorteile und Ausführungsbeispiele sind auch auf das adaptive optische Element anwendbar.
Weiterhin ist es von Vorteil, wenn der Wert der Gewichtungen angepasst ist an eine Betriebsdauer des Festkörperaktuators und/oder dem Eintritt eines Ereignisses, wie beispielsweise eines wafer Tausches oder dem Ende einer Belichtungszeit.
Weiterhin ist es von Vorteil, wenn die Regeleinheit eine Frequenzweiche umfasst, die eingerichtet ist, den Wert der ersten Gewichtung um die Zunahme des Wertes der zweiten Gewichtung zu reduzieren. Die Frequenzweiche kann als ein Hochpass und als ein Tiefpass konfiguriert sein. Der Tiefpass ist eingerichtet den Wert der Gewichtung zu Zeitpunkten, die kleiner als ein vorgegebener oder vorgebbarer Zeitpunkt ist, zu reduzieren, oder zu unterdrücken, während der Hochpass eingerichtet ist, den Wert der Gewichtung ab dem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt eines Ereignisses zu reduzieren oder zu unterdrücken.
Die Erfindung betrifft darüber hinaus eine Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem erfindungsgemäßen adaptiven Element.
Die Erfindung, das heißt das erfindungsgemäße Verfahren und das adaptive optische Element sind zudem auch in einer Lithographieanlage, in einer Beleuchtungsanlage für eine Lithographieanlage, insbesondere eine Mikrolithographieanlage oder in einem Projektionsobjektiv für eine Lithographieanlage, insbesondere eine Mikrolithographieanlage einsetzbar.
Weitere Merkmale, Eigenschaften und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden im Folgenden anhand von Ausführungsvananten unter Bezugnahme auf die beigefügten Figuren näher beschrieben. Alle bisher und im Folgenden beschriebenen Merkmale sind dabei sowohl einzeln als auch in einer beliebigen Kombination miteinander vorteilhaft. Die im Folgenden beschriebenen Ausführungsvananten stellen lediglich Beispiele dar, welche den Gegenstand der Erfindung jedoch nicht beschränken. Dabei zeigen:
Figur 1a eine schematische Darstellung einer für den Betrieb im EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage,
Figur 1 b eine schematische Darstellung einer für den Betrieb im DUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage,
Figur 2 eine erste schematische Darstellung des Verfahrens,
Figur 3 eine zweite schematische Darstellung des Verfahrens,
Figur 4 eine dritte schematische Darstellung des Verfahrens
Figur 5 eine vierte schematische Darstellung des Verfahrens, und
Figur 6 eine fünfte schematische Darstellung des Verfahrens.
Figur 1a zeigt eine schematische Darstellung einer beispielhaften für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage 600, in welcher die vorliegende Erfindung realisierbar ist.
Gemäß Fig. 1a weist eine Beleuchtungseinrichtung in einer für EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage 600 einen Feldfacettenspiegel 603 und einen Pupillenfacettenspiegel 604 auf. Auf den Feldfacettenspiegel 603 wird das Licht einer Lichtquelleneinheit, welche eine Plasmalichtquelle 601 und einen Kollektorspiegel 602 umfasst, gelenkt. Im Lichtweg nach dem Pupillenfacettenspiegel 604 sind ein erster Teleskopspiegel 605 und ein zweiter Teleskopspiegel 606 angeordnet. Im Lichtweg nachfolgend ist ein Umlenkspiegel 607 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf ein Objektfeld in der Objektebene eines sechs Spiegel 651-656 umfassenden Projektionsobjektivs lenkt. Am Ort des Objektfeldes ist eine reflektive strukturtragende Maske 621 auf einem Maskentisch 620 angeordnet, die mit Hilfe des Projektionsobjektivs in eine Bildebene abgebildet wird, in welcher sich ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes Substrat 661 auf einem Wafertisch 660 befindet. Einer oder mehrerer der Spiegel der für EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage 600 kann als das erfindungsgemäße (adaptive) optische Element 100 gebildet sein.
Die Erfindung kann ebenso in einer DUV-Anlage verwendet werden, wie in Figur 1 b dargestellt. Eine DUV-Anlage ist prinzipiell wie die oben beschriebene EUV-Anlage aus der Figur 1a aufgebaut, wobei in einer DUV-Anlage Spiegel und Linsen als optische Elemente verwendet werden können und die Lichtquelle einer DUV-Anlage eine Nutzstrahlung in einem Wellenlängenbereich von 100 nm bis 400 nm emittiert.
Die in Figur 1 b dargestellte DUV-Lithographieanlage 700 weist eine DUV-Licht- quelle 701 auf. Als DUV-Lichtquelle 701 kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 702 im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert. Ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 703 leitet die DUV-Strah- lung 702 auf eine Photomaske 704. Die Photomaske 704 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 703, angeordnet sein. Die Photomaske 704 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 705 verkleinert auf einen Wafer 706 oder dergleichen abgebildet wird. Das Projektionssystem 705 weist mehrere Linsen 707 und/oder Spiegel 708 zur Abbildung der Photomaske 704 auf den Wafer 706 auf. Dabei können einzelne Linsen 707 und/oder Spiegel 708 des Projektionssystems 705 symmetrisch zur optischen Achse 709 des Projektionssystems 705 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen 707 und Spiegel 708 der DUV-Lithographieanlage 700 nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen 707 und/oder Spiegel 708 vorgesehen sein. Insbesondere weist das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 703 der DUV-Lithographieanlage 700 mehrere Linsen 707 und/oder Spiegel 708 auf. Des Weiteren sind die Spiegel i.d.R. an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt. Ein Luftspalt 710 zwischen der letzten Linse 707 und dem Wafer 706 kann durch ein flüssiges Medium ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf.
Figur 2 zeigt eine schematische Darstellung eines Regelkreises 103 zum Betreiben mindestens eines Festkörperaktuators 100 eines (adaptiven) optischen Elementes. Zunächst wird der Festkörperaktuator 100 auf eine Arbeitsspannung 101 verfahren. Eine Sollgröße 102 für eine Dehnung des Festkörperaktuators 100 wird angefordert und der Festkörperaktuator 100 gemäß der Sollgröße 102 innerhalb des Regelkreises 103 verfahren. Für eine feed-back Regelung des mindestens einen Festkörperaktuators wird eine Ladungs- und eine Spannungsmessung, welche an den Elektroden des Festkörperaktuators anliegt mittels einer Messeinrichtung 108 durchgeführt. Vorzugsweise wird die Ladung C und die Spannung U wiederholt, insbesondere kontinuierlich erfasst. Die Dehnung des Festkörperaktuators 100 wird mittels einer Regeleinheit 104 geregelt, wobei eine Regelgröße Stot ermittelt wird, welches vorliegend eine Dehnung ist. In die Regelgröße Stot geht mit einer ersten Gewichtung Gi die erfasste Ladung und mit einer zweiten Gewichtung G2 die erfasste Spannung ein. In anderen Worten wird die erfasste Spannung und die erfasste Ladung jeweils in eine ladungsbasierte Polarisation Pc und die spannungsbasierte Polarisation Pu umgerechnet, welche mit jeweils einer Gewichtung G1 und G2 in eine Gesamtpolarisation Ptot eingeht. Die ermittelten Gesamtpolarisation ist wiederum proportional zur Regelgröße Stot, also einer Dehnung des Festkörperaktuators 100.
Vor dem Durchführen des Verfahrens zum Betreiben mindestens eines Festkörperaktuators 100 eins (adaptiven) optischen Elementes kann vorzugsweise eine Kalibrationskurve erstellt werden, die eine Ladungs-Dehnungs-Korrelation aufweist. Ebenso wird eine Spannungs-Dehnungs-Korrelation als zusätzliche Korrelationskurve erstellt. Mittels dieser oder diesen Korrelationen kann die Dehnung des Festkörperaktuators 100 mittels der Spannungs- und Ladungsmessung ermittelt werden. Weiterhin ist die Regeleinheit 104 eingerichtet, die ermittelte Dehnung auf die Sollgröße mittels der Regelgröße Stot zu halten. Die Regeleinheit 104 ist veranlasst Maßnahmen, wenn die erfasste Dehnung von der Sollgröße 102 um einen vorgegebenen oder vorgebbaren Wert abweicht, um die Solldehnung mit der Istdehnung in Übereinstimmung zu bringen. Beispielsweise kann mittels eines auf der Regelgröße Stot basierenden Stellsignals ein Spannungsgenerator 109 veranlasst werden eine Betriebsspannung Uo anzupassen. Die Regeleinheit 104 umfasst dabei eine Umrechnungsvorgabe zum Ermitteln einer Vorgabe für die Betriebsspannung Uo aus der vorgegebenen Solldehnung 101.
Der mindestens eine Festkörperaktuator 100 weist ein dielektrisches Medium auf, welches mittels eines elektrischen Feldes deformierbar ist, sowie Elektroden zur Erzeugung des elektrischen Feldes im dielektrischen Medium durch Anlegen einer elektrischen Arbeitsspannung.
In Figur 2 ist auch ein Ausführungsbeispiel einer für die Durchführung des Verfahrens möglichen Messeinrichtung 108 dargestellt. Die Messeinrichtung 108 ist vorliegend als eine Sawyer-Tower Schaltkreis gebildet. Die Elektroden des mindestens einen Festkörperaktuators sind mit dem Spannungsgenerator 109 verbunden. Die Messeinrichtung 108 ist vorzugsweise zwischen dem Festkörperaktuator 100 und dem Spannungsgenerator 109 geschaltet. Die Messeinrichtung 108 umfasst dabei zumindest einen Messkondensator CM und ist dazu konfiguriert, die elektrische Ladung auf den Elektroden durch eine Spannungsmessung zu bestimmen. Dazu umfasst die Messeinrichtung 108 eine Spannungsmesseinheit 110, welche dazu konfiguriert ist, die Spannungsmessung am Messkondensator CM durchzuführen, also die am Messkondensator CM abfallende Spannung UM ZU erfassen. Parallel zum Messkondensator CM kann ein ohmscher Widerstand RM geschaltet sein. Ebenso kann parallel zur Elektrodenanordnung des Festkörperaktuators 100 ein weiterer ohmscher Widerstand RA geschaltet sein, der auch als Shunt-Widerstand bezeichnet wird. Die Messspannung UM entspricht der Differenz der Betriebsspannung Uo und einer Aktuatorspannung UA. Die Messeinrichtung ist darüber hinaus auch eingerichtet die am Messkondensator CM abfallende Spannung UM zur Bestimmung der elektrischen Ladung Q zu verwenden. Die Ladung entspricht der sich beim Anliegen der Aktuatorspannung UA auf den Elektroden des Festkörperaktuators befindliche Ladung. Die Ladung QM wird mittels der Beziehung QM = CM - UM ermittelt. Die Messeinrichtung 108 kann auch dem Festkörperaktuator 100 nachgeschaltet sein, also zwischen der Erdung und einer der Elektroden geschaltet sein. Die Messeinrichtung 108 ist dabei insbesondere eingerichtet, die Ladung und/oder Spannung wiederholt, insbesondere kontinuierlich zu erfassen. Aus dem von der Messeinrichtung 108 bestimmten Wert der Ladung QM wird in eine Dehnung S des Festkörperaktuators umgerechnet. Dazu wird zunächst die Ladung QM in die Polarisation Pc auf den Elektroden umgerechnet. Pc ist proportional zu QM. Die Proportionalitätskonstante kann durch eine geeignete Kalibrierung oder durch modellbasierte Berechnung bestimmt werden. Aus der bestimmten Polarisation P wird die Dehnung ermittelt, wobei die Dehnung S vorliegend proportional zum Quadrat der Polarisation ist (S ~ P2). Die ermittelte Spannung UM wird ebenfalls in eine Polarisation Pu auf den Elektroden umgerechnet. Die Polarisation Pc geht mit der ersten Gewichtung Gi und die Polarisation Pu geht mit der zweiten Gewichtung G2 in die Gesamtpolarisation Ptot ein. Aus der so bestimmten Polarisation Ptot wird die Dehnung ermittelt, wobei die Dehnung S vorliegend proportional zum Quadrat der Polarisation ist (S ~ P2). Die Proportionalitätskonstante kann durch eine geeignete Kalibrierung oder durch modellbasierte Berechnung bestimmt werden.
Die Werte der Gewichtungen GI ,G2 sind vorzugsweise angepasst an eine Betriebsdauer des Festkörperaktuators 100 oder dem Eintreten eines Ereignisses (beispielsweise ein wafer-Wechsel). Die beiden Gewichtungen GI ,G2 können dabei vorübergehend gleich sein. Bevorzugt unterscheiden sich die Werte der beiden Gewichtungen GI ,G2. Insbesondere können sich die Werte der beiden Gewichtungen GI , G2 über die Betriebsdauer des Festkörperaktuators 100 ändern oder die Werte der Gewichtungen GI ,G2 können sich nur abschnittsweise, also vorübergehend, insbesondere zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt und/oder Zeitraum ändern. Die Werte der Gewichtungen GI , G2 können sich dabei periodisch oder wiederholt verhalten, das heißt in einer ersten Periode betragen die Werte der Gewichtungen GI ,G2 erste Werte und zu mindestens einer zweiten Periode betragen die Werte der Gewichtungen GI ,G2 sich von den ersten Werten unterscheidende zweite Werte, wobei sich die erste und die zweite Periode abwechseln. Der Wert der einen Gewichtung GI ,G2 ist zumindest vorübergehend geringer als 10%, bevorzugt weniger als 5% und ganz bevorzugt weniger als 2% ist. Die Gewichtungen GI ,G2 können vorübergehend auch 0% betragen.
In einem Ausführungsbeispiel ist der Wert der ersten Gewichtung G1 bis zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt eines Ereignisses größer als der Wert der zweiten Gewichtung G2. Der Wert der zweiten Gewichtung G2 ist ab dem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt des Ereignisses zumindest vorübergehend größer als der Wert der ersten Gewichtung Gi. Insbesondere beträgt der Wert der einen Gewichtung GI ,G2 mindestens 60%, bevorzugt mindestens 70% und ganz besonders bevorzugt mindestens 80%.
Die Werte der ersten und der zweiten Gewichtung GI ,G2 können einen sprunghaften Verlauf, einen treppenförmigen Verlauf oder einen kontinuierlichen Verlauf aufweisen. Weiterhin kann der Wert der ersten Gewichtung Gi zeitweise abnehmen, um dann zu mindestens einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder nach Eintritt eines Ereignisses zuzunehmen oder sprunghaft auf einen Wert von über 50%, bevorzugt von über 70% und ganz besonders bevorzugt von über 80% anzusteigen. Der Wert der ersten Gewichtung Gi kann im Anschluss daran auch wieder - vorzugsweise kontinuierlich - abnehmen. Insbesondere kann der Wert der ersten Gewichtung GI ,G2 zumindest zeitweise um denjenigen Wert abnehmen, um den der Wert der zweiten Gewichtung G2 zunimmt. In einem Ausführungsbeispiel wird die Regelgröße Stot zunächst bis zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt eines Ereignisses ausschließlich mittels der Ladungsmessung also mittels Pc ermittelt. Mit Eintritt des Zeitpunkts oder des Ereignisses wird die Regelgröße Stot ausschließlich mittels der Spannungsmessung also Pu ermittelt.
Dies trägt der überraschenden Erkenntnis Rechnung, dass die Regelung mittels der Ladung bei kurzen Zeiten/Betriebsdauern geringere Regelfehler aufweisen als die eine Regelung über eine erfasste Spannung, während die Regelung mittels der Ladung bei längeren Betriebsdauern einen größeren Regelfehler aufweisen können als die Regelung über die erfasste Spannung.
Die Regeleinheit 104 kann dabei in dem Ausführungsbeispiel nach der Figur 3 auch eine Frequenzweiche aufweisen, die eingerichtet ist, den Wert der ersten Gewichtung Gi um die Zunahme des Wertes der zweiten Gewichtung G2ZU reduzieren. Die Frequenzweiche kann als ein Hochpass 111 und als ein Tiefpass 112 konfiguriert sein. Der Tiefpass ist eingerichtet, dass Frequenzanteile der gemessenen Ladung und/oder der gemessenen Spannung so gefiltert werden, dass Gi größer 50% ist für Frequenzen, die geringer als ein vorgegebener oder vorgebbarer Frequenzgrenzwert sind, also für langsame Änderungen, wobei gilt 100%=GI+G2. Der Hochpass ist eingerichtet, dass Frequenzanteile der gemessenen Ladung und/oder der gemessenen Spannung so gefiltert werden, dass G2 größer 50% ist für Frequenzen, die größer oder gleich einem vorgegebenen oder vorgebbaren Frequenzgrenzwert sind, also für schnelle Änderungen, wobei gilt 100%=GI +G2.
Das Verfahren nach der Figur 4 unterscheidet sich darin, dass zusätzlich zu mindestens einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt eines Ereignisses ein neuer Referenzpunkt 105 für die Regelung definiert wird, der überwiegend oder ausschließlich auf der ermittelten Spannung basiert, und dass die Regelung mittels der erfassten Ladung auf den neuen Referenzpunkt 105 referenziert wird. Zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt eines Ereignisses (beispielsweise eines wafer-Tausches) wird folglich auf die zu diesem Zeitpunkt erfasste Spannung referenziert, das bedeutet, dass das erfasste Spannungssignal als regelfehlerfrei angesehen wird und die Ermittlung der Regelgröße vorübergehend oder zu einem vorgegebenen Zeitpunkt ausschließlich auf Grundlage der erfassten Spannung erfolgt. Bei diesem neuen Referenzpunkt wird wiederum die Ladung erfasst und als neuer Ladungs-Referenzpunkt definiert, das heißt bei dieser Ladung wird der Regelfehler auf null gesetzt, im Anschluss an die Definition des neuen Referenzpunkts 105 wird ist bei der Ermittlung der Regelgröße die erste Gewichtung G1, größer als die zweite Gewichtung G2 Oder die Regelgröße wird ausschließlich mittels der erfassten Ladung Pc ermittelt wird. Vorzugsweise wird über die Betriebsdauer des Festkörperaktuators 100 regelmäßig auf einen neuen spannungsbasierten Referenzpunkt 105 referenziert. Dies reduziert den Regelfehler für die ladungsbasierte Regelung auch für längere Betriebsdauern.
Das Verfahren nach der Figur 5 unterscheidet sich dabei durch die folgenden zusätzlichen Verfahrensschritten, wonach zu mindestens einem vorgegebenen oder vorgebbaren Ereignis oder Zeitpunkt der Festkörperaktuator mittels eines Kalibriersignals 106, vorzugsweise mittels eines oszillierenden, insbesondere trigonometrischen Kalibiersignals 106 verfahren wird und dabei die Ladung und der Spannung mittels der Messeinrichtung 108 erfasst wird. Die so erfassten Ladungen und Spannungen werden als zusätzliche Größe 107 bei der Ermittlung der Regelgröße Stot berücksichtigt. Zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder des Eintritts eines Ereignisses wird folglich eine erneute Kalibration durchgeführt, indem der Festkörperaktuator 100 gemäß eines vorgegebenen oder vorgebbaren Kalibriersignals verfahren wird und dabei die Ladung und die Spannung mittels der Messeinrichtung ermittelt wird. Diese neue Kalibrationswerte werden bei der Ermittlung der Regelgröße berücksichtigt.
In der Figur 6 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel des Verfahrens gezeigt. Um bei der Ermittlung der Regelgröße Stot auch Alterungseffekte, Hysterese-, creep-, Drift-, gain-dip und/oder Temperatureffekte des Festkörperaktuators 100 noch besser zu berücksichtigen umfasst das Verfahren bevorzugt die folgenden Schritte:
- Erfassen einer Referenzladungsdifferenz zwischen einer Sollposition an einem ersten Arbeitspunkt 101a mit einer ersten Ladungs-Dehnungs-Korrelation und einem von dem ersten Arbeitspunkt 101a abweichenden Referenzarbeitspunkt 101 b mittels der Messeinrichtung 108,
- Verfahren des Festkörperaktuators 100 von dem ersten Arbeitspunkt 101a auf den Referenzarbeitspunkt 101 b und dabei Messen der für das Verfahren (also das Verstellen) des Festkörperaktuators 100 notwendigen Ladung Q,
- Zurückfahren des Festkörperaktuators 100 um die erfasste Ladung -Q in entgegengesetzter Richtung auf einen neuen Arbeitspunkt 101c, der dieselbe oder annäherungsweise dieselbe Ladungs-Dehnungs-Korrelation wie der erste Arbeitspunkt 101 aufweist.
Der Referenzarbeitspunkt 101 b kann dabei größer oder kleiner als der Arbeitspunkt 101a sein. Mittels dieser Verfahrensschritte wird der Arbeitspunkt 101 derart verschoben, dass Hysterese, gain dip, creep Effekte im Vergleich zum ersten Arbeitspunkt zumindest reduziert sind. Durch das Verfahren des Festkörperaktuators 100 ist sichergestellt wird, dass die Ladungs-Dehnungs-Korrelation des neuen Arbeitspunktes 101 c derjenigen des alten Arbeitspunktes 101a entspricht, also alterungsef- fekte-frei ist. Vorzugsweise liegt zwischen dem Arbeitspunkt 101a und dem Referenzarbeitspunkt 101 b eine Spannungsdifferenz von mindestens 5V, bevorzugt 10V und besonders bevorzugt mindestens 20V vor. Der Referenzarbeitspunkt 101 b ist in einem Spannungsbereich gewählt ist, der frei von Alterungs- und/oder Drifteffekten ist. Alterungseffekten umfassen vorliegend Effekte wie Hysterese, creep oder gain dip.
Weiterhin kann alternativ oder zusätzlich zu mindestens einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder nach Eintritt eines Ereignisses die Ladung und die Spannung mittels der Messeinrichtung ermittelt wird und mit hinterlegten oder hinterlegbaren Sollgrößen als ein Störgrößenbeobachter verglichen werden.
Das Verfahren wird vorzugsweise eingesetzt zum Steuern eines Festkörperaktua- tors 100 eines optischen Elementes in einer Lithographieanlage, vorzugsweise eines adaptiven optischen Elementes. Vorzugsweise ist das Ereignis somit ein wafer- Tausch oder ein Ende der Belichtungszeit. Der Festkörperaktuator 100 kann dabei ein optisches Element verstellen und/oder seine Oberfläche zumindest lokal deformieren.
BEZUGSZEICHENLISTE
100 Festkörperaktuator
101 Arbeitsspannung
102 Sollgröße
103 Regelkreis
104 Regeleinheit
105 Referenzpunkt
106 Kalibriersignal
107 zusätzliche Größe
108 Messeinrichtung
109 Spannungsgenerator
110 Spannungsmesseinheit
111 Hochpass
112 Tiefpass
600 Projektionsbelichtungsanlage
601 Plasmalichtquelle
602 Kollektorspiegel
603 Feldfacettenspiegel
604 Pupillenfacettenspiegel
605 erster Teleskopspiegel
606 zweiter Teleskopspiegel
607 Umlenkspiegel
620 Maskentisch
621 Maske
651 Spiegel (Projektionsobjektiv)
652 Spiegel (Projektionsobjektiv)
653 Spiegel (Projektionsobjektiv)
654 Spiegel (Projektionsobjektiv)
655 Spiegel (Projektionsobjektiv)
656 Spiegel (Projektionsobjektiv)
660 Wafertisch
661 beschichtetes Substrat
700 DUV-Lithographieanlage 701 DUV-Lichtquelle
702 DUV-Strahlung /Strahlengang
703 Strahlformungs- und Beleuchtungssystem (DUV)
704 Photomaske 705 Projektionssystem
706 Wafer
707 Linse
708 Spiegel
709 optische Achse

Claims

ANSPRÜCHE
1. Verfahren zum Betreiben mindestens eines Festkörperaktuators (100) eines optischen Elementes umfassend die Schritte:
- Verfahren des Festkörperaktuators (100) auf eine Arbeitsspannung (101 )
- Anfordern einer Sollgröße (102) für eine Dehnung des Festkörperaktuators (100),
- Verfahren des Festkörperaktuators (100) gemäß der Sollgröße (102) innerhalb eines Regelkreises (103),
- Durchführen einer Ladungs- und einer Spannungsmessung, welche an den Elektroden des Festkörperaktuators (100) anliegt mittels einer Messeinrichtung (108) und
- Regeln der Dehnung s des Festkörperaktuators (100) durch Ermitteln einer Regelgröße Stot der Dehnung basierend auf der erfassten Ladung und der erfassten Spannung, wobei die erfasste Ladung mit einer ersten Gewichtung Gi und die erfasste Spannung mit einer zweiten Gewichtung G2 in die Ermittlung der Regelgröße Stot eingeht.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Gewichtungen Gi, G2 sich zumindest zeitweise voneinander unterscheiden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Wert der Gewichtung Gi , G2 abhängig von einer Betriebsdauer des Festkörperaktuators (100) oder dem Eintreten eines Ereignisses ist.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Wert der einen Gewichtung Gi , G2 zumindest vorübergehend geringer als 10% ist.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Wert der ersten Gewichtung Gi bis zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt eines Ereignisses größer als der Wert der zweiten Gewichtung G2 ist und dass der Wert der zweiten Gewichtung G2 ab dem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt des Ereignisses zumindest vorübergehend größer als der Wert der ersten Gewichtung Gi ist.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Wert der ersten Gewichtung Gi zumindest zeitweise abnimmt um denjenigen Wert, den der Wert der zweiten Gewichtung G2 zunimmt.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder dem Eintritt eines Ereignisses ein neuer Referenzpunkt (105) für die Regelung definiert wird, der überwiegend oder ausschließlich auf der ermittelten Spannung basiert, und dass die Regelung mittels der Ladung auf den neuen Referenzpunkt re- ferenziert wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass im Anschluss an die Definition des neuen Referenzpunkts (105) bei der Ermittlung der Regelgröße Stot die erste Gewichtung Gi größer als die zweite Gewichtung G2 ist oder die Regelgröße Stot ausschließlich mittels der erfassten Ladung ermittelt wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, umfassend die folgenden Schritte:
- Erfassen einer Referenzladungsdifferenz zwischen einer Sollposition an einem ersten Arbeitspunkt (101 a) mit einer ersten Ladungs-Dehnungs- Korrelation und einem von dem ersten Arbeitspunkt (101 a) abweichenden Referenzarbeitspunkt (101 b) mittels der Messeinrichtung (108),
- Verfahren des Festkörperaktuators (100) von dem ersten Arbeitspunkt (101 a) auf den Referenzarbeitspunkt (101 b) und dabei Messen der für das Verfahren des Festkörperaktuators (100) notwendigen Ladung und
- Zurückfahren des Festkörperaktuators (100) um die erfasste Ladung in entgegengesetzter Richtung auf einen neuen Arbeitspunkt (101 c), der dieselbe Ladungs-Dehnungs-Korrelation wie der erste Arbeitspunkt (101 a) aufweist.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem ersten Arbeitspunkt (101 a) und dem Referenzarbeitspunkt (101 b) eine Spannungsdifferenz von mindestens 5V vorliegt.
11 . Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Referenzarbeitspunkt (101 b) in einem Spannungsbereich gewählt ist, der frei von Alterungs- und/oder Drifteffekten ist.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11 umfassend die folgenden Schritte
- Verfahren des Festkörperaktuators (101 ) zu einem vorgegebenen oder vorgebbaren Ereignis oder Zeitpunkt mit einem Kalibriersignal (106) und dabei erfassen der Ladung und der Spannung mittels der Messeinrichtung (108) und
- Berücksichtigen der erfassten Ladung und Spannung als zusätzliche Größe (107) zur Ermittlung der Regelgröße Stot.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Kalibriersignal (106) ein oszillierendes Signal ist.
14. Verfahren nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass zu mindestens einem vorgegebenen oder vorgebbaren Zeitpunkt oder nach Eintritt eines Ereignisses die Ladung und die Spannung mittels der Messeinrichtung (108) ermittelt wird und mit hinterlegten oder hinterlegbaren Sollgrößen als ein Störgrößenbeobachter verglichen wird.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Ereignis ein wafer-Tausch oder ein Ende einer Belichtungsdauer ist.
16. Adaptives optisches Element für eine Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Festkörperaktuator (100) zur Veränderung einer optischen Oberfläche des optischen Elements, wobei der Festkörperaktuator ein dielektrisches Medium aufweist, welches mittels eines elektrischen Feldes defor- mierbar ist, sowie Elektroden zur Erzeugen des elektrischen Feldes im dielektrischen Medium durch Anlegen einer elektrischen Arbeitsspannung aufweist, mit mindestens einer Messeinrichtung (108), welche konfiguriert ist eine elektrische Ladung und eine Spannung zu messen, welche sich beim Anlegen der Arbeitsspannung auf den Elektroden befindet, und mit einer Regeleinheit, dadurch gekennzeichnet, dass die Regeleinheit (104) eingerichtet ist, den mindestens einen Festkörperaktuator (100) zu regeln mittels einer Regelgröße Stot, die zumindest mit einer ersten Gewichtung Gi die erfasste Ladung und mit einer zweiten Gewichtung G2 die erfasste Spannung berücksichtigt.
17. Adaptives optisches Element nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Wert der Gewichtungen G1 , G2 abhängen von einer Betriebsdauer des Festkörperaktuators (100) und/oder dem Eintritt eines Ereignisses.
18. Adaptives optisches Element nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Regeleinheit (104) eine Frequenzweiche umfasst, die eingerichtet ist, den Wert der ersten Gewichtung G1 um die Zunahme des Wertes der zweiten Gewichtung G2 zu reduzieren.
19. Projektionsbelichtungsanlage mit einem adaptiven optischen Element gemäß einer der Ansprüche 16 bis 18.
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