ATE464647T1 - Teilchenoptische komponente - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title 1
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- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
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- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/04—Means for controlling the discharge
- H01J2237/049—Focusing means
- H01J2237/0492—Lens systems
- H01J2237/04922—Lens systems electromagnetic
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
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- H01J2237/049—Focusing means
- H01J2237/0492—Lens systems
- H01J2237/04926—Lens systems combined
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/12—Lenses electrostatic
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/12—Lenses electrostatic
- H01J2237/121—Lenses electrostatic characterised by shape
- H01J2237/1215—Annular electrodes
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
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- H01J2237/14—Lenses magnetic
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/14—Lenses magnetic
- H01J2237/1405—Constructional details
-
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/14—Lenses magnetic
- H01J2237/1405—Constructional details
- H01J2237/141—Coils
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/14—Lenses magnetic
- H01J2237/1405—Constructional details
- H01J2237/1415—Bores or yokes, i.e. magnetic circuit in general
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2813—Scanning microscopes characterised by the application
- H01J2237/2817—Pattern inspection
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Multi-Conductor Connections (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Magnetic Means (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US74058105P | 2005-11-28 | 2005-11-28 | |
| PCT/EP2006/011413 WO2007060017A2 (en) | 2005-11-28 | 2006-11-28 | Particle-optical component |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ATE464647T1 true ATE464647T1 (de) | 2010-04-15 |
Family
ID=37728176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT06829160T ATE464647T1 (de) | 2005-11-28 | 2006-11-28 | Teilchenoptische komponente |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US20090159810A1 (de) |
| EP (7) | EP2267754B1 (de) |
| JP (1) | JP5663722B2 (de) |
| KR (2) | KR101589306B1 (de) |
| CN (3) | CN102103966B (de) |
| AT (1) | ATE464647T1 (de) |
| DE (1) | DE602006013707D1 (de) |
| WO (1) | WO2007060017A2 (de) |
Families Citing this family (107)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5227643B2 (ja) * | 2008-04-14 | 2013-07-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 高分解能でかつ高コントラストな観察が可能な電子線応用装置 |
| DE102008064696B4 (de) * | 2008-12-23 | 2022-01-27 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenoptische Vorrichtung mit Magnetanordnung und ihre Verwendung zum Abbilden oder Beleuchten |
| US9336981B2 (en) | 2010-04-09 | 2016-05-10 | Applied Materials Israel Ltd. | Charged particle detection system and multi-beamlet inspection system |
| WO2012041464A1 (en) | 2010-09-28 | 2012-04-05 | Applied Materials Israel Ltd. | Particle-optical systems and arrangements and particle-optical components for such systems and arrangements |
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| CN102148122B (zh) * | 2011-02-16 | 2012-07-18 | 北京航空航天大学 | 应用于透射电子显微镜的层叠式低像差会聚小透镜 |
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| GB2497758A (en) * | 2011-12-20 | 2013-06-26 | Univ Antwerpen | Generation of charged particle vortex waves |
| EP2665082A1 (de) * | 2012-05-16 | 2013-11-20 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Element für schnelle Magnetstrahlablenkung |
| JP5667618B2 (ja) * | 2012-12-14 | 2015-02-12 | 株式会社アドバンテスト | 電磁レンズ及び電子ビーム露光装置 |
| JP6161430B2 (ja) * | 2013-06-25 | 2017-07-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子レンズ及び荷電粒子線装置 |
| DE102013014976A1 (de) | 2013-09-09 | 2015-03-12 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenoptisches System |
| DE102013016113B4 (de) | 2013-09-26 | 2018-11-29 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zum Detektieren von Elektronen, Elektronendetektor und Inspektionssystem |
| US9263233B2 (en) | 2013-09-29 | 2016-02-16 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Charged particle multi-beam inspection system and method of operating the same |
| CN105765691B (zh) | 2013-09-30 | 2018-02-02 | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 | 带电粒子束系统和操作带电粒子束系统的方法 |
| US9966218B2 (en) * | 2014-04-28 | 2018-05-08 | Hitachi High-Technologies Corporation | Electron beam device |
| DE102014008083B9 (de) | 2014-05-30 | 2018-03-22 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlsystem |
| DE102014008105B4 (de) | 2014-05-30 | 2021-11-11 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Mehrstrahl-Teilchenmikroskop |
| DE102014008383B9 (de) | 2014-06-06 | 2018-03-22 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben einer Teilchenoptik |
| TWI502616B (zh) * | 2014-08-08 | 2015-10-01 | Nat Univ Tsing Hua | 桌上型電子顯微鏡以及其廣域可調式磁透鏡 |
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| JP6177817B2 (ja) * | 2015-01-30 | 2017-08-09 | 松定プレシジョン株式会社 | 荷電粒子線装置及び走査電子顕微鏡 |
| DE102015202172B4 (de) | 2015-02-06 | 2017-01-19 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlsystem und Verfahren zur teilchenoptischen Untersuchung eines Objekts |
| US9691588B2 (en) | 2015-03-10 | 2017-06-27 | Hermes Microvision, Inc. | Apparatus of plural charged-particle beams |
| JP6718782B2 (ja) * | 2016-09-21 | 2020-07-08 | 日本電子株式会社 | 対物レンズおよび透過電子顕微鏡 |
| DE102016120902B4 (de) | 2016-11-02 | 2018-08-23 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Vielstrahl-Teilchenmikroskop |
| JP6814282B2 (ja) | 2017-03-29 | 2021-01-13 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
| CN111033676B (zh) | 2017-09-04 | 2022-08-30 | 株式会社日立高新技术 | 带电粒子线装置 |
| DE102018202428B3 (de) | 2018-02-16 | 2019-05-09 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Vielstrahl-Teilchenmikroskop |
| DE102018202421B3 (de) | 2018-02-16 | 2019-07-11 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem |
| CN112055886A (zh) | 2018-02-27 | 2020-12-08 | 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司 | 带电粒子多束系统及方法 |
| US10811215B2 (en) | 2018-05-21 | 2020-10-20 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Charged particle beam system |
| DE102018115012A1 (de) | 2018-06-21 | 2019-12-24 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlsystem |
| DE102018007455B4 (de) | 2018-09-21 | 2020-07-09 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Verfahren zum Detektorabgleich bei der Abbildung von Objekten mittels eines Mehrstrahl-Teilchenmikroskops, System sowie Computerprogrammprodukt |
| DE102018007652B4 (de) | 2018-09-27 | 2021-03-25 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Teilchenstrahl-System sowie Verfahren zur Stromregulierung von Einzel-Teilchenstrahlen |
| DE102018124044B3 (de) * | 2018-09-28 | 2020-02-06 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenstrahlmikroskops und Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem |
| DE102018124219A1 (de) | 2018-10-01 | 2020-04-02 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben eines solchen |
| US11264198B2 (en) * | 2018-10-15 | 2022-03-01 | Applied Materials Israel Ltd. | Objective lens arrangement |
| DE102018133703B4 (de) | 2018-12-29 | 2020-08-06 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Teilchenstrahlen und Vielstrahl-Teilchenstrahlsysteme |
| TWI743626B (zh) | 2019-01-24 | 2021-10-21 | 德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 | 包含多束粒子顯微鏡的系統、對3d樣本逐層成像之方法及電腦程式產品 |
| CN111477530B (zh) | 2019-01-24 | 2023-05-05 | 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司 | 利用多束粒子显微镜对3d样本成像的方法 |
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| DE102019004124B4 (de) | 2019-06-13 | 2024-03-21 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Teilchenstrahl-System zur azimutalen Ablenkung von Einzel-Teilchenstrahlen sowie seine Verwendung und Verfahren zur Azimut-Korrektur bei einem Teilchenstrahl-System |
| DE102019005364B3 (de) * | 2019-07-31 | 2020-10-08 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | System-Kombination eines Teilchenstrahlsystem und eines lichtoptischen Systems mit kollinearer Strahlführung sowie Verwendung der System-Kombination |
| DE102019005362A1 (de) | 2019-07-31 | 2021-02-04 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Verfahren zum Betreiben eines Vielzahl-Teilchenstrahlsystems unter Veränderung der numerischen Apertur, zugehöriges Computerprogrammprodukt und Vielzahl-Teilchenstrahlsystem |
| DE102019008249B3 (de) | 2019-11-27 | 2020-11-19 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Teilchenstrahl-System mit einer Multistrahl-Ablenkeinrichtung und einem Strahlfänger, Verfahren zum Betreiben des Teilchenstrahl-Systems und zugehöriges Computerprogrammprodukt |
| KR102919104B1 (ko) | 2020-02-03 | 2026-01-29 | 아이엠에스 나노패브릭케이션 게엠베하 | 멀티―빔 라이터의 블러 변화 보정 |
| EP4100986A1 (de) | 2020-02-04 | 2022-12-14 | Carl Zeiss MultiSEM GmbH | Mehrstrahl-digitalabtastung und bilderfassung |
| EP3872837A1 (de) * | 2020-02-25 | 2021-09-01 | The Provost, Fellows, Scholars and other Members of Board of Trinity College Dublin | Polstück für ein elektronenmikroskop |
| JP7689139B2 (ja) | 2020-03-12 | 2025-06-05 | カール ツァイス マルティセム ゲゼルシヤフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | マルチビーム発生ユニットおよびマルチビーム偏向ユニットの特定の改善 |
| DE102020107738B3 (de) | 2020-03-20 | 2021-01-14 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Teilchenstrahl-System mit einer Multipol-Linsen-Sequenz zur unabhängigen Fokussierung einer Vielzahl von Einzel-Teilchenstrahlen, seine Verwendung und zugehöriges Verfahren |
| DE102020115183B4 (de) | 2020-06-08 | 2026-01-29 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Teilchenstrahlsystem mit Multiquellensystem sowie Mehrstrahl-Teilchenmikroskop |
| DE102020121132B3 (de) | 2020-08-11 | 2021-09-23 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Verfahren zum Betreiben eines Vielzahl-Teilchenstrahlsystems mit einem Spiegel-Betriebsmodus und zugehöriges Computerprogrammprodukt |
| DE102020123567B4 (de) | 2020-09-09 | 2025-02-13 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Vielzahl-Teilchenstrahl-System mit Kontrast-Korrektur-Linsen-System |
| DE102021105201B4 (de) | 2021-03-04 | 2024-10-02 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Vielzahl-Teilchenstrahlmikroskop und zugehöriges Verfahren mit schnellem Autofokus mit speziellen Ausführungen |
| DE102020125534B3 (de) | 2020-09-30 | 2021-12-02 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Vielzahl-Teilchenstrahlmikroskop und zugehöriges Verfahren mit schnellem Autofokus um einen einstellbaren Arbeitsabstand |
| TW202220012A (zh) | 2020-09-30 | 2022-05-16 | 德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 | 在可調工作距離附近具快速自動對焦之多重粒子束顯微鏡及相關方法 |
| DE102021200799B3 (de) | 2021-01-29 | 2022-03-31 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Verfahren mit verbesserter Fokuseinstellung unter Berücksichtigung eines Bildebenenkipps in einem Vielzahl-Teilchenstrahlmikroskop |
| DE102021112503B4 (de) * | 2021-05-12 | 2025-03-27 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlvorrichtung mit einer Ablenkeinheit |
| TW202312205A (zh) | 2021-05-27 | 2023-03-16 | 德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 | 多重射束帶電粒子系統與在多重射束帶電粒子系統中控制工作距離的方法 |
| DE102021205394B4 (de) | 2021-05-27 | 2022-12-08 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Verfahren zum Betrieb eines Vielstrahlmikroskops mit an eine Inspektionsstelle angepassten Einstellungen |
| DE102021116969B3 (de) | 2021-07-01 | 2022-09-22 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Verfahren zur bereichsweisen Probeninspektion mittels eines Vielstrahl-Teilchenmikroskopes, Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop zur Halbleiterprobeninspektion |
| DE102021118561B4 (de) | 2021-07-19 | 2023-03-30 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskopes mit schneller Strahlstromregelung, Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop |
| DE102021118684B4 (de) | 2021-07-20 | 2024-11-28 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Verfahren zur Analyse von Störeinflüssen bei einem Vielstrahl-Teilchenmikroskop, zugehöriges Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop |
| DE102021119008A1 (de) | 2021-07-30 | 2023-02-02 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Verfahren zur Defekterkennung in einer Halbleiterprobe bei Probenbildern mit Verzeichnung |
| DE102021124099B4 (de) | 2021-09-17 | 2023-09-28 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops in einem Kontrast-Betriebsmodus mit defokussierter Strahlführung, Computerprogramprodukt und Vielstrahlteilchenmikroskop |
| DE102022104535B4 (de) * | 2022-02-25 | 2024-03-21 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Vielstrahl-Teilchenmikroskop zur Reduktion von Teilchenstrahl-induzierten Spuren auf einer Probe |
| JP2023165626A (ja) | 2022-05-04 | 2023-11-16 | アイエムエス ナノファブリケーション ゲーエムベーハー | マルチビームパターン規定装置 |
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- 2006-11-28 CN CN2010105282862A patent/CN102103966B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-11-28 KR KR1020087015748A patent/KR101589306B1/ko active Active
- 2006-11-28 DE DE602006013707T patent/DE602006013707D1/de active Active
- 2006-11-28 EP EP10012424A patent/EP2267754B1/de active Active
- 2006-11-28 CN CN2010105282491A patent/CN102103967B/zh active Active
- 2006-11-28 JP JP2008542650A patent/JP5663722B2/ja active Active
- 2006-11-28 EP EP10012425A patent/EP2267755A3/de not_active Withdrawn
- 2006-11-28 WO PCT/EP2006/011413 patent/WO2007060017A2/en not_active Ceased
- 2006-11-28 EP EP06829160A patent/EP1966815B1/de active Active
- 2006-11-28 CN CN2006800446092A patent/CN101379584B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-11-28 US US12/095,198 patent/US20090159810A1/en not_active Abandoned
- 2006-11-28 AT AT06829160T patent/ATE464647T1/de not_active IP Right Cessation
- 2006-11-28 EP EP10012453A patent/EP2270835B1/de active Active
- 2006-11-28 EP EP10012397A patent/EP2267753A3/de not_active Withdrawn
- 2006-11-28 EP EP10012454A patent/EP2270836B1/de not_active Not-in-force
- 2006-11-28 KR KR1020147008558A patent/KR20140061480A/ko not_active Withdrawn
- 2006-11-28 EP EP10003918A patent/EP2211368B1/de active Active
-
2016
- 2016-02-29 US US15/056,143 patent/US20160181054A1/en not_active Abandoned
-
2017
- 2017-06-26 US US15/632,658 patent/US10622184B2/en active Active
-
2020
- 2020-04-10 US US16/845,992 patent/US11527379B2/en active Active
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