ATE546562T1 - Verfahren zur herstellung eines oxid- sputtertargets mit einer ersten und einer zweiten phase - Google Patents

Verfahren zur herstellung eines oxid- sputtertargets mit einer ersten und einer zweiten phase

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ATE546562T1
ATE546562T1 AT09793942T AT09793942T ATE546562T1 AT E546562 T1 ATE546562 T1 AT E546562T1 AT 09793942 T AT09793942 T AT 09793942T AT 09793942 T AT09793942 T AT 09793942T AT E546562 T1 ATE546562 T1 AT E546562T1
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Hilde Delrue
Holsbeke Johnny Van
Nuno Carvalho
Bosscher Wilmert De
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Bekaert Advanced Coatings
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    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
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