BE853192Q - Procede et solution pour depot electrolytique de chrome et d'alliages de chrome - Google Patents

Description

  Procédé et solution pour dépôts electrolytiques de chrome et

  
d'alliages de chrome  <EMI ID=1.1> 

  
Ces bains, dans lesquels le chrome est utilisé sous une forme hexalente, se caractérisent en particulier par un faible rendement de courant. Les fu-

  
 <EMI ID=2.1> 

  
sont, en outre, extrêmement nocives.

  
La présente invention propose une solution de dépôt électrolytique de

  
 <EMI ID=3.1> 

  
tuée par une solution aqueuse d'un complexe chrome (III) - thiocyanate.

  
L'invention propose en outre une méthode de dépôt électrolytique de

  
 <EMI ID=4.1> 

  
de galvanoplastie électrique entre une anode et une cathode dans une solu-

  
 <EMI ID=5.1> 

  
chrome (III) - thiocyanate.

  
Les complexes préférés dans le cadre de cette invention sont base de chrome aqueux (III) et de thiocyanate. Ils peuvent être préparés! partir de

  
 <EMI ID=6.1> 

  
 <EMI ID=7.1> 

  
 <EMI ID=8.1> 

  

 <EMI ID=9.1> 


  
 <EMI ID=10.1> 

  
présents dans des proportions équilibrées.

  
Le mécanisme du procédé de dépôt électrolytique est supposé être le suivant. Un courant d'ëlectroplastie est supporté essentiellement par les ions de sodium présents dans la solution et qui proviennent de la dissociation du thiocyanate de sodium initial. Comme le thiocyanate est un élément de liaison, les complexes sont aisément absorbés sur la cathode, en consé-

  
 <EMI ID=11.1> 

  
 <EMI ID=12.1> 

  
quement tout le thiocyanate est libéré dans la solution sous la forme d'anion, NCS, bien que seule une petite quantité puisse être incorporée au dépôt.

  
 <EMI ID=13.1>   <EMI ID=14.1> 

  
l'invention sont composés corsas suit:

  

 <EMI ID=15.1> 


  
 <EMI ID=16.1> 

  
 <EMI ID=17.1> 

  
Les conditions de traitement choisies pour la galvanoplastie à partir des solutions ci-dessus sont les suivantes:

  

 <EMI ID=18.1> 


  
Les séances expérimentales de galvanoplastie à partir desquelles les

  
 <EMI ID=19.1> 

  
de courant constant. Toutefois, certains résultats ont été obtenus dans des conditions potentiostatiques où le potentiel da la cathode a été maintenu

  
 <EMI ID=20.1> 

  
rate de sodium. Si cet isolement n'était pas réalisé, le pH de l'électrolyte diminuerait régulièrement et l'opération de revêtement prendrait fin lorsque

  
 <EMI ID=21.1> 

  
avaient des épaisseurs allant jusqu'à 0,001 pouce.

  
Le chrome déposé grâce aux procédés ci-dessus était pratiquement pur, bien que la détection de soufre signalât qu'une petite quantité de thiocya-

  
 <EMI ID=22.1> 

  
 <EMI ID=23.1>   <EMI ID=24.1> 

  
 <EMI ID=25.1> 

  
nickel.

  
 <EMI ID=26.1> 

  
 <EMI ID=27.1>   <EMI ID=28.1> 

  

 <EMI ID=29.1> 


  
 <EMI ID=30.1> 

  
 <EMI ID=31.1> 

  
 <EMI ID=32.1> 

  
bioxyde de soufre élevée, était excellente.

EXEMPLE II

  
Un alliage de cobalt et de chrome a été déposé sur une cathode de cuivre

  
 <EMI ID=33.1> 

  

 <EMI ID=34.1> 


  
 <EMI ID=35.1>   <EMI ID=36.1> 

EXEMPLE III

  
 <EMI ID=37.1> 

  

 <EMI ID=38.1> 


  
 <EMI ID=39.1> 

  
 <EMI ID=40.1> 

  
Bien que l'on ait décrit dans ce qui précède et représenté les

  
 <EMI ID=41.1> 

  
 <EMI ID=42.1> 

  
 <EMI ID=43.1> 

  
utiles, sans pour autant sortir du cadre de ladite invention. 

  
 <EMI ID=44.1> 

  
 <EMI ID=45.1> 

Claims (1)

1. 2.- Solution suivant la revendication 1 caractérisée en ce que le complexe <EMI ID=46.1>

   <EMI ID=47.1>

   3.- Solution suivant la revendication 2 caractérises en ce que le complexe

   <EMI ID=48.1>

   5.- Solution suçant la revendication 2 ou 3 ou 4 caractérisée en ce que le pH est compris entra 2 et 3,5.

   <EMI ID=49.1>

   qu'elle comporte en outre da l'acide borique en saturation.

   <EMI ID=50.1>

   <EMI ID=51.1>

   caractérise en ce que le bain électrolytique est une solution suivant l'une quelconque des revendications précédentes.

   <EMI ID=52.1>

   <EMI ID=53.1> <EMI ID=54.1>

   <EMI ID=55.1>

   12.- Précéda suivant la revendication 11 caractérisé en ce que la densité

   <EMI ID=56.1>

   la cathode.

   <EMI ID=57.1>

   <EMI ID=58.1>

   <EMI ID=59.1>

   non aux anions de passer.

   14.- Procédé suivant la revendication 13 caractérisé en ce que l'acrolyte

   <EMI ID=60.1>

   <EMI ID=61.1>

   en titane platinisê.

   <EMI ID=62.1>

   en ce que le bain électrolyte a la composition suivante:

   <EMI ID=63.1>

   <EMI ID=64.1>

   <EMI ID=65.1>

   <EMI ID=66.1>

   <EMI ID=67.1>

   en ce que le bain électrolytique a la composition suivante: <EMI ID=68.1>