ATE511089T1 - Verfahren zur herstellung von caf2- linsenrohlingen, insbesodere für die 193-nm- und 157-nm-lithographie mit minimierten defekten - Google Patents

Verfahren zur herstellung von caf2- linsenrohlingen, insbesodere für die 193-nm- und 157-nm-lithographie mit minimierten defekten

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ATE511089T1
ATE511089T1 AT05715479T AT05715479T ATE511089T1 AT E511089 T1 ATE511089 T1 AT E511089T1 AT 05715479 T AT05715479 T AT 05715479T AT 05715479 T AT05715479 T AT 05715479T AT E511089 T1 ATE511089 T1 AT E511089T1
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caf2
lithography
lens blanks
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AT05715479T
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Lutz Parthier
Michael Selle
Erik Foerster
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Hellma Materials Gmbh & Co Kg
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005059531A1 (de) 2005-12-13 2007-06-14 Schott Ag Herstellung hochreiner, besonders strahlungsbeständiger großvolumiger Einkristalle aus Kristallscherben
US8784970B2 (en) * 2010-07-22 2014-07-22 Nihon Kessho Kogaku Co., Ltd. Fluorite

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10010484A1 (de) * 2000-03-03 2001-09-13 Schott Glas Verfahren und Vorrichtung zur Züchtung von großvolumigen orientierten Einkristallen
JPH11240798A (ja) * 1998-02-26 1999-09-07 Nikon Corp 蛍石の製造方法及び光リソグラフィー用の蛍石
US6587202B2 (en) 2000-01-28 2003-07-01 Lambda Physik Ag Optical materials testing method
DE10010485C2 (de) 2000-03-03 2002-10-02 Schott Glas Verfahren zur Herstellung von hochhomogenen, grossformatigen Einkristallen aus Calciumfluorid sowie deren Verwendung
EP1338913A4 (de) * 2000-10-10 2006-09-27 Nikon Corp Verfahren zur bewertung der abbildungsleistung
AU2002213370A1 (en) * 2000-10-20 2002-05-06 Wavefront Sciences Inc. Method for computing visual performance from objective ocular aberration measurements
JP4029838B2 (ja) * 2001-07-05 2008-01-09 株式会社ニコン 光リソグラフィー用光学部材とその評価方法
TW571344B (en) * 2001-07-10 2004-01-11 Nikon Corp Manufacturing method for projection optic system
DE10142649A1 (de) 2001-08-31 2003-04-24 Schott Glas Verfahren zur Herstellung bruchfester Calciumfluorid-Einkristalle sowie deren Verwendung
RU2002115062A (ru) * 2002-05-31 2004-02-20 Корнинг Инкорпорейтид (Us) Способ выращивания монокристаллов фторида кальция
US7245361B2 (en) * 2002-06-04 2007-07-17 Nikon Corporation Method for evaluating refractive index homogeneity of optical member
DE10227345A1 (de) 2002-06-19 2004-01-15 Schott Glas Verfahren zur Bestimmung lokaler Strukturen in optischen Kristallen
DE102004008753A1 (de) 2004-02-23 2005-09-08 Schott Ag Herstellung von spannungsarmen, großvolumigen Kristallen mit geringer Spannungsdoppelbrechung und homogener Brechzahl, sowie deren Verwendung
DE102004008754A1 (de) 2004-02-23 2005-09-08 Schott Ag Herstellung von spannungsarmen, nicht (111)-orientierten, großvolumigen Einkristallen mit geringer Spannungsdoppelbrechung und homogener Brechzahl, sowie deren Verwendung
DE102004008752A1 (de) 2004-02-23 2005-09-08 Schott Ag Herstellung von großvolumigen CaF2-Einkristallen für die Verwendung als optische Bauelemente mit einer optischen Achse parallel zur (100) oder (110)-Kristallachse

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