ATE189534T1 - Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlacken - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlackenInfo
- Publication number
- ATE189534T1 ATE189534T1 AT91920804T AT91920804T ATE189534T1 AT E189534 T1 ATE189534 T1 AT E189534T1 AT 91920804 T AT91920804 T AT 91920804T AT 91920804 T AT91920804 T AT 91920804T AT E189534 T1 ATE189534 T1 AT E189534T1
- Authority
- AT
- Austria
- Prior art keywords
- resist
- resist removing
- removal
- removing liquid
- spouting
- Prior art date
Links
- 239000003973 paint Substances 0.000 title 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 abstract 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32245290 | 1990-11-28 | ||
| JP32245190 | 1990-11-28 | ||
| PCT/JP1991/001635 WO1992009935A1 (fr) | 1990-11-28 | 1991-11-28 | Procede et dispositif d'elimination de resist |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ATE189534T1 true ATE189534T1 (de) | 2000-02-15 |
Family
ID=26570823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT91920804T ATE189534T1 (de) | 1990-11-28 | 1991-11-28 | Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlacken |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5443942A (de) |
| EP (1) | EP0512117B1 (de) |
| AT (1) | ATE189534T1 (de) |
| DE (1) | DE69131959T2 (de) |
| WO (1) | WO1992009935A1 (de) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5983486A (en) * | 1995-03-10 | 1999-11-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing ink jet head |
| US5998305A (en) * | 1996-03-29 | 1999-12-07 | Praxair Technology, Inc. | Removal of carbon from substrate surfaces |
| US6273107B1 (en) * | 1997-12-05 | 2001-08-14 | Texas Instruments Incorporated | Positive flow, positive displacement rinse tank |
| US6409312B1 (en) | 2001-03-27 | 2002-06-25 | Lexmark International, Inc. | Ink jet printer nozzle plate and process therefor |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4920405Y1 (de) * | 1969-07-19 | 1974-05-31 | ||
| US3937175A (en) * | 1973-12-26 | 1976-02-10 | American Hoechst Corporation | Pulsed spray of fluids |
| JPS5236445B2 (de) * | 1974-02-28 | 1977-09-16 | ||
| JPS5376754A (en) * | 1976-12-20 | 1978-07-07 | Fujitsu Ltd | Resist removing method |
| JPS5762530A (en) * | 1980-10-01 | 1982-04-15 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for removing photo-resist |
| JPS585039U (ja) * | 1981-06-30 | 1983-01-13 | 大日本スクリ−ン製造株式会社 | 自動現像機用水洗装置 |
| JPS58143534A (ja) * | 1982-02-22 | 1983-08-26 | Hitachi Ltd | レジスト除去方法および除去装置 |
| JPS59143327A (ja) * | 1983-02-04 | 1984-08-16 | Fujitsu Ltd | レジスト皮膜の除去方法 |
| JPS6358831A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 異形基板のレジスト剥離方法および装置 |
| DE69031153T2 (de) * | 1989-09-20 | 1997-12-04 | Fujitsu Ltd | Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung |
| EP0443796A3 (en) * | 1990-02-19 | 1992-03-04 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Development process |
-
1990
- 1990-11-28 US US07/910,286 patent/US5443942A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-11-28 WO PCT/JP1991/001635 patent/WO1992009935A1/ja not_active Ceased
- 1991-11-28 EP EP91920804A patent/EP0512117B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-11-28 DE DE69131959T patent/DE69131959T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-11-28 AT AT91920804T patent/ATE189534T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0512117A4 (en) | 1993-03-17 |
| US5443942A (en) | 1995-08-22 |
| WO1992009935A1 (fr) | 1992-06-11 |
| EP0512117B1 (de) | 2000-02-02 |
| DE69131959D1 (de) | 2000-03-09 |
| EP0512117A1 (de) | 1992-11-11 |
| DE69131959T2 (de) | 2000-06-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE68911553D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Wasser durch Absetzen unter Verwendung von feinem Sand. | |
| DE3854541D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung eines Materials durch Plasma. | |
| DE69015326D1 (de) | Verfahren zum Fixieren von Kohlendioxyd und Vorrichtung zum Behandeln von Kohlendioxyd. | |
| ATE135936T1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur entfernung von kohlenwasserstoffen aus gasströmen | |
| DE69013653D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von reinem oder ultrareinem Wasser. | |
| DE3874460D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von schlaemmen. | |
| DE69815615D1 (de) | Vorrichtung zur Bearbeitung von Betonsteinen | |
| DE3750919D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Verarbeitung eines Bildes gemäss eines Korrekturniveaus. | |
| ATA792279A (de) | Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung von kohle minderer qualitaet | |
| DE69006738D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur beseitigung von lösemitteldämpfen. | |
| AT353709B (de) | Verfahren und vorrichtung zur entfernung von detergentien aus waeschereiabwaessern | |
| AT374374B (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von gasen | |
| DE68905194D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schlaemmen und reinigung von abwaessern. | |
| DE69104274D1 (de) | Verfahren zur Beseitigung von Kohlendioxid. | |
| DE69129095D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von fotoempfindlichen Materialien | |
| DE69004983D1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Unterwasserablagerung von Abfall. | |
| ATE189534T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlacken | |
| DE69330125D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur automatischen Änderung der Betriebsbedingungen von Machinen oder Apparaten | |
| DE3771654D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung von schlammwasser. | |
| DE69025885D1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung der Ablauffolge eines industriellen Verfahrens | |
| DE69000266D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur verbesserung des langelier-index von staedtischem wasser. | |
| DE59202875D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Temperaturbehandlung eines Gemisches von festen Stoffen und Gasen. | |
| DE69419325D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur biologischen Behandlung von verschmutztem Wasser, Schlämmen und Ablagerungen | |
| AT399495B (de) | Verfahren und vorrichtung zur entsorgung von kohlendioxid | |
| ATA368778A (de) | Verfahren und vorrichtung zur reinigung von verschmutztem wasser |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RER | Ceased as to paragraph 5 lit. 3 law introducing patent treaties |