ATE346290T1 - Verfahren zur herstellung einer integrierten sensormatrixanordung - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer integrierten sensormatrixanordung

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ATE346290T1
ATE346290T1 AT00850013T AT00850013T ATE346290T1 AT E346290 T1 ATE346290 T1 AT E346290T1 AT 00850013 T AT00850013 T AT 00850013T AT 00850013 T AT00850013 T AT 00850013T AT E346290 T1 ATE346290 T1 AT E346290T1
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AT
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shadow mask
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openings
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resist
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AT00850013T
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Per-Erik Faegerman
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Appliedsensor Sweden Ab
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/403Cells and electrode assemblies
    • G01N27/414Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
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AT00850013T 1999-01-25 2000-01-24 Verfahren zur herstellung einer integrierten sensormatrixanordung ATE346290T1 (de)

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