ATE546562T1 - Verfahren zur herstellung eines oxid- sputtertargets mit einer ersten und einer zweiten phase - Google Patents

Verfahren zur herstellung eines oxid- sputtertargets mit einer ersten und einer zweiten phase

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ATE546562T1
ATE546562T1 AT09793942T AT09793942T ATE546562T1 AT E546562 T1 ATE546562 T1 AT E546562T1 AT 09793942 T AT09793942 T AT 09793942T AT 09793942 T AT09793942 T AT 09793942T AT E546562 T1 ATE546562 T1 AT E546562T1
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oxide
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Hilde Delrue
Holsbeke Johnny Van
Nuno Carvalho
Bosscher Wilmert De
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Bekaert Advanced Coatings
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    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014523969A (ja) 2011-06-27 2014-09-18 ソレラス・リミテッド スパッタリングターゲット
TWI623634B (zh) 2011-11-08 2018-05-11 塔沙Ｓｍｄ公司 具有特殊表面處理和良好顆粒性能之矽濺鍍靶及其製造方法
KR101485305B1 (ko) 2012-07-13 2015-01-21 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 소결체 및 아모르퍼스막
US9885109B2 (en) * 2012-08-08 2018-02-06 Umicore ITO ceramic sputtering targets with reduced In2O3 contents and method of producing it
CN205275690U (zh) * 2013-02-01 2016-06-01 应用材料公司 溅镀靶材组件
BE1026850B1 (nl) 2018-11-12 2020-07-07 Soleras Advanced Coatings Bv Geleidende sputter doelen met silicium, zirkonium en zuurstof
BE1028481B1 (nl) 2020-07-14 2022-02-14 Soleras Advanced Coatings Bv Sputterdoel met grote densiteit
BE1028482B1 (nl) 2020-07-14 2022-02-14 Soleras Advanced Coatings Bv Vervaardiging en hervullen van sputterdoelen
BE1030855B1 (nl) * 2022-09-09 2024-04-08 Soleras Advanced Coatings Bv Geleidend sputterdoel en methode om daarmee een laag af te zetten
CN115747744B (zh) * 2023-01-06 2023-04-21 中国科学院理化技术研究所 一种氧化镓铟薄膜及其制备方法
CN117185799A (zh) * 2023-09-11 2023-12-08 先导薄膜材料（广东）有限公司 一种锌镉氧靶材及其制备方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4407774C1 (de) * 1994-03-09 1995-04-20 Leybold Materials Gmbh Target für die Kathodenzerstäubung zur Herstellung transparenter, leitfähiger Schichten und Verfahren zu seiner Herstellung
JPH08246142A (ja) * 1995-03-03 1996-09-24 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 酸化物焼結体
JPH08246141A (ja) * 1995-03-03 1996-09-24 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 酸化物焼結体
JPH11229126A (ja) * 1998-02-13 1999-08-24 Mitsubishi Materials Corp 誘電体薄膜形成用スパッタリングターゲット材およびその製造方法
DE60023176T2 (de) * 1999-12-03 2006-06-14 Bekaert Sa Nv Sputtertarget und verfahren zur herstellung eines solchen targets
JP2003239067A (ja) * 2002-02-18 2003-08-27 Ushio Inc Ｄｃスパッタ蒸着用ターゲット
US20070137999A1 (en) * 2004-03-15 2007-06-21 Bekaert Advanced Coatings Method to reduce thermal stresses in a sputter target
US8435388B2 (en) * 2005-11-01 2013-05-07 Cardinal Cg Company Reactive sputter deposition processes and equipment
JP4982423B2 (ja) * 2008-04-24 2012-07-25 株式会社日立製作所 酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットと、それを用いて得られる酸化亜鉛薄膜を有する表示素子及び太陽電池
ATE532886T1 (de) * 2008-09-19 2011-11-15 Oerlikon Trading Ag Verfahren zum herstellen von metalloxidschichten durch funkenverdampfung

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