ATE281753T1 - Verfahren zur erzeugung einer extrem-ultraviolett-strahlungsquelle und deren anwendung in der lithographie - Google Patents

Verfahren zur erzeugung einer extrem-ultraviolett-strahlungsquelle und deren anwendung in der lithographie

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ATE281753T1
ATE281753T1 AT00979727T AT00979727T ATE281753T1 AT E281753 T1 ATE281753 T1 AT E281753T1 AT 00979727 T AT00979727 T AT 00979727T AT 00979727 T AT00979727 T AT 00979727T AT E281753 T1 ATE281753 T1 AT E281753T1
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lithography
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Daniele Babonneau
Remy Marmoret
Laurence Bonnet
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Commissariat Energie Atomique
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AT00979727T 1999-11-15 2000-11-14 Verfahren zur erzeugung einer extrem-ultraviolett-strahlungsquelle und deren anwendung in der lithographie ATE281753T1 (de)

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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10205189B4 (de) * 2002-02-06 2012-06-28 Xtreme Technologies Gmbh Verfahren zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung auf Basis eines strahlungsemittierenden Plasmas
DE10219173A1 (de) * 2002-04-30 2003-11-20 Philips Intellectual Property Verfahren zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolett-Strahlung
DE10359464A1 (de) * 2003-12-17 2005-07-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von insbesondere EUV-Strahlung und/oder weicher Röntgenstrahlung
CN101002305A (zh) * 2005-01-12 2007-07-18 株式会社尼康 激光等离子euv光源、靶材构件、胶带构件、靶材构件的制造方法、靶材的提供方法以及euv曝光装置
US20060233309A1 (en) * 2005-04-14 2006-10-19 Joerg Kutzner Laser x-ray source apparatus and target used therefore
US8019046B1 (en) 2009-04-15 2011-09-13 Eran & Jan, Inc Apparatus for generating shortwave radiation
NL2004706A (nl) * 2009-07-22 2011-01-25 Asml Netherlands Bv Radiation source.
KR101104996B1 (ko) * 2009-08-31 2012-01-16 한국원자력연구원 다공성 금속 타겟, 그 제조 방법 및 그를 이용한 극자외선 생성 방법
JP5573255B2 (ja) * 2010-03-11 2014-08-20 富士ゼロックス株式会社 定着装置及び画像形成装置
CN103718654B (zh) * 2011-08-05 2016-04-20 Asml荷兰有限公司 辐射源和用于光刻设备的方法和器件制造方法
UA123038C2 (uk) * 2014-05-22 2021-02-10 Аустреліан Нуклеар Саєнс Енд Текнолоджі Органісейшн Візуалізація гамма-випромінювання
US20170311429A1 (en) 2016-04-25 2017-10-26 Asml Netherlands B.V. Reducing the effect of plasma on an object in an extreme ultraviolet light source
CN114624959B (zh) * 2020-12-11 2025-09-05 北京大学 一种高效率极紫外辐射产生方法及系统

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4504964A (en) * 1982-09-20 1985-03-12 Eaton Corporation Laser beam plasma pinch X-ray system
DE3342531A1 (de) 1983-11-24 1985-06-05 Max Planck Gesellschaft Verfahren und einrichtung zum erzeugen von kurz dauernden, intensiven impulsen elektromagnetischer strahlung im wellenlaengenbereich unter etwa 100 nm
US4700371A (en) * 1984-11-08 1987-10-13 Hampshire Instruments, Inc. Long life x-ray source target
US5433988A (en) * 1986-10-01 1995-07-18 Canon Kabushiki Kaisha Multi-layer reflection mirror for soft X-ray to vacuum ultraviolet ray
US4731786A (en) * 1987-05-05 1988-03-15 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Method and apparatus for producing durationally short ultraviolet or X-ray laser pulses
JP2576278B2 (ja) * 1990-08-31 1997-01-29 株式会社島津製作所 X線発生装置
RU2030826C1 (ru) * 1991-04-15 1995-03-10 Анатолий Васильевич Еньшин Способ преобразования лазерного излучения
JPH0732073B2 (ja) * 1991-07-19 1995-04-10 工業技術院長 極短波長レーザ用プラズマ発生装置
AU7570694A (en) * 1993-10-19 1995-05-11 General Electric Company Improved speed sensor
KR100251423B1 (ko) * 1994-07-12 2000-04-15 피터 이. 외팅거 채강 내면에 예상선속량을 공급하기 위한 x-선장치
JPH0850874A (ja) * 1994-08-10 1996-02-20 Hitachi Ltd 荷電粒子投射方法および装置
JPH10208998A (ja) * 1997-01-17 1998-08-07 Hitachi Ltd レーザプラズマx線発生装置とそれを用いた微細パターン転写方法および装置
US6339634B1 (en) * 1998-10-01 2002-01-15 Nikon Corporation Soft x-ray light source device
JP2000348895A (ja) * 1999-06-01 2000-12-15 Kansai Tlo Kk パルス状高輝度硬X線またはγ線の発生方法および装置
US6931097B1 (en) * 1999-07-22 2005-08-16 Corning Incorporated Extreme ultraviolet soft x-ray projection lithographic method system and lithographic elements
FR2802311B1 (fr) * 1999-12-08 2002-01-18 Commissariat Energie Atomique Dispositif de lithographie utilisant une source de rayonnement dans le domaine extreme ultraviolet et des miroirs multicouches a large bande spectrale dans ce domaine

Also Published As

Publication number Publication date
RU2249926C2 (ru) 2005-04-10
KR20020052204A (ko) 2002-07-02
US6927405B1 (en) 2005-08-09
JP2003515109A (ja) 2003-04-22
FR2801113A1 (fr) 2001-05-18
CN100373993C (zh) 2008-03-05
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TW473822B (en) 2002-01-21
AU1712301A (en) 2001-05-30
EP1230828B1 (de) 2004-11-03
DE60015593D1 (de) 2004-12-09
FR2801113B1 (fr) 2003-05-09
KR100745704B1 (ko) 2007-08-02
EP1230828A1 (de) 2002-08-14
WO2001037618A1 (fr) 2001-05-25
CN1390435A (zh) 2003-01-08

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