BE1007894A3 - Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een patroon van gaten en/of holten. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een patroon van gaten en/of holten. Download PDFInfo
- Publication number
- BE1007894A3 BE1007894A3 BE9301422A BE9301422A BE1007894A3 BE 1007894 A3 BE1007894 A3 BE 1007894A3 BE 9301422 A BE9301422 A BE 9301422A BE 9301422 A BE9301422 A BE 9301422A BE 1007894 A3 BE1007894 A3 BE 1007894A3
- Authority
- BE
- Belgium
- Prior art keywords
- plate
- mask
- holes
- pattern
- cavities
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/148—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of electron emission flat panels, e.g. gate electrodes, focusing electrodes or anode electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
- B24C1/04—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for treating only selected parts of a surface, e.g. for carving stone or glass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C3/00—Abrasive blasting machines or devices; Plants
- B24C3/32—Abrasive blasting machines or devices; Plants designed for abrasive blasting of particular work, e.g. the internal surfaces of cylinder blocks
- B24C3/322—Abrasive blasting machines or devices; Plants designed for abrasive blasting of particular work, e.g. the internal surfaces of cylinder blocks for electrical components
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/241—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases the vessel being for a flat panel display
- H01J9/242—Spacers between faceplate and backplate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2217/00—Gas-filled discharge tubes
- H01J2217/38—Cold-cathode tubes
- H01J2217/49—Display panels, e.g. not making use of alternating current
- H01J2217/492—Details
- H01J2217/49207—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2329/00—Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
- H01J2329/86—Vessels
- H01J2329/8625—Spacing members
- H01J2329/863—Spacing members characterised by the form or structure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
Een plaat van niet-metallisch, in het bijzonder hard en bros, materiaal wordt na te zijn voorzien van een (metalen) masker met een aantal in een patroon gerangschikte gaten blootgesteld aan tenminste één straal met abrasieve poederdeeltjes die relatief t.o.v. de plaat bewogen wordt. Het masker wordt met zijn oppervlak tegenover het oppervlak waar de straal op invalt aan de plaat van elektrisch isolerend materiaal bevestigd m.b.v. een laag hechtmateriaal met een dikte die kleiner is dan de grootte van de abrasieve poederdeeltjes.
Description
<Desc/Clms Page number 1> Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een patroon van gaten en/of holten. De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch, i. h. b. elektrisch isolerend, materiaal met een aantal in een patroon gerangschikte holten en/of gaten. Dergelijke platen, die in het bijzonder van harde, brosse materialen zoals glas of keramisch materiaal kunnen zijn gemaakt, vinden in het bijzonder toepassing in elektro-luminescerende gasontladingsdisplays, zoals plasmadisplays, in veldemissiedisplays, in kathodestraaldisplays en in displays waarin elektronen in kanalen met wanden van elektrisch isolerend materiaal gepropageerd worden (z. g. elektronenfiberdisplays), waarbij de gaten of holten dienen voor het manipuleren van elektronenstromen. Ze kunnen uitgevoerd zijn als (multi-apertured) controleplaat en voorzien zijn van (adresseerbare) elektrodes die met de gaten samenwerken, als transportplaat met een aantal evenwijdige holten (transportkanalen), of als van gaten voorziene afstandplaat (b. v. tussen een controleplaat en het luminescerende scherm van een luminescerend display). In US Patent 4, 388, 550 wordt een luminescerend gasontladingsdisplay beschreven. Hierin is een controleplaat nodig die de individuele beeldpunten controleert. Deze controleplaat verdeelt de binnenruimte van zulke displays in twee gebieden, een plasmagebied en een naversnellingsgebied. Hij bevat een"geperforeerde"plaat met aan een zijde een lijnenrangschikking en aan de andere zijde een kolommenrangschikking van metalen geleiders of elektrodes die de perforaties omgeven of er langs lopen. Hiermee kunnen elektronen selectief vanuit het plasmagebied door de gaten heen naar het naversnellingsgebied getrokken worden en het luminescerende scherm treffen. Andere gasontladingsdisplays bevatten bijvoorbeeld platen met (tegenover elkaar liggende) holten. In het geval van een controleplaat wordt het aantal perforaties of gaten in een plaat van het hierboven beschreven type bepaald door het aantal gewenste <Desc/Clms Page number 2> beeldpunten. Bij hedendaagse televisielijnscan-patronen heeft men bijvoorbeeld te maken met ongeveer 500 x 700 beeldpunten met een horizontale steek van 0, 5 mm, en een verticale steek van 0, 7 mm. Deze bepalen het gatenpatroon dat in de controleplaat van elektrisch isolerend materiaal moet worden aangebracht. Uit EP 0 562 670 is het bekend dat deze patronen met behulp van een van gaten voorzien masker en een poederstraa1bewerking vervaardigd kunnen worden. Door het grote verschil in afnamesnelheid tussen het (metallische) maskermateriaal en het (niet-metallische) materiaal van het voorwerp waarin een gatenpatroon moet worden aangebracht (in het bijzonder glas) is dit proces mogelijk. Een probleem dat bij het gebruik van een op de te patroneren plaat gelijmd (metalen) masker blijkt op te treden is echter dat het masker tijdens het stralen soms (plaatselijk) loslaat, met als gevolg o. a. dat het niet meer goed aanligt op het van een patroon te voorziene product, wat ten koste gaat van de nauwkeurigheid van dat patroon. Ook als het masker niet loslaat is een probleem dat de gemaakte openingen vaak groter worden dan gewenst. De uitvinding heeft ten doel een (bij voorkeur eenvoudige) werkwijze voor het vervaardigen van een plaat, die in het bijzonder geschikt is voor de hierboven beschreven toepassingen, te verschaffen die de genoemde problemen vermindert. De werkwijze volgens de uitvinding wordt daartoe gekenmerkt doordat het patroon gemaakt wordt met behulp van de volgende stappen : - het produceren van tenminste één straal die abrasieve poederdeeltjes bevat ; - het richten van de straal op een oppervlak van de plaat ; - het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft ; - het uitvoeren van een relatieve beweging tussen de straal en de plaat ; waarbij voor het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft een masker wordt gebruikt dat met z'n oppervlak tegenover het oppervlak waar de straal op invalt aan de plaat niet-metallisch materiaal wordt bevestigd m. b. v. een laag hechtmateriaal met een dikte die kleiner <Desc/Clms Page number 3> is dan de grootte van de abrasieve poederdeeltjes. De uitvinding berust op het inzicht dat er tijdens het straalproces "onderstralen"of"onderetsen"plaatsvindt, hetgeen wordt veroorzaakt doordat de abrasieve korrels tijdens het stralen delen van de hechtlaag verwijderen. Daardoor kunnen er poederdeeltjes onder het masker komen, waardoor dit plaatselijk loslaat. Bovendien kunnen deze deeltjes de niet te bestralen delen aantasten. De te maken openingen worden hierdoor groter dan gewenst. Door gebruik van een zeer dunne hechtlaag met een dikte die kleiner is dan de grootte van de abrassieve korrels blijken de genoemde ongewenste verschijnselen nauwelijks meer voor te komen. Bij gebruik van een losse (metalen) plaat als masker is het van voordeel om deze op de te stralen plaat vast te kleven met een kleefmiddel dat zieh na afloop van het straalproces gemakkelijk laat verwijderen. (Kleefmiddelen op glucosebasis laten zieh bijvoorbeeld gemakkelijk met water verwijderen.) In het geval dat het (metalen) masker met behulp van een dunne laag kleefmiddel verlijmd is, is het van belang dat de hechtkracht van het kleefmiddel voldoende is om loskomen van het van een patroon te voorziene voorwerp ten gevolge van het opbouwen van mechanische spanningen in het masker te voorkomen. In het bijzonder kan dit optreden bij maskers met een hoge transmissie (klein lijmoppervlak). In die gevallen dat de dikte van een hechting op glucosebasis zo dun gekozen moet worden (in verband met de grootte van de te gebruiken straalkorrels) dat de lijmkracht zou kunnen te kort schieten (wat dus ook afhangt van het beschikbare hechtoppervlak), kan men als alternatief bijvoorbeeld een losbaar hechtmiddel (Engels : locking agent) gebruiken op acetaatbasis (Polyvinyl chloride acetaat, dat in aceton is op te lossen, is hier een representant van). Een dergelijk hechtmiddel kan men met voordeel in verdunde toestand in lagen van enkele microns dik aanbrengen met behulp van spin coaten. Bovengenoemd polyvinyl chloride acetaat is bijvoorbeeld goed met methyl ethyl keton te verdunnen. Deze en andere aspekten van de uitvinding zullen aan de hand van de volgende uitvoeringsvoorbeelden nader worden toegelicht. Fig. 1 toont een dwarsdoorsnede door een eerste van een geperforeerd masker voorziene plaat ; <Desc/Clms Page number 4> Fig. 2 toont een dwarsdoorsnede door een tweede van een geperforeerd masker voorziene plaat ; Fig. 3 toont een dwarsdoorsnede door een veldemissiedisplay ; Fig. 4 en 5 tonen schematisch het met behulp van een poederstraalinrichting aanbrengen van een gatenpatroon in een plaat. Voor het gebruik in verschillende soorten (elektro-luminescerende) displays zijn elektrisch isolerende (i. h. b. glazen) controleplaten, transportplaten en/of afstandplaten met zeer nauwkeurige gaten en/of holten patronen nodig. De plaatdikte kan liggen tussen 50 en 5000 micron, in het bijzonder tussen 50 en 700 micron. Een karakteristiek materiaal voor deze toepassingen is glas of keramiek. Fig. 1 toont een dwarsdoorsnede door een glazen plaat 1 van 0, 7 mm dik met daarop een metalen masker 2. Geschikte metalen zijn metalen die gemakkelijk etsbaar zijn, zoals Fe en Fe-legeringen. Bij voorkeur vertonen ze weinig"shot peening". Akoca (handelsmerk) is in dit opzicht een geschikt materiaal. Het masker 2 wordt met behulp van een kleeflaag 5 op de plaat 1 bevestigd om plaatselijk loskomen tijdens het poederstraalproces tegen te gaan. De kleeflaag 5 kan een in water oplosbaar kleefmiddel (bijvoorbeeld een kleefmiddel op basis van glucose) bevatten. Een dergelijk kleefmiddel laat zich eenvoudig en goedkoop aanbrengen en na gebruik eenvoudig verwijderen. De met stippellijnen aangegeven gaten 3 in de plaat 1 lopen in de uitvoeringsvorm van Fig. 1 enigszins taps toe. Bij toepassing als interne vacuümondersteuning (afstandplaat) in veldemissiedisplays is een dergelijke gatvorm niet ongebruikelijk. Men kan echter ook nagenoeg cilindrische gaten, of holten met nagenoeg evenwijdige wanden maken. Platen met cilindrische gaten zijn bijvoorbeeld geschikt om als spacer tussen een controleplaat en het luminescerende scherm in een elektronenfiberdisplay te dienen. In de situatie van figuur 1 zijn de gaten 3 aan hun bovenzijde tijdens het poederstraalproces groter geworden dan de gaten 4 in het masker. De uitvinding wijt dit aan "onderstralen", waarbij straalkorrels met een gemiddelde grootte kleiner dan de dikte van de laag 5 delen van het materiaal van de hechtlaag 5 wegnemen, waardoor er straalkorrels onder het masker 5 kunnen komen en niet te stralen delen van de plaat 1 kunnen aantasten. In de situatie van figuur 2 is dit onderstralen voorkomen. Ook in dat geval <Desc/Clms Page number 5> is een geperforeerd metalen masker (22) m. b. v. een hechtlaag (25) op een (0, 7 mm dikke) glazen plaat (21) gelijmd, maar de dikte van de hechtlaag 25 is nu kleiner dan de grootte van de bij het straalproces gebruikte korrels. De dikte is bij voorkeur kleiner dan de helft, of zelfs kleiner dan een derde van de korrelgrootte. Een hechtlaag 25 op glucosebasis, met een dikte van 10 microns werd b. v. gebruikt bij een straalproces met korrels met een gemiddelde grootte van 30 micron, en een d. m. v. spin coaten aangebrachte 5 micron dikke hechtlaag 25 van polyvinyl chloride acetaat werd gebruikt bij een straalproces met korrels met een gemiddelde grootte van 17 micron. In deze gevallen trad geen onderstralen op, zoals in figuur 2 is weergegeven. Fig. 3 toont een schematische dwarsdoorsnede door een veldemissiedisplay, met een substraat 40, konusvormige emissietips 41, een afstandplaat 42 met gaten 43 en een voorwand 45 met een luminescerend scherm 44. De afstandplaat 42 kan met voordeel met behulp van de werkwijze volgens de uitvinding vervaardigd worden. Fig. 4 toont een te stralen plaat 28 die op een support 29 ligt. Het support 29 is beweegbaar in de richting van de pijl P loodrecht op het vlak van de tekening. Op de plaat 28 is een masker 30 in de vorm van een geperforeerde metalen plaat aangebracht. Het masker 30 heeft in dit voorbeeld een regelmatig patroon van ronde gaten. (Zie Fig. 5). Een inrichting 31 voor het uitvoeren van een abrasieve bewerking (poederstraalinrichting) is schematisch getoond als een straaleenheid 32 voorzien van een nozzle 33 die naar het oppervlak van de plaat 28 gericht is. Er b. v. van afhankelijk of er gaten of holten gemaakt moeten worden, kan de nozzle/masker afstand liggen tussen 0, 5 en 25 cm, typisch tussen 2 en 5 cm. Tijdens bedrijf wordt er een straal met abrasieve poederdeeltjes, b. v. siliciumcarbide-deeltjes, aluminiumoxyde-deeltjes, glaskorrels, staalkorrels, of mengsels daarvan, uit de nozzle 33 geblazen. Hierbij kan een drukprincipe of een venturiprincipe gebruikt worden. Voor het doel van de uitvinding geschikte afmetingen van de abrasieve deeltjes liggen in het gebied tussen 1 en 200 micron, typisch tussen 10 en 100 micron. Straaleenheid 32 met nozzle 33 is in dit voorbeeld traverseerbaar in een richting dwars op de pijl P door middel van een traverseerinrichting 34 voorzien van een spindel 35, maar ook andere manieren van bewegen zijn toepasbaar. Met elektrische contacten uitgeruste eindstops worden getoond als 36 en 37 en worden verondersteld met een omkeerschakeling te zijn verbonden om de draaizin <Desc/Clms Page number 6> van de door een motor aan te drijven spindel 35 om te keren. Tijdens bedrijf beweegt het support 29 met de plaat 28 bijvoorbeeld heen en weer evenwijdig aan de X-as en voert de straaleenheid 32 axiale traverseerbewegingen evenwijdig aan de Y-as uit (Fig. 8), waarbij de bewegingssnelheden zodanig op elkaar zijn afgestemd dat het complete gewenste gaten-of holtenpatroon in de plaat 28 ontstaat. In plaats van één nozzle kan men (bijvoorbeeld om het proces te versnellen, maar in het bijzonder om de homogeniteit van het gewenste patroon te vergroten) een aantal nozzles gebruiken. Dit aantal kan bijvoorbeeld 4 of 6 zijn, maar eventueel ook 100. Voor een goede homogeniteit is het nuttig dat elke nozzle over elk stukje van het masker bewogen wordt. De werkwijze volgens de uitvinding is bijvoorbeeld ook geschikt om te worden toegepast bij het "snijden" van (cilindervormige) schijven uit platen, zoals onder andere voorkomt bij het vervaardigen van diodelichamen. Ook in die gevallen kan het van belang zijn om onderstralen, wat de juiste afmetingen van de schijven nadelig kan beinvloeden, te voorkomen.
Claims (1)
- CONCLUSIE : 1. Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een aantal in een patroon gerangschikte holten en/of gaten, waarbij het patroon gemaakt wordt met behulp van de volgende stappen : het produceren van tenminste een straal die abrasieve poederdeeltjes bevat ; het richten van de straal op een oppervlak van de plaat ; het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft ; het uitvoeren van een relatieve beweging tussen de straal en de plaat ; waarbij voor het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft een masker wordt gebruikt dat met z'n oppervlak tegenover het oppervlak waar de straal op invalt aan de plaat van niet-metallisch materiaal wordt bevestigd met behulp van een laag hechtmateriaal met een dikte die kleiner is dan de grootte van de abrasieve poederdeeltjes.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BE9301422A BE1007894A3 (nl) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een patroon van gaten en/of holten. |
| EP94203600A EP0660360B1 (en) | 1993-12-20 | 1994-12-12 | Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in a plate or layer of non-metallic material |
| DE69405969T DE69405969T2 (de) | 1993-12-20 | 1994-12-12 | Verfahren zur Erzeugung von Öffnungs- und/oder Vertiefungs-Mustern in einer nicht-metallischen Platte oder Schicht |
| JP6314990A JPH07205027A (ja) | 1993-12-20 | 1994-12-19 | 非金属材料の板又は層にあるパターンに配置される複数の空洞と開口の双方又はいずれか一方を設ける方法 |
| US08/359,377 US5593528A (en) | 1993-12-20 | 1994-12-20 | Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in a plate or layer of non-metallic material |
| US08/731,622 US5804009A (en) | 1993-12-20 | 1996-10-15 | Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in a plate or layer of non-metallic material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BE9301422A BE1007894A3 (nl) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een patroon van gaten en/of holten. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BE1007894A3 true BE1007894A3 (nl) | 1995-11-14 |
Family
ID=3887660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BE9301422A BE1007894A3 (nl) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een patroon van gaten en/of holten. |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5593528A (nl) |
| EP (1) | EP0660360B1 (nl) |
| JP (1) | JPH07205027A (nl) |
| BE (1) | BE1007894A3 (nl) |
| DE (1) | DE69405969T2 (nl) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69325123T2 (de) * | 1992-03-23 | 1999-11-18 | Koninklijke Philips Electronics N.V., Eindhoven | Verfahren zum Herstellen einer Platte aus einem elektrisch isolierenden Material mit einem Muster von Löchern oder Hohlräumen zum Gebrauch in Wiedergabeanordungen |
| JPH06334301A (ja) * | 1993-05-19 | 1994-12-02 | Murata Mfg Co Ltd | スル−ホ−ル配線基板の加工方法 |
| BE1007894A3 (nl) * | 1993-12-20 | 1995-11-14 | Philips Electronics Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een patroon van gaten en/of holten. |
| TW344696B (en) * | 1996-11-22 | 1998-11-11 | Philips Electronics Nv | Powder-blasting method |
| US5868603A (en) * | 1996-12-12 | 1999-02-09 | Corning Incorporated | Method for edge finishing glass sheets |
| JP3454654B2 (ja) * | 1997-01-13 | 2003-10-06 | 富士通株式会社 | 表示パネルの隔壁形成方法 |
| US5810644A (en) * | 1997-03-03 | 1998-09-22 | Borg-Warner Automotive, Inc. | Method of shaping a friction facing for friction plate assemblies |
| JPH1128667A (ja) * | 1997-07-10 | 1999-02-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用プラスチック研磨材およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル基板のサンドブラスト加工法、並びにサンドブラスト廃材の処理方法 |
| GB9915925D0 (en) * | 1999-07-08 | 1999-09-08 | Univ Loughborough | Flow field plates |
| JP2003507198A (ja) | 1999-08-18 | 2003-02-25 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | プレートに凹所又は開孔のパターンを形成する方法 |
| TW200529308A (en) * | 2000-03-31 | 2005-09-01 | Toyoda Gosei Kk | Method for dicing semiconductor wafer into chips |
| US6588484B1 (en) * | 2000-06-20 | 2003-07-08 | Howmet Research Corporation | Ceramic casting cores with controlled surface texture |
| US6648732B2 (en) * | 2001-01-30 | 2003-11-18 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Thin film coating of a slotted substrate and techniques for forming slotted substrates |
| JP2003062872A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-03-05 | Honda Motor Co Ltd | 樹脂型の表面微細加工方法 |
| JP4096810B2 (ja) * | 2003-01-28 | 2008-06-04 | セイコーエプソン株式会社 | 凹部付き基板の製造方法、凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ |
| JP4779611B2 (ja) * | 2005-12-02 | 2011-09-28 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削インサートの製造方法 |
| US20070164178A1 (en) * | 2006-01-17 | 2007-07-19 | Beilstein Christine D | Mounting receptacle with interchangeable hub |
| US8727831B2 (en) * | 2008-06-17 | 2014-05-20 | General Electric Company | Method and system for machining a profile pattern in ceramic coating |
| SG157979A1 (en) * | 2008-06-24 | 2010-01-29 | Panasonic Refrigeration Device | Method and system for processing a sheet of material |
| US8622784B2 (en) * | 2008-07-02 | 2014-01-07 | Huffman Corporation | Method for selectively removing portions of an abradable coating using a water jet |
| US10392718B2 (en) * | 2009-09-04 | 2019-08-27 | Apple Inc. | Anodization and polish surface treatment |
| TW201200297A (en) * | 2010-06-22 | 2012-01-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Sand-blasting apparatus and method for shaping product with same |
| JP5528262B2 (ja) * | 2010-08-25 | 2014-06-25 | 株式会社不二製作所 | サンドブラストによる切削加工方法 |
| TW201213047A (en) * | 2010-09-23 | 2012-04-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Cylindrical grinding apparatus and method for cylindrical grinding using same |
| EP2744928B1 (en) | 2011-08-18 | 2018-01-10 | Apple Inc. | Anodization and plating surface treatments |
| US9683305B2 (en) | 2011-12-20 | 2017-06-20 | Apple Inc. | Metal surface and process for treating a metal surface |
| EP3247508A4 (en) * | 2015-01-20 | 2018-09-19 | Ikonics Corporation | Apparatus and method for removing abrasive particles from within a panel |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4232059A (en) * | 1979-06-06 | 1980-11-04 | E-Systems, Inc. | Process of defining film patterns on microelectronic substrates by air abrading |
| JPH0458438A (ja) * | 1990-06-25 | 1992-02-25 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電型表示パネルの製造方法 |
| EP0562670A1 (en) * | 1992-03-23 | 1993-09-29 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a plate of electrically insulating material having a pattern of apertures and/or cavities |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2106979A (en) * | 1936-03-20 | 1938-02-01 | Robert H Kavanaugh | Protection of bodies for sandblasting ornamentation |
| JPS6020861A (ja) * | 1983-07-12 | 1985-02-02 | Asahi Chem Ind Co Ltd | サンドブラストによる彫刻法 |
| US4612737A (en) * | 1985-07-05 | 1986-09-23 | Rohr Industries, Inc. | Grit blast drilling of advanced composite perforated sheet |
| FR2644194A1 (fr) * | 1989-03-10 | 1990-09-14 | Titel Gie Groupe | Film protecteur destine a la protection temporaire de surfaces rugueuses |
| JPH0632097A (ja) * | 1991-02-18 | 1994-02-08 | Nippon Valqua Ind Ltd | 彫刻方法および彫刻用型紙 |
| BE1007894A3 (nl) * | 1993-12-20 | 1995-11-14 | Philips Electronics Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een patroon van gaten en/of holten. |
-
1993
- 1993-12-20 BE BE9301422A patent/BE1007894A3/nl not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-12-12 EP EP94203600A patent/EP0660360B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-12 DE DE69405969T patent/DE69405969T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-19 JP JP6314990A patent/JPH07205027A/ja active Pending
- 1994-12-20 US US08/359,377 patent/US5593528A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-10-15 US US08/731,622 patent/US5804009A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4232059A (en) * | 1979-06-06 | 1980-11-04 | E-Systems, Inc. | Process of defining film patterns on microelectronic substrates by air abrading |
| JPH0458438A (ja) * | 1990-06-25 | 1992-02-25 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電型表示パネルの製造方法 |
| EP0562670A1 (en) * | 1992-03-23 | 1993-09-29 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a plate of electrically insulating material having a pattern of apertures and/or cavities |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 16, no. 259 (E - 1215) 11 June 1992 (1992-06-11) * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07205027A (ja) | 1995-08-08 |
| US5593528A (en) | 1997-01-14 |
| EP0660360B1 (en) | 1997-10-01 |
| EP0660360A2 (en) | 1995-06-28 |
| EP0660360A3 (en) | 1995-09-06 |
| US5804009A (en) | 1998-09-08 |
| DE69405969D1 (de) | 1997-11-06 |
| DE69405969T2 (de) | 1998-03-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| BE1007894A3 (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een patroon van gaten en/of holten. | |
| EP0678217B1 (en) | Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in a plate of non-metallic material | |
| US5833516A (en) | Method of manufacturing a plate of electrically insulating material having a pattern of apertures and/or cavities | |
| US6422920B1 (en) | Methods of obtaining a pattern of concave spaces or apertures in a plate | |
| US5458520A (en) | Method for producing planar field emission structure | |
| KR20010043955A (ko) | 경사진 스퍼터링 타겟 | |
| US20110000635A1 (en) | Master mold for duplicating fine structure and production method thereof | |
| JP4424932B2 (ja) | 微細構造体複製用母型ならびに母型及び可とう性成形型の製造方法 | |
| JP2001319567A (ja) | 電子源基板および該電子源基板を用いた画像表示装置 | |
| EP0562670A1 (en) | Method of manufacturing a plate of electrically insulating material having a pattern of apertures and/or cavities | |
| US7458870B2 (en) | Producing method for substrate, producing apparatus for substrate, producing method for image display apparatus and image display apparatus | |
| KR100430590B1 (ko) | 샌드블라스팅 식각 속도가 다른 후막을 이용한 플라즈마디스플레이 소자의 후면판 격벽의 제조방법 | |
| JPH08328485A (ja) | 画像表示装置の製造方法及びこれを用いて製造された画像表示装置 | |
| KR20060106385A (ko) | 샌드블라스팅 공정 및 pdp 하판의 격벽 형성을 위한샌드블라스팅 공정 | |
| GB2224752A (en) | Patterned film deposition from perforated | |
| JPH09167558A (ja) | 表示パネルの隔壁形成方法 | |
| JPH07316821A (ja) | 多数の小孔を有する金属板と、その製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RE | Patent lapsed |
Owner name: PHILIPS ELECTRONICS N.V. Effective date: 19951231 |