JPS5956403A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
- Publication number
- JPS5956403A JPS5956403A JP57168088A JP16808882A JPS5956403A JP S5956403 A JPS5956403 A JP S5956403A JP 57168088 A JP57168088 A JP 57168088A JP 16808882 A JP16808882 A JP 16808882A JP S5956403 A JPS5956403 A JP S5956403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- derivative
- ring
- photopolymerizable composition
- ethylenically unsaturated
- double bond
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 39
- -1 thiol compound Chemical class 0.000 claims abstract description 36
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 4
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 15
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 7
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 11
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 4
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical class C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 2
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N (E)-cinnamaldehyde Chemical compound O=C\C=C\C1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- FGTUGLXGCCYKPJ-SPIKMXEPSA-N (Z)-but-2-enedioic acid 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCCOCCOCCO FGTUGLXGCCYKPJ-SPIKMXEPSA-N 0.000 description 1
- SORHAFXJCOXOIC-CCAGOZQPSA-N (z)-4-[2-[(z)-3-carboxyprop-2-enoyl]oxyethoxy]-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C(O)=O SORHAFXJCOXOIC-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRDHMXGKCSNDMT-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol 2-methylidenebutanedioic acid Chemical class C(C(=C)CC(=O)O)(=O)O.OCC(CO)(CO)CO HRDHMXGKCSNDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKCQPZUQENGUHZ-UHFFFAOYSA-N 2-(1H-imidazol-2-yl)-1,2,3,4,4,5-hexakis-phenylimidazolidine Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C1C(N(C(N1C1=CC=CC=C1)(C=1NC=CN1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 MKCQPZUQENGUHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 2-[(e)-but-2-enoyl]oxyethyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCOC(=O)\C=C\C APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- YIXVNSVLWYQVSM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCCOCCOCCO YIXVNSVLWYQVSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGMKIUODVOGLJF-GGWOSOGESA-N 2-[2-[(e)-but-2-enoyl]oxyethoxy]ethyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCOCCOC(=O)\C=C\C OGMKIUODVOGLJF-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAGHEHQMRFEQMB-UHFFFAOYSA-N 2-ethylidenepropanedioic acid Chemical compound CC=C(C(O)=O)C(O)=O QAGHEHQMRFEQMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- MVMOMSLTZMMLJR-FMIVXFBMSA-N 4-[(e)-2-(1,3-benzothiazol-2-yl)ethenyl]-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1\C=C\C1=NC2=CC=CC=C2S1 MVMOMSLTZMMLJR-FMIVXFBMSA-N 0.000 description 1
- KOKPBCHLPVDQTK-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-4-methylpentan-2-one Chemical compound COC(C)(C)CC(C)=O KOKPBCHLPVDQTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHCNFMLEZLEFIX-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)CC(=O)O)(=O)O.C(C(=C)CC(=O)O)(=O)O.C(C(=C)CC(=O)O)(=O)O.OCC(CO)(CO)CO Chemical compound C(C(=C)CC(=O)O)(=O)O.C(C(=C)CC(=O)O)(=O)O.C(C(=C)CC(=O)O)(=O)O.OCC(CO)(CO)CO XHCNFMLEZLEFIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQYHKYUSARBOB-HFBXSBKTSA-N C\C=C\C(=O)OCC(COC(=O)\C=C\C)(COC(=O)\C=C\C)COC(=O)\C=C\C Chemical compound C\C=C\C(=O)OCC(COC(=O)\C=C\C)(COC(=O)\C=C\C)COC(=O)\C=C\C ZCQYHKYUSARBOB-HFBXSBKTSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 241000283986 Lepus Species 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDMUKYUKJKCOEE-SPIKMXEPSA-N OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO YDMUKYUKJKCOEE-SPIKMXEPSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- AMEDKBHURXXSQO-UHFFFAOYSA-N azonous acid Chemical group ONO AMEDKBHURXXSQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N bis(2-methoxyethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound COCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N bis(3,5-difluorophenyl)phosphane Chemical compound FC1=CC(F)=CC(PC=2C=C(F)C=C(F)C=2)=C1 ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229940117916 cinnamic aldehyde Drugs 0.000 description 1
- KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N cinnamic aldehyde Natural products O=CC=CC1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- PUFGCEQWYLJYNJ-UHFFFAOYSA-N didodecyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCCCCCC PUFGCEQWYLJYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N ethenyl(phenyl)diazene Chemical compound C=CN=NC1=CC=CC=C1 IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 150000002689 maleic acids Chemical class 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical class [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 238000001782 photodegradation Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002755 poly(epichlorohydrin) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDNLFJGJEQUWRB-UHFFFAOYSA-N rose bengal free acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C(O)=C(I)C=C21 VDNLFJGJEQUWRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/116—Redox or dye sensitizer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
- Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/122—Sulfur compound containing
- Y10S430/123—Sulfur in heterocyclic ring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/127—Spectral sensitizer containing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光重合性組成物に関するものである0特に可視
領域の光源に対し高感度を示す光重合性組成物に関する
ものである。
領域の光源に対し高感度を示す光重合性組成物に関する
ものである。
従来、光重合系利用の画像形成法は多数知られており、
例えば付加重合可能なエチレン性二禁止剤、着色剤、可
塑剤等からなる光重合性組成物を調製し、この光1合性
組成物ケ無溶媒または溶液となし支持体上に塗布して光
重合性組成物の層を設げた感光材料を作成し所望画像を
像露光して露光部分’(r車台硬化させ未露光部分全溶
解除去することにより硬化レリーフ画像全形成する方法
や上述感光材料が少なくとも一方が透明である2枚の支
持体間に光重合性組成物の層を設けたものであり、透明
支持体側より像露光し光による接着強度の変化を惹起さ
せた後支持体を剥離することにより画像を形成する方法
その地元1合性組成物層の光によるトナー耐着性の変化
を利用した画像作成方法等がある。
例えば付加重合可能なエチレン性二禁止剤、着色剤、可
塑剤等からなる光重合性組成物を調製し、この光1合性
組成物ケ無溶媒または溶液となし支持体上に塗布して光
重合性組成物の層を設げた感光材料を作成し所望画像を
像露光して露光部分’(r車台硬化させ未露光部分全溶
解除去することにより硬化レリーフ画像全形成する方法
や上述感光材料が少なくとも一方が透明である2枚の支
持体間に光重合性組成物の層を設けたものであり、透明
支持体側より像露光し光による接着強度の変化を惹起さ
せた後支持体を剥離することにより画像を形成する方法
その地元1合性組成物層の光によるトナー耐着性の変化
を利用した画像作成方法等がある。
か様な方法に応用される光重合性組成物の光重合開始剤
としては従来、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテ
ル、ベンゾフェノン、アントラキノン、ベンジル、ある
いはミヒラーケトンなどが用いられてきた。しかしなが
ら、これら 3 − の光重合開始剤はグθOnm以下の紫外線領域の光源に
対する光重合開始能力に比較し、aOO物の応用範H’
を著しく限定してきた。
としては従来、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテ
ル、ベンゾフェノン、アントラキノン、ベンジル、ある
いはミヒラーケトンなどが用いられてきた。しかしなが
ら、これら 3 − の光重合開始剤はグθOnm以下の紫外線領域の光源に
対する光重合開始能力に比較し、aOO物の応用範H’
を著しく限定してきた。
可視光線に感応する光重合系に関しては従来いくつかの
提案がなされてきた。古くは米国特許第シ♂jagグ!
号によればある種の光還元性染料、例えばローズベンガ
ル、エオシン、エリ技術として染料と脂肪族アミンの複
合開始系(特公昭4tグーコotrq)、ヘキサアリー
ルビイミダゾールとラジカル発生剤および染料の系(特
公昭ダj−j7377)、ヘキサアリールビイミダゾー
ルと(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトンの系
(特開昭4t7−2夕2F。
提案がなされてきた。古くは米国特許第シ♂jagグ!
号によればある種の光還元性染料、例えばローズベンガ
ル、エオシン、エリ技術として染料と脂肪族アミンの複
合開始系(特公昭4tグーコotrq)、ヘキサアリー
ルビイミダゾールとラジカル発生剤および染料の系(特
公昭ダj−j7377)、ヘキサアリールビイミダゾー
ルと(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトンの系
(特開昭4t7−2夕2F。
特開昭!グーl!タコワ2)、環状シス−α−ジカルボ
ニル化合物と染料の系(特開昭4tJ’−rytr3)
、置換トリアジンとメロシアニン 4− 色素の系(特開昭オグーl夕10コグ)などの提案がな
されてきた。これら技術は確かに可視光線に対し有効で
はあるが、未だその感光速度は充分満足すべきものでは
なくさらに改良技術が望まれていた。
ニル化合物と染料の系(特開昭4tJ’−rytr3)
、置換トリアジンとメロシアニン 4− 色素の系(特開昭オグーl夕10コグ)などの提案がな
されてきた。これら技術は確かに可視光線に対し有効で
はあるが、未だその感光速度は充分満足すべきものでは
なくさらに改良技術が望まれていた。
本発明者等の一部は、先に、可視光の光源に対し高感度
で感応する光重合性組成物全提案した。(特開昭j7−
2/グ0/、特願昭!に一//733り)。
で感応する光重合性組成物全提案した。(特開昭j7−
2/グ0/、特願昭!に一//733り)。
本発明者等は、更に検討を重ねた結果、特定の光重合開
始系に特定のチオール化合物を併用すれば、より感度の
向上した光重合性組成物が得られること、従って、例え
ば、アルゴンイオンレーザ−を用いたレーザー直接製版
等の分野に有利に適用できること、即ち7版当りの製版
時間が短縮され、且つ、低出力のレーザーで容易に製版
できることを見い出し本発明を完成するに至ったもので
ある。
始系に特定のチオール化合物を併用すれば、より感度の
向上した光重合性組成物が得られること、従って、例え
ば、アルゴンイオンレーザ−を用いたレーザー直接製版
等の分野に有利に適用できること、即ち7版当りの製版
時間が短縮され、且つ、低出力のレーザーで容易に製版
できることを見い出し本発明を完成するに至ったもので
ある。
すなわち、本発明の要旨は、エチレン性不飽和二重結合
を少くとも/個有する付加重合可能な化合物および光重
合開始系を含む光重合性組成物において、該光重合開始
系が、 (a) 一般式 〔式中、?およびIはアルキル基を示し、Yは−o−、
−s−および一0H==OH−より選ばれたコ価原子ま
たは原子団であって3価窒累原子と共に複素芳香環Bを
形成しており、壊Aはベンゼン環またはナフタリン環で
あってgBと縮合している。
を少くとも/個有する付加重合可能な化合物および光重
合開始系を含む光重合性組成物において、該光重合開始
系が、 (a) 一般式 〔式中、?およびIはアルキル基を示し、Yは−o−、
−s−および一0H==OH−より選ばれたコ価原子ま
たは原子団であって3価窒累原子と共に複素芳香環Bを
形成しており、壊Aはベンゼン環またはナフタリン環で
あってgBと縮合している。
nは1または、2を表わす。〕で示されるp−ジアルキ
ルアミノスチルベン誘導体またはp−ジアルキルアミノ
フェニルブタジェニル誘導体、 (1)) へキサアリールビイミダゾール、および(
0) 一般式 〔式中、2は一〇−、−B−、−NH−および−0NH
−より選ばれた2価原子または原子団を1 表わす。〕で示されるチオール化合物から成ること全特
徴とする光重合性組成物に存する。
ルアミノスチルベン誘導体またはp−ジアルキルアミノ
フェニルブタジェニル誘導体、 (1)) へキサアリールビイミダゾール、および(
0) 一般式 〔式中、2は一〇−、−B−、−NH−および−0NH
−より選ばれた2価原子または原子団を1 表わす。〕で示されるチオール化合物から成ること全特
徴とする光重合性組成物に存する。
以下本発明について詳細に説明する。
本発明の光1合性組成物において第一の必須成分として
含まれるエチレン性不飽和二重結合を少くとも1個有す
る付加重合可能な化合物は、光重合性組成物が活性光線
の照射を受けた場合、第二の必須成分である光重合開始
系の光分解生琢物の作用により付加重合することにより
硬化し実質的に不溶化をもたらすようなエチレン性不飽
和二重結合を有する単量体、または、側鎖もしくは主鎖
にエチレン性不飽和二重結合を有する1合体である。な
お、本発明における単量体の意味するところは、所N高
分子物質に相対する概念であって、従って、狭義の単量
体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包含するもの
である。
含まれるエチレン性不飽和二重結合を少くとも1個有す
る付加重合可能な化合物は、光重合性組成物が活性光線
の照射を受けた場合、第二の必須成分である光重合開始
系の光分解生琢物の作用により付加重合することにより
硬化し実質的に不溶化をもたらすようなエチレン性不飽
和二重結合を有する単量体、または、側鎖もしくは主鎖
にエチレン性不飽和二重結合を有する1合体である。な
お、本発明における単量体の意味するところは、所N高
分子物質に相対する概念であって、従って、狭義の単量
体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包含するもの
である。
7−
エチレン性不飽和結合を有する単量体としては例えば不
飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポ
リヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と
多価カルボン酸及び前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物
、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合
物とのエステル化反応により得られるエステル等が挙げ
られる。
飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポ
リヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と
多価カルボン酸及び前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物
、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合
物とのエステル化反応により得られるエステル等が挙げ
られる。
脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート
、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールへキサアクリレ−8− ト、グリセロールアクリレート等のアクリル酸エステル
、トリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチ
ロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエ
タントリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート
、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペン
タエリスリトールジメタクリレート、ジベメタクリル駿
エステル、エチレングリコールシイタコネート、テトラ
メチレングリコールシイタコネート、ペンタエリスリト
ールトリイタコネート等のイタコン酸エステル、エチレ
ングリコールジクロトネート、シエチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールテトラクロトネー
ト等のクロトン酸エステル、エチレングリコールジマレ
エート、トリエチレングリコールジマレエート、ペンタ
エリスリトールジマレエート等のマレイン酸エステル力
する。
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート
、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールへキサアクリレ−8− ト、グリセロールアクリレート等のアクリル酸エステル
、トリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチ
ロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエ
タントリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート
、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペン
タエリスリトールジメタクリレート、ジベメタクリル駿
エステル、エチレングリコールシイタコネート、テトラ
メチレングリコールシイタコネート、ペンタエリスリト
ールトリイタコネート等のイタコン酸エステル、エチレ
ングリコールジクロトネート、シエチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールテトラクロトネー
ト等のクロトン酸エステル、エチレングリコールジマレ
エート、トリエチレングリコールジマレエート、ペンタ
エリスリトールジマレエート等のマレイン酸エステル力
する。
芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和力〃ボン酸とのエ
ステルとしては、ハイドロキノ/ジアクリレート、ハイ
ドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレー
ト、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリア
クリレート等が挙げられる。
ステルとしては、ハイドロキノ/ジアクリレート、ハイ
ドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレー
ト、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリア
クリレート等が挙げられる。
不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ
化合物とのエステル化反応により得られるエステルとし
ては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例を挙げれ
ば、アクリル酸、フタル酸およびエチレングリコールの
縮合物、アクリル酸、マレイン酸およびジエチレングリ
コールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペ
ンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸
、ブタンジオールおよびグリセリンの縮合物等がある。
化合物とのエステル化反応により得られるエステルとし
ては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例を挙げれ
ば、アクリル酸、フタル酸およびエチレングリコールの
縮合物、アクリル酸、マレイン酸およびジエチレングリ
コールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペ
ンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸
、ブタンジオールおよびグリセリンの縮合物等がある。
その他本発明に用いられるエチレン性不飽和二重結合を
有する化合物の例としてはエチレンビスアクリルアミド
等のアクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエ
ステル類、ジビニルフタ1/−ト等のビニル基含有化合
物などが有用である。
有する化合物の例としてはエチレンビスアクリルアミド
等のアクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエ
ステル類、ジビニルフタ1/−ト等のビニル基含有化合
物などが有用である。
主鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は例えば不
飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反
応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸
とジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミド等
がある。
飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反
応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸
とジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミド等
がある。
側鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は側鎖に不
飽和結合をもっこ価カルボン酸例えばイタコン酸、グロ
ピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジヒドロキ
シまたはジアミン化合物との縮合重合体がある。また側
鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチル基の如き反応活性
を有する官能基をもつ重合体、例えばポリビニルアルコ
ール、ポリ(−一ヒドロキシエチルメタクリレート)、
ポリエピクロルヒドリン等と(メタ)アクリル酸、クロ
トン酸の様な不飽和カルボン酸との高分子反応により得
られるポリマーも好適に使用し得る。
飽和結合をもっこ価カルボン酸例えばイタコン酸、グロ
ピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジヒドロキ
シまたはジアミン化合物との縮合重合体がある。また側
鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチル基の如き反応活性
を有する官能基をもつ重合体、例えばポリビニルアルコ
ール、ポリ(−一ヒドロキシエチルメタクリレート)、
ポリエピクロルヒドリン等と(メタ)アクリル酸、クロ
トン酸の様な不飽和カルボン酸との高分子反応により得
られるポリマーも好適に使用し得る。
以上記載したエチレン性不飽和二重結合全少11−
くとも/個有する付加重合可能な化合物の内、アクリル
酸エステル類またはメタクリル酸エステル類の単量体が
特に好適に使用できる。
酸エステル類またはメタクリル酸エステル類の単量体が
特に好適に使用できる。
次に本発明の光重合性組成物の第一の必須成分である光
重合開始系について説明する。光重合開始系は活性光線
の照射によりラジカルを発生し前述のエチレン性不飽和
結合を有する化合物の付加重合反応をもたらすものであ
る。本発明の光重合開始系は3種類の成分の組合せより
成っておりその第1の成分(a)は前記一般式C1)で
表わされるp−ジアルキルアミノスチリル誘導体または
p−ジアルキルアミノフェニルブタジェニル誘導体であ
る。
重合開始系について説明する。光重合開始系は活性光線
の照射によりラジカルを発生し前述のエチレン性不飽和
結合を有する化合物の付加重合反応をもたらすものであ
る。本発明の光重合開始系は3種類の成分の組合せより
成っておりその第1の成分(a)は前記一般式C1)で
表わされるp−ジアルキルアミノスチリル誘導体または
p−ジアルキルアミノフェニルブタジェニル誘導体であ
る。
式中、?および!はメチル基またはエチル基であるもの
が好ましい。
が好ましい。
具体的には、例えば1.2−(p−ジメチルアミノスチ
リル)−ベンゾチアゾール、’−(p−ジエチルアミノ
スチリル)−ベンゾチアゾール(a−/)、−一(p−
ジメチルアミノスチリル)−ベンゾオキサゾール(a−
J)1.2−12− (p−ジエチルアミノスチリル)−ベンゾオキサゾール
、λ−(p−ジメチルアミノスチリル)−ベンゾC”*
’ ]ベンゾチアゾール(a−3)1.2− (p−ジ
エチルアミノスチリル)−ベンゾ[”r’ ]ベンゾチ
アゾール(a−4)、λ−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)−ベンツ〔≦。
リル)−ベンゾチアゾール、’−(p−ジエチルアミノ
スチリル)−ベンゾチアゾール(a−/)、−一(p−
ジメチルアミノスチリル)−ベンゾオキサゾール(a−
J)1.2−12− (p−ジエチルアミノスチリル)−ベンゾオキサゾール
、λ−(p−ジメチルアミノスチリル)−ベンゾC”*
’ ]ベンゾチアゾール(a−3)1.2− (p−ジ
エチルアミノスチリル)−ベンゾ[”r’ ]ベンゾチ
アゾール(a−4)、λ−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)−ベンツ〔≦。
7〕ベンゾチアゾールb’−(p−ジメチルアミノステ
リル)−キノリン(a−−t)%−2−(p−ジエチル
アミノスチリル)−キノリン、−一(p−ジエチルアミ
ノスチリル)−ベンゾ[p、、t ]ベンゾオキサゾー
ル等のp−ジアルキルアミノステリル誘導体b ’−C
”−(p−ジメチルアミノフェニル)−/、3−ブタジ
ェニル〕−ペンゾテアゾール(−−1)、−一〔グー(
p−ジエチルアミノフェニル) −t、!−ブタシエニ
ルコーペンゾチアゾール1.2−(& −(p−ジ−n
−ブチルアミノフェニル) −/、J−ブタジェニル〕
−ベンゾチアゾール、、2−[&−(p−ジメチルアミ
ノフェニル) −/、、?−ブタジェニル〕−ベンゾ[
’+2〕ペンゾチアソ−ル(a−7)、λ−〔クー(p
−ジエチルアミノフェニル)−’+3−ブタジェニル〕
−ベンゾ(g、t )ベンゾチアゾール(a−−1’
)等のジアルキルアミノフェニルブタジェニル誘導体等
を挙げることができる。
リル)−キノリン(a−−t)%−2−(p−ジエチル
アミノスチリル)−キノリン、−一(p−ジエチルアミ
ノスチリル)−ベンゾ[p、、t ]ベンゾオキサゾー
ル等のp−ジアルキルアミノステリル誘導体b ’−C
”−(p−ジメチルアミノフェニル)−/、3−ブタジ
ェニル〕−ペンゾテアゾール(−−1)、−一〔グー(
p−ジエチルアミノフェニル) −t、!−ブタシエニ
ルコーペンゾチアゾール1.2−(& −(p−ジ−n
−ブチルアミノフェニル) −/、J−ブタジェニル〕
−ベンゾチアゾール、、2−[&−(p−ジメチルアミ
ノフェニル) −/、、?−ブタジェニル〕−ベンゾ[
’+2〕ペンゾチアソ−ル(a−7)、λ−〔クー(p
−ジエチルアミノフェニル)−’+3−ブタジェニル〕
−ベンゾ(g、t )ベンゾチアゾール(a−−1’
)等のジアルキルアミノフェニルブタジェニル誘導体等
を挙げることができる。
これらは相轟するp−ジアルキルアミノベンズアルデヒ
ドまたは桂皮アルデヒドとコーメテルー複累環との縮合
反応、例えば、「zhur。
ドまたは桂皮アルデヒドとコーメテルー複累環との縮合
反応、例えば、「zhur。
0bShchei Khim 鉦、 、2(1’デ/〜
乙(/ワタ6)」記載の方法により合成し得る。
乙(/ワタ6)」記載の方法により合成し得る。
第2の成分(kl)はへキサアリールビイミダゾールで
ある。これはJ、9t、t−トリアリールイミダゾリル
ニ量体とも呼ばれ2個のイミダゾールが7個の共有結合
で結ばれた構造を有する化合物である〇 前記アリール基としてはフェニル基が好ましい。かかる
フェニル基は置換基を有していてもよく、特に2位およ
び一′位のフェニル基のオルト位が弗素原子、塩素原子
、臭素原子、ニトロ基、メチル基で置換されたヘキサフ
ェニルビイミダゾールが熱安定性、光反応速度の特性面
から有利である。
ある。これはJ、9t、t−トリアリールイミダゾリル
ニ量体とも呼ばれ2個のイミダゾールが7個の共有結合
で結ばれた構造を有する化合物である〇 前記アリール基としてはフェニル基が好ましい。かかる
フェニル基は置換基を有していてもよく、特に2位およ
び一′位のフェニル基のオルト位が弗素原子、塩素原子
、臭素原子、ニトロ基、メチル基で置換されたヘキサフ
ェニルビイミダゾールが熱安定性、光反応速度の特性面
から有利である。
特に好ましいヘキサアリールビイミダゾールの具体例と
しては、2.2’ −ビス(θ−クロロフェニル) −
a、4t’、r、P−テトラフェールビイミダゾール(
b−i)、コツ。2′−ビス(θ−ブロモフェニル)
−y、41’、t、、t’テトラフェニルビイミダゾー
ル(b−,2)、+2.+2’ −ビス(0,P−ジク
ロロフェニル) −<t、y’、r、r’−テトラフェ
ニルビイミダゾール(b−3) 、’+”−ビス(0−
クロロフェニル)−グ、グ’、 −t 、 t’−テト
ラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、コ、λ′
−ビス(o、o’−ジクロロフェニル)−p 、 g
’、 、t 、 j’−テトラフェニルビイミダゾール
(b−ダL21.2′−ビス(0−ニトロフェニル)
−t、t、y’、s、t’−テトラフェニルビイミダゾ
ール(b−t)、=、コ′−ビス(0−メチルフェニル
) −g、グ’、 j 、 j’−テトラフェニルビイ
ミダゾール(b−<)等が挙げられる。
しては、2.2’ −ビス(θ−クロロフェニル) −
a、4t’、r、P−テトラフェールビイミダゾール(
b−i)、コツ。2′−ビス(θ−ブロモフェニル)
−y、41’、t、、t’テトラフェニルビイミダゾー
ル(b−,2)、+2.+2’ −ビス(0,P−ジク
ロロフェニル) −<t、y’、r、r’−テトラフェ
ニルビイミダゾール(b−3) 、’+”−ビス(0−
クロロフェニル)−グ、グ’、 −t 、 t’−テト
ラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、コ、λ′
−ビス(o、o’−ジクロロフェニル)−p 、 g
’、 、t 、 j’−テトラフェニルビイミダゾール
(b−ダL21.2′−ビス(0−ニトロフェニル)
−t、t、y’、s、t’−テトラフェニルビイミダゾ
ール(b−t)、=、コ′−ビス(0−メチルフェニル
) −g、グ’、 j 、 j’−テトラフェニルビイ
ミダゾール(b−<)等が挙げられる。
これらのへキサアリールビイミダゾール類は15−
例えばBun、 Ohem、Soc、 、Tapan、
33. !41(/9tθ)およびJ、 Org、
Ohem、、 J4 〔/6]2.Z&2(/?7/)
に開示されている方法により容易に合成することができ
る。
33. !41(/9tθ)およびJ、 Org、
Ohem、、 J4 〔/6]2.Z&2(/?7/)
に開示されている方法により容易に合成することができ
る。
我々は更に高感度化を目指して種々検討を試みた結果、
前述の2成分に、更に特定のチオール化合物を添加子る
ことにより数倍の感度改善がなされることを見い出した
。
前述の2成分に、更に特定のチオール化合物を添加子る
ことにより数倍の感度改善がなされることを見い出した
。
チオール化合物は代表的なラジカル連鎖移動剤として知
られているが、後述の参考例1〜3に従来の代表的光重
合開始系へのチオール化合物添加による感灰に及ぼす効
果を示したが、特定の重合開始系に添加してはじめて感
匹の大幅な改善効果が達成されるのである。
られているが、後述の参考例1〜3に従来の代表的光重
合開始系へのチオール化合物添加による感灰に及ぼす効
果を示したが、特定の重合開始系に添加してはじめて感
匹の大幅な改善効果が達成されるのである。
本発明の成分(C)として用いられるチオール化合物は
前記一般式[113で示されるものであって、具体的に
は、コーメルカブトベンズチアゾール(0−/)1.2
−メルカプトベンズオキサゾ−A/CO−,2)、)、
−メルカプトベンズイミダゾール(c−3)、コーメル
カプトーク(JR)16− −キナゾリノン(c−’;t)を挙げることができる。
前記一般式[113で示されるものであって、具体的に
は、コーメルカブトベンズチアゾール(0−/)1.2
−メルカプトベンズオキサゾ−A/CO−,2)、)、
−メルカプトベンズイミダゾール(c−3)、コーメル
カプトーク(JR)16− −キナゾリノン(c−’;t)を挙げることができる。
本発明の光重合性組成物に用いられる構成成分(a)、
成分(b)、成分(0)の好適な使用量はエチレン性付
加重合可能な化合物10θ重量部に対し、成分(a)
0./ −/ 0、好ましくは7〜7重量部、成分(b
)O,r〜30.好ましくは2〜l!重量部、成分(c
) 0./ −,20、好ましくは/〜ljN量部の割
合で用いられる。
成分(b)、成分(0)の好適な使用量はエチレン性付
加重合可能な化合物10θ重量部に対し、成分(a)
0./ −/ 0、好ましくは7〜7重量部、成分(b
)O,r〜30.好ましくは2〜l!重量部、成分(c
) 0./ −,20、好ましくは/〜ljN量部の割
合で用いられる。
本発明の光重合性組成物は前記の各構成成分の他に本組
成物の改質、光硬化後の物性改善の為に結合剤として有
機高分子物JXヲ更に添加することができる。結合剤は
相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性等改善目的に応じ
て適宜選択すればよい。具体的には例えば水系現像性改
善には(メタ)アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、部分エステル化マレイン酸共重合体、側鎖にカルボ
キシル基を有する酸性セルロース変性物、ポリエチレン
オキシド、ポリビニルピロリドン等があり、皮膜強度、
接着性の改善にはエピクロロヒドリンとビスフェノール
Aとのポリエーテル、可溶性ナイロン、ポリメチルメタ
クリレートの様なポリメタクリル酸アルキルやポリアク
リル酸アルキル、メタクリル酸アルキルとアクリロニト
リル、アクリル酸、メタクリル酸、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、スチレン等との共重合体、アクリロニトリル
と塩化ビニル、塩化ビニリデンとの共重合体、塩化ビニ
リデン、塩素化ポリオレフィン、塩化ビニルと酢酸ビニ
ルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルと
スチレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタジェン
、スチレンとの共重合体、ポリビニルアルキルエーテル
、ポリビニルアル中ルケトン、ポリスチレン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレートイソフ
タレート、アセチルセルローズポリビニルブチラール等
を挙げることができる。これらの結合剤はエチレン結合
を有する化合物に対し重量比率で!θθ係以下、好まし
くは−200チ以下の範囲で添加混合することができる
。
成物の改質、光硬化後の物性改善の為に結合剤として有
機高分子物JXヲ更に添加することができる。結合剤は
相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性等改善目的に応じ
て適宜選択すればよい。具体的には例えば水系現像性改
善には(メタ)アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、部分エステル化マレイン酸共重合体、側鎖にカルボ
キシル基を有する酸性セルロース変性物、ポリエチレン
オキシド、ポリビニルピロリドン等があり、皮膜強度、
接着性の改善にはエピクロロヒドリンとビスフェノール
Aとのポリエーテル、可溶性ナイロン、ポリメチルメタ
クリレートの様なポリメタクリル酸アルキルやポリアク
リル酸アルキル、メタクリル酸アルキルとアクリロニト
リル、アクリル酸、メタクリル酸、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、スチレン等との共重合体、アクリロニトリル
と塩化ビニル、塩化ビニリデンとの共重合体、塩化ビニ
リデン、塩素化ポリオレフィン、塩化ビニルと酢酸ビニ
ルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルと
スチレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタジェン
、スチレンとの共重合体、ポリビニルアルキルエーテル
、ポリビニルアル中ルケトン、ポリスチレン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレートイソフ
タレート、アセチルセルローズポリビニルブチラール等
を挙げることができる。これらの結合剤はエチレン結合
を有する化合物に対し重量比率で!θθ係以下、好まし
くは−200チ以下の範囲で添加混合することができる
。
本発明の光重合性組成物は必要に応じ更に熱重合防止剤
、着色剤、可塑剤、表面保護剤、平滑剤、塗布助剤等添
加することができる。
、着色剤、可塑剤、表面保護剤、平滑剤、塗布助剤等添
加することができる。
熱重合防止剤としては例えばハイドロキノン、p−メト
キシフェノール、ピロガロール、カテコール、λ、乙−
ジー℃−ブチルーp−クレゾー−ル、β−ナフトールな
どがあり着色剤としては例えば7タロシアニン系顔料、
アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料
、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、7/
系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある
。これら熱重合防止剤や着色剤の添加量はエチレン性不
飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計重量に対
し熱重合防止剤が0.07%ないし3%、着色剤θ、/
%ないし20%が好ましい。可塑剤としては例えばジオ
クチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレ
ングリコールシカプリレート、ジメチルグリコールフタ
レート、トリクレジオホスフェート、ジオクチルアジペ
ート、ジブチルセパ19− ケート、トリアセチルグリセリン等がありエチレン性不
飽和二重結合基を有する化合物と結合剤との合計重量に
対し!チ以下添加することができる。
キシフェノール、ピロガロール、カテコール、λ、乙−
ジー℃−ブチルーp−クレゾー−ル、β−ナフトールな
どがあり着色剤としては例えば7タロシアニン系顔料、
アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料
、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、7/
系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある
。これら熱重合防止剤や着色剤の添加量はエチレン性不
飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計重量に対
し熱重合防止剤が0.07%ないし3%、着色剤θ、/
%ないし20%が好ましい。可塑剤としては例えばジオ
クチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレ
ングリコールシカプリレート、ジメチルグリコールフタ
レート、トリクレジオホスフェート、ジオクチルアジペ
ート、ジブチルセパ19− ケート、トリアセチルグリセリン等がありエチレン性不
飽和二重結合基を有する化合物と結合剤との合計重量に
対し!チ以下添加することができる。
本発明の光重合性組成物は無溶剤にて感光材料を形成す
るかまたは適当な溶剤に溶解して溶液となしこれを支持
体上に塗布、乾燥して感光材料を調製する。溶剤として
は例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸
ブチル、[2アミル、プロピオン酸エテル、トルエン、
キシレン、モノクロロベンゼン、四基化炭!、トリクロ
ロエチレン、トリクロロエタン、ジメチルホルムアミド
、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロ
フラン、ペントキソン等がある。
るかまたは適当な溶剤に溶解して溶液となしこれを支持
体上に塗布、乾燥して感光材料を調製する。溶剤として
は例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸
ブチル、[2アミル、プロピオン酸エテル、トルエン、
キシレン、モノクロロベンゼン、四基化炭!、トリクロ
ロエチレン、トリクロロエタン、ジメチルホルムアミド
、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロ
フラン、ペントキソン等がある。
本発明の光重合性組成物を用いて感光材料を調製する際
に適用される支持体としては例えばアルミニウム、マグ
ネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属ま
たはそれらを主成分とした合金のシート、上質紙、アー
ト紙、剥20− 艦艇の様な紙類、ガラス、セラミックスの如き無機シー
ト、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
メチルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニル−塩化
ビニリデン共重合体、ポリスチレン、≦−ナイロン、セ
ルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレ
ートの様なポリマーシートなどがある。
に適用される支持体としては例えばアルミニウム、マグ
ネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属ま
たはそれらを主成分とした合金のシート、上質紙、アー
ト紙、剥20− 艦艇の様な紙類、ガラス、セラミックスの如き無機シー
ト、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
メチルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニル−塩化
ビニリデン共重合体、ポリスチレン、≦−ナイロン、セ
ルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレ
ートの様なポリマーシートなどがある。
また本発明の光重合性組成物はさらに酸素による感度低
下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止する為の公知技
術、例えば、感光層上に剥離可能な透明カバーシートを
設けたり酸素透過性の小さいロウ状物質、水溶性ポリマ
ー等による被覆層を設けることもできる。
下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止する為の公知技
術、例えば、感光層上に剥離可能な透明カバーシートを
設けたり酸素透過性の小さいロウ状物質、水溶性ポリマ
ー等による被覆層を設けることもできる。
本発明の組成物に適用し得る露光光源としてはカーボン
アーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光ランプ、タングステンランプ、アルゴンイ
オンレーザ−等/rσnm以上の紫外線、可視光mを含
む汎用の光源を好適に使用し得る。
アーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光ランプ、タングステンランプ、アルゴンイ
オンレーザ−等/rσnm以上の紫外線、可視光mを含
む汎用の光源を好適に使用し得る。
本発明の光重合性組成物は広範囲な応用分野に有用であ
って例えば平版、凹版、凸版等印刷版の作成、プリント
配線やIOの作成の為のフォトレジスト、ドライフィル
ム、レリーフ像や画像覆製などの画像形成、光硬化性の
インク、塗料、接着剤等に利用できるが特に可視光線の
光源を用いる応用分野に有効である。
って例えば平版、凹版、凸版等印刷版の作成、プリント
配線やIOの作成の為のフォトレジスト、ドライフィル
ム、レリーフ像や画像覆製などの画像形成、光硬化性の
インク、塗料、接着剤等に利用できるが特に可視光線の
光源を用いる応用分野に有効である。
以下本発明を実施例ならびに比較例、参考例により具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限足されるも
のではない。
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限足されるも
のではない。
なお、文中で用いた各成分名の略号は本文中に記載した
ものを用いており、添加量はエチレン性単量体と結合剤
との合計重量に対する重量%で示している。
ものを用いており、添加量はエチレン性単量体と結合剤
との合計重量に対する重量%で示している。
実施例/および比較例/〜3
ポリメチルメタクリレートBR−J’、?(三菱レイヨ
ン社製)を常法により2θmoA%部分加水分解して得
たメチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(結合
剤)/、oEs トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(大阪有機化学工業社製)1.θyb p−メトキ
シフェノールにwf、、ビクトリアビニアブルーBOR
(保土谷化学工業社ff)4qf:メチルエチルケトン
/?ll中に溶解し、感光液原液を4展した。この原液
に表/に示す添加成分を配合溶解し、これを砂目立てか
つ陽極酸化を施したアルミニウムシート上にホワラーを
用い、乾燥膜厚コμmとなる様に塗布し、次いで!θ°
0.5分間乾燥した。その表面に更にポリビニルアルコ
ール水溶液を塗布し、乾燥膜厚3μmのオーバーコート
層を設け、試料を作成した。次いで真空暁枠中にてステ
ップタブレット(イーストマンコタツク社、1!り&前
記試料に■ね露光した。露光条件はキセノン燈より色ガ
ラスフィルターy−gり、および干渉フィルターKL−
gワ(共に東芝ガラス社製)の両者を通して得られる4
190 nm前後の波長の光線(光強度/、θmw/c
+d )を10秒間照射した。露光後、ブチルセロソル
ブ9k 量% 、ケイ酸ソーダl蒐世%全含む水溶液に
より現像を行ない、得られた光硬化画像の段数により感
度を測定した。結果1!r、表/に示す。
ン社製)を常法により2θmoA%部分加水分解して得
たメチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(結合
剤)/、oEs トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(大阪有機化学工業社製)1.θyb p−メトキ
シフェノールにwf、、ビクトリアビニアブルーBOR
(保土谷化学工業社ff)4qf:メチルエチルケトン
/?ll中に溶解し、感光液原液を4展した。この原液
に表/に示す添加成分を配合溶解し、これを砂目立てか
つ陽極酸化を施したアルミニウムシート上にホワラーを
用い、乾燥膜厚コμmとなる様に塗布し、次いで!θ°
0.5分間乾燥した。その表面に更にポリビニルアルコ
ール水溶液を塗布し、乾燥膜厚3μmのオーバーコート
層を設け、試料を作成した。次いで真空暁枠中にてステ
ップタブレット(イーストマンコタツク社、1!り&前
記試料に■ね露光した。露光条件はキセノン燈より色ガ
ラスフィルターy−gり、および干渉フィルターKL−
gワ(共に東芝ガラス社製)の両者を通して得られる4
190 nm前後の波長の光線(光強度/、θmw/c
+d )を10秒間照射した。露光後、ブチルセロソル
ブ9k 量% 、ケイ酸ソーダl蒐世%全含む水溶液に
より現像を行ない、得られた光硬化画像の段数により感
度を測定した。結果1!r、表/に示す。
23−
表 /
実施例1Fi比較例1〜3に比しダ倍以上の感度を有し
ていることがわかった。
ていることがわかった。
実施例−2〜2および比較例ダ〜7
実施例1に記載した感光液原液に成分(kl)としてb
−,2を1重量%添加溶解し、成分(a)および成分(
e)は表−に示した化合物を添加した以外は実施例1と
同様条件下で評価しt−0 24− 表 2 実施例r〜/2および比較例1−/、2実施例1に記載
の感光液原液に成分(11)としてb−、zt′を重量
%添加溶解し、成分(a)および成分(0)は表3に示
した化合物を添加し、更に露光条件として高圧水銀燈か
ら色ガラスフィルターL−&コおよび干渉フィルターK
L−43(共に東芝ガラス社製)の両者を通して得られ
る波長&J(nm(光強度O0θ& j mW/+m)
fr:j 0秒間露光した以外は実施例1と同様な条
件下で評価した。結果を表−99に示す。
−,2を1重量%添加溶解し、成分(a)および成分(
e)は表−に示した化合物を添加した以外は実施例1と
同様条件下で評価しt−0 24− 表 2 実施例r〜/2および比較例1−/、2実施例1に記載
の感光液原液に成分(11)としてb−、zt′を重量
%添加溶解し、成分(a)および成分(0)は表3に示
した化合物を添加し、更に露光条件として高圧水銀燈か
ら色ガラスフィルターL−&コおよび干渉フィルターK
L−43(共に東芝ガラス社製)の両者を通して得られ
る波長&J(nm(光強度O0θ& j mW/+m)
fr:j 0秒間露光した以外は実施例1と同様な条
件下で評価した。結果を表−99に示す。
表 3
実施例13〜/6および比較例13、/4を実施例1で
用いた感光液原液に成分(a)とじてa −44t−2
,6重t%、成分(1))および成分(C)として表ダ
の化合物を配合した以外は実施例1と同様な条件下で評
価した。結果t’表グに示す0表 グ 実施例77〜20 実施例/で用いたトリメチロールプロパントリアクリレ
ートに代え、表!のエチレン性単量体を用いた以外は実
施例1と同様な条件下で評価した。結果を表!に示す。
用いた感光液原液に成分(a)とじてa −44t−2
,6重t%、成分(1))および成分(C)として表ダ
の化合物を配合した以外は実施例1と同様な条件下で評
価した。結果t’表グに示す0表 グ 実施例77〜20 実施例/で用いたトリメチロールプロパントリアクリレ
ートに代え、表!のエチレン性単量体を用いた以外は実
施例1と同様な条件下で評価した。結果を表!に示す。
27−
表 !
実施例コl
実施例1で用いた試料に対しアルゴンイオンレーザ−に
よる走食露光を行なった。波長artrnmのレーザー
光線を試料表面上でビーム径l!μmに集光し光強厩l
!。7 mw 、走査速度j/ 、 jm/θec の
条件下で露光した。実施例/と同様な現像を行なった結
果、線幅/jμmの硬化画線を得た◎ 参考例/、3 実施例/で使用した感光液原液に常用の光重合開始系!
重世襲を添加した場合の感度およびそれに更にチオール
c−/l−!重量%添加した28− 場合の感度を求め比較した。結果t−表6に示す。
よる走食露光を行なった。波長artrnmのレーザー
光線を試料表面上でビーム径l!μmに集光し光強厩l
!。7 mw 、走査速度j/ 、 jm/θec の
条件下で露光した。実施例/と同様な現像を行なった結
果、線幅/jμmの硬化画線を得た◎ 参考例/、3 実施例/で使用した感光液原液に常用の光重合開始系!
重世襲を添加した場合の感度およびそれに更にチオール
c−/l−!重量%添加した28− 場合の感度を求め比較した。結果t−表6に示す。
表 に
出願人 三菱化成工業株式会社
代理人 弁理士 長谷用 −
ほか/名
手続補正書(自発)
昭和sr年年月873
日許庁長官若杉和夫殿
3 補正をする者
出願人
(sq&)三菱化成工業株式会社
4代理人〒100
(2)明細書第7頁第1/−12行に「p−ジアルキル
アミノスチルベン誘導体」とあるを「p−ジアルキルア
ミノスチレン誘導体」と訂正する。
アミノスチルベン誘導体」とあるを「p−ジアルキルア
ミノスチレン誘導体」と訂正する。
(3) 同第7頁第73〜/グ行および第13頁第1
.2〜/3行に「p−ジアルキルアミノフェニルブタジ
ェニル誘導体」とあるのを夫々「p−ジアルキルアミノ
フェニルブタジェン誘導体」と訂正する。
.2〜/3行に「p−ジアルキルアミノフェニルブタジ
ェニル誘導体」とあるのを夫々「p−ジアルキルアミノ
フェニルブタジェン誘導体」と訂正する。
(4) 同第13頁第I/〜7.2行及び第1ILL
頁第1/−/、2行に「p−ジアルキルアミノスチリル
誘導体」とあるのを夫々「p−ジアルキルアミノスチレ
ン誘導体」と訂正する。
頁第1/−/、2行に「p−ジアルキルアミノスチリル
誘導体」とあるのを夫々「p−ジアルキルアミノスチレ
ン誘導体」と訂正する。
(5)同第1j頁第3〜4!行に「ジアルキルアミノフ
ェニルブタジェニル誘導体」とあるのを「p−ジアルキ
ルアミノフェニルブタジェン誘導体」と訂正する。
ェニルブタジェニル誘導体」とあるのを「p−ジアルキ
ルアミノフェニルブタジェン誘導体」と訂正する。
以 上
別紙
特許請求の範囲
(1)エチレン性不飽和二重結合を少くとも1個有する
付加重合可能な化合物および光重合開始系を含む光重合
性組成物において、該光重合開始系が、 (a) 一般式 〔式中、R1およびR2はアルキル基を示し、Yは一〇
−1−日−および一0H= OH−よシ選ばれたコ価原
子または原子団であって3価窒素原子と共に複素芳香環
Bを形成しており、環Aはベンゼン3j!またはナフタ
リン環であって環Bと縮合している。
付加重合可能な化合物および光重合開始系を含む光重合
性組成物において、該光重合開始系が、 (a) 一般式 〔式中、R1およびR2はアルキル基を示し、Yは一〇
−1−日−および一0H= OH−よシ選ばれたコ価原
子または原子団であって3価窒素原子と共に複素芳香環
Bを形成しており、環Aはベンゼン3j!またはナフタ
リン環であって環Bと縮合している。
nは/またはコを表わす。〕で示される9体、
2−
(1]) へキサ了リールビイミダゾール、および(
C) 一般式 〔式中、2は一〇−、−8−、−NH−および−0NH
−より選ばれた2価原子または原子1 団を表わす。〕で示されるチオール化合物から成ること
を特徴とする光重合性組成物。
C) 一般式 〔式中、2は一〇−、−8−、−NH−および−0NH
−より選ばれた2価原子または原子1 団を表わす。〕で示されるチオール化合物から成ること
を特徴とする光重合性組成物。
(2)エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能
な化合物が、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エ
ステル化合物である特許請求の範囲第1項記載の組成物
。
な化合物が、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エ
ステル化合物である特許請求の範囲第1項記載の組成物
。
誘導体が、2−(p−ジアルキルアミノスチリル)−ベ
ンゾ[” * r ]ベンゾチアゾール、λ−(p−ジ
アルキルアミノスチリル)−ベンゾチアゾールまたは一
!−(p−ジアルキルアミノスチリル)−ベンゾオキサ
ゾールである特許請求の範囲第1項記載の組成物。
ンゾ[” * r ]ベンゾチアゾール、λ−(p−ジ
アルキルアミノスチリル)−ベンゾチアゾールまたは一
!−(p−ジアルキルアミノスチリル)−ベンゾオキサ
ゾールである特許請求の範囲第1項記載の組成物。
(4) へキサアリールビイミダゾールが2,2′−
ビス(O−クロロフェニル)−弘1”’l”l夕′−テ
トラフェニルビイミダゾールまたは、2、.2 ’−ビ
ス(0−ブロモフェニル)−≠、tt’、t、r’−テ
トラフェニルビイミダゾールである特許請求の範囲第1
項記載の組成物。
ビス(O−クロロフェニル)−弘1”’l”l夕′−テ
トラフェニルビイミダゾールまたは、2、.2 ’−ビ
ス(0−ブロモフェニル)−≠、tt’、t、r’−テ
トラフェニルビイミダゾールである特許請求の範囲第1
項記載の組成物。
(5)チオール化合物が、コーメルカプトーペンズチア
ゾールまたはコーメルカプトーベンズオキサゾールであ
る特許請求の範囲第1項記載の組成物。
ゾールまたはコーメルカプトーベンズオキサゾールであ
る特許請求の範囲第1項記載の組成物。
3−
Claims (5)
- (1)エチレン性不飽和二重結合を少くとも1個有する
付加重合可能な化合物および光重合開始系を含む光重合
性組成物において、該光重合開始系が、 (a) 一般式 〔式中、dおよびIはアルΦル基を示し、Yは一〇−1
−S−および一〇kOH−より選ばれたコ価原子または
原子団であって3価窒累原子と共に複素芳香環Bを形成
しており、環Aはベンゼン環またはナフタリン環であっ
て穣Bと縮合している。 nは1またはコを表わす。〕で示されるp−ジアルキル
アミノスチルベン誘導体またはP−ジアルキルアミノフ
ェニルブタジェニル誘導体、 (1)) ヘキサアリールビイミダゾール、および(
0) 一般式 〔式中、2は−レ、−8−,−NH−および−ONH−
より選ばれたコ価原子または原子団tiわす。〕で示さ
れるチオール化合物から成ることを特徴とする光重合性
組成物。 - (2) エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合
可能な化合物が、アクリル酸エステルまたはメタクリル
酸エステル化合物である特許請求の範囲M1項記載の組
成物。 - (3) p−ジアルキルアミノスチルベン誘導体または
p−ジアルキルアミノフェニルブタジェニル誘導体が%
−2−(1)−ジアルキルアミノスチリル)−ベンI
C”+’ )ベンゾチアゾール、’−(p−ジアルキル
アミノスチリル)−ベンゾチアゾールまたは2−(p−
ジアルキルアミノスチリル)−ベンゾオキサゾールであ
る特許請求の範囲第1項記載の組成物。 - (4)へキサアリールビイミダゾールが2..2’ −
ビス(0−クロロフェニル)−グj ”l ’ I ”
−テトラフェニルビイミダゾールまたtr12.2’
−ビス(O−ブロモフェニル)−グ、グ’、 t 、
t’ −テトラフェニルビイミダゾールである特許請求
の範囲第1項記載の組成物。 - (5)チオール化合物が、コーメルカプトーペンズテア
ゾールまたはコーメルカブトーペンズオキサゾールであ
る特許請求の範囲第1項記載の組成物。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57168088A JPS5956403A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 光重合性組成物 |
| AU18536/83A AU551827B2 (en) | 1982-09-27 | 1983-08-30 | Photopolymerisable compositions |
| CA000437484A CA1222091A (en) | 1982-09-27 | 1983-09-23 | Photopolymerizable compositions |
| DE8383109584T DE3361644D1 (en) | 1982-09-27 | 1983-09-26 | Photopolymerizable compositions |
| EP83109584A EP0107792B1 (en) | 1982-09-27 | 1983-09-26 | Photopolymerizable compositions |
| US06/880,120 US4985470A (en) | 1982-09-27 | 1986-06-30 | Photopolymerizable compositions |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57168088A JPS5956403A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5956403A true JPS5956403A (ja) | 1984-03-31 |
| JPH0363562B2 JPH0363562B2 (ja) | 1991-10-01 |
Family
ID=15861616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57168088A Granted JPS5956403A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 光重合性組成物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4985470A (ja) |
| EP (1) | EP0107792B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5956403A (ja) |
| AU (1) | AU551827B2 (ja) |
| CA (1) | CA1222091A (ja) |
| DE (1) | DE3361644D1 (ja) |
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59226002A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPH0269A (ja) * | 1987-07-21 | 1990-01-05 | Mitsubishi Kasei Corp | 光重合性組成物 |
| JPH02868A (ja) * | 1987-11-27 | 1990-01-05 | Mead Corp:The | 染料感光による光重合可能な組成物 |
| JPH05127384A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-05-25 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| US5275917A (en) * | 1991-07-09 | 1994-01-04 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| EP0704764A1 (en) | 1994-09-05 | 1996-04-03 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate |
| US5514521A (en) * | 1990-08-22 | 1996-05-07 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| EP0780731A2 (en) | 1995-12-22 | 1997-06-25 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device |
| US6025112A (en) * | 1996-02-09 | 2000-02-15 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition and photosensitive capsules |
| US6171759B1 (en) | 1992-05-14 | 2001-01-09 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| US6242149B1 (en) | 1997-12-22 | 2001-06-05 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Fast-curing photosensitive composition and recording sheet |
| US6573380B2 (en) | 1999-03-09 | 2003-06-03 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | 4-cyanocoumarin derivatives and uses thereof |
| JP2007164126A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 永久レジスト用感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及び半導体素子 |
| JP2007171407A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| WO2007123183A1 (ja) | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Mitsubishi Chemical Corporation | カラー画像表示装置 |
| US7514158B2 (en) | 2001-12-13 | 2009-04-07 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Coumarin compound |
| US7521567B2 (en) | 2003-07-11 | 2009-04-21 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Amine compound and uses thereof |
| EP2078978A2 (en) | 2004-04-26 | 2009-07-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | LCD backlight containing a LED with adapted light emission and suitable colour filters |
| WO2009099211A1 (ja) | 2008-02-07 | 2009-08-13 | Mitsubishi Chemical Corporation | 半導体発光装置、バックライト、カラー画像表示装置、及びそれらに用いる蛍光体 |
| JP2011508814A (ja) * | 2007-12-28 | 2011-03-17 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 熱および化学線硬化型接着剤組成物 |
| EP3147335A1 (en) | 2015-09-23 | 2017-03-29 | BYK-Chemie GmbH | Colorant compositions containing wettting and/or dispersing agents with low amine number |
| WO2019096893A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
| WO2019096891A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
Families Citing this family (93)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0629285B2 (ja) * | 1983-10-14 | 1994-04-20 | 三菱化成株式会社 | 光重合性組成物 |
| SE458860B (sv) * | 1986-02-06 | 1989-05-16 | Itronic Process Ab | Anordning vid en foer vaermebehandling av banformiga alster anordnad behandlingsanlaeggning |
| DE68906270T2 (de) * | 1988-01-15 | 1993-11-18 | Du Pont | Lagerstabile photopolymerisierbare Zusammensetzung für die Aufzeichnung von Beugungsbildern. |
| JP3070184B2 (ja) * | 1991-10-18 | 2000-07-24 | 三菱化学株式会社 | 光重合性組成物及び感光材料 |
| JP3027193B2 (ja) * | 1993-08-23 | 2000-03-27 | ザ、プロクター、エンド、ギャンブル、カンパニー | シリコーングラフト化熱可塑性エラストマー性コポリマーとそれを含有したヘア及びスキンケア組成物 |
| US5786127A (en) * | 1996-08-15 | 1998-07-28 | Western Litho Plate & Supply Co. | Photosensitive element having an overcoat which increases photo-speed and is substantially impermeable to oxygen |
| EP1668417B1 (en) | 2003-09-22 | 2009-05-13 | Agfa Graphics N.V. | Photopolymerizable composition. |
| US7241557B2 (en) | 2004-07-30 | 2007-07-10 | Agfa Graphics Nv | Photopolymerizable composition |
| US7439537B2 (en) | 2004-07-30 | 2008-10-21 | Agfa Graphics, N.V. | Divinylfluorenes |
| US7749683B2 (en) * | 2004-11-05 | 2010-07-06 | Agfa Graphics Nv | Photopolymerizable composition |
| JP4315892B2 (ja) * | 2004-11-25 | 2009-08-19 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた感光性ドライフィルム |
| ES2333442T3 (es) | 2005-08-26 | 2010-02-22 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de placa de impresion fotopolimerico. |
| ES2358120T3 (es) | 2005-11-18 | 2011-05-05 | Agfa Graphics N.V. | Método de elaboración de una plancha de impresión litográfica. |
| DE602005013398D1 (de) | 2005-11-18 | 2009-04-30 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
| DE602005013399D1 (de) | 2005-11-18 | 2009-04-30 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
| ATE422066T1 (de) | 2005-11-18 | 2009-02-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform |
| EP1788443B1 (en) | 2005-11-18 | 2014-07-02 | Agfa Graphics N.V. | Method of making a lithographic printing plate |
| EP1788442B1 (en) | 2005-11-18 | 2010-07-28 | Agfa Graphics N.V. | Method of making a lithographic printing plate |
| EP1788434B2 (en) | 2005-11-18 | 2019-01-02 | Agfa Nv | Method of making a lithographic printing plate |
| ATE422253T1 (de) | 2005-11-18 | 2009-02-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform |
| ES2324542T3 (es) | 2005-11-21 | 2009-08-10 | Agfa Graphics N.V. | Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica. |
| EP1788449A1 (en) | 2005-11-21 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| PL1788435T3 (pl) | 2005-11-21 | 2013-09-30 | Agfa Nv | Sposób wytwarzania litograficznej płyty drukowej |
| DE602006009919D1 (de) | 2006-08-03 | 2009-12-03 | Agfa Graphics Nv | Flachdruckplattenträger |
| WO2008145528A1 (en) | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor |
| ES2344668T3 (es) | 2007-11-30 | 2010-09-02 | Agfa Graphics N.V. | Metodo para tratar una plancha de impresion litografica. |
| ES2430562T3 (es) | 2008-03-04 | 2013-11-21 | Agfa Graphics N.V. | Método para la fabricación de un soporte de una plancha de impresión litográfica |
| JP5264427B2 (ja) | 2008-03-25 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| ES2365885T3 (es) | 2008-03-31 | 2011-10-13 | Agfa Graphics N.V. | Un método para tratar una plancha de impresión litográfica. |
| JP5228631B2 (ja) | 2008-05-29 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5248203B2 (ja) | 2008-05-29 | 2013-07-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
| BRPI0917509A2 (pt) | 2008-08-22 | 2015-11-17 | Fujifilm Corp | método de preparação de chapa de impressão litográfica |
| JP5405141B2 (ja) | 2008-08-22 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5171483B2 (ja) | 2008-08-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2011090294A (ja) | 2009-09-24 | 2011-05-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5541913B2 (ja) | 2009-12-25 | 2014-07-09 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| EP2339402A1 (en) | 2009-12-28 | 2011-06-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
| JP5322963B2 (ja) | 2010-01-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5346845B2 (ja) | 2010-02-26 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版用現像液 |
| JP2011221522A (ja) | 2010-03-26 | 2011-11-04 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| WO2011125913A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法 |
| JP2012073595A (ja) | 2010-08-31 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2012073594A (ja) | 2010-08-31 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5205483B2 (ja) | 2011-02-04 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
| JP5211187B2 (ja) | 2011-02-28 | 2013-06-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
| EP2682815A4 (en) | 2011-02-28 | 2015-04-29 | Fujifilm Corp | LITHOGRAPHIC ORIGINAL PRESSURE PLATE AND METHOD FOR PRODUCING A LITHOGRAPHIC FLAT PRESSURE PLATE |
| JP5186574B2 (ja) | 2011-02-28 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| EP2693270B1 (en) | 2011-03-28 | 2015-12-09 | FUJIFILM Corporation | Method for producing lithographic printing plate |
| JP5301015B2 (ja) | 2011-07-25 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5743783B2 (ja) | 2011-07-27 | 2015-07-01 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン |
| JP5834082B2 (ja) | 2011-08-22 | 2015-12-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5432960B2 (ja) | 2011-08-24 | 2014-03-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5401522B2 (ja) | 2011-09-15 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | コーティング組成物、ならびに該組成物を用いた、画像形成材料、平版印刷版原版及び酸素遮断性フィルム |
| WO2013047229A1 (ja) | 2011-09-26 | 2013-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
| CN103827749B (zh) | 2011-09-26 | 2018-06-15 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版的制版方法 |
| JP5602195B2 (ja) | 2011-09-27 | 2014-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| CN104115069B (zh) | 2012-02-20 | 2018-11-02 | 富士胶片株式会社 | 制版处理废液的浓缩方法及再循环方法 |
| JP5711168B2 (ja) | 2012-02-27 | 2015-04-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
| JP5715975B2 (ja) | 2012-02-29 | 2015-05-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法 |
| EP2855152B1 (en) | 2012-06-05 | 2016-03-16 | AGFA Graphics NV | A lithographic printing plate precursor |
| BR112015030811A2 (pt) | 2013-06-14 | 2017-07-25 | Agfa Graphics Nv | precursor de placa de impressão litográfica |
| EP2883699B1 (en) | 2013-12-11 | 2017-05-03 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor and monomer |
| EP2916171B1 (en) | 2014-03-03 | 2017-05-31 | Agfa Graphics Nv | A method for making a lithographic printing plate precursor |
| ES2655798T3 (es) | 2014-12-08 | 2018-02-21 | Agfa Nv | Sistema para reducir los residuos de ablación |
| EP3430474A1 (en) | 2016-03-16 | 2019-01-23 | Agfa Nv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate |
| EP3392709A1 (en) | 2017-04-21 | 2018-10-24 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3431290B1 (en) | 2017-07-20 | 2021-09-08 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3474073B1 (en) | 2017-10-17 | 2022-12-07 | Agfa Offset Bv | A method for making a printing plate |
| EP3495891B1 (en) | 2017-12-08 | 2021-06-16 | Agfa Nv | A method for making a lithographic printing plate |
| CN111867839A (zh) | 2018-03-22 | 2020-10-30 | 爱克发有限公司 | 平版印刷版前体 |
| WO2019219574A1 (en) | 2018-05-14 | 2019-11-21 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3587113B1 (en) | 2018-06-21 | 2023-01-04 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3587112B1 (en) | 2018-06-21 | 2024-04-03 | Eco3 Bv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3637188A1 (en) | 2018-10-08 | 2020-04-15 | Agfa Nv | An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor |
| EP3650938A1 (en) | 2018-11-09 | 2020-05-13 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| CN113168096B (zh) | 2018-12-10 | 2024-05-24 | 易客发有限公司 | Uv或紫色敏化的平版印刷版的在机加工 |
| EP3686011A1 (en) | 2019-01-23 | 2020-07-29 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3815900A1 (en) | 2019-10-31 | 2021-05-05 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor and method for making hydrophobic resin particles |
| EP3875271B1 (en) | 2020-03-04 | 2025-10-15 | Eco3 Bv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3892469B1 (en) | 2020-04-10 | 2023-11-08 | Eco3 Bv | Lithographic printing plate precursor |
| EP3922462B1 (en) | 2020-06-08 | 2023-03-01 | Agfa Offset Bv | Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability |
| WO2021259650A1 (en) | 2020-06-24 | 2021-12-30 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
| ES3013752T3 (en) | 2020-06-24 | 2025-04-15 | Eco3 Bv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3928983B1 (en) | 2020-06-24 | 2023-09-27 | Eco3 Bv | A lithographic printing plate precursor |
| ES3037727T3 (en) | 2020-08-31 | 2025-10-06 | Eco3 Bv | A lithographic printing plate precursor, a method for making a lithographic printing plate precursor and a method for making a lithographic printing plate |
| EP4225582B1 (en) | 2020-10-09 | 2024-08-28 | Eco3 Bv | A lithographic printing plate precursor |
| US20240100820A1 (en) | 2020-12-16 | 2024-03-28 | Agfa Offset Bv | Lithographic Printing Press Make-Ready Method |
| EP4035897A1 (en) | 2021-01-28 | 2022-08-03 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
| EP4223534A1 (en) | 2022-02-07 | 2023-08-09 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
| EP4239411A1 (en) | 2022-03-04 | 2023-09-06 | Eco3 Bv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate precursor |
| EP4382306A1 (en) | 2022-12-08 | 2024-06-12 | Eco3 Bv | Lithographic printing press make-ready method |
| EP4461539A1 (en) | 2023-05-10 | 2024-11-13 | Eco3 Bv | A negative-working lithographic printing plate precursor |
| PL448963A1 (pl) * | 2024-06-21 | 2025-12-22 | Politechnika Bydgoska Im. Jana I Jędrzeja Śniadeckich | Kompozycja fotopolimeryzująca polimeryzację rodnikową akrylanów |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3479185A (en) * | 1965-06-03 | 1969-11-18 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers |
| US3652275A (en) * | 1970-07-09 | 1972-03-28 | Du Pont | HEXAARYLBIIMIDAZOLE BIS (p-DIALKYL-AMINOPHENYL-{60 ,{62 -UNSATURATED) KETONE COMPOSITIONS |
| ZA757987B (en) * | 1975-12-23 | 1976-12-29 | Dynachem Corp | Adhesion promoters for polymerizable films |
| GB2029423A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-19 | Agfa Gevaert Nv | Photo-polymerisable materials and recording method |
| US4252887A (en) * | 1979-08-14 | 1981-02-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5-triphenylimidazole compounds as photoinitiators |
| DE3023247C2 (de) * | 1980-06-21 | 1982-09-02 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
| JPS5721401A (en) * | 1980-07-14 | 1982-02-04 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Photopolymerizable composition |
| DE3048490C2 (de) * | 1980-12-22 | 1982-09-02 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
| JPS57148740A (en) * | 1981-03-10 | 1982-09-14 | Toyobo Co Ltd | Image duplicating material |
| US4459349A (en) * | 1981-03-27 | 1984-07-10 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition |
| US4410621A (en) * | 1981-04-03 | 1983-10-18 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan |
-
1982
- 1982-09-27 JP JP57168088A patent/JPS5956403A/ja active Granted
-
1983
- 1983-08-30 AU AU18536/83A patent/AU551827B2/en not_active Ceased
- 1983-09-23 CA CA000437484A patent/CA1222091A/en not_active Expired
- 1983-09-26 DE DE8383109584T patent/DE3361644D1/de not_active Expired
- 1983-09-26 EP EP83109584A patent/EP0107792B1/en not_active Expired
-
1986
- 1986-06-30 US US06/880,120 patent/US4985470A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59226002A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPH0269A (ja) * | 1987-07-21 | 1990-01-05 | Mitsubishi Kasei Corp | 光重合性組成物 |
| JPH02868A (ja) * | 1987-11-27 | 1990-01-05 | Mead Corp:The | 染料感光による光重合可能な組成物 |
| US5514521A (en) * | 1990-08-22 | 1996-05-07 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| US5275917A (en) * | 1991-07-09 | 1994-01-04 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| JPH05127384A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-05-25 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| US6171759B1 (en) | 1992-05-14 | 2001-01-09 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| EP0704764A1 (en) | 1994-09-05 | 1996-04-03 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate |
| EP0780731A2 (en) | 1995-12-22 | 1997-06-25 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device |
| US6025112A (en) * | 1996-02-09 | 2000-02-15 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition and photosensitive capsules |
| US6242149B1 (en) | 1997-12-22 | 2001-06-05 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Fast-curing photosensitive composition and recording sheet |
| US6573380B2 (en) | 1999-03-09 | 2003-06-03 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | 4-cyanocoumarin derivatives and uses thereof |
| US7375225B2 (en) | 1999-03-09 | 2008-05-20 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | 4-cyanocoumarin derivatives and uses thereof |
| US7514158B2 (en) | 2001-12-13 | 2009-04-07 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Coumarin compound |
| US7521567B2 (en) | 2003-07-11 | 2009-04-21 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Amine compound and uses thereof |
| EP2078978A2 (en) | 2004-04-26 | 2009-07-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | LCD backlight containing a LED with adapted light emission and suitable colour filters |
| JP2007164126A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 永久レジスト用感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及び半導体素子 |
| JP2007171407A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| WO2007123183A1 (ja) | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Mitsubishi Chemical Corporation | カラー画像表示装置 |
| JP2011508814A (ja) * | 2007-12-28 | 2011-03-17 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 熱および化学線硬化型接着剤組成物 |
| WO2009099211A1 (ja) | 2008-02-07 | 2009-08-13 | Mitsubishi Chemical Corporation | 半導体発光装置、バックライト、カラー画像表示装置、及びそれらに用いる蛍光体 |
| EP3045965A1 (en) | 2008-02-07 | 2016-07-20 | Mitsubishi Chemical Corporation | Red emitting fluoride phosphor activated by mn4+ |
| EP3147335A1 (en) | 2015-09-23 | 2017-03-29 | BYK-Chemie GmbH | Colorant compositions containing wettting and/or dispersing agents with low amine number |
| WO2019096893A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
| WO2019096891A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0107792B1 (en) | 1985-12-27 |
| AU1853683A (en) | 1984-04-05 |
| JPH0363562B2 (ja) | 1991-10-01 |
| CA1222091A (en) | 1987-05-19 |
| AU551827B2 (en) | 1986-05-15 |
| EP0107792A1 (en) | 1984-05-09 |
| US4985470A (en) | 1991-01-15 |
| DE3361644D1 (en) | 1986-02-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5956403A (ja) | 光重合性組成物 | |
| US4594310A (en) | Photopolymerizable composition comprising tertiary aromatic amine and hexaarylbiimazole initiators | |
| JP3365434B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光材料 | |
| JPH0320402B2 (ja) | ||
| JPS5989303A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPS6053300B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH0230321B2 (ja) | Hikarijugoseisoseibutsu | |
| JPH0269A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH0230322B2 (ja) | Hikarijugoseisoseibutsu | |
| JPH0255446B2 (ja) | ||
| JP3324279B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP3275439B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH01279903A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP3324266B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光材料 | |
| JPH0588244B2 (ja) | ||
| JPS61123602A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH08297367A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH0980751A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP3324349B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光材料 | |
| JP3458547B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPS63213503A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH08179504A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP3355753B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光材料 | |
| JPH0247658A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH0247657A (ja) | 光重合性組成物 |