BE732702A - - Google Patents

Info

Publication number
BE732702A
BE732702A BE732702DA BE732702A BE 732702 A BE732702 A BE 732702A BE 732702D A BE732702D A BE 732702DA BE 732702 A BE732702 A BE 732702A
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
plasma
flame
desc
page number
clms page
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of BE732702A publication Critical patent/BE732702A/fr

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/16Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed
    • B05B7/22Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc
    • B05B7/222Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc using an arc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/134Plasma spraying
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Procédé pour déposer un matériau de recouvrement   au   moyen d'une flamme à plasma. 



     La.présente   invention est relative à un prccédé pour déposer un   matériau   de recouvrement au moyen d'une flamme à plasma. Ce procédé esr spécialement intéressant lorsqu'on envi- sage un dépôt sur un produit d'une largeur assez grande tel que par exemple un produit métallurgique plat, des corps de chaudière, des réservoirs, des profilés, etc... 



   Il est bien connu que l'utilisation d'une flamme à plasma permet de réaliser dans de bonnes conditions d'accro- chage la projection d'un matériau de recouvrement sur un substrat 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 déterminé. le bon accrochage provenant d' une part des tempéra-   tures   élevées réalisées dans la flamme à plamma, et d'autre part de la très grande vitesse   d'éjection   des gaz hors de la tor- che produisent la flume. 



   On sait par ailleurs que les torches à plamme possèdent le plus souvent une géométrie cylindrique. le plame créé entre cathode centrale cylindrique entourée d'une   anoda   en forme de tuyère, étant également cylindrique. 



     @   On sait également que le refroidissement de la tuyère provoque une contraction radiale de la veine de plasma avec comme   conséquence,   une augmentation de sa température dans la zone axiale du plasma: les filets de gaz ionisés se déplacant dans les tuyères se comportent alors comme un ensemble de cou- rants électriques parallèles qui s'attirent, réalisant ainsi cana la veine un pincement d'origine   électro-magnétique.   



   Lorsqu'on envisage   l'utilisation   d'une toile torche pour l'application d'une couche d'un matériau de recouvre- ment sur un substrat assez large, tel que par exemple une   tôle,   on ne peut en général pas embrasser toute la largeur du dit substrat au moyen de la flamme sortant de la torche, ce qui con- duit à effectuer plusieurs passes pour réaliser un recouvre- ment complet. 



   Une telle méthode présente notamment les incon- vénients d'être assez lente et de réaliser des couches de re- couvrement d'épaisseurs inégales spécialement aux jonctions des différentes passes. 



   La présente invention a pour objet un procédé permettant de remédier aisément à ces inconvénients. 



   Le procédé objet de la présente invention con- siste à modifier la forme de la flamme à plasma sortant de la torche, de façon à la rendre au moins aussi large que le produit dont on envisage le recouvrement. Conformément à l'invention, cette modification de forme est obtenue en changeant la géométrie des électrodes entre lesquelles on fait éclater l'arc générateur de plasma. 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 



    @   
 EMI3.1 
 Le procédé de l'invention est eMentielleatent caruat6r.sd en ce que l'un fait passer un flux de gaz entre deux , '18C' Je polarité@ 4iff6r.ntG., entre lesquelles on fait jaillir un arc électrique, l'électrode négative proeentant dans le son  txansv4xael, c'8.t--eSir., norrosl d ôune d dlc9roent du flux de gaz, une di naion sensibxament, plus c;.rauc.1e que l'autre, l'électrode pcmitive entourant cOlÇJ.t.Ul\t:

   à'41*çtrodo négative et offrant aux gaz transformé* en plasn4, un orifice de sortie de préférence en ferme de tuyère, ox6epr.tnnt ±gal oent dana le sens treasverpal une dimension sensiblement 8upériuxe l'autre, et en et qu'on soumet eu moins l'électrode positive. 'un refroi- dio6oe-rt 8nergique, au moins au voisinage de son o?ific  ai sor- ti.e. ce qui a pour effet d'augmenter la déformation de la î1anoe/, de plasma dans le sens d'un   amincissement   de son pinceau. 



   Il a été trouvé avantageux de couiner le procédé ci-dessus décrit avec un aecond moyen, pour accentuer encore la déformation de la flamme de plasma, par allongement de celle-ci suivant: sa plus grande dimension transversale. 



   Ce second moyen consiste essentiellement à son- mettre le pinceau de plasma au voisinage de sa sortie de l'élec- trode positive à un champ électrique et/ou magnétique, dont la for- me plane est   sensiblement   perpendiculaire l'allure générale de la flamme de   plasma.   Suivant les effets d'allongement (dans le 
 EMI3.2 
 plan transveree.11 à obtenir, les champs électriques et/ou magné- tiques peuvent   tre   continu ou alternatif, périodiques, pulsatoi- res, homogène ou non et d'intensité réglable suivant une la? temporelle quelconque. 



   L'efficacité de la déflexion obtenue dépend principalement du tauy d'ionisation du gaz, de l'intensité des   champb,   de la vitesse d'éjection du gaz plasma. Suivant les caractéristiques continues ou périodiques des champs auxquels ils sont soumis, les courants ionique et électronique du plasma se- ront toujours déviés dans le même sens, ou, au contraire pério- diquement déviés dans un sens puis dans l'autre. 



   Cette efficacité peut encore être renforcée en ensemençant le jet gazeux, par exemple, par introduction d'éléments alcalinoterreux dans le dit jet. 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 



  Le croquis ci-dessous, donné à titre d'exem- 
 EMI4.1 
 pte non lh1': I:tif, représenta s(hématiqe1Cle1\t dans les trois vues, une   Lorche   plasma grâce à laquelle on peut mettre en oeuvre le procédé de la demande. 



   Sur cas trois vues l'électrode négative est en 1: l'électrode positive en 2. Ces deux électrodes présenten toutes deux, ainsi que l'orifice 3, une dimension transversale nettement plus Grande que l'autre. Les champs électriques et/- magnétiques sont diriges suivant un plan perpendiculaire à l'a xe de symétrie de   l'électrode   1. La   sone     d'influence   de ces champs se trouve confiné sous ou au niveau   i .férieur   de l'é- lectrode négative. 



   REVENDICATIONS. 



  1. Procédé caractérisé en ce que l'on fait pas- ser un flux de gaz entre deux électrodes de polarités dif- férentes, entre lesquelles on fait jailli\ la arc électrique, l'électrode négative présentant dans le sent transversal, 
 EMI4.2 
 c'est-à-di, normal au sens de déplacomont du flux de gaz, une dimension sensiblement plus grande que l'autre, l'électrode positive entourant complètement l'61eotxo4te ;6gative et oJf::¯n:

   aux gaz transforMés en plasma, un orifL0=o do soucie ce préfé- rence en forme de tuyère, présentant ég 1, meit dans le sens transversal une dimension aenwibloment aw,6rieure à l'autre, et en ce qu'on soumet au moins l'électrode positive, à un re- froidissement énergique, au moins au   voisinage   de son orifice 
 EMI4.3 
 de sortie, ce qui a pour effet d' augaortax 'ta déformation de la flamme ae plasma dans le  ne d'un Mtcj.aawatent de son pinceau. 



  2. Procède suivant la rn3:;:aticsn 1, aaractiri né on ce que, au voisinage de sa sortia de 1 électrode posi- 

**ATTENTION** fin du champ DESC peut contenir debut de CLMS **.

Claims (1)

  1. tive, le pinceau de plasme est soume à un champ électrique EMI4.4 et/ou magnétique, dont la lorr est plant et 88ft.tb\t perpQn4iculaire . l'.11un général* de la flumAe à plaaweo <Desc/Clms Page number 5> 3. Procédé suivant l'une ou l'autre des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que les jets gazeux sont ensemencés au moyen d'éléments alcalinoterreux.
    4. Procédés telb que décrits ci-dessus.
BE732702D 1969-05-07 1969-05-07 BE732702A (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BE732702 1969-05-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE732702A true BE732702A (fr) 1969-11-07

Family

ID=3854718

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE732702D BE732702A (fr) 1969-05-07 1969-05-07

Country Status (1)

Country Link
BE (1) BE732702A (fr)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FR2472329A1 (fr) Procede et dispositif pour produire une decharge dans un courant de gaz a vitesse supersonique
BE1003701A3 (fr) Cathode rotative.
US3619402A (en) Process and device for depositing on surfaces
EP1613133B1 (fr) Procédé de traitement par plasma atmosphérique de matériaux conducteurs d&#39;électricité et dispositif pour sa mise en oeuvre
CA2063899A1 (fr) Procede pour traiter par exemple la surface d&#39;un substrat par projection d&#39;un flux de plasma, et dispositif pour la mise en oeuvre du procede
FR2533398A1 (fr) Dispositif a plasma d&#39;arc pour l&#39;obtention des revetements
FR2462488A1 (fr) Cellule electrolytique du type a filtre-presse
BE732702A (fr)
FR2477792A1 (fr) Dispositif de decharge corona
FR2596775A1 (fr) Revetement dur multicouches elabore par depot ionique de nitrure de titane, carbonitrure de titane et i-carbone
KR840005934A (ko) 이면 반사기가 형성된 대면적 광전소자 제조장치 및 방법
BE732701A (fr)
EP0222724B1 (fr) Dispositif de fabrication d&#39;une feuile métallique extra-mince par dépôt électrolytique et procédé pour sa mise en oeuvre
FR2482500A1 (fr)
FR2502185A1 (fr) Dispositif de depot d&#39;une couche mince
FR2551615A1 (fr) Source de rayons x mous utilisant un microcanal de plasma obtenu par photo-ionisation d&#39;un gaz
FR2541818A1 (fr) Tube a rayons cathodiques comportant des tiges de support en verre pour supprimer la formation d&#39;arc electrique
Kaneko et al. Improved design of inverted magnetrons used for deposition of thin films on wires
FR2745208A1 (fr) Procede de fabrication d&#39;un fil stratifie de petit diametre et en particulier d&#39;un fil electrode pour usinage par electroerosion et fil electrode obtenu
BE905588A (fr) Dispositif de depot electrolytique et procede pour sa mise en oeuvre.
CH497544A (fr) Procédé et dispositif pour le recouvrement de surface
FR2652981A1 (fr) Generateur de plasma a cathode creuse pour le traitement de poudres par plasma.
JPS6037119A (ja) プラズマ気相反応装置
JPH10312965A (ja) プラズマ化学蒸着装置
FR2762928A1 (fr) Structure composite comportant un substrat de croissance comportant plusieurs composants micro-electroniques et une couche de diamant, et procede pour sa fabrication