BRPI0616863A2 - método para a produção de uma placa para impressão litográfica - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 87
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 63
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 49
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 26
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 24
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000009736 wetting Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 26
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 3
- 238000005422 blasting Methods 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 75
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 56
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 35
- -1 sulfuric acid ethers Chemical class 0.000 description 29
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 29
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 24
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 22
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 22
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 21
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 19
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 15
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 11
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 11
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 11
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 11
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 9
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 6
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 241000557626 Corvus corax Species 0.000 description 5
- 241000721047 Danaus plexippus Species 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 5
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 4
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 4
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CC1CCCCNC1=O MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 3
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 3
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GMIUUCWUOPOETN-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1-(2,4,5-triphenylimidazol-2-yl)imidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC(N2C(=C(N=C2C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)N=C1C1=CC=CC=C1 GMIUUCWUOPOETN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- 125000005235 azinium group Chemical group 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical group C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid Chemical compound OC(=O)CC=C PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000012952 cationic photoinitiator Substances 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 2
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N hexadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCO BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 description 2
- MOFVSTNWEDAEEK-UHFFFAOYSA-M indocyanine green Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CCCCN1C2=CC=C3C=CC=CC3=C2C(C)(C)C1=CC=CC=CC=CC1=[N+](CCCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=C(C=CC=C3)C3=C2C1(C)C MOFVSTNWEDAEEK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 description 2
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- BKTHYXHGNNUIDN-HNENSFHCSA-N (z)-4-octadecanoyloxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC(=O)\C=C/C(O)=O BKTHYXHGNNUIDN-HNENSFHCSA-N 0.000 description 1
- ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,2,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCCC(C)CC(C)(C)CN=C=O ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQIAZOCLNBBZQK-UHFFFAOYSA-N 1-(1,2-Diphosphanylethyl)pyrrolidin-2-one Chemical compound PCC(P)N1CCCC1=O LQIAZOCLNBBZQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNSYRHSJTFNPDZ-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tribromoethylsulfonylbenzene Chemical compound BrC(Br)(Br)CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MNSYRHSJTFNPDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004201 2,4-dichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(Cl)C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBPSMBXBRCXVSR-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxynaphthalen-1-yl)-4-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OC)=CC=C1C1=NC=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MBPSMBXBRCXVSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005809 3,4,5-trimethoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C(OC([H])([H])[H])C(OC([H])([H])[H])=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000003762 3,4-dimethoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- HYORIVUCOQKMOC-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-methoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HYORIVUCOQKMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004207 3-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C1[H] 0.000 description 1
- GBEJULSURQZDNX-PLNGDYQASA-N 3-methyl-2-[(2z)-penta-2,4-dienyl]cyclopent-2-en-1-one Chemical compound CC1=C(C\C=C/C=C)C(=O)CC1 GBEJULSURQZDNX-PLNGDYQASA-N 0.000 description 1
- LLLVZDVNHNWSDS-UHFFFAOYSA-N 4-methylidene-3,5-dioxabicyclo[5.2.2]undeca-1(9),7,10-triene-2,6-dione Chemical compound C1(C2=CC=C(C(=O)OC(=C)O1)C=C2)=O LLLVZDVNHNWSDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)acetate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CC1CC2OC2CC1 NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001479434 Agfa Species 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M Didecyldimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCC RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000002989 Euphorbia neriifolia Species 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010669 acid-base reaction Methods 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920013820 alkyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(=O)N=C21 MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001058 brown pigment Substances 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229960000541 cetyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002361 compost Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- XWPWZOJBTOJEGW-UHFFFAOYSA-L disodium;benzene-1,3-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 XWPWZOJBTOJEGW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- UHPJWJRERDJHOJ-UHFFFAOYSA-N ethene;naphthalene-1-carboxylic acid Chemical compound C=C.C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 UHPJWJRERDJHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- ZONYXWQDUYMKFB-UHFFFAOYSA-N flavanone Chemical compound O1C2=CC=CC=C2C(=O)CC1C1=CC=CC=C1 ZONYXWQDUYMKFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGNPBRKPHBKNKX-UHFFFAOYSA-N hexaflumuron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(F)F)=C(Cl)C=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F RGNPBRKPHBKNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- JCZSQOVZJXDMTK-UHFFFAOYSA-N iodo trifluoromethanesulfonate Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OI JCZSQOVZJXDMTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N methylphosphonic acid Chemical compound CP(O)(O)=O YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBJNZHVOCNPSCS-UHFFFAOYSA-N naphtho[2,3-f]quinazoline Chemical compound C1=NC=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=CC2=N1 OBJNZHVOCNPSCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical group 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- KTNLYTNKBOKXRW-UHFFFAOYSA-N phenyliodanium Chemical compound [IH+]C1=CC=CC=C1 KTNLYTNKBOKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003251 poly(α-methylstyrene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001447 polyvinyl benzene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- KUKFKAPJCRZILJ-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;prop-2-enoic acid Chemical class C=CC#N.OC(=O)C=C KUKFKAPJCRZILJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004040 pyrrolidinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical class CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N toluene Substances CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
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Abstract
MéTODO PARA A PRODUçãO DE UMA PLACA PARA IMPRESSãO LITOGRáFICA. é descrito um método para a produção de uma placa para impressão litográfica, compreendendo as etapas de: (a) prover um precursor de placa de impressão litográfica compreendendo um suporte que possui uma superfície hidrofílica ou que está provido com uma camada hidrofilica, e um revestimento sobre o suporte, o revestimento compreendendo (i) pelo menos uma camada para registro de imagem que compreende uma composição foto polímerizável, a composição compreendendo um composto que é capaz de formar radicais livres quando da exposição a uma imagem, e (ii) sobre a mesma, uma camada de barreira ao oxigênio compreendendo um polímero solúvel em água ou expansível em água. (b) expor o revestimento a uma imagem; (c) opcíonalmente, aquecer o precursor em uma unidade de pré-aquecimento; (d) tratar o precursor exposto à imagem com água ou uma solução aquosa para remover pelo menos parte da camada de barreira ao oxigênio, desse modo aumentando a permeabílidade ao oxigênio do revestimento em grau tal que a cura das áreas não expostas do revestimento pela luz ambiente seja inibida por desativação dos radicais livres com oxigênio; (e) montar o precursor tratado sobre um cilindro de placa de uma prensa litográfica; e (f) revelar por rotação do cilindro de placa enquanto se alimenta líquido umectante e/ou tinta ao revestimento, desse modo removendo as áreas não expostas da camada de registro de imagem.
Description
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE UMA PLACA PARA IMPRESSÃO
LITOGRÁFICA.
CAMPO DA INVENÇÃO
A presente invenção está relacionada a um métodopara produzir uma placa para impressão litográfica em queum precursor de placa de impressão de foto polímero deimagem negativa é exposto a uma imagem, tratado com água ouuma solução aquosa, pelo que pelo menos parte da camada debarreira de o é removida, montado em uma prensa e pro naprensa por aplicação de tinta e fonte para remoção dasáreas não expostas do suporte.
EMBASAMENTO DA INVENÇÃO
Na impressão litográfica, um chamado "master" oumatriz de impressão, tal como uma placa de impressão, émontado em um cilindro da prensa. O master contém umaimagem litográfica sobre sua superfície e uma cópiaimpressa é obtida pela aplicação de tinta à imagem, seguidapor transferência da tinta do master para um materialreceptor, tipicamente papel. Na impressão litográficaconvencional, também designada como "úmida" ou "via úmida",a tinta, bem como uma solução fonte aquosa (tambémdenominada como líquido umectante), são alimentadas àimagem litográfica, a qual consiste de áreas oleofílicas(ou hidrofóbicas, isto é, que aceitam a tinta mas repelem aágua), bem como áreas hidrofílicas (ou oleofóbicas, isto é,que aceitam água e repelem tinta). Na chamada impressãodriográfica, a imagem litográfica consiste de áreasreceptoras de tinta e áreas repelentes à tinta, e durante aimpressão driográfica somente a tinta é alimentada àmatriz.
As matrizes ou masters de impressão são de ummodo geral obtidos pelo chamado método de computador parafilme (CtF - Computer to Film) , em que várias etapas pré-impressão, tais como a seleção de tipo e tamanho da fonte,escaneamento, separação de cores, filtração, trapping,layout e superposição, são efetuadas digitalmente e cadaseleção de cor é transferida para um filme para artesgráficas usando-se um compositor de imagens. Após oprocessamento, o filme pode ser usado como uma máscara paraa exposição de um material de imageamento denominado comoprecursor de placa e após o processamento da placa, éobtida uma placa de impressão que pode ser usada como ummaster. Desde cerca de 1995, o chamado método "computadorpara placa" (CtP) ganhou muito interesse. Tal método,também denominado como "direto para placa", evita a criaçãode um filme pois o documento digital é transferidodiretamente para um precursor de placa de impressão pormeio de um chamado compositor de placa. Um precursor deplaca de impressão para o CtP é freqüentemente designadocomo uma placa digital.
As placas digitais podem ser, grosso modo,divididas em três categorias: (i) placas de prata, quefuncionam de acordo com o mecanismo de transferência pordifusão do sal; (ii) placas de foto polimero, que contêmuma composição foto polimerizável que endurece quando desua exposição à luz; e (iii) placas térmicas, cujomecanismo de imageamento é acionado por calor ou porconversão luz para calor. As placas térmicas sãosensibilizadas principalmente para lasers infravermelho comemissão em 830 nm ou 1064 nm. Os foto polímeros podem sersensibilizados para luz azul, verde ou vermelha (isto é, afaixa de comprimentos de onda entre 450 e750 nm) , pata luzvioleta (isto é, a faixa de comprimentos de onda entre 350e 450 nm) , ou para luz infravermelho (isto é, a faixa decomprimentos de onda entre 750 e 1500 nm) . As fontes laservêem sendo cada vez mais usadas para expor um precursor deplaca de impressão que está sensibilizado para umcomprimento de onda correspondente de laser. Tipicamente,podem ser usados um laser de Ar (488 nm) ou um laser FD-YAG(532 nm) para expor uma placa de foto polímerosensibilizado para a luz visível. A ampla disponibilidadede diodos de laser azul ou violeta de baixo custo,originalmente desenvolvidos para armazenamento de dados pormeio de DVD, permitiu a produção de compositores de placasoperando em comprimentos de onda mais curtos. Maisespecificamente, foram produzidos lasers de semicondutorescom emissão de 350 a 450 nm usando-se um material deIn/Ga/N. Podem também ser usados um diodo de laserinfravermelho, emitindo em torno de 830 nm, ou um laser Nd-YAG emitindo em torno de 1060 nm.
Tipicamente, uma placa de foto polímero éprocessada em revelador alcalino possuindo um pH acima de10 e subseqüentemente gomada para proteger a placa contracontaminação, por exemplo por oxidação, impressõesdigitais, gorduras, óleo, ou pó, ou contra danos, porexemplo por arranhões durante o manuseio da placa.As placas de foto polímeros estão tambémdescritas na literatura, em que as etapas de processamentoúmido e de gomagem são substituídas por um processamento naprensa, pelo que o precursor imageado é montado em umaprensa e processado na prensa por aplicação de tinta efonte para remoção das áreas não expostas do suporte.Métodos para a preparação de tais placas estão descritosnos documentos WO 93/05 446, US 6 027 857, US 6 171 735, US6 420 089, US 6 071 675, US 6 245 481, US 6 387 595, US 6482 571, US 6 576 401, US 6 548 222, WO 03/087 939, US2003/16 577 e US 2004/13 968. Um composto promotor deadesão entre o revestimento de foto polímero e o suportepode também ser adicionado ao precursor de placa deimpressão para aumentar a resistência das áreas expostasdurante a etapa de processamento e para melhorar adurabilidade da placa no processo de impressão, tal comodescrito nos documentos EP 851 299, EP 1 091 251, US2004/214 105, EP 1 491 356, US 2005/39 620, EP 1 495 866,EP 1 500 498, EP 1 520 694 e EP 1 557 262.
Um problema associado ao processamento em prensade tais placas de impressão de foto polímero consiste dafalta de estabilidade à luz do dia, isto é, a imagem não éestável antes do processamento devido à cura das áreas nãoexpostas por exposição à luz ambiente e, portanto, a placaexposta deve ser processada dentro de um curto período apósa exposição. No entanto, dado que o processamento em prensanão é possível durante um trabalho de impressão, o usuáriofinal deve aguardar até que o trabalho de impressãoanterior tenha sido completado antes que a placa expostapossa ser montada na prensa e processada. Como resultado, aexposição da placa para o trabalho de impressão seguintedeve ser retardada até imediatamente antes da finalizaçãodo trabalho de impressão anterior, de modo a evitar que aplaca não processada seja afetada pela luz ambiente.
Alternativamente, a placa exposta deve ser mantida sobcondições seguras no que diz respeito à luz; isto porém,novamente, reduz a facilidade de uso e conveniêncianormalmente associadas, por exemplo, às placas de fotopolímero sensíveis ao violeta e infravermelho.
Resumo da Invenção
Constitui um objetivo da presente invenção proverum método para a produção de uma placa para impressãolitográfica em que o precursor de placa de impressão fotocurável exposto pode ser mantido na luz ambiente durante umtempo ilimitado antes de ser montado na prensa e iniciar aetapa de processamento na prensa. Tal objetivo é atingidopelo método definido na reivindicação 1, que possui acaracterística específica de que, após a exposição àimagem, o precursor é subseqüentemente tratado com água ouuma solução aquosa, pelo que pelo menos parte da camada debarreira ao oxigênio é removida e pelo que a permeabilidadeao oxigênio do revestimento é elevada a um ponto tal que acura adicional das áreas não expostas do revestimento,exposto à luz ambiente, é inibida por inativação dosradicais livres por oxigênio atmosférico. Como vantagemadicional, o revestimento nas áreas não expostas não écompletamente removido do suporte e tal revestimentoβ/52remanescente protege a superfície hidrofílica do suportecontra contaminação ou danos.
Outras modalidades específicas da invenção estãodefinidas nas reivindicações dependentes.Descrição Detalhada da Invenção
De acordo com a presente invenção, é provido ummétodo para a produção de uma placa para impressãolitográfica, compreendendo as etapas de:
(a) prover um precursor de placa de impressãolitográfica compreendendo um suporte que possui umasuperfície hidrofílica ou que está provido com uma camadahidrofílica, e um revestimento sobre o suporte, orevestimento compreendendo (i) pelo menos uma camada pararegistro de imagem que compreende uma composição fotocurável, a composição compreendendo um composto que é capazde formar radicais livres quando da exposição a uma imagem,e (ii) sobre a mesma, uma camada de barreira ao oxigêniocompreendendo um polímero solúvel em água ou expansível emágua;
(b) expor o revestimento a uma imagem;
(c) opcionalmente, aquecer o precursor em umaunidade de pré-aquecimento;
(d) tratar o precursor exposto à imagem com águaou uma solução aquosa para remover pelo menos parte dacamada de barreira ao oxigênio, desse modo aumentando apermeabilidade ao oxigênio do revestimento em grau tal quea cura das áreas não expostas do revestimento pela luzambiente seja inibida por desativação dos radicais livrescom oxigênio;(e) montar o precursor tratado sobre um cilindrode placa de uma prensa litográfica; e
(f) revelar por rotação do cilindro de placaenquanto se alimenta liquido umectante e/ou tinta aorevestimento, desse modo removendo as áreas não expostas dacamada de registro de imagem.
Na presente invenção, o precursor de placa deimpressão é exposto fora da prensa por meio de umcompositor de placas. 0 precursor usado no método da presente invenção é do tipo negativo funcional, isto é, asáreas expostas do revestimento são endurecidas ou curadas.Aqui, o termo "endurecida/o" significa que o revestimentose torna insolúvel ou não dispersável para a fonte e tintana prensa, o que pode ser conseguido através depolimerização e/ou reticulação do revestimento.
Após o imageamento, o precursor de placa éopcionalmente aquecido, o que será a seguir designado como"pré-aquecimento", para promover ou acelerar a reação depolimerização e/ou reticulação. Tal etapa de pré-aquecimento é efetuada de preferência em uma temperatura decerca de 80 °C a 150 °C, e de preferência durante um tempode residência de cerca de 5 segundos a 1 minuto, depreferência em uma unidade de pré-aquecimento. A unidade depré-aquecimento pode estar provida com elementos deaquecimento tais como lâmpadas IR, lâmpadas UV, araquecido, cilindros aquecidos, etc.
Subseqüentemente à etapa de imageamento ou àetapa de pré-aquecimento opcional, o precursor de placa étratado com água ou uma solução aquosa, pelo que pelo menosparte da barreira de oxigênio é removida. Tal camada debarreira de oxigênio está presente sobre a camada deregistro de imagem e compreende um polímero solúvel em águaou expansível em água. Como resultado, a permeabilidade aooxigênio do revestimento é elevada a tal grau que a curadas áreas não expostas do revestimento, expostas à luzambiente, é inibida por inativação dos radicais livres pelooxigênio atmosférico. É obtida uma melhor estabilidade dasáreas não expostas do revestimento, isto é, é impedida acura indesejada das áreas não expostas na luz ambiente,resultando em uma imagem litográfica estável à luz do dia.
Dado que o revestimento nas áreas não expostasnão é completamente removido do suporte, a superfíciehidrofílica do suporte fica protegida contra contaminação(por exemplo, oxidação) e danos (por exemplo, arranhões)pelo fato de que o revestimento permanece sobre a placa.Como resultado, é obtido um benefício adicional, pois não énecessária uma etapa de gomagem adicional para proteger asuperfície do suporte nas áreas não expostas.
Na etapa de processamento na prensa, o precursorde placa tratado é montado sobre o cilindro da platina daprensa de impressão e as áreas não expostas do revestimentosão removidas por rotação do cilindro da placa enquanto sealimenta líquido umectante e/ou tinta ao revestimento. Taltratamento com água ou uma solução aquosa apresenta obenefício de que, na etapa de processamento na prensa, orevestimento residual nas áreas não expostas é rapidamenteremovido, ou seja, após um pequeno número de folhasimpressas é obtida uma limpeza completa. 0 termo "limpeza"significa a remoção do revestimento nas áreas não expostas,revelando a superfície hidrofilica do suporte. Comoresultado, o método da presente invenção apresenta avantagem de que é notada uma "partida" ou "start-up" maisrápida da placa na prensa. A expressão "partida maisrápida" significa uma melhor aceitação da tinta pelas áreasexpostas.
O suporte
Um suporte litográfico particularmente preferidoconsiste de um suporte de alumínio anodizado e granuladoeletroquimicamente. A granulação e anodização de suporte dealumínio são bem conhecidas. O ácido usado para agranulação pode ser, por exemplo o ácido nítrico ou o ácidosulfúrico. 0 ácido usado para a granulação compreende depreferência cloreto de hidrogênio. Podem também ser usadasmisturas, por exemplo, de cloreto de hidrogênio e ácidoacético. É bem conhecida a relação entre os parâmetros degranulação e anodização eletroquímicas, tais como avoltagem dos eletrodos, natureza e concentração doeletrólito ácido, ou consumo de energia, por um lado e aqualidade litográfica obtida em termos de Ra e peso anódico(g/m2 de Al2O3 formado sobre a superfície de alumínio) poroutro. Mais detalhes sobre a relação entre váriosparâmetros de produção e o Ra e o peso anódico podem serencontrados, por exemplo, no artigo "Management of Changein the Aluminum Printing Industry", de F. R Mayers,publicado no ATB Metallurgie Journal, volume 42, N2 1-2(2002), página 69.O suporte de alumínio anodizado pode sersubmetido a um chamado tratamento pós-anódico para melhoraras propriedades hidrofílicas de sua superfície. Comoexemplo, o suporte de alumínio pode ser siliconizado portratamento de sua superfície com uma solução de silicato desódio em temperatura elevada, por exemplo a 95 °C.Alternativamente, pode ser aplicado um tratamento comfosfato, que envolve o tratamento da superfície de óxido dealumínio com uma solução de fosfato que pode também conterum fluoreto inorgânico. Além disso, a superfície de óxidode alumínio pode ser rinsada com uma solução de ácidocítrico ou citrato. Tal tratamento pode ser efetuado natemperatura ambiente, ou pode ser efetuado em umatemperatura ligeiramente elevada de cerca de 30 a 50 °C.Outro tratamento interessante envolve rinsar a superfíciede óxido de alumínio com uma solução de bicarbonato. Maisainda, a superfície de óxido de alumínio pode ser tratadacom ácido polivinil fosfônico, ácido polivinil metilfosfônico, ésteres de ácido fosfórico do álcoolpolivinílico, ácido polivinil sulfônico, ácido polivinilbenzeno sulfônico, ésteres de ácido sulfúrico do álcoolpolivinílico, e acetais de álcoois polivinílicos formadospor reação com um aldeído alifático sulfonado.
Outro tratamento pós-anódico útil pode serefetuado por meio de uma solução de ácido poliacrílico, ouum polímero compreendendo pelo menos 30 % em moles deunidades monoméricas de ácido acrílico, por exemplo oGLASCOL E15, um ácido poliacrílico, comercialmentedisponível através da ALLIED COLLOIDS.O suporte de alumínio granulado e anodizado podeser um material semelhante a uma folha, tal como uma placa,ou pode ser um elemento cilíndrico, tal como um mangote quepode ser deslizado em torno de um cilindro de impressão deuma prensa de impressão.
O suporte pode também ser um suporte flexível,que pode estar provido com uma camada hidrofílica, a seguirdenominada como "camada base". O suporte flexível é, porexemplo, de papel, filme plástico, ou alumínio. Os exemplospreferidos de filmes plásticos incluem filmes depoli(tereftalato de etileno), filmes de poli(naftalato deetileno), filmes de acetato de celulose, filmes depoliestireno, filmes de policarbonato, etc. O suporte defilme plástico pode ser opaco ou transparente.
A camada base é de preferência uma camadahidrofílica reticulada obtida a partir de um ligantehidrofílico reticulado por um agente de endurecimento talcomo formaldeído, glioxal, poliisocianato, ou um tetralquilortosilicato hidrolisado. Este último é particularmentepreferido. A espessura da camada base hidrofílica podevariar na faixa de 0,2 a 25 μπι, sendo de preferência de 1 a10 μπι. Maiores detalhes sobre modalidades preferidas dacamada base podem ser encontrados, por exemplo, no EP-A 1025 992.
O revestimento
O revestimento sobre o suporte compreende pelomenos uma camada que consiste de uma composição fotopolimerizável, que a seguir será também designada como"camada foto curável" ou "camada foto polimerizável", e,sobre a camada foto curável, está presente uma camada debarreira ao oxigênio que compreende um polímero solúvel emágua ou expansivel em água. Tal revestimento pode tambémcompreender uma camada intermediária entre a camada fotopolimerizável e o suporte.
A composição foto curável compreende um compostocapaz de formar radicais livres quando da exposição àimagem, a seguir também designado como o "iniciador deradicais livres", opcionalmente na presença de umsensibilizador. A composição foto curável pode tambémcompreender um composto polimerizável, um ligantepolimérico e um composto capaz de interagir com o suporte,a seguir também designado como "composto promotor deadesão". Tal composto promotor de adesão é de preferênciaum composto possuindo um grupo etilenicamente insaturado epode estar presente na camada foto curável e/ou na camadaintermediária; de preferência na camada intermediária.
A espessura do revestimento varia de preferênciaentre 0,4 e 10 g/m2, mais preferivelmente entre 0,5 e 5g/m2, ainda mais preferivelmente entre 0,6 e 3 g/m2.
A camada foto polimerizável possui uma espessurade revestimento variando de preferência entre 0,4 e 5,0g/m2, mais preferivelmente entre 0,5 e 3,0 g/m2, ainda maispreferivelmente entre 0,6 e 2,2 g/m2.
A camada intermediária opcional possui umaespessura de revestimento variando de preferência entre0,001 e 1,5 g/m2, mais preferivelmente entre 0, 003 e 1,0g/m2, ainda mais preferivelmente entre 0,005 e 0,7 g/m2.
O composto promotor de adesão.O composto promotor de adesão é um composto capazde interagir com o suporte, de preferência um compostopossuindo uma ligação etilenicamente insaturadapolimerizável por adição e um grupo funcional capaz deinteragir com o suporte, mais preferivelmente um grupofuncional capaz de interagir com um suporte de alumíniogranulado e anodizado. 0 termo "interagir" deve serentendido como qualquer tipo de reação ou processo químicoe/ou físico pelo qual é formada uma ligação entre o grupofuncional e o suporte, a qual pode ser uma ligaçãocovalente, uma ligação iônica, uma ligação complexa, umaligação coordenada, ou uma ligação por ponte de hidrogênio,e que pode ser formada por um processo de adsorção, umareação química, uma reação ácido - base, uma reação deformação de complexo, ou uma reação de um grupo quelante ouum ligante. 0 composto promotor de adesão está presente nacamada foto polimerizável e/ou em uma camada intermediáriaentre a camada foto polimerizável e o suporte.
0 composto promotor de adesão pode serselecionado dentre pelo menos um dos compostos de baixopeso molecular ou compostos poliméricos descritos no EP-A851 299, da linha 22 na página 3 à linha 1 na página 4, noEP-A 1 500 498, do parágrafo [0023] na página 7, até oparágrafo [0052] na página 20, no EP-A 1 495 866, doparágrafo [0030] na página 5, ao parágrafo [0049] na página11, no EP-A 1 091 251, do parágrafo [0014] na página 3 aoparágrafo [0018] na página 20, e no EP-A 1 520 694, doparágrafo [0023] na página 6 até o parágrafo [0060] napágina 19. Os compostos preferidos são aqueles quecompreendem um grupo fosfato ou fosfonato como o grupofuncional capaz de ser adsorvido sobre o suporte dealumínio e que compreendem uma ligação dupla etilênicapolimerizável por adição, especialmente aqueles descritosno EP-A 851 299, da linha 22 na página 3 à linha 1 napágina 4, e no EP-A 1 500 498, do parágrafo [0023] napágina 7, até o parágrafo [0052] na página 20. são tambémpreferidos aqueles compostos que compreendem grupostrialquiloxi silana, a seguir também designados como grupos"trialcoxi silana", em que a alquila é de preferênciametila ou etila, ou em que os grupos trialquiloxi silanaestão pelo menos parcialmente hidrolisados a grupossilanol, como o grupo funcional capaz de ser adsorvidosobre o suporte, especialmente agentes de acoplamento desilana possuindo um grupo reativo com ligação duplaetilênica polimerizável por adição, tal como descrito noEP-A 1 557 262 parágrafo [0279] na página 49 e no EP-A 1495 866 parágrafo [0030] na página 5 ao parágrafo [0049] napágina 11.
O composto promotor de adesão pode estar presentena camada foto polimerizável em uma quantidade variandoentre 1 e 50 % em peso, de preferência entre 3 e 30 % empeso, mais preferivelmente entre 5 e 20 % em peso doscomponentes não voláteis da composição.
0 composto promotor de adesão pode estar presentena camada intermediária em uma quantidade de pelo menos 50% em peso, de preferência pelo menos 80 % em peso, maispreferivelmente pelo menos 90 % em peso, ainda maispreferivelmente 100 % em peso dos componentes não voláteisda composição.
O composto polimerizável e o iniciador de polimerização.
De acordo com uma modalidade da presenteinvenção, o monômero ou oligômero polimerizável é ummonômero ou oligômero compreendendo pelo menos um grupofuncional epóxi ou de éter vinilico e o iniciador é umgerador de ácido de Bronsted capaz de gerar um ácido livre;a seguir tal iniciador será também designado como "fotoiniciador catiônico" ou "iniciador catiônico".
Os monômeros epóxi polifuncionais adequadosincluem, por exemplo, o carboxilato de 3,4-epóxi ciclohexilmetil 3,4-epóxi ciclohexano, o adipato de bis(3,4-epóxiciclohetil metila), uma resina epóxi difuncional de bisfeno15 epicloridrina e uma resina epóxi multifuncional deepicloridrina tetrafenilol etano.
Os foto iniciadores catiônicos adequados incluem,por exemplo, o hexaflúor antimoniato de triaril sulfônio, ohexaflúor fosfato de triaril sulfônio, o hexaflúor20 antimoniato de diaril iodônio e s-triazina substituída comhalalquila. Deve ser notado que a maioria dos iniciadorescatiônicos são também iniciadores de radicais livres, pois,além de gerar o ácido de Bronsted, eles geram tambémradicais livres durante a foto ou termo decomposição.25 De acordo com uma modalidade mais preferida da
presente invenção, o monômero ou oligômero fotopolimerizável é um composto etilenicamente insaturado,possuindo pelo menos um grupo terminal etilênico, a seguirtambém designado como "monômero polimerizável por radicaislivres", e o iniciador é um composto capaz de gerarradicais livres, opcionalmente na presença de umsensibilizador, quando da exposição; a seguir tal iniciadorserá também designado como um "iniciador por radicaislivres".
Os monômeros polimerizáveis por radicais livresadequados incluem, por exemplo, monômeros multifuncionaisde (met)acrilato (tais como ésteres de (met)acrilato deetileno glicol, trimetilol propano, pentaeritritol, etilenoglicol etoxilado e trimetilol propano etoxilado,(met)acrilato multifuncional uretaneado, e (met)acrilatoepoxilado), e diacrilatos de amina oligoméricos. Osmonômeros (met)acrílicos podem também possuir outra ligaçãodupla ou grupo epóxido além do grupo (met)acrilato. Osmonômeros de (met)acrilato podem também conter umafuncionalidade ácida (tal como de ácido carboxílico) oubásica (tal como de amina).
Qualquer iniciador de radicais livres capaz degerar radicais livres diretamente ou na presença de umsensibilizador quando exposto pode ser usado como uminiciador de radicais livres da presente invenção. Osiniciadores de radicais livres apropriados incluem, porexemplo, os derivados de acetofenona (tais como a 2,2-dimetoxi 2-fenil acetofenona e a 2-metil l-[4-(metil tio)fenil 2-morfolino propan-2-ona) , benzofenona, benzila,cetocumarina (tais como a 3-benzoil 7-metoxi cumarina e a7-metoxi cumarina), xantona, tioxantona, benzoína, ou umaantraquinona substituída com alquila; sais ônio (tais comoo hexaflúor antimonato de diaril iodônio, triflato dediaril iodônio, hexaflúor antimonato de (4-(2-hidroxitetradeciloxi) fenil) fenil iodônio, hexaflúor fosfato detriaril sulfônio, p-tolueno sulfonato de triaril sulfônio,hexaflúor antimonato de (3-fenil propan-2-onil) triarilfosfônio, e hexaflúor fosfato de N-etoxi (2-metil)piridinio, bem como sais ônio tal como descrito nasPatentes U.S. N^ 5 955 238, 6 037 098 e 5 629 354); saisde borato (tais como trifenil (n-butil) borato detetrabutil amônio, trifenil (n-butil) borato de tetraetilamônio, tetrafenil borato de difenil iodônio, e trifenil(n-butil) borato de trifenil sulfônio; e sais de borato talcomo descrito nas Patentes U.S. N— 6 232 038 e 6 218 076);s-triazinas substituídas com halo alquilas (tais como a2,4-bis(tricloro metil) 6-(p-metoxi estiril) s-triazina, a2,4-bis(tricloro metil) 6-(4-metoxi naft-l-il) s-triazina,a 2,4-bis(tricloro metil) 6-piperonil s-trizina, e a 2,4-bis(tricloro metil) 6-[(4-etoxi etilenoxi) fen-l-il] s-triazina; e s-triazinas tal como descrito nas Patentes U.S.N— 5 955 238, 6 037 098, 6 010 824 e 5 629 354); e20 titanoceno (bis(etano 9-2,4-ciclopentadien-l-il) bis[2,6-diflúor 3-(ΙΗ-pirrol-l-il) fenil) titânio). Os sais ônio,sais de borato e s-triazinas são os iniciadores de radicaislivres preferidos. Os sais de diaril iodônio e triarilsulfônio são os sais ônio preferidos. Os sais de triaril25 alquil boratos são os sais de borato preferidos. As s-triazinas substituídas com tricloro metila são as s-triazinas preferidas.
Os iniciadores de foto polimerização conhecidospodem ser usados na composição da presente invenção. Em umamodalidade preferida da presente invenção, a composiçãofoto polimerizável de acordo com a presente invençãocompreende um composto de hexaril bis(imidazola) (HABI;dimero da triaril imidazola) como um iniciador de fotopolimerização isoladamente ou em combinação com outros fotoiniciadores.
Um procedimento para a preparação de hexarilbis (imidazolas) está descrito na DE 1 470 154 e seu uso emcomposições foto polimerizáveis está documentado na EP 24629, EP 107 792, US 4 410 621, EP 215 453 e DE 3 211 312.Os derivados preferidos são, por exemplo, a 2, 4, 5, 2', 4', 5'-hexafenil bis(imidazola) , a 2,2'-bis(2-cloro fenil)4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola), a 2, 2'-bis(2,4-diclorofenil) 4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola), a 2,2'-bis(2-cloro fenil) 4,5,4',5'-tetrakis(3-metoxi fenil)bis(imidazola), a 2,2'-bis(2-cloro fenil) 4,5,4',5'-tetrakis(3,4,5-trimetoxi fenil) bis(imidazola), a2,5,2',5'-tetrakis(2-cloro fenil) 4, 4'-bis(3,4-dimetoxifenil) bis(imidazola), a 2, 2'-bis(2,6-dicloro fenil)4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola), a 2,2'-bis(2-nitrofenil) 4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola), a 2,2'-di-o-tolil 4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola), a 2,2'-bis(2-etoxi fenil) 4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola), e a 2,2'-bis(2,6-diflúor fenil) 4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola) .A quantidade do foto iniciador HABI varia tipicamente de0,01 a 30 % em peso, de preferência de 0,5 a 20 % em peso,em relação ao peso total dos componentes não voláteis dacomposição foto polimerizável.Uma sensibilidade muito elevada pode ser obtidano contexto da presente invenção pela combinação de umalvejante óptico como sensibilizador e uma hexarilbis(imidazola) como foto iniciador.
Classes adequadas de foto iniciadores que não decompostos de hexaril bis(imidazola) incluem cetonasaromáticas, sais ônio aromáticos, peróxidos orgânicos, tiocompostos, compostos de ésteres de cetoximas, compostos deborato, compostos azinio, compostos metalocênicos,compostos de éster ativos e compostos possuindo uma ligaçãocarbono - halogênio, porém a composição de preferênciacompreende um iniciador de foto polimerização que nãocontém boro, sendo particularmente que o iniciador de fotopolimerização não contenha qualquer composto de boro.Vários exemplos específicos de foto iniciadores adequadospara a presente invenção podem ser encontrados no documentoEP-A 1 091 247. outros iniciadores preferidos são astrihalo metil sulfonas.
De preferência, os compostos de hexarilbis(imidazola) e/ou compostos metalocênicos são usadosisoladamente ou em combinação com outros foto iniciadoresadequados, em particular com cetonas aromáticas, sais ônioaromáticos, peróxidos orgânicos, tio compostos, compostosde ésteres de cetoxima, compostos azinio, compostos deésteres ativos, ou compostos possuindo uma ligação carbono- halogênio.
Em uma modalidade preferida da presente invenção,os compostos de hexaril bis(imidazola) perfazem mais do que50 % em moles, de preferência pelo menos 80 % em moles e emparticular pelo menos 90 % em moles de todos os fotoiniciadores usados na composição foto polimerizável dapresente invenção.
De acordo com outra modalidade da presenteinvenção, o monômero ou oligômero polimerizável pode seruma combinação de ura monômero ou oligômero compreendendopelo menos um epóxi ou grupo funcional de éter vinilico eum composto etilenicamente insaturado polimerizável,possuindo pelo menos um grupo terminal etilênico, taliniciador podendo ser uma combinação de um iniciadorcatiônico e um iniciador de radicais livres. Um monômero ouoligômero compreendendo pelo menos um epóxi ou grupofuncional de éter vinilico e um composto etilenicamenteinsaturado polimerizável, possuindo pelo menos um grupoterminal etilênico podem ser o mesmo composto, em que ocomposto contém tanto o grupo etilênico como o grupo epóxiou de éter vinilico. Os exemplos de tais compostos incluemmonômeros acrílicos epóxi funcionais, tais como o acrilatode glicidila. 0 iniciador de radicais livres e o iniciadorcatiônico podem ser o mesmo composto, caso o composto sejacapaz de gerar tanto radicais livres como ácidos livres. Osexemplos de tais compostos incluem vários sais ônio, taiscomo o hexaflúor antimoniato de diaril iodônio e s-triazinas tais como a 2,4-bis(tricloro metil) 6-[(4-etoxietilenoxi) fen-l-il] s-triazina, que são capazes de gerartanto radicais livres como ácido livre na presença de umsensibilizador.
A camada foto polimerizável pode tambémcompreender um monômero multifuncional. Pode tambémcompreender um monômero multifuncional. Tal monômero contémpelo menos dois grupos funcionais selecionados dentre umgrupo etilenicamente insaturado e/ou um grupo de étervinilico ou epóxi. Monômeros multifuncionais específicos para uso no revestimento de foto polímero estão descritosna US 6 410 205, US 5 049 479, EP 1 079 276, EP 1 369 232,EP 1 369 231, EP 1 341 040, US 2003/0 124 460, EP 1 241002, EP 1 288 720 e no livro referência que inclui asseguintes referências: Chemistry & Technology UV & EBformulation for coatings, inks & paints - volume 2
Prepolymers and Reactive Diluents for UV & EB CurableFormulations, por N. S. Allen, M. A. Johnson, Ρ. Κ. T.Oldring, M. S. Salim - editado por Ρ. Κ. T. Oldring, 1991 -ISBN 0 947798102. São particularmente preferidos monômeros multifuncionais de (met)acrilato de uretano, que podem serusados isoladamente ou em combinação com outros monômerosmultifuncionais de (met)acrilato.
A camada foto polimerizável pode tambémcompreender um co-iniciador. Tipicamente, um co-iniciador é usado em combinação com um iniciador de radicais livrese/ou um iniciador catiônico. Co-iniciadores específicospara uso no revestimento de foto polímero estão descritosna US 6 410 205, US 5 049 479, EP 1 079 276, EP 1 369 232,EP 1 369 231, EP 1 341 040, US 2003/0 124 460, EP 1 241 002, EP 1 288 720 e no livro referência que inclui asreferências citadas: Chemistry & Technology UV & EBformulation for coatings, inks & paints - volume 3 -Photoinitiators for Free Radical and CationicPolymerisation, por Κ. Κ. Dietliker - editado por Ρ. Κ. Τ.Oldring, 1991 - ISBN 0 947798161.
A camada foto polimerizável pode tambémcompreender um inibidor. Inibidores específicos para uso norevestimento de foto polímero estão descritos na US 6 410205, EP 1 288 720, e no pedido de patente não publicado EP-A 0 4 101 955, depositado em 6/5/2004.
O ligante da camada foto polimerizável
A camada foto polimerizável pode tambémcompreender um ligante. 0 ligante' pode ser selecionadodentre uma ampla gama de polímeros orgânicos. Podem tambémser usadas composições de diferentes ligantes. Os ligantesúteis incluem, por exemplo, polialquilenos clorados (emparticular polietileno clorado e polipropileno clorado),ésteres alqílicos ou ésteres alquenílicos de ácidopolimetacrílico (em particular o poli(met)(acrilato demetila), o poli(met)(acrilato de etila), opoli(met)(acrilato de butila), o poli(met)(acrilato deisobutila), o poli(met)(acrilato de hexila), opoli(met)(acrilato de 2-etil hexila), e copolímeros depoli(met)(acrilato de alquila) de ésteres alquílicos ouésteres alquenílicos de ácido acrílico com outros monômeroscopolimerizáveis (em particular com (met)acrilonitrila,cloreto de vinila, cloreto de vinilideno, estireno e/oubutadieno), copolímeros de poli(cloreto de vinila)(PVC) /(met)acrilonitrila, copolímeros de poli(cloreto devinilideno) (PVDC) / (met)acrilonitrila, poli(acetato devinila), álcool polivinílico, polivinil pirrolidona,copolímeros de vinil pirrolidona ou vinil pirrolidonaalquilada, poli(vinil caprolactama), copolimeros de vinilcaprolactama, poli((met)acrilonitrila) , copolimeros de(met)acrilonitrila / estireno, copolimeros de
(met)acrilamida / (met)acrilato de alquila, terpolimeros de(met)acrilonitrila / butadieno / estireno (ABS),poliestireno, poli(α-metii estireno), poliamidas,poliuretanos, poliésteres, metil celulose, etil celulose,acetil celulose, hidroxi (Ci - C4)alquil celulose, carboximetil celulose, poli(vinil formal) e poli(vinil butiral).São ligantes particularmente preferidos os polímerospossuindo como unidades monoméricas a vinil caprolactama, avinil pirrolidona, ou a vinil pirrolidona alquilada. Ospolímeros de vinil pirrolidona alquilada podem ser obtidospor inserção de alfa olefinas na cadeia principal dopolímero de vinil pirrolidona. Exemplos típicos de taisprodutos incluem os polímeros Agrimer AL Graftcomercialmente disponíveis através da ISP. 0 comprimento dogrupo de alquilação pode variar de C4 a C30. Outros ligantesúteis são ligantes contendo grupos carboxila, em particularcopolimeros contendo unidades monoméricas de ácidoscarboxílicos a,β-insaturados ou unidades monoméricas deácidos dicarboxílicos (de preferência ácido acrílico, ácidometacrílico, ácido crotônico, ácido vinil acético, ácidomalêico, ou ácido itacônico). 0 termo "copolímero" deve serentendido no contexto da presente invenção como polímeroscontendo unidades de pelo menos dois monômeros diferentes,e portanto também terpolimeros e polímeros mistossuperiores. Os exemplos específicos de copolimeros úteisincluem aqueles contendo unidades de ácido (met)acrílico eunidades de (met)acrilatos de alquila, (met)acrilatos dealila e/ou (met)acrilonitrila, bem como copolimeroscontendo unidades de ácido crotônico e unidades de(met)acrilatos de alquila e/ou (met)acrilonitrila ecopolimeros de ácido vinil acético / (met)acrilato dealquila. São também adequados copolimeros contendo unidadesde anidrido malêico, ou ésteres monoalquilicos de ácidomalêico. Dentre estes incluem-se, por exemplo, copolimeroscontendo unidades de anidrido malêico e estireno, éteres ouésteres insaturados, ou hidrocarbonetos alifáticosinsaturados e os produtos de esterificação obtidos a partirde tais copolimeros. Outros ligantes adequados são produtosque podem ser obtidos através da conversão de polímeroscontendo hidroxila com anidridos dicarboxílicos intra-moleculares. Outros ligantes úteis são os polímeros nosquais estão presentes grupos com átomos de hidrogênioácidos, alguns ou todos os quais são convertidos comisocianatos ativados. Os exemplos de tais polímeros incluemprodutos obtidos por conversão de polímeros contendohidroxila com sulfonil isocianatos alifáticos ouaromáticos, ou isocianatos de ácido fosfínico. São tambémadequados polímeros com grupos hidroxila alifáticos ouaromáticos, por exemplo copolimeros contendo unidade de(met)acrilatos de hidroxi alquila, álcool alílico, hidroxiestireno, ou álcool vinílico, bem como resinas epóxi,contanto que eles portem um número suficiente de grupos OHlivres. Ligantes e ligantes reativos particularmente úteisestão descritos na EP 1 369 232, EP 1 369 231, EP 1 341040, US 2003/0 124 460, EP 1 241 002, EP 1 288 720, US 6027 857, US 6 171 735 e US 6 420 089.
Os polímeros orgânicos usados como ligantespossuem um típico peso molecular médio Mw entre 600 e700.000, de preferência entre 1.000 e 350.000. Também édada preferência a polímeros possuindo um número de ácidoentre 10 e 250, de preferência 20 a 200, ou um número dehidroxila entre 50 e 750, de preferência entre 100 e 500. aquantidade de ligantes varia de um modo geral de 10 a 90 %em peso, de preferência 20 a 80 % em peso, em relação aopeso total dos componentes não voláteis da composição.
São também ligantes particularmente adequados oscopolímeros de acetato de vinila e álcool vinílico,compreendendo de preferência álcool vinílico em umaquantidade de 10 a 98 % em moles, mais pref erivelmenteentre 35 e 95 % em moles, ainda mais preferivelmente 40 e75% em moles; os melhores resultados são obtidos com 50 a65% em moles de álcool vinílico. O valor de éster, medidopelo método definido na DIN 53 401, dos copolímeros deacetato de vinila e álcool vinílico varia de preferênciaentre 25 e 700 mg KOH/g, mais preferivelmente entre 50 e500 mg KOH/g, ainda mais preferivelmente entre 100 e 300 mgKOH/g. A viscosidade dos copolímeros de acetato de vinila eálcool vinílico é medida em uma solução aquosa a 4 % empeso a 20 °C, tal como definido na DIN 53 015, aviscosidade variando de preferência entre 3 e 60 mPa.s,mais preferivelmente entre 4 e 30 mPa.s, ainda maispreferivelmente entre 5 e 25 mPa.s. O peso molecular médio,Mw, dos copolímeros de acetato de vinila e álcool vinílicovaria de preferência entre 5.000 e 500.000 g/mol, maispreferivelmente entre 10.000 e 400.000 g/mol, ainda maispreferivelmente entre 15.000 e 250.000 g/mol.
Outros ligantes preferidos estão descritos na EP152 819 BI, na página 2, linha 50, até a página 4, linha20, e na EP 1 043 627 BI, no parágrafo [0013] na página 3.
O ligante polimérico pode também compreender umacadeia principal hidrofóbica e grupos pendentes incluindo,por exemplo, um segmento hidrofilico de poli(óxido dealquileno). O ligante polimérico pode também incluir gruposciano pendentes ligados à cadeia principal hidrofóbica.Pode também ser empregada uma combinação de tais ligantes.
De um modo geral, o ligante polimérico é sólido natemperatura ambiente e é tipicamente um termoplástico nãoelastomérico. O ligante polimérico compreende regiõeshidrofilicas e hidrofóbicas, o que é considerado importantepara aumentar a diferenciação das áreas expostas e nãoexpostas por facilitar a capacidade de revelação. De ummodo geral, o ligante polimérico é caracterizado por umpeso molecular médio numérico (Mn) na faixa de cerca de10.000 a 250.000, mais comumente na faixa de cerca de25.000 a 200.000. A composição polimerizável podecompreender partículas individuais do ligante polimérico.De preferência, as partículas individuais são partículas doligante polimérico que estão suspensas na composiçãopolimerizável. A presença de partículas individuais tende apromover a capacidade de revelação das áreas não expostas.Exemplos específicos dos ligantes poliméricos de acordo coma presente modalidade estão descritos na US 6 899 994, naUS 2004 / 0 260 050, US 2005/0 003 285, US 2005/0 170 286 ena US 2005 0 123 853. além do ligante polimérico dapresente modalidade, a camada de imageamento podeopcionalmente compreender um ou mais co-ligantes. Os co-ligantes típicos são polímeros solúveis em água oudispersáveis em água, tais como derivados de celulose,álcool polivinílico, ácido poliacrílico, ácidopoli(met)acrílico, polivinil pirrolidona, polilactetos,ácido polivinil fosfônico, copolímeros sintéticos tais comoo copolímero de um (met)acrilato de alcoxi polietilenoglicol. Exemplos específicos de co-ligantes estão descritosna US 2004/0 260 050, US 2005/0 003 285 e US 2005/0 123853. Os precursores de placa de impressão, cuja camada deimageamento compreende um ligante e opcionalmente um co-ligante de acordo com a presente modalidade, estãodescritos em maiores detalhes na US 2004/0 260 050, US2005/0 003 285 e US 2005/0 123 853.Tenso ativo
Vários tenso ativos podem ser adicionados àcamada foto polimerizável para permitir ou aumentar acapacidade de revelação do precursor com uma solução degoma. Podem ser usados tanto tenso ativos poliméricos comode pequenas moléculas. São preferidos os tenso ativos nãoiônicos. Os tenso ativos não iônicos preferidos sãopolímeros e oligômeros contendo um ou mais segmentos depoliéter (tais como polietileno glicol, polipropilenoglicol e um copolímero de etileno glicol e propilenoglicol). Os exemplos de tenso ativos não iônicos preferidosincluem copolímeros em bloco de propileno glicol e etilenoglicol (também denominado como copolímero em blocos deóxido de propileno e óxido de etileno); oligômeros deacrilato etoxilados ou propoxilados, e alquil fenóispolietoxilados e álcoois graxos polietoxilados. 0 tenso ativo não iônico é de preferência adicionado em umaquantidade variando entre 0,1 e 30 % em peso dorevestimento, mais preferivelmente entre 0,5 e 20 % e aindamais preferivelmente entre 1 e 15 %.Sensibilizador
A composição foto curável pode também compreenderum sensibilizador. São sensibilizadores altamentepreferidos os sensibilizadores que absorvem luz violeta,possuindo um espectro de absorção entre 350 nm e 450 nm, depreferência entre 370 nm e 420 nm, mais preferivelmente entre 390 nm e 415 nm. Sensibilizadores particularmentepreferidos estão descritos na EP 1 349 006, parágrafos[0007] a [0009], no EP-A 3 103 499, depositado em22/09/2003, e no WO 2004/047 930, incluindo as referênciascitadas em tais pedidos de patente. Outros sensibilizadoresaltamente preferidos são os corantes absorvedores de luzinfravermelho, possuindo um espectro de absorção entre 750nm e 1300 nm, de preferência entre 780 nm e 1200 nm, maispreferivelmente entre 800 nm e 1100 nm. Sãosensibilizadores particularmente preferidos os corantes deheptametino ciano, especialmente os corantes descritos naEP 1 359 008, parágrafos [0030] a [0032] . Outrossensibilizadores preferidos incluem sensibilizadoresabsorvedores de luz azul, verde, ou vermelha, possuindo umespectro de absorção entre 450 nm e 750 nm. Ossensibilizadores úteis podem ser selecionados dentre oscorantes sensibilizadores descritos nas US 6 410 205, US 5049 479, EP 1 079 276, EP 1 369 232, EP 1 369 231, EP 1 341040, US 2003/0 124 460, EP 1 241 002 e EP 1 288 720.
Colorante
A camada foto polimerizável ou outra camada dorevestimento podem também conter um corante. 0 corante podeestar presente na camada foto polimerizável ou em umacamada separada abaixo ou acima da camada fotopolimerizável. Após o tratamento com água ou uma soluçãoaquosa, pelo menos parte do corante permanece sobre asáreas de revestimento endurecidas e uma imagem visivel podeser produzida sobre o suporte através da remoção de pelomenos parte da camada de topo, opcionalmente incluindo ocolorante, nas áreas não expostas.
0 colorante pode ser um corante ou um pigmento.Um corante ou pigmento pode ser usado como um colorantequando a camada, contendo o corante o pigmento, forcolorida para o olho humano.
0 colorante pode ser um pigmento. Podem serusados vários tipos de pigmentos, tais como pigmentosorgânicos, pigmentos inorgânicos, negro de fumo, pigmentosmetálicos em pó e pigmentos fluorescentes. São preferidosos pigmentos orgânicos.
Exemplos específicos de pigmentos orgânicosincluem pigmentos de quinacridona, pigmentos dequinacridona quinona, pigmentos de dioxazina, pigmentos deftalocianina, pigmentos de antrapirimidina, pigmentos deantantrona, pigmentos de indantrona, pigmentos deflavantrona, pigmentos de perileno, pigmentos dedicetopirrolo pirrola, pigmentos de perinona, pigmentos dequinoftalona, pigmentos de antraquinona, pigmentos detioendigo, pigmentos de benzimidazolona, pigmentos deisoindolinona, pigmentos deazometina e azo pigmentos.
Os exemplos específicos de pigmentos que podemser usados como colorantes incluem os seguintes (aqui CIconstitui uma abreviação para "Color Index" / índice decor; por pigmento de cor azul entenda-se um pigmento que aparenta ser azul para o olho humano; os outros pigmentoscoloridos devem ser considerados da mesma forma):Pigmentos de cor azul que incluem o CI pigmento azul 1, oCI pigmento azul 2, o CI pigmento azul 3, o CI pigmentoazul 15, o CI pigmento azul 4, o CI pigmento azul 34, o CI15 pigmento azul 16, o CI pigmento azul 22, o CI pigmento azul60 e similares, bem como o CI azul VAT 4, o CI azul VAT 60e similares;
Pigmentos de cor vermelha que incluem o CI pigmentovermelho 5, o CI pigmento vermelho 7, o CI pigmento20 vermelho 12, o CI pigmento vermelho 48 (CA) , o CI pigmentovermelho 48 (MN) , o CI pigmento vermelho 122, o CIpigmento vermelho 123, o CI pigmento vermelho 168, o CIpigmento vermelho 184, o CI pigmento vermelho 202 e o CIpigmento vermelho 209;25 Pigmentos de cor amarela que incluem o CI pigmento amarelo1, o CI pigmento amarelo 2, o CI pigmento amarelo 3, o CIpigmento amarelo 12, o CI pigmento amarelo 13, o CIpigmento amarelo 14C, o CI pigmento amarelo 16, o CIpigmento amarelo 17, o CI pigmento amarelo 73, o CIpigmento amarelo 74, o CI pigmento amarelo 75, o CIpigmento amarelo 83, o CI pigmento amarelo 93, o CIpigmento amarelo 95, o CI pigmento amarelo 97, o CIpigmento amarelo OO O CI pigmento amarelo 109, o CIpigmento amarelo 110, O CI pigmento amarelo 114, o CIpigmento amarelo 128, O CI pigmento amarelo 129, O CIpigmento amarelo 138, O CI pigmento amarelo 150, O CIpigmento amarelo 151, O CI pigmento amarelo 154, O CIpigmento amarelo 155, O CI pigmento amarelo 180 e O CIpigmento amarelo 185;
Pigmentos de cor laranja que incluem o CI pigmento laranja36, o CI pigmento laranja 43 e uma mistura de taispigmentos;
Pigmentos de cor verde que incluem o CI pigmento verde 7, oCI pigmento verde 36 e uma mistura de tais pigmentos;
Pigmentos de cor preta que incluem aqueles fabricados pelaMitsubishi Chemical Corporation, por exemplo o N2 2300, oN- 900, o MCF 88, o N2 33, o N2 40, o N- 45, o N- 52, o MA8, o MA 100 e o N2 2200 B;
Aqueles fabricados pela Columbian Carbon Co., Ltd., porexemplo, o Raven 5750, o Raven 5250, o Raven 5000, o Raven3500, o Raven 1255 e o Raven 700;
Aqueles fabricados pela Cabot Corporation, por exemplo, oRegai 400 R, o Regai 330 R, o Regai 660 R, o Mogul L, oMonarch 700, o Monarch 800, o Monarch 880, o Monarch 900, oMonarch 1000, o Monarch 1100, o Monarch 1300 e o Monarch1400; e
Aqueles fabricados pela Degussa, por exemplo, o Color BlackFW 1, o Color Black FW 2, o Color Black FW 2 V, o ColorBlack FW 18, o Color Black FW 200, o Color Black S 150, oColor Black S 160, o Color Black S 170, o Printex U, oPrintex V, o Printex 140 U, o Special Black 6, o SpecialBlack 5, o Special Black 4A e o Special Black 4.
Podem também ser usados como colorante outrostipos de pigmentos, tais como pigmentos marrons, pigmentosvioleta, pigmentos fluorescentes e pigmentos de pósmetálicos. Os pigmentos como colorantes podem ser usadosisoladamente, ou na forma de uma mistura de dois ou maispigmentos.
São preferidos os pigmento de cor azul, incluindopigmentos violeta.
Os pigmentos podem ser usados com ou sem seremsubmetidos a tratamento superficial das partículas depigmento. De preferência, os pigmentos são submetidos atratamento de superfície. Os métodos para tratamento desuperfície incluem métodos para aplicação de umrevestimento superficial de resina, métodos para aplicaçãode tenso ativos, e métodos para ligação de um materialreativo (por exemplo, um "agente de acoplamento de silana,um composto epóxi, poliisocianato, ou similar) à superfíciedo pigmento. Exemplos adequados de pigmentos com tratamentode superfície incluem os pigmentos modificados descritos noWO 02/04 210. Especificamente, na presente invenção sãopreferidos como colorantes os pigmentos de cor azulmodificados descritos no WO 02/04 210.
Os pigmentos possuem um tamanho de partículas queé de preferência menor do que 10 μπ\, mais preferivelmentemenor do que 5 μm e especialmente menor do que 3 μm. Ométodo para dispersar os pigmentos pode ser qualquer métodode dispersão que seja usado para a produção de tinta,tonalizador / toner, ou similares. As máquinas de dispersãoincluem um dispersador ultra-sônico, um moinho de areia, umtriturador por atrito, um moinho de esferas, um supermoinho, um moinho de bolar, um hélice, um dispensador, ummoinho KD, um moinho coloidal, um Dynatron, um moinho detrês roletes e um amassador Z. Os detalhes destes estãodescritos em "Latest Pigment Applied Technology" (CMCPublications, publicado em 1986).
Um agente de dispersão pode ser omitido napreparação de dispersões dos chamados pigmento autodispersantes. Exemplos específicos de pigmentos autodispersantes incluem pigmentos que são submetidos a umtratamento de superfície de tal forma que a superfície dopigmento fique compatível com o líquido de dispersão.Exemplos típicos de pigmentos auto dispersantes em um meioaquoso incluem pigmentos que possuem grupos iônicos ouionizáveis, ou cadeias de polioxi etileno acopladas àsuperfície das partículas. Os exemplos de grupos iônicos ouionizáveis incluem grupos ácidos ou sais de tais, tais comogrupos de ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácidofosfórico, ou ácido fosfônico, e sais de metais alcalinosde tais ácidos. Exemplos adequados de pigmentos autodispersantes estão descritos no WO 02/04 210, sendo estespreferidos na presente invenção. São preferidos ospigmentos auto dispersantes de cor azul do WO 02/04 210.
Tipicamente, a quantidade de pigmento norevestimento pode estar na faixa de cerca de 0,005 g/m2 a 2g/m2, de preferência cerca de 0, 007 g/m2 a 0,5 g/m2, maispreferivelmente cerca de 0,01 g/m2 a 0,20 g/m2, ainda maispreferivelmente cerca de 0,01 g/m2 a 0,1 g/m2.
O colorante pode também ser um corante. Quaisquercorantes conhecidos, tais como corantes comercialmentedisponíveis, ou os corantes descritos, por exemplo, no "DyeHandbook" (editado pela Organic Synthetic ChemistryAssociation, publicado em 1970), que são coloridos para oolho humano, podem ser usados como o colorante norevestimento foto polimerizável. Os exemplos específicos detais incluem azo corantes, azo corantes de sais complexosde metais, azo corantes de pirazolona, corantes deantraquinona, corantes de ftalocianina, corantes decarboiônio, corantes de quinonimina, corantes de metina esimilares. São preferidos os corantes de ftalocianina. Oscorantes adequados são corantes orgânicos formadores desais, podendo ser selecionados dentre corantes solúveis emóleos e corantes básicos. Os exemplos específicos de taisincluem (aqui CI é uma abreviação de Color Index): OilYellow 101, Oil Yellow 103, Oil Pink 312, Oil Green BG, OilBlue G0S, Oil Blue 603, Oil Black BY, Oil Black BS, OilBlack T-505, Victoria Pure Blue, Crystal Violet (Cl 42555),Methyl Violet (Cl 42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (Cl415170B), Malachite Green (Cl 42000), Methylene Blue (Cl52015) . Além destes, podem ser usados como colorantes oscorantes descritos na GB 2 192 729.
Tipicamente, a quantidade de corante norevestimento pode estar na faixa de cerca de 0,005 g/m2 a 2g/m2, de preferência cerca de 0, 007 g/m2 a 0,5 g/m2, maispreferivelmente cerca de 0,01 g/m2 a 0,2 g/m2, ainda maispreferivelmente cerca de 0,01 g/m2 a 0,1 g/m2.Agente de impressão externa (printing-out)
A camada foto polimerizável ou outra camada dorevestimento podem também compreender um agente deimpressão extarna ou "printing-out", isto é, um compostoque é capaz de modificar a cor do revestimento quando daexposição. Após a exposição do precursor à imagem, pode serproduzida uma imagem visível, a seguir também designadacomo uma "imagem print-out" ou "imagem de impressãoexterna". O agente de impressão externa pode ser umcomposto tal como descrito no EP A 1 491 356, parágrafos[0116] a [0119] nas páginas 19 e 20, e no US 2005/8 971,parágrafos [0168] a [0172] na página 17. Os agentes deimpressão externa preferidos incluem os compostos descritosno pedido PCT não publicado PCT/EP 2005/053 141, depositadoem Io de julho de 2005, da linha 1, página 9 à linha 27,página 20. São mais preferidos os corantes IR, tal comodescrito no pedido de patente não publicado EP 05 105440.1, depositado em 21 de junho de 2005, da linha 32,página 5, à linha 9, página 32.
O contraste
O contraste da imagem formada após a exposição àimagem e o processamento com uma solução de goma é definidocomo a diferença entre a densidade óptica na área exposta ea densidade óptica na área não exposta, sendo tal contrastede preferência tão alto quanto possível. Isto permite aousuário final determinar imediatamente se o precursor jáfoi ou não exposto e processado com uma solução de goma,distinguir as diferentes seleções de cor, e inspecionar aqualidade da imagem sobre o precursor de placa tratado.
O contraste aumenta com a elevação da densidadeóptica na área exposta e/ou com a redução da densidadeóptica nas áreas não expostas. A densidade óptica na áreaexposta pode se elevar com a quantidade e coeficiente deextinção do corante remanescente nas áreas expostas e com aintensidade da cor formada pelo agente de impressãoexterna. Nas áreas não expostas é preferido que aquantidade de colorante seja tão baixa quanto possível. Adensidade óptica pode ser medida em termos de refletânciapor um densitômetro óptico equipado com vários filtros (porexemplo, ciano, magenta, amarelo). A diferença de densidadeóptica entre a área exposta e a área não exposta possui depreferência um valor de pelo menos 0,3, maispreferivelmente pelo menos 0,4, ainda mais preferivelmentepelo menos 0,5. Não existe qualquer limite superiorespecífico para o valor do contraste, porém o contraste nãoé tipicamente maior do que 3,0, ou mesmo não maior do que2,0. Para a obtenção de um bom contraste visual para umobservador humano, o tipo de cor do colorante também podeser importante. As cores preferidas para o colorante são ascores ciano ou azul, isto é, por cor azul deve serentendida uma cor que aparenta ser azul para o olho humano.
A camada de topo / superior
De acordo com uma modalidade preferida dapresente invenção, o revestimento compreende uma camadasuperior que atua como uma camada de barreira paraoxigênio, a seguir designada como uma "camada de overcoat"ou "camada de sobre-revestimento", ou simplesmente"overcoat". Os ligantes preferidos que podem ser usados nacamada de topo incluem o álcool polivinilico e os polímerosdescritos no EP A 3 103 498, depositado em 22/09/2003, naUS 6 410 205 e na EP 1 288 720, incluindo as referênciascitadas em tais patentes e pedidos de patente. 0 ligantefavorito para a camada de topo é o álcool polivinilico. 0álcool polivinilico terá de preferência um grau dehidrólise variando entre 74 % em moles e 99 % em moles. 0peso molecular médio ponderai do álcool polivinilico podeser medido através da viscosidade de uma solução aquosa a 4% em peso, a 20 0C, tal como definido na DIN 53 015, talvalor de viscosidade variando de preferência entre 3 e 26,mais preferivelmente entre 3 e 15, ainda maispreferivelmente entre 3 e 10.
A espessura do revestimento da camada de topofica de preferência entre 0,25 e 1,75 g/m2, maispreferivelmente entre 0,25 e 1,3 g/m2, ainda maispreferivelmente entre 0,25 e 1,0 g/m2, em uma modalidademais preferida da presente invenção, a camada de topopossui uma espessura de revestimento entre 0,25 e 1,75 g/m2e compreende um álcool polivinilico possuindo um grau dehidrólise variando entre 74 % em moles e 99 % em moles, eum valor de viscosidade tal como definido acima variandoentre 3 e 26.
A camada de topo pode também compreender umcomponente selecionado a partir dos compostos da solução degoma acima descritos.ExposiçãoA etapa de exposição à imagem é efetuada fora daprensa em um compositor de chapa / placa, isto é, umequipamento de exposição adequado para expor o precursor àimagem por meio de um laser, tal como um diodo de laser,com emissão em torno de 830 nm, um laser NdYAG, com emissãoem torno de 1060 nm, um laser violeta, com emissão em tornode 400 nm, ou um laser de gás, tal como um laser de Ar, oupor meio de uma exposição a UV digital modulada, porexemplo por meio de dispositivos digitais de espelhos, oupor meio de uma exposição convencional em contato com umamáscara. Em uma modalidade preferida da presente invenção,o precursor é exposto à imagem por meio de um laseremitindo luz IR ou luz violeta.
Pré-aquecimento
Após tal etapa de exposição à imagem, o precursoré opcionalmente aquecido em uma unidade de pré-aquecimentopara promover ou acelerar a reação de polimerização e/oureticulação. Em uma modalidade preferida, tal etapa.de pré-aquecimento pode ser efetuada dentro de um período de tempomenor que 10 minutos, de preferência menor que 5 minutos,mais preferivelmente menos de um minuto, ainda maispreferivelmente o pré-aquecimento é efetuado imediatamenteapós a exposição à imagem, isto é, dentro de menos que 30segundos. Não há qualquer limite de tempo antes que a etapade aquecimento possa começar, porém o precursor é aquecidotão logo quanto possível após a exposição, usualmente apósalguns segundos para transportar a placa para a unidade depré-aquecimento e iniciar o processo de aquecimento. Em taletapa de pré-aquecimento, o precursor é aquecido a umatemperatura de 80 0C a 150 0C e durante um tempo deresidência de preferência de 5 segundos a 1 minuto. Aunidade de pré-aquecimento estará de preferência providacom elementos de aquecimento tais como lâmpadas IR,lâmpadas UV, ar aquecido, um rolete ou cilindro metálicoaquecido, etc.
Tratamento com água ou uma solução aquosa
Após a exposição à imagem, ou a etapa de pré-aquecimento opcional, o precursor é subseqüentementetratado com água ou uma solução aquosa, pelo que pelo menosparte da camada de barreira de oxigênio é removida e peloque a permeabilidade ao oxigênio do revestimento é elevadaa um grau tal que a cura das áreas não expostas dorevestimento, exposto à luz ambiente, é inibida por desativação dos radicais livres pelo oxigênio da atmosfera.Em tal tratamento, o revestimento não é completamenteremovido do suporte nas áreas não expostas, de forma que asuperfície hidrofílica do suporte fica protegida pelorevestimento remanescente sobre a placa. Em uma modalidade preferida da presente invenção, o revestimento remanescentesobre a placa após tal tratamento constituisubstancialmente a camada foto curável ou parte da camadafoto curável.
Em tal tratamento, pelo menos parte da camada debarreira de oxigênio é removida pelo suprimento de água ouuma solução aquosa, de preferência água, ao revestimento doprecursor. A temperatura da água ou solução aquosa usada emtal tratamento fica de preferência entre 10 0C e 85 °C,mais preferivelmente entre 15 0C e 65 °C, ainda maispreferivelmente entre 18 0C e 55 °C. Vários métodos podemser usados, tal como o método usado nas máquinas derevelação tradicionais, em que a água ou solução aquosa éaplicada à placa por meio de esfregação com um coxim ouboneca impregnada, por imersão, por borrifamento, porjateamento, por qualquer técnica de revestimento, tal comorevestimento por rotação, revestimento por roletes,revestimento por fenda, ou revestimento por rotogravura,por derramamento, seja manual ou em um equipamento deprocessamento automático, opcionalmente combinado comesfregação mecânica, tal como por uma escova rotativa.
Essencialmente, nesta técnica pelo menos parte dorevestimento permanece sobre a placa para proteger asuperfície hidrofílica nas áreas não expostas. Em umamodalidade preferida da presente invenção, pelo menos 3 %em peso do revestimento permanece sobre a placa, maispreferivelmente pelo menos 5 % em peso, ainda maispreferivelmente pelo menos 6 % em peso. Em outra modalidadepreferida da presente invenção, pelo menos 70 % em peso dabarreira de oxigênio é removida, mais preferivelmente pelomenos 85 % em peso, ainda mais preferivelmente a barreirade oxigênio é substancialmente removida de forma completa.
Em outra modalidade preferida da presente invenção, o rev4que permanece sobre a placa é de pelo menos 0,1 g/m2, maispreferivelmente pelo menos 0,13 g/m2, ainda maispreferivelmente pelo menos 0,15 g/m2.
Em tal tratamento é usada de preferência água ouuma solução aquosa, de preferência é usada água. O termo"aquosa" inclui a água ou misturas de água com solventesorgânicos misciveis em água, tais como álcoois, por exemploo metanol, o etanol, o 2-propanol, o butanol, o álcoolisoamilico, o octanol, o álcool cetilico, etc., glicóis,por exemplo o etileno glicol, a glicerina, a N-metilpirrolidona, o metoxi propanol, e cetonas, por exemplo a 2-propanona e a 2-butanona, etc. 0 solvente orgânico miscívelcom água pode estar presente em tais misturas em no máximo50 % em peso, de preferência menos que 20 % em peso, maispreferivelmente menos que 10 % em peso, ainda maispreferivelmente nenhum solvente orgânico estará presente nasolução aquosa.
A solução aquosa pode conter também um compostosolubilizado ou dispersado em água ou em uma mistura deágua e um solvente miscivel com a água. Tais compostospodem ser selecionados dentre os compostos usados em umasolução de gomagem tal como descrito no pedido de patentenão publicado PCT / EP / 2005/052 298, da linha 1 na página6 até a linha 35 na página 11.
Processamento na prensa
O precursor exposto, opcionalmente exposto e pré-aquecido é processado na prensa, isto é, enquanto oprecursor está montado sobre o cilindro da platina de umaimpressora litográfica, por rotação do cilindro de platinaenquanto se alimenta liquido umectante e/ou tinta aorevestimento do precursor. Em uma modalidade preferida,somente liquido umectante é fornecido à placa durante apartida da impressora. Após um certo número de rotações docilindro de placa, de preferência menos que 50 e maispreferivelmente menos que 5 rotações, o suprimento de tintatambém é ligado. Em uma modalidade alternativa, osuprimento de liquido umectante e tinta pode ser iniciadosimultaneamente ou somente tinta pode ser suprida duranteum certo número de rotações antes de se ligar o suprimentoe liquido umectante.
EXEMPLOS
Preparação de suporte de alumínio S-I.
Uma folha de alumínio com espessura de 0,3 mm foidesengraxada por borrifamento com uma solução aquosacontendo 34 g/l de hidróxido de sódio a 70°C por 6segundos e rinsada com água deionizada por 3,6 segundos. Afolha foi a seguir eletroquimicamente granulada durante 8segundos usando-se uma corrente alternada em uma soluçãoaquosa contendo 15 g/l de ácido clorídrico, 15 g/l de íonsSOa2" e 5 g/l de íons Al + a uma temperatura de 37 °C e umadensidade de corrente de cerca de 100 A/dm2. A seguir, afolha de alumínio passou por limpeza ácida com uma soluçãoaquosa contendo 145 g/l de ácido sulfúrico a 80 °C por 5segundos e rinsada com água deionizada por 4 segundos. Afolha foi subseqüentemente submetida a oxidação anódicadurante 10 segundos em uma solução aquosa contendo 145 g/lde ácido sulfúrico a uma temperatura de 57 °C e umadensidade de corrente de 33 A/dm2, a seguir lavada com águadeionizada por 7 segundos e pós-tratada por 4 segundos porborrifamento de uma solução contendo 2,2 g/l de ácidopolivinil fosfônico a 70 °C, rinsada com água deionizadapor 3,5 segundo e seca a 120 °C por 7 segundos.
O suporte assim obtido era caracterizado por umaaspereza de superfície, Ra, de 0,35 a 0,4 μm, medida com ointerferômetro NT1100, e possuía um peso anódico de 4,0g/m2.
Preparação de suporte de alumínio S-2.
A preparação deste suporte é efetuada da mesmaforma descrita para o suporte S-I, com a exceção de que acamada de ácido polivinil fosfônico é parcialmente removidapor tratamento com PD91, uma solução reveladora alcalina debase aquosa, comercialmente disponível através da Agfa-Gevaert, seguido por lavagem com água.
Preparação da camada intermediária I-I.
A composição de revestimento para a camadaintermediária I-I foi preparada por mistura dosingredientes tal como especificado na Tabela 1. A soluçãoresultante foi revestida por meio de um revestidor de barrasobre um suporte. Após o revestimento, a chapa / placa foiseca por 1 minuto a 120 0C em uma estufa de circulação.
Tabela 1: Composições das soluções de camadasintermediárias e espessura da camada seca.
<table>table see original document page 44</column></row><table>
(1) 0 Sipomer PAM 100 é um monômero especial de metacrilatocom funcionalidade fosfato, obtido através da RHODIA. Talcomposto foi tratado por extração com éter metil t-butílico, coleta da fase inferior e subseqüente adição de250 ppm (partes por milhão) de p-metoxi fenol.(2) O Dowanol PM é o éter monometilico de propileno glicol,marca comercial da Dow Chemical Company.
Preparação da camada foto curável P-I.
A composição de revestimento para a camada fotocurável P-I foi preparada por mistura dos ingredientesespecificados na Tabela 2. A solução resultante foirevestida por meio de um revestidor de barra sobre umacamada intermediária I-I (precursor tipo 1) e sobre umsuporte sem a camada intermediária I-I (precursor tipo 2) .Após o revestimento, os dois tipos de placa foram secos porum minuto a 120 0C em uma estufa com circulação. Aquantidade aplicada resultante foi de 0,75 g/m2.
Tabela 2: Composições das soluções da camada foto sensível
<table>table see original document page 45</column></row><table>
(1) 0 Alcotex 552P é uma solução a 40 % em peso em água deálcool polivinílico possuindo um grau de hidrolise de 55 %em moles, comercialmente disponível através da Synthomer;(2) O IR corante 01 possui a seguinte estrutura:{COPIAR FÓRMULA}.
Em que OTos representa um ânion tosilato;
(3) 0 TBMPS é a tribromo etil fenil sulfona;
(4) 0 FST 426R é uma solução em 2-butanona contendo 88,2 %em peso de um produto de reação de 1 mol de diisocianato de2,2,4-trimetil hexametileno e 2 moles de metacrilato dehidroxi etila (viscosidade de 3,30 mm2/s a 25 °C);
(5) 0 Edaplan LA411 é um tenso ativo (solução a 10 % empeso em Dowanol PM®, marca comercial da Dow ChemicalCompany) obtido através da Munzing Chemie.
Preparação da camada de overcoat OC-I.
Sobre a camada foto curável foi aplicada umasolução em água com a composição definida na Tabela 3,sendo seca a 110 0C por 2 minutos. 0 overcoat 0C-1 protetorassim formado possuía uma espessura seca de 2,0 g/m2.
Tabela 3: Composição da solução de overcoat.
<table>table see original document page 46</column></row><table><table>table see original document page 47</column></row><table>
Corte de fitas
Durante o revestimento e secagem de todas asdiferentes camadas, as placas foram protegidas da luzambiente. Cada tipo de precursor foi cortado em váriasfitas e tais fitas foram armazenadas sob proteção da luzambiente.
Exposição
Duas fitas de cada tipo de precursor foramimageadas por meio de um laser Creo Trendsetter IR (830 nm)com diferentes energias, variando entre 100 mJ/cm2 e 300mJ/cm2.
Tratamento com água e teste de estabilidade sobluz do dia.
Após a etapa de exposição à imagem, uma fita decada tipo de precursor foi passada através da seção delavagem com água e secagem de um processador VSP,comercialmente disponível através da Agfa-Gevaert, pararemover o overcoat e parte da camada foto curável. Outrafita de cada tipo de precursor não foi tratada com água.A fita tratada com água e uma fita não tratada decada tipo de precursor foram expostas à luz do dia por 30minutos.
A Tabela 4 resume as composições dos precursoresde placas de impressão e o tratamento com água.
Tabela 4: composição do precursor.
<table>table see original document page 48</column></row><table>
Processamento na prensa
Estas duas fitas de cada tipo de precursor foramsubseqüentemente montadas em uma prensa de impressão GT04 6(disponível através da Heidelberger Druckmaschinem AG) ,sendo iniciado um trabalho de impressão usando-se tinta K +E Novavit 800 Skinnex (marca comercial da BASF DrucksystemeGmbH) e 3 % de FSlOl (marca comercial da AGFA) em 10 % deisopropanol como o líquido fonte, manta compressível eusando papel offset.A limpeza ou "clean-out" consiste da remoção dorevestimento nas áreas não expostas, revelando a superfíciehidrofílica do suporte, e sendo definida pelo número defolhas necessárias para obtenção, nas áreas não expostas,de uma densidade óptica de 0,0, enquanto nas áreascompletamente expostas (ou nas áreas de 100 % de pontos deuma tela) a densidade óptica (medida na folha impressa) éde pelo menos 1,5, indicando uma excelente aceitação detinta. A indicação < 5 significa que uma limpeza completa éobtida após a impressão de 2, 3, ou 4 folhas; > 250significa uma limpeza insuficiente mesmo após imprimir 250folhas. Uma limpeza insuficiente significa que parte dorevestimento permanece sobre a placa nas áreas nãoexpostas, podendo resultar em tonalização ou "toning" naprensa, isto é, uma tendência indesejável de aceitação detinta nas áreas não expostas nas folhas impressas.
Dependendo da quantidade de tinta aceita nas áreas semimagem nas folhas impressas, pode ser observada atonalização em diferentes níveis, correspondendo ao valorde densidade de cinza nas áreas sem imagem. O termo"tonalização" significa que pode ser observado um aumentoda densidade óptica nas áreas sem imagem por inspeçãovisual das folhas impressas; "sem tonalização" significaque as áreas sem imagem estão livres de tinta por inspeçãovisual das folhas impressas.
A Tabela 5 resume os resultados obtidos para osprecursores tratados e não tratados.
Tabela 5: Resultados<table>table see original document page 50</column></row><table>
Espessura de revestimento remanescente após otratamento com água.
uma fita não exposta do precursor tipo 1 e uma doprecursor tipo 2 foram pesadas antes e após passarem pelaseção de tratamento com água e secagem de um processadorVSP, comercialmente disponível através da Agfa-Gevaert,sendo calculada a quantidade de revestimento removida emtal tratamento com água para estes dois tipos de precursor.
Após o tratamento com água as fitas forampassadas por um processador de gomagem usando-se a soluçãode goma Goma-I para remover o restante do revestimento. Asfitas foram cuidadosamente lavadas com água para remover agoma adsorvida das placas, secas e novamente pesadas paracalcular o restante do revestimento após o tratamento comágua.
A Goma-I consiste de uma solução preparada daseguinte forma:A 750 g de água deionizada foram adicionados, sobagitação,
100 ml de Dowfax 3B2 (comercialmente disponívelatravés da Dow Chemical),
31,25 g do sal dissódico do ácido 1,3-benzenodisulfônico (Riedel de Haan),
31,25 ml de Versa TL77 (um ácido poliestirenosulfônico, disponível através da Alco Chemical),
10,4 g de citrato trissódico dihidratado,
2 ml de Acticide LA1206 (um biocida da Thor),
2,08 g de Polyox WSRN-750 (disponível através daUnion Carbide),
sendo a seguir adicionada água deionizada até1000 g; o pH ficou entre 7,2 e 7,8.
Em cada estágio de tais tratamentos, foi medida adensidade óptica (a seguir também designada como "OD") naplaca por meio de um densitômetro Gretag Macbeth D19C,comercialmente disponível através da GRETAG-MACBETH AG,usando-se ajuste de ciano e uma placa de alumínio nãorevestida como referência.
Os resultados estão resumidos na Tabela 6.
Tabela 6: Espessura do revestimento e densidade óptica emcada estágio dos tratamentos<table>table see original document page 52</column></row><table>
Os exemplos da invenção na Tabela 5 demonstramque os precursores expostos à imagem do tipo 1 (o precursorcompreende um composto promotor de adesão na camadaintermediária) e do tipo 2 (precursor sem um compostopromotor da adesão) apresentam uma melhor estabilidade àluz do dia quando o precursor exposto à imagem é tratadocom água. Na Tabela 6 fica demonstrado que após taltratamento com água cerca de 7 a 8 % em peso dorevestimento permanece sobre o suporte nas áreas nãoexpostas. No processamento na prensa, as placas deimpressão dos exemplos da invenção apresentam uma limpezarápida e completa após a impressão de 2, 3, ou 4 folhas(menos que 5 folhas), não sendo observada qualquertonalização na prensa. Nos exemplos comparativos da Tabela5, os precursores não foram tratados com água após aexposição à imagem e não são estáveis sob a luz do dia. Nãoé obtida qualquer limpeza mesmo após a impressão de 250folhas e tonalização aparece na prensa.
Claims (10)
1. Método para a produção de uma placa paraimpressão litográfica, CARACTERIZADO pelo fato de quecompreende as etapas de:(a) prover um precursor de placa de impressãolitográfica compreendendo um suporte que possui umasuperfície hidrofílica ou que está provido com uma camadahidrofílica, e um revestimento sobre o suporte, orevestimento compreendendo (i) pelo menos uma camada pararegistro de imagem que compreende uma composição fotocurável, a composição compreendendo um composto que é capazde formar radicais livres quando da exposição a uma imagem,e (ii) sobre a mesma, uma camada de barreira ao oxigêniocompreendendo um polímero solúvel em água ou expansível em água;(b) expor o revestimento a uma imagem por meiode um laser em um compositor de placas;(c) opcionalmente, aquecer o precursor em umaunidade de pré-aquecimento;(d) tratar o precursor exposto à imagem em umaunidade de revelação em que água ou uma solução aquosa éfornecida ao revestimento do precursor para remover pelomenos parte da camada de barreira ao oxigênio, desse modoaumentando a permeabilidade ao oxigênio do revestimento emgrau tal que a cura das áreas não expostas do revestimentopela luz ambiente seja inibida por desativação dos radicaislivres com oxigênio;(e) montar o precursor tratado sobre um cilindrode placa de uma prensa litográfica; e(f) revelar por rotação do cilindro de placaenquanto se alimenta liquido umectante e/ou tinta aorevestimento, desse modo removendo as áreas não expostas dacamada de registro de imagem;em que o compositor de placas está mecanicamenteacoplado à unidade de revelação da etapa (d) pordispositivos de transporte em que o precursor estáprotegido contra a luz ambiente.
2. Método, de acordo com a reivindicação 1,CARACTERIZADO pelo fato de que, na etapa (c) , orevestimento não é completamente removido do suporte nasáreas não expostas, de forma a que a superfície hidrofílicado suporte fique protegida pelo revestimento remanescentesobre a placa.
3. Método, de acordo com a reivindicação 2,CARACTERIZADO pelo fato de que pelo menos 3 % em peso dorevestimento permaneça sobre a placa.
4. Método, de acordo com a reivindicação 2,CARACTERIZADO pelo fato de que pelo menos 0,1 g/m2 dorevestimento permaneça sobre a placa.
5. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de quea unidade de revelação na etapa (d) está provida com pelomenos um rolete para esfregar e/ou escovar o revestimentodurante o tratamento.
6. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de quea água ou solução aquosa é fornecida ao revestimento naetapa (d) por jateamento ou borrifamento da água ou dasolução aquosa sobre o revestimento.
7. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de que,após a etapa (b) e antes da etapa (d), o precursor éaquecido em uma temperatura entre 80 0C e 150 0C, duranteum tempo de residência de 5 segundos a 1 minuto em umaunidade de pré-aquecimento, a unidade de pré-aquecimentoestando acoplada ao compositor de placas por meio dedispositivos mecânicos de transporte de placas, em que oprecursor é protegido contra a luz ambiente.
8. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de quea composição foto curável compreende também um compostoabsorvedor de IR e em que, na etapa (b), o revestimento éexposto à imagem com radiação IR.
9. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de quea composição foto curável compreende também um compostoabsorvedor de violeta e em que, na etapa (b), orevestimento é exposto à imagem com luz violeta.
10. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de que,na etapa (d), é usada água no tratamento.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP05111025.2 | 2005-11-21 | ||
| EP05111025.2A EP1788435B1 (en) | 2005-11-21 | 2005-11-21 | Method of making a lithographic printing plate |
| US74983905P | 2005-12-13 | 2005-12-13 | |
| US60/749,839 | 2005-12-13 | ||
| PCT/EP2006/068498 WO2007057413A1 (en) | 2005-11-21 | 2006-11-15 | Method of making a lithographic printing plate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BRPI0616863A2 true BRPI0616863A2 (pt) | 2011-07-05 |
Family
ID=36283735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BRPI0616863-9A BRPI0616863A2 (pt) | 2005-11-21 | 2006-11-15 | método para a produção de uma placa para impressão litográfica |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8088560B2 (pt) |
| EP (1) | EP1788435B1 (pt) |
| JP (1) | JP2009516602A (pt) |
| KR (1) | KR101363347B1 (pt) |
| CN (1) | CN101313248B (pt) |
| AU (1) | AU2006314546B2 (pt) |
| BR (1) | BRPI0616863A2 (pt) |
| DK (1) | DK1788435T3 (pt) |
| ES (1) | ES2411697T3 (pt) |
| PL (1) | PL1788435T3 (pt) |
| WO (1) | WO2007057413A1 (pt) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1369230A1 (en) * | 2002-06-05 | 2003-12-10 | Kba-Giori S.A. | Method of manufacturing an engraved plate |
| DE602006009919D1 (de) * | 2006-08-03 | 2009-12-03 | Agfa Graphics Nv | Flachdruckplattenträger |
| JP5258237B2 (ja) * | 2006-09-14 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 |
| ATE468981T1 (de) | 2007-11-30 | 2010-06-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur behandlung einer lithografiedruckplatte |
| EP2098376B1 (en) | 2008-03-04 | 2013-09-18 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate support |
| ATE514561T1 (de) | 2008-03-31 | 2011-07-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur behandlung einer lithografischen druckplatte |
| JP5711168B2 (ja) | 2012-02-27 | 2015-04-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
| JP5715975B2 (ja) | 2012-02-29 | 2015-05-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法 |
| JP2019510272A (ja) | 2016-03-16 | 2019-04-11 | アグファ・ナームローゼ・フェンノートシャップAgfa Nv | 平版印刷版の処理方法 |
| CN106939531A (zh) * | 2017-03-20 | 2017-07-11 | 南宁东印时代广告有限公司 | 胶版纸 |
| EP3431290B1 (en) * | 2017-07-20 | 2021-09-08 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3474073B1 (en) * | 2017-10-17 | 2022-12-07 | Agfa Offset Bv | A method for making a printing plate |
| ES2881270T3 (es) * | 2017-12-08 | 2021-11-29 | Agfa Nv | Procedimiento de fabricación de una plancha de impresión litográfica |
| WO2019219570A1 (en) * | 2018-05-14 | 2019-11-21 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| JP2020069790A (ja) * | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| WO2020120400A1 (en) * | 2018-12-10 | 2020-06-18 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3922462B1 (en) * | 2020-06-08 | 2023-03-01 | Agfa Offset Bv | Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability |
Family Cites Families (62)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2005
- 2005-11-21 EP EP05111025.2A patent/EP1788435B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2005-11-21 PL PL05111025T patent/PL1788435T3/pl unknown
- 2005-11-21 ES ES05111025T patent/ES2411697T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2005-11-21 DK DK05111025.2T patent/DK1788435T3/da active
-
2006
- 2006-11-15 JP JP2008540612A patent/JP2009516602A/ja not_active Withdrawn
- 2006-11-15 KR KR1020087011569A patent/KR101363347B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2006-11-15 AU AU2006314546A patent/AU2006314546B2/en not_active Ceased
- 2006-11-15 CN CN2006800433001A patent/CN101313248B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-11-15 US US12/094,285 patent/US8088560B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-11-15 WO PCT/EP2006/068498 patent/WO2007057413A1/en not_active Ceased
- 2006-11-15 BR BRPI0616863-9A patent/BRPI0616863A2/pt not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1788435B1 (en) | 2013-05-01 |
| KR101363347B1 (ko) | 2014-02-14 |
| KR20080070824A (ko) | 2008-07-31 |
| EP1788435A1 (en) | 2007-05-23 |
| AU2006314546A1 (en) | 2007-05-24 |
| US20090047603A1 (en) | 2009-02-19 |
| DK1788435T3 (da) | 2013-06-17 |
| CN101313248B (zh) | 2011-11-23 |
| AU2006314546B2 (en) | 2012-07-05 |
| PL1788435T3 (pl) | 2013-09-30 |
| US8088560B2 (en) | 2012-01-03 |
| ES2411697T3 (es) | 2013-07-08 |
| CN101313248A (zh) | 2008-11-26 |
| WO2007057413A1 (en) | 2007-05-24 |
| JP2009516602A (ja) | 2009-04-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| B07A | Application suspended after technical examination (opinion) [chapter 7.1 patent gazette] | ||
| B09B | Patent application refused [chapter 9.2 patent gazette] | ||
| B09B | Patent application refused [chapter 9.2 patent gazette] |