BE691485A - - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Description
<Desc/Clms Page number 1>
FUJI SHASHIN FILM KABUSHIKI KAISHA
La présente invention se rapporte à un nouveau procédé de copie et à un film sensible à la lumière utilisé à cet effet.
Le matériel sensible à la lumière de l'inven- tion a, sur la surface d'un film ou feuille transparent ou translucide en résine synthétique, une couche sensible à la lumière capable de perdre ses propriétés adhésives envers le support par irradiation de lumière 4 travers le support, mais qui durcit par irradiation, directe.
Le procédé de copie de l'invention consiste à mettre un coriginal à copier en contact étroit avec le coté arrière de ce matériel sensible à la lumière, à exposer 1' ensemble, en abaissant ainsi l'adhérence à l'interface entre une portion exposée de la couche sensible à la lumière et le support en film ou feuille transparent ou translucide en ré- Bine synthétique, puis à frotter la surface de l'ensemble avec un tissu doux, pour enlever du support la partie ainsi
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peu adhérente et conserver seulement une portion non exposée de la couche sensible à. la lumière @ le support.
Lorsque la couche-sensible à la lumière est préalablement colorée par l'addition d'un pigment ou d'un colorant, le uatériel sensi- ble à la lumière traité de la manière mentionnés ci-dessus est réexposé du côté de la couche sensible à la lumière pour durcir. Lorsque la couche os@bl@ à la lumière n'est pas colorée, on applique un pig@@@nt, un colorant ou une encre sur la co he een ible à la lumière pour colorer la portion non xposée de la o@ sens )le . la lumière, puis la portion ainsi colorée est exposée du uôté de la couche sensible à la lumière pour durcir.
Le matériel sensible à la lumière de la présen- te invention ainsi obtenu est utilisé comme copie ayant un lustre magnifique puisque le support est transparent, et on peut encore l'utiliser comme original dit seoondaire avec ob- tention d'une copie très nette.
Des exemples typiques de film ou feuille trans- parent ou cranslucide en résine synthétique sont le poly (téréphtalate d'éthylène), le polystyrène, un polyoarbonate, le polypropylène, le chlorure de polyvinyle, un ester cellulo- sique, etc. La surface de ce support est ordinairement trai- tée par le procédé physique ou chimique conventionnel, préa- lablement à l'application de la couche sensible à la lumière, en vue de lui conférer des propriétés hydrophiles et d'exal-. ter l'adhérence avec la couche sensible à la lumière.
La couche sensible à la lumière, à appliquer sur le support en film ou feuille transparent ou translucide en résine synthétique, consiste en un mélange d'une matière . à poids moléculaire élevé, soluble dans l'eau ou hydrophile, comme la polyacrylamide, la gélatine, l'alcool polyvinylique,.
l'hydroxyéthyl-oellulQse, le monoacétate de cellulose et la gomme arabique, et d'un diazo-composé comme la 4-diazo-2,5-
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diéthoxyphénylmorpholine-chlorure de zinc, le chlorure de p-diazo-diéthylaniline-chlorure de zinc et le chlorure de 2,5-diméthoxy-4'-toluylmercaptobenzène-diazonium-chlorure de zinc, que l'on peut mélanger avec un pigment ou un co- lorant ou une matière servant 4 ,,-,tacher la couche sensible à la lumière du support par exposition à la lumière, par exemple un agent tensioaotif non ionique, L'épaisseur de la couche sensible à la lumière est de préférence infé- rieurs à 2 microns à sec.
Lorsque l'arrière du matériel sensible à la lumière est mis en contact étroit avec un positif comme original et que l'on irradie des rayons ultraviolets sur son arrière, l'adhérence entre la couche sensible à la lu.., mière exposée et le support s'afaiblet & l'interface qui les sépare. Le support doit être tr nsparent dans l'inven- tion parce qu'il est requis que l'arrière (côté opposé à la couche sensible à la lumière) du matériel sensible à la lumière de la présente invention soit en contact étroit avec un original à copier et exposé à la lumière.
Lorsque le matériel senuible à la lumière, qui a été exposé, est frotté avec un tissu doux, la partie de la couche sensible à la lumière qui a perdu son adhérence est enlevée du support et la partie résiduelle ou non exposée correspondant à l'image de l'original est conservée sur le sup- port. Le matériel sensible à la lumière ainsi développé est soumis à une exposition du coté de la couche sensible à la lumière, cette dernière se durcissant et étant fixée, On n'a pas élucidé clairement jusqu'à présent comment ce phénomène se produit.
Quoi qu'il en soit, il est surprenant qu'en utilisant le matériel sensible à la lumière de la présente invention, l'adhérence soit abaissée à l'interface entre la
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couche sensible à la lumière et le support par irradiation de lumière du côté opposé à la couche sensible à la lumière, et que la couche sensible à la lumière soit durcie ou fixée par irradiation de lumière @u côté de la oouohe sensible à la lumière.
On a trouvé, ocmme résultat de nombreuses expé- rienoes en utilisant des matériels sensibles à la lumière dont la nature du support varie, par exemple du poly(téré- phtalate d'éthylène), du chlorure de polyvinyle, un polycar- bonate et du polypropylène, que le proche de copie qui pré- cède fournit de bons résultats en fonet on de la nature du aupport.
En l'occurrence on choisit un original parmi des films photographiques, du papier de tirage et divers papiers de copie ainai que parmi des papiers ordinaires écrits au crayon, à l'encre ou à la machine à écrire.
Ainsi, la copie peut être effectuée simplement et rapidement en reproduisant les détails d'une image. L' emploi d'un positif comme original conduit à un positif sur le matériel sensible à la lumière de la présente inven- tion, tandis que l'emploi d'un négatif conduit à un négatif.
Si le matériel sensible à la lumière, après exposition et enlèvement de la couche sensible à la lumière exposée, est traité avec une encre miscible à l'huile et qu'il est ensuite fixé de la manière indiquée plus haut, un original négatif est copié sous forme de positif ou un original positif est oopié sous forme de négatif. @ @
Cette copie peut être adaptée à un dispositif . @ ou au traçage d'un dessin animé à cause de la grande netteté des lignes de l'image et de la transparence du support, tout comme elle convient évidemment aussi pour une image transpa- rente ou un original dit secondaire.
Les diverses particularités et avantages du ma-
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tériel sensible à la lumière de la prdeerte invention, ea utilisant un film ou feuille transparent en résine synthétique comme support, sont résumés oz.at.jn comparativesuMit à des matériels sensibles à la lumière du type diazo appar- tenant à l'état de la technique,
EMI5.2
1. le '.'"alternent du présent matér,1.wî peut se faire plus sim... plement que 3ans le cas du matériel aeLsible à la lumière du type diezo dé;l oonnu.
La coloration pvl.ab.e de la. couche sensible à la lumière peut coY\'uJ.re ---i système d.è traitement à sec, puisque le développement peut se faire simplement en frottant légèrement avec un tissu ou une épon-
EMI5.3
ge et que le fixage peut se faire par xexpos.tion; 2. l'emploi de la copie résultante ct%!,e second original peut donner en outre une copie llet ooi..# axat3.vement au ma- tériel sensible à la lumière courbât du type diazo dans le- quel le support consiste en une feuille de papier, de métal
EMI5.4
ou de résine aypthétïque opaque.
3. le pl.aseasnt de la coupleur d'une image par la lumière ne se produit guère et la résistance de l'image est semi- permanente puisque, dans la présente invention, l'image est
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obtenue, non pas par formation cirarr:.. ,ne d'un diazo-oomposé, mais par un colorant ou pigment.
Se rapportant aux dessine 4'aooompaSnement, 1 est un support en résine aynthdth3.,us hydrophobe, 2 est une couche sensible à la lumière, 2' est une couche sensible à la lumière durcie et fixée par irradiation avec des rayons ultraviolets et 3 est un original positif.,
Les exemples suivante sont donnes en vue d' illustrer l'invention, dans laquelle les parties sont ex- primées en poids, Exemple.1
EMI5.6
La surface d'un support en poly(téréphtalate dol
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éthylène) biorienté est przparée par un procédé convention- nel puis ensuite avec une solution ayant la composition sui- vante, de manière à obtenir une épaisseur de 1 mieron à sec ,
EMI6.1
<tb> polyaorylamide <SEP> 2 <SEP> parties
<tb>
<tb> produit <SEP> de <SEP> condensation <SEP> de <SEP> p-
<tb>
<tb>
<tb> diazo-phénylamine <SEP> 2 <SEP> partit <SEP> .
<SEP>
<tb>
<tb>
<tb> eau <SEP> 100 <SEP> parties
<tb>
<tb>
<tb> polyoxyéthylène <SEP> (poids <SEP> mol.600) <SEP> 0,5 <SEP> partie
<tb>
<tb>
<tb> pigment <SEP> 0,5 <SEP> partie
<tb>
Après enduction on sèche pendant environ 30 minutes dans de l'air à 50 C circulant lentement. L'arrié- re du matériel sensible à la lumière ainsi préparé du type diazo est mis en contact étroit avec un positif et il est soumis à une exposition pendant 10 secondes à une distance de 4 om d'une lampe à meroure à haut voltage de 800 W.
On frotte alors toute la surface de la couche sensible à la lumière avec un tissu, sec. Sa partie exposée est aisé- ment détachée du support à cause de l'abaissement de l'adhé- rance en cet endroit, seule la partie non exposée étant rete- nue par le support. Le matériel sensible à la lumière est ensuite également exposé du coté de la couche sensible à la. lumière et il est ainsi durci et fixé*
Le matériel sensible ainsi développé et fixé présente une excellente stabilité dimensionnelle envers 1' humidité.
Exemple 2
Sur un support en poly(téréphtalate d'éthylène) traité de la même manière qu'à l'exemple 1, on applique une solution ayant la composition suivante , de mahière à obte- @ nir une épaisseur de couche de 1 micron sec:
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EMI7.1
hydroxyë thyl-o ellulo se (Caelonize WP 4400) 0,15 partie chlorure de p-diazophénylamine.
EMI7.2
<tb> chlorure <SEP> de <SEP> zinc <SEP> 1,5 <SEP> parties
<tb>
<tb> eau <SEP> 80 <SEP> parties
<tb>
<tb> méthanol <SEP> 20 <SEP> partira
<tb>
<tb> pigment <SEP> 0,4 <SEP> partie
<tb>
EMI7.3
Apres enduotion, on aourw 4- "'1; ma6r3.a.
Yeers.- ble à la lumière résultant à la oopie d'un positif comme à l'exemple 1, ce qui conduit de façon simple t rapide à' un film copié d'une netteté excellente dans les détails de l'image et présentant une excellente stabilité à 1' humidité,'
Exemple 3
On traite un support conatitué suivant le cas en chlorure de polyvinyle, en polycarbonate et en
EMI7.4
polypropylène de la manière oonveaionnùl1et on enduit la surface traitée avec une couche sensible à la lumière ayant la composition donnée à l'exemple 1 et on copie un positif
EMI7.5
de la mtma manière ,uà l'exemple 1, On obtient les mê'mee résultats qu' à l'exemple 1 en fonction de la nature du support.
Claims (1)
- REVENDICATION ------------ Procède de copie, caractérise en ce qu'on met en contact étroit un original avec la surface arrière d'un film sensible à la lumière préparé en formant une couche sensible à la lumière, oontenant une matière 4 poids molé- oulaire élevé soluble dans l'eau ou hydrophile et un diazo- compose, sur la surface d'un support consistant en un film ou fouille transparent ou translucide hydrophobe en résine synthétique, on expose le film sensible à la lumière du <Desc/Clms Page number 8> côté de l'original, en abaissant ainsi l'adhérence entre la couche sensible à.la lumière et le support dans les ré- gions exposées, on enlève les parties de la coucha sensible à la lumière où les propriétés adhésives ont diminué, on expose le film sensible 4 la lumière du côté de la couche sensible à la lumière, en durcissant ainsi la couche sensi- ble à la lumière.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7843765 | 1965-12-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BE691485A true BE691485A (fr) | 1967-05-29 |
Family
ID=13662002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BE691485D BE691485A (fr) | 1965-12-20 | 1966-12-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| BE (1) | BE691485A (fr) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2175102A1 (fr) * | 1972-03-05 | 1973-10-19 | Somar Mfg | |
| FR2616558A1 (fr) * | 1987-06-15 | 1988-12-16 | Sanyo Kokusaku Pulp Co | Composition photosensible developpable a l'eau, comprenant un agent photoreticulant |
| US5264318A (en) * | 1987-06-15 | 1993-11-23 | Sanyo-Kokusaku Pulp Co., Ltd. | Positive type photosensitive composition developable with water comprising a photocrosslinking agent, a water-soluble resin and an aqueous synthetic resin |
-
1966
- 1966-12-20 BE BE691485D patent/BE691485A/fr unknown
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2175102A1 (fr) * | 1972-03-05 | 1973-10-19 | Somar Mfg | |
| FR2616558A1 (fr) * | 1987-06-15 | 1988-12-16 | Sanyo Kokusaku Pulp Co | Composition photosensible developpable a l'eau, comprenant un agent photoreticulant |
| US5264318A (en) * | 1987-06-15 | 1993-11-23 | Sanyo-Kokusaku Pulp Co., Ltd. | Positive type photosensitive composition developable with water comprising a photocrosslinking agent, a water-soluble resin and an aqueous synthetic resin |
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