BRPI0707549A2 - poliuretano celular, rolo, filme, cobertura de piso, componente para interior de automàvel, sola de sapato antiestÁtica, sapato de seguranÇa, processo para a produÇço de um produto de poliadiÇço de poliisocianato celular antiestÁtico, e, uso de lÍquidos iânicos - Google Patents
poliuretano celular, rolo, filme, cobertura de piso, componente para interior de automàvel, sola de sapato antiestÁtica, sapato de seguranÇa, processo para a produÇço de um produto de poliadiÇço de poliisocianato celular antiestÁtico, e, uso de lÍquidos iânicos Download PDFInfo
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Abstract
POLIURETANO CELULAR, ROLO, FILME, COBERTURA DE PISO, COMPONENTE PARA INTERIOR DE AUTOMàVEL, SOLA DE SAPATO ANTIESTATICA, SAPATO DE SEGURANÇA, PROCESSO PARA A PRODUÇçO DE UM PRODUTO DE POLIADIÇçO DE POLIISOCIANATO CELULAR ANTIESTÁTICO, E, USO DE LÍQUIDOS IâNICOS. A presente invenção refere-se a um poliuretano antiestático, que compreende um aditivo antiestátieo, que compreende um líquido jônico, e a um processo para a preparação de um tal polímero antiestático. A invenção refere-se ainda a uma sola de sapato antiestática, que compreende um poliuretano antiestático inventivo e ao uso de um líquido iônico como um aditivo antiestático para o poliuretano.
Description
FOLItJRETANO CELULAR, ROLO5 FILME, COBERTURA DE PISO,COMPONENTE PARA INTERIOR DE AUTOMÓVEL, SOLA DESAPATO ANTIESTÁTICA, SAPATO DE SEGURANÇA, PROCESSOPARA A PRODUÇÃO DE UM PRODUTO DE POLIADIÇÃO DEPOLIISOCIANATO CELULAR ANTIESTÁTICO, E, USO DE LÍQUIDOSIÔNICOS"
A invenção refere-se a um poliuretano, que compreende umlíquido iônico. A invenção refere-se a um processo para a preparação de umtal poliuretano, rolos, coberturas de piso, componentes interiores deautomóvel, filmes e solas de sapato antiestáticas, que compreendem umpoliuretano de acordo com a invenção, e ao uso de um líquido iônico comoum aditivo antiestático.
Outras modalidades da presente invenção podem serencontradas nas reivindicações, na descrição e nos exemplos. Não é precisomencionar que as características acima mencionadas e que as característicasainda a serem explicadas abaixo da matéria de estudo da invenção, podem serusadas não apenas na combinação particular indicada, mas também em outrascombinações, sem que haja afastamento do escopo da invenção.
Cargas estáticas podem ocorrer em isoladores elétricos ou emartigos ou pessoas isolados por tais isoladores, e são, de um modo freqüente,indesejáveis, danosos e, algumas vezes, perigosas. Por exemplo, podenecessário operar em uma atmosfera de pó reduzida em algumas aplicaçõesmédicas ou na produção de componentes eletrônicos. No entanto, ocarregamento eletrostático de pessoas ou artigos conduz a partículas de pó,que aderem, em uma extensão aumentada, sobre estas pessoas ou artigos, eestas partículas de pó podem, nestes casos, então conduzir a complicações.Além disso, as cargas eletrostáticas podem conduzir a descargas súbitas,como um resultado do que, por exemplo, os componentes eletrônicos podemser danificados. Em locais, em que esteja presente um risco de explosão, asdescargas eletrostáticas podem até mesmo causar explosões. Foram, portanto,efetuadas tentativas no sentido de reduzir o risco de carga eletrostática atravésdo aterramento destes artigos ou pessoas.
Em muitos casos, os isoladores elétricos são polímeros. Comoestes polímeros não podem, de um modo usual, ser substituídos por materiaiscondutores, foram efetuadas tentativas para aumentar a condutividade dospolímeros através da adição de aditivos antiestáticos e de modo a aterrar osartigos ou materiais em questão. Polímeros, que compreendem aditivosantiestáticos, serão, a seguir, referidos como a polímeros antiestáticos.
Tais polímeros antiestáticos são conhecidos. Por exemplo, aDE 353 1660 descreve solas de sapato de poliuretano antiestático. O efeitoantiestático é alcançado por meio de 0,01 a 0,3%, em peso, de grupossulfonato quimicamente ligados. As resistências de volume alcançadas são de< IO8 Ω/cm.
Além disso, a EP 270 009 descreve solas de sapato depoliuretano antiestático, nas quais trifenil borato de sódio está presente comoum aditivo antiestático.
O uso de vários sais de amônio quaternário para aumentar acondutividade de polímeros é descrito na EP 1134268. Estas são modificaçõesde produtos antiestáticos comerciais, tais que o Catafor F® ou Catafor PU®de Rhodia. Resistência de volume de cerca de IO7 QJ cm são alcançadas. Osexemplos na EP 1134 268 demonstram um dependência significativa daresistência de volume sobre a umidade atmosférica.
A DE 3528597 descreve o uso de negros- de- fumo comoagentes de aperfeiçoamento da condutividade. Resistências de volume de <IOy Ω/ cm são alcançadas. As desvantagens neste caso são a cor preta doproduto e as propriedades mecânicas reduzidas quando quantidadesrelativamente grandes são usadas.
Uma desvantagem da arte anterior consiste, algumas vezes, emuma resistência de volume muito alta de um tal polímero de < IO7 Ω/ cm oumais e a dependência de resistência de volume sobre a umidade atmosférica.Como um resultado, podem ocorrer cargas estáticas, a despeito de aditivoscondutores.
Uma outra desvantagem dos aditivos antiestáticos propostos naarte anterior consiste em sua ação a longo termo algumas vezes insatisfatório,como um resultado do que, a resistência de volume dos polímero éaumentada, em particular após apenas alguns dias.
Finalmente, grandes adições de aditivos antiestáticosconhecidos conduzem a uma deterioração nas propriedades dos materiais.
Constituiu, portanto, um objeto da invenção proverpoliuretanos antiestáticos, que possuem uma resistência de volume inferior a10'Ω/cm e que não possuem as desvantagens acima mencionadas.
Este objeto é alcançado pelos poliuretanos que compreendemum líquido iônico.
Para os propósitos da presente invenção, os líquidos iônicossão (A) preferivelmente sais da fórmula geral (I):
[A]+n [ΥΓ(I),
em que η é 1, 2, 3 ou 4, [A]+ é um cátion de amônioquaternário, um cátion de oxônio, um cátion de sulfônio ou um cátion defosfônio e [Y]n" é um ânion monovalente, divalente, trivalente ou tetravalente;
(B) sais mistos das fórmulas gerais (II):[A1]+[A2]+EY]11- (Ha)' em que η = 2;
[A1]+[A2]+[A3]+ [ΥΓ (IIb), em que η = 3; ou
[A1]+[A2]+[A3]+ [A4]+ [Y]n" (IIc), em que n= 4;
em que [A1]+, [A2]+, [A3]+ e [A4]+ são independentementeselecionados dentre os grupos mencionados para [A]+ e [Y]n_ é como definidosob (A); ou
(C) sais mistos das fórmulas gerais (III):<table>table see original document page 5</column></row><table>
em que [A1] , [A ] e [A3] são independentementeselecionados dentre os grupos mencionados para [A]+, [Y] n" é como definidosob (A) e [M1]+, [Μ2] + e [M3]+ são cátions monovalentes, [M4]2+ são cátionsde metal divalente e [M ] são cátions de metal trivalente.
Os líquidos iônicos possuem um ponto de fusão na faixa de -50°C a 15O°C, de modo mais preferido na faixa de - 20°C a abaixo de 100°C, ede modo ainda mais preferido de -20°C a abaixo de 80°C. O ponto de fusão dolíquido iônico está, de um modo preferido, abaixo de 50°C; de um modoparticular, os líquidos iônicos usados de acordo com a invenção estão líquidosem temperatura ambiente. Os líquidos iônicos, que estão líquidos emtemperatura ambiente, são prontamente processáveis e possuem umaexcelente ação antiestática.
Os compostos, que são adequados para formar o cátion [A]+dos líquidos iônicos são, por exemplo, conhecidos a partir da DE 102 02 838Al. Deste modo, tais compostos podem compreender oxigênio, fósforo,enxofre, ou, de um modo particular, átomos de nitrogênio, por exemplo pelomenos um átomo de nitrogênio, de um modo preferido de 1-10 átomos denitrogênio, e de um modo particular de 1-5 átomos de nitrogênio, de um modomuito particularmente preferido de 1-3 átomos de nitrogênio e, em particularde 1-2 átomos de nitrogênio. Se apropriado, outros heteroátomos, tais queoxigênio, enxofre ou átomos de fósforo, podem estar presentes. O átomo denitrogênio é um veículo adequado de carga positiva no cátion do líquidoiônico, a partir do qual um próton ou um radical alquila pode ser transferido,em equilíbrio para o ânion, de modo tal a produzir uma moléculaeletricamente neutra.
Se o átomo de nitrogênio for o veículo da carga positiva nocátion do líquido iônico, um cátion pode ser primeiramente produzido atravésda quaternização do átomo de nitrogênio de, por exemplo, uma amina ou umheterociclo de nitrogênio na síntese dos líquidos iônicos. A quaternizaçãopode ser efetuada através de alquilação do átomo de nitrogênio. Dependendodo reagente de alquilação suado, sais tendo ânions diferentes são obtidos. Noscasos, em que não seja possível formar o ânion desejado diretamente naquaternização, ele é introduzido em um estágio adicional da síntese. Porexemplo, a partir de um halogeneto de amônio, o halogeneto pode ser reagidocom um ácido de Lewis, de modo a formar um ânion complexo as partir dohalogeneto e do ácido de Lewis. Como uma alternativa, é possível substituirum íon de halogeneto pelo ânion desejado. Este pode ser alcançado através daadição de um sal metálico, com a precipitação do halogeneto metálicoformado, por meio de um trocador de íon ou através do deslocamento do íondo halogeneto por um ácido forte (com a liberação do halogeneto dehidrogênio). Métodos adequados são descritos, por exemplo, em Angew.Chem. 2000, 112, págs. 3926-3945, e nas referências aqui citadas.
Radicais alquila adequados, através dos quais o átomo denitrogênio nas aminas ou os heterociclos de nitrogênio podem serquaternizados são, por exemplo, alquila Cm8, de modo preferido alquila CM0,de um modo particularmente preferido alquila Ci.6, e de um modo muitoparticularmente preferido metila. O grupo alquila pode ser substituído oupode ter um ou mais substituintes idênticos ou diferentes.E preferido ο uso de compostos, que compreendem pelomenos um heterociclo de cinco ou seis membros, em particular umheterociclo de cinco membros, que possui pelo menos um átomo denitrogênio e, se apropriado, um átomo de oxigênio ou enxofre como cátions;são preferidos, de um modo particular, os compostos que compreendem pelomenos um heterociclo de cinco ou de seis membros, que possui, de um modomuito particularmente preferido, dois átomos de nitrogênio. São aindapreferidos os heterociclos aromáticos, tais que piridínio, piridazínio,pirimidínio, pirazínio, imidazólio, pirazólio, pirazolínio, imidazolínio,tiazólio, oxazólio, pirrolidínio e imidazolidínio.
Dentre estes compostos, são preferidos os cátions, quepossuem um peso molecular de menos do que IOOOg/ mol, de modo muitoparticularmente preferido de menos do que 500 g/ mol, e, de um modoparticular, inferior a 250 g/ mol.
Além disso, são preferidos cátions selecionados dentre oscompostos das formulas (IVa) a (IVw),
<formula>formula see original document page 7</formula><formula>formula see original document page 8</formula><formula>formula see original document page 9</formula>e oligômeros que compreendem estas estruturas.Nas fórmulas acima (IVa) e (IVy),
<formula>formula see original document page 9</formula>
0 radical R é hidrogênio, um radical orgânico que compreendecarbono, saturado ou insaturado, acílico ou cílico, alifático,aromático ou aralifático, que possui de 1 a 20 átomos de carbonoe pode ser não- substituído ou interrompido ou substituído por de
1 a 5 heteroátomos ou grupos funcionais; e
os radicais R1 a R9 são, cada qual, independentemente um dooutro, hidrogênio, um grupo sulfo ou um radical orgânico,saturado ou insaturado, acílico ou cílico, alifático, aromático ouaralifático, que possui de 1 a 20 átomos de carbono, e que podeser não- substituído ou interrompido ou substituído por de 1 a 5heteroátomos ou grupos funcionais, em que os radicais R1 a R9(que são ligados a um átomo de carbono (e não a umheteroátomo) nas fórmulas acima descritas (IV) podem sertambém halogênio ou um grupo funcional; ou
dois radicais adjacentes a partir do grupo, que consiste de R1 aR9, podem juntos também formar um radical orgânico que compreendecarbono, divalente, saturado ou insaturado, acílico ou cíclico, alifático,aromático ou aralifático, que possui de 1 a 30 átomos de carbono e pode sernão -substituído ou interrompido ou substituído por de 1 a 5 heteroátomos ougrupos funcionais.
Na definição dos radicais R e R1 a R9, os heterátomos podem,em princípio, ser todos heteroátomos, que são capazes de formalmentesubstituir um grupo -CH2-, -CH=, -C=, ou =C=. Se o radical que compreendecarbono compreender heteroátomos, são preferidos oxigênio, nitrogênio,enxofre, fósforo e silício. Como grupos preferidos, podem ser mencionados,de um modo particular, -O-, -S-, -SO-, -SO2-, -NR'-, -N=, -PR'-, -PR'2 e -SiR'2-, m que os radicais R' são, em cada caso, a parte remanescente doradical que compreende carbono. Os radicais R1 a R9 podem, nos casos emque eles estão ligados a um átomo de carbono (e não a um heteroátomo) nasfórmulas acima mencionadas (IV), estar também diretamente ligados atravésdo heteroátomo.
Grupos funcionais adequados são, em princípio, todos osgrupos funcionais, que podem ser ligados a átomo ou heteroátomo decarbono. Exemplos, que podem ser mencionados, são -OH (hidróxi), =O (emparticular como um grupo carbonila), -NH2 (amino), =NH (imino), -COOH(carbóxi), - CONH2 (carboxamida), -SO3H (sulfo) e -CN (ciano). Os gruposfuncionais e os heteroátomos podem também estar diretamente adjacentes, detal modo que combinações de uma pluralidade de átomos adjacentes, tais que-O-éter, -S-(tioéter), -COO- (éster), -CONH - (amida secundária) ou -CONR'(amida terciária) podem ser também abrangidos, por exemplo di(alquila C1-4) amino, alcoxicarbonila C1-4 ou alquilóxi C1-4.
Como halogênios, podem ser mencionados flúor, cloro, bromoe iodo.
O radical R é, de um modo preferido,
• alquila Ci.is, ramificado ou não- ramificado, que pode sersubstituído ou não- substituído por um ou mais hidróxi,halogênio, fenila ciano, alcoxicarbonila Ci_6 e/ou grupos de ácidosulfônico e possui um total de 1 a 20 átomos de carbono, porexemplo metila, etila, 1-propila, 2-propila, 1-butila, 2-butila, 2-metil-l-propila (isobutila), 2-metil-2-propila (terc-butila), 1-pentila, 2-pentila, 3-pentila, 2-metil- 1-butila, 3-metil-1-butila, 2-metil-2-butila, 3-metil-2-butila, 2,2-dimetil- 1-propila, 1-hexila,2-hexila, 3-hexila, 2-metil-1-pentila, 3-metil-1-pentila, 4-metil-l-pentila, 2-metil-2-pentila, 3-metil-2-pentila, 4-metil -2-pentila, 2-metil-3-pentila, 3-metil-3-pentila, 2,2-dimetil-1-butila, 2,3-dimetil-1-butila, 3,3-dimetil-2-butila, 1-heptila, 1-octila, 1-nonila, 1-decila, 1-undecila, 1-dodecila, 1-tetradecila, 1-hexadecila, 1-octadecila, 2-hidroxietila, benzila, 3-fenilpropila, 2-cianoetila, 2-(metoxicarbonil) etila, 2-(etoxicarbonil) etila, 2-(n-butoxicarbonil) etila, trifluorometila, difluorometila,fluorometila, pentafluoroetila, heptafluoropropila,heptafluoroisopropila, nonafluorobutila, nonafluoroisobutila,undecilfluoropentila, undecilfluoroisopentila, 6-hidroxiexila eácido propil sulfônico;
• um radical, que é derivado a partir de glicóis, butileno glicóis eseus oligômeros, tendo de 1 a 100 unidades e um hidrogênio ouum grupo alquila Ci_8 como um grupo terminal, por exemploRaO-(CHRb- CH2-0)n - CHRb-CH2-OU RaO-(CH2CH2CH2CH2O)n - CH2CH2CH2CH2O-, em que Ra e Rb são,de um modo preferido, hidrogênio, metila ou etila e η é, de ummodo preferido, de 0 a 3, em particular 3-oxabutila, 3-oxapentila,3, 6-dioxaeptila, 3, 6-dioxaoctila, 3, 6, 9-trioxadecila, 3, 6, 9-trioxaundecila, 3, 6, 9, 12-tetraoxatridecila e 3, 6, 9, 12-tetraoxatetradecila;•vinila; e•N,N-di- alquilamino Ci_6, tal que Ν,Ν-dimetilamino e N,N-dietilamino.
O radical R é, de um modo particularmente preferido, alquilaCm8, tal que metila, etila, 1-propila, 1-butila, 1-pentila, 1-hexila, 1-heptila, 1-octila, 1-decila, 1-dodecila, 1-tetradecila, 1-hexadecila, 1-octadecila, de ummodo particular metila, etila, 1-butila e 1-octila, ou CH3O-(CH2CH2O)n-CH2CH2 e CH3CH2O-(CH2CH2O)n- CH2CH2-, em que η é de 0 a 3.
São preferidos os radicais R1 a R9, cada qual sendo,independentemente um do outro,• hidrogênio;
• halogênio;
• um grupo funcional, em particular um tal como acimamencionado;
• alquila Cm8, que pode ser opcionalmente substituído por gruposfuncionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio,heteroátomos e/ou heterociclos e/ou ser interrompido por um oumais átomos de oxigênio e/ou de enxofre e/ou um ou mais gruposimino substituídos ou não- substituídos;
• alquenila C2_i8, que pode ser opcionalmente substituído porgrupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio,heteroátomos e/ou heterociclos e/ou ser interrompido por um oumais átomos de oxigênio e/ou enxofre e/ou um ou mais gruposimino substituídos ou não- substituídos;
• arila C^-n, que pode ser opcionalmente substituído por gruposfuncionais, arila, alquila, a arilóxi, alquilóxi, halogênio,heteroátomos e/ou heterociclos;
• cicloalquila C5.i2, que pode ser opcionalmente substituído porgrupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio,heteroátomos e / ou heterociclos;
• cicloalquenila C5_i2, que pode ser opcionalmente substituído porgrupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio,heteroátomos e/ou heterociclos; ou
• um heterociclo que compreende oxigênio, nitrogênio e/ouenxofre, de cinco ou seis membros, que pode ser opcionalmentesubstituído por grupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi,halogênio, heteroátomos e/ou heterociclos; ou
dois radicais adjacentes formam juntos:
• um anel insaturado, saturado ou aromático, que pode seropcionalmente substituído por grupos funcionais, arila, alquila,arilóxi, alquilóxi, halogênio, heteroátomos e/ou heterociclos epode ser opcionalmente interrompido por um ou mais átomos deoxigênio e/ou enxofre e/ou um ou mais grupos imino substituídosou não- substituídos.
Alquila CMg, que pode ser opcionalmente substituído porgrupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio, heteroátomose/ou heterociclos é, de modo preferido, metila, etila, 1-propila, 2-propila, 1-butila, 2-butila, 2-metil-1-propila (isobutila), 2-metil-2-propila (terc- butila),1-pentila, 2-pentila, 3-pentila, 2-metil-1-butila, 3-metil-l-butila, 2-metil-2-butila, 3-metil-2-butila, 2,2-dimetil-l-propila, 1-hexila, 2-hexila, 3-hexila, 2-metil-l-pentila, 3-metil-l-pentila, 4-metil-l-pentila, 2-metil- 2-pentila, 3-metil-2-pentila, 4-metil-2-pentila, 2-metil-3-pentila, 3-metil-3-pentila, 2,2-dimetil-1-butila, 2,3-dimetil-1-butila, 3,3-dimetil-l-butila, 2-etil-l-butila, 2,3-dimetil-2-butila, 3,3-dimetil-2-butila, heptila, octila, 2-etilexila, 2, 4,4-trimetilpentila, 1,1,3,3-tetrametilbutila, 1-nonila, 1-decila, 1-undecila, 1-dodecila, 1-tridecila, 1-tetradecila, 1-pentadecila, 1-hexadecila, 1-heptadecila,1-octadecila, ciclopentilmetila, 2-ciclopentiletila, 3-ciclopentilpropila,cicloexilmetila, 2-cicloexiletila, 3-cicloexilpropila, benzila (fenilmetila),difenilmetila (benzidrila), trifenilmetila, 1-feniletila, 2-feniletila, 3-fenilpropila, α, a -dimetilbenzila, p- tolilmetila, l-(p-butilfenil) etila, p-clorobenzila, 2,4-diclorobenzila, p-metoxibenzila, m-etoxibenzila, 2-cianoetila, 2-cianopropila, 2-metoxicarboniletila, 2-etoxicarboniletila, 2-butoxicarbonilpropila, 1,2-di-(metoxicarbonil) etila, metóxi, etóxi, formila,l,3-dioxolan-2-ila, l,3-dioxan-2-ila, 2-metil-l,3-dioxolan-2-ila, 4-metil-l,3-dioxolan-2-ila, 2-hidroxietila, 2-hidroxipropila, 3-hidroxipropila, 4-hidroxibutila, 6-hidroxiexila, 2-aminoetila, 2-aminopropila, 3-aminopropila,4-aminobutila, 6-aminoexila, 2-metilaminoetila, 2-metilaminopropila, 2-dimetilaminopropila, 3-dimetilaminopropila, 4-dimetilaminobutila, 6-dimetilaminoexila, 2-hidróxi-2,2-dimetiletila, 2-fenoxietila, 2-fenoxipropila,3-fenoxipropila, 4-fenoxibutila, 6-fenoxiexila, 2-metoxietila, 2-metoxipropila,3-metoxipropila, 4-metoxibutila, 6-metoxiexila, 2-etoxietila, 2-etoxipropila,3-etoxipropila, 4-etoxibutila, 6-etoxiexila, acetila, CnF2(n-2) + i, C6F13, C8Fn,C10F2I, C12F25), clorometila, 2-cloroetila, triclorometila, dietoxietila, 2-isopropoxietila, 2-butoxipropila, 2-octiloxietila, 2-metoxiisopropila, 2-(metoxicarbonil) etila, 2-(etoxicarbonil) etila, 2-(n-butoxicarbonil) etila,butiltiometila, 2-dodeciltioetila, 2-feniltioetila, 5-hidróxi-3-oxaeptila, 11-hidróxi-4,8-dioxaundecila, 15-hidróxi-4, 8, 12-trioxapentadecila, 9-hidróxi-5-oxanonila, 14-hidróxi-5, 10-dioxatetradecila, 5-metóxi-3-oxapentila, 8-metóxi-3,6-dioxaoctila, ll-metóxi-3, 6, 9-trioxaundecila, 9-metóxi-5-oxanonila, 14-metóxi-5, 10-dioxatetradecila, 5-etóxi-3-oxapentila, 8-etóxi-3,6-dioxaoctila, ll-etóxi-3, 6, 9-trioxaundecila, 7-etóxi-4-oxaeptila, l-etóxi-4,8-dioxaundecila, 15-etóxi-4, 8, 12-trioxapentadecila, 9-etóxi-5-oxanonila ou14-etóxi-5,10-oxatetradecila.
Alquenila C2-18, que pode ser opcionalmente substituído porgrupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio, heteroátomose/ou heterociclos e/ou podem ser interrompidos por um ou mais átomos deoxigênio e/ou enxofre e/ou um ou mais grupos imino substituídos ou nãosubstituídos é, de modo preferido, vinila, 2-propenila, 3-butenila, cls-2-butenila, trans-2-butenila ou CnF2(n-a)- (i-b)H2a-b, em que η < 30, 0<a<neb =Oou 1.
Arila C6-i2, que pode ser opcionalmente substituído por gruposfuncionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio, heteroátomos e/ouheterociclos é, de modo preferido, fenila, tolila, xilila, a- naftila, β-naftila, 4-difenila, clorofenila, diclorofenila, triclorofenila, difluorofenila, metilfenila,dimetilfenila, trimetilfenila, etilfenila, dietilfenila, isopropilfenila, terc-butilfenila, dodecilfenila, metoxifenila, dimetoxifenila, etoxifenila,hexiloxifenila, metilnaftila, isopropilnaftila, cloronaftila, etoxinaftila, 2, 6-dimetil fenila, 2, 4, 6-trimetilfenila, 2,6-dimetoxifenila, 2,6-diclorofenila, 4-bromofenila, 2-ou 4-nitrofenila, 2,4-ou 2, 6-dinitrofenila, 4-dimetilaminofenila, 4-acetilfenila, metoxietilfenila, etoximetilfenila,metiltiofenila, isopropiltiofenila ou terc- butiltiofenila ou C6F(5.a)Ha, em que 0< a < 5.
Cicloalquila C5_i2, que pode ser opcionalmente substituído porgrupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, halogênio, heteroátomos e/ouheterociclos é, de modo preferido, ciclopentila, cicloexila, ciclooctila,ciclododecila, metilciclopentila, dimetilcicloexila, metoxicicloexila,dimetoxicicloexila, dietoxicicloexila, butiltiocicloexila, clorocicloexila,diclorocicloexila, diclorociclopentila, CnF2(n-a)- (i-b)H2a-b, em que η < 30, 0 < a <η e b = 0 ou 1, ou um sistema bicíclico saturado ou insaturado, tal quenorbonila ou norbornenila.
Cicloalquenila C5a2, que pode ser opcionalmente substituídopor grupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio,heteroátomos e/ou heterociclos é, de modo preferido, 3-ciclopentenila, 2-cicloexenila, 3-cicloexenila, 2,5-cicloexadienila ou CnF2(^a)- (i-b)H2a_b, em queη <30, 0<a<neb = 0ou 1.
Um heterociclo que compreende oxigênio, nitrogênio e/ouenxofre, de cinco ou de seis membros, que pode, de modo opcional, sersubstituído por grupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio,heteroátomos e/ou heterociclos é preferivelmente furila, tiofenila, pirrila,piridila, indolila, benzoxazolila, dioxolila, dioxila, benzimidazolila,benztioazolila, dimetilpiridila, metilquinolia, dimetilpirrila, metoxifurila,dimetoxipiridila ou difluoropiridila.
Se dois radicais adjacentes formarem juntos um anelinsaturado, saturado ou aromático, que pode ser opcionalmente substituídopor grupos funcionais arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio,heteroátomos e/ou heterociclos e pode ser opcionalmente interrompido porum ou mais átomos de oxigênio e/ou enxofre e/ou um ou mais grupos iminosubstituídos ou não- substituídos, os dois grupos juntos são, de modopreferido, 1,3-propileno, 1, 4-butileno, 1,5-pentileno, 2-oxa-l,3-propileno, 1-oxa-l,3-propileno, 2-oxa-1,3-propileno, l-oxa-l,3-propenileno, 3-oxa-1,5-pentileno, l-aza-l,3-propenileno, 1-alquila Ci.4-l-aza-l,3-propenileno, 1,4-buta-1,3-dienileno, 1 -aza-1,4-buta-1,3-dienileno ou 2-aza-l, 4-buta-l,3-dienileno.
Se os radicais acima mencionados compreenderem átomos deoxigênio e/ou enxofre e/ou grupos imino substituídos ou não- substituídos,então o número de átomos de oxigênio e/ou enxofre e/ou grupos imino nãoestá submetido a quaisquer restrições. De um modo geral, não existirão maisdo que 5 no radical, de modo preferido não mais do que 4, e de um modomuito particularmente preferido não mais do que 3.
Se os radicais acima mencionados compreenderemheteroátomos, então existe, de um modo geral, pelo menos um átomo decarbono, de modo preferido pelo menos dois átomos de carbono, entrequaisquer dois heteroátomos.
São particularmente preferidos os radicais R1 a R9, cada qualsendo, independentemente um do outro,
• hidrogênio;
• alquila Cm8 ramificado ou não- ramificado, que pode ser não-substituído ou substituído por um ou mais hidróxi, halogênio,fenila, ciano, alcoxicarbonila C1-6 e/ou grupos sulfônicos e possuium total de 1 a 20 átomos de carbono, por exemplo, metila, etila,1-propila, 2-propila, 1-butila, 2-butila, 2-metil-l-propila(isobutila), 2-metil-2-propila (terc- butila, 1-pentila, 2-butila, 2-metil-1-propila (isobutila), 2-metil-2-propila (terc-butila, 1-pentila, 2-pentila, 3-pentila, 2-metil-1-butila, 3-metil-1-butila, 2-metil-2-butila, 3-metil-2-butila, 2,2-dimetil-1-propila, 1-hexila,2-hexila, 3-hexila, 2-metil-1-pentila, 3-metil-1-pentila, 4-metil-l-pentila, 2-metil-2-pentila, 3-metil-2-pentila, 4-metil-2-pentila, 2-metil-3-pentila, 3-metil-3-pentila, 2,2-dimetil- 1-butila, 2,3-dimetil-1-butila, 3,3-dimetil- 1-butila, 2-etil-1-butila, 2,3-dimetil-2-butila, 3,3-dimetil-2-butila, 1-heptila, 1-octila, 1-nonila, 1-decila, 1-undecila, 1-dodecila, 1-tetradecila, 1-hexadecila, 1-octadecila, 1-hidroxietila, benzila, 3-fenilpropila, 2-cianoetila, 2-(metoxicarbonil) etila, 2-(etoxicarbonil) etila, 2-(n-butoxicarbonil) etila, trifluorometila, difluorometila,fluorometila, pentafluoroetila, heptafluoropropila,heptafluoroisopropila, nonaflorobutila, nonafloroisobutila,undecilfluoropentila, undecilfluoroisopentila, 6-hidroxiexila eácido propil sulfônico;
• glicóis, butileno glicóis e oligômeros dos mesmos, tendo de 1 a100 unidades e um hidrogênio ou um grupo alquila Ci_8 comogrupo terminal, por exemplo,
RaO-(CHRb-CH2O)i1-CHRb-CH2- ou RaO-(CH2CH2CH2CH2O)n-CH2CH2CH2CH2O, em que Ra e Rb são, demodo preferido, hidrogênio, metila ou etila, e η é, de um modopreferido, de 0 a 3, de modo particular 3-oxabutila, 3-oxapentila,3, 6-dioxaeptila, 3, 6 -dioxaoctila, 3, 6, 9-trioxadecila, 3,6, 9-trioxaundecila, 3, 6, 9, 12-tetraoxatridecila e 3, 6, 9, 12-tetraoxatetradecila;
•vinila; e
• N,N-di- alquilamino Ci.6, tal que Ν,Ν-dimetilamino e N,N-dietilamino.
São preferidos, de um modo muito particular, os radicais R1 aR9, cada qual sendo, independentemente um do outro, hidrogênio ou alquilaC1-I8, tal que metila, etila, 1-butila, 1-pentila, 1-hexila, 1-heptila, 1-octila,fenila, 2-hidroxietila, 2-cianoetila, 2-(metoxicarbonil) etila, 2-(etoxicarbonil)etila, 2-(n- butoxicarbonil) etila, N, N-dimetilamino, Ν,Ν-dietilamino, cloroou CH30-(CH2 CH20)n-CH2CH2.e CH3CH2O- (CH2CH2O)n - CH2CH2-, emque η é de 0 a 3.
Ions de piridínio muito particularmente preferidos (IVa) sãoaqueles, nos quais:
• um dos radicais R1 a R5 é metila, etila ou cloro e os radicaisremanescentes R1 a R6 são hidrogênio;
• R3 é dimetilamino e os radicais remanescentes R1, R2, R4 e R5 sãohidrogênio;• todos os radicais R1 a R5 são hidrogênio;
• R2 é carbóxi ou carboxamida e os radicais remanescentes R1, R2, R4e R5 são hidrogênio;
• R2 e R2 ou R2 e R3 são juntos l,4-buta-l,3-dienileno e os radicaisremanescentes R15 R25 R4 e R5 são hidrogênio;
e, de modo particular, aqueles nos quais:
• R1 a R5 são cada qual hidrogênio; ou
• um dos radicais R1 a R5 é metila ou etila e os radicaisremanescentes R1 a R5 são hidrogênio.
Com íons de piridínio (IVa) muito particularmente preferidos,podem ser mencionados 1-metilpiridínio, 1-etilpiridínio, l(butil) piridínio, 1-(l-hexil)piridínio, l-(l-octil)piridínio, l-(l-hexil) piridínio, l-(l-octil)piridínio, l-(l-dodecil) piridínio, l-(l-tetradecil) piridínio, l-(l-hexadecil)piridínio, 1,2-dimetilpiridínio, l-etil-2-metilpiridínio, l-(l-butil)-2-metilpiridínio, l-(l-hexil) 2-metilpiridínio, l-(l-octil)-2-metilpiridínio, 1-(1-dodecil)-2-metilpiridínio, 1 -(1 -tetradecil)-2-metilpiridínio, 1 -(1 -hexadecil)-2-metilpiridínio, 2-metilpiridínio, l-metil-2-etilpiridínio, 1,2-dietilpiridínio, 1-(l-butil)-2-etilpiridínio, l-(l-hexil) -2-etilpiridínio, l-(l-octil)-2-etilpiridínio,1 -(1 -dodecil)-2-etilpiridínio, 1 -(1 -tetradecil)-2-etilpiridínio, 1 -(1 -hexadecil)-2-etilpiridínio, l,2-dimetil-5-etilpiridínio, l,5-dietil-2-metilpiridínio, 1-(1-butil)-2-metil-3-etilpiridínio, l-(l-hexil)-2-metil-3-etilpiridínio e l-(l-octil)-2-metil-3 -etilpiridínio, 1 -(1 -dodecil)-2-metil-3 -etilpiridínio, 1 -(1 -tetradecil)-2-metil-3-etilpiridínio e 1 -(1 -hexadecil)-2-metil-3-etilpiridínio.
De modo muito particularmente preferido, os íons depiridazínio (IVb) são aqueles, nos quais:
• R1 a R são, cada qual, hidrogênio; ou
• um dos radicais R1 a R4 é metila ou etila e os radicais R1 a R4 sãohidrogênio.
Ions de pirimidínio muito particularmente preferidos (IVc) sãoaqueles, nos quais:
• R1 é hidrogênio, metila ou etila e R2 a R4 são, cada qual, metila e R3é hidrogênio.
Ions de pirazínio (IVd) muito particularmente preferidos sãoaqueles, nos quais:
• R1 é hidrogênio, metila ou etila e R2 a R4 são, cada qual,independentemente um do outro, hidrogênio ou metila;
• R1 é hidrogênio, metila ou etila, R2 e R4 são cada qual metila e R3 éhidrogênio;
• R1 a R4 são cada qual metila; ou
• R1 a R4 são cada qual metila ou hidrogênio.
Ions de imidazólio (Ive) muito particularmente preferidos sãoaqueles, nos quais:
• R1 é hidrogênio, metila, etila, 1-propila, 1-butila, 1-pentila, 1-hexila,1-octila, 2-hidroxietila ou 2-cianoetila e R2 a R4 são, cada qual,independentemente um do outro, hidrogênio, metila ou etila.
Como íons de imidazólio muito particularmente preferidos(IVe), podem ser mencionados 1-metilimidazólio, 1-etilimidazólio, l-(l-butil)imidazólio, l-(l-octil)-imidazólio, l-(l-dodecil)imidazólio, l-(l-tetradecil)imidazólio, l-(l-hexadecil)-imidazólio, 1,3-dimetilimidazólio, l-etil-3-metilimidazólio, l-(l-butil-3-metilimidazólio, l-(l-butil)-3-etilimidazólio, 1-(1 -hexil)-3-metilimidazólio, 1 -(1 -hexil)-3-etilimidazólio, 1 -(1 -hexil)-3-butilimidazólio, l-(l-octil)-3-metilimidazólio, 1-(1-octil)-3-etilimidazólio, 1-(1 -octil-3 -butilimidazólio, 1 -(1 -dodecil)-3 -metilimidazólio, 1 -(1 -dodecil)-3 -etilimidazólio, l-(l-dodecil)-3-butilimidazólio, l-(l-dodecil)-3-octilimidazólio, l-(l-tetradecil)-3-metilimidazólio, l-(l-tetradecil) -3-etilimidazólio, 1 -(1 -tetradecil)-3 -butilimidazólio, 1 -(1 -tetradecil)-3 -octilimidazólio, 1 -(1 -hexadecil)-3 -metilimidazólio, 1 -(1 -hexadecil)-3 -octilimidazólio, 1,2-dimetilimidazólio, 1,2,3-trimetilimidazólio, l-etil-2,3-dimetilimidazólio, l-(l-butil)-2,3-dimetilimidazólio, l-(l-hexil) -2,3-dimetilimidazólio, 1 -(1 -octil)-2,3-dimetil-imidazólio, 1,4-dimetilimidazólio,1,3,4-trimetilimidazólio, l,4-dimetil-3-etilimidazólio, 3-butilimidazólio, 1,4-dimetil-3-octilimidazólio, 1,4,5-trimetilimidazólio, 1,3,4,5-tetrametilimidazólio, 1, 4,5-trimetil-3-etil-imidazólio, l,4,5-trimetil-3-butilimidazólio e l,4,5-trimetil-3-octilmidazólio.
íons de pirazólio (IVf), (IVg) e (IVg') muito particularmentepreferidos são aqueles, nos quais:
• R1 é hidrogênio, metila ou etila e R2 a R4 são, cada qual,independentemente um do outro; hidrogênio ou metila.
íons de pirazólio (IVH) muito particularmente preferidos sãoaqueles, nos quais:
• R1 a R4 são, cada qual, independentemente um do outro, hidrogênioou metila.
Ions de 1-pirazolínio (IVi) muito particularmente preferidossão aqueles, nos quais:
• R1 a R0 são, cada qual, independentemente um do outro, hidrogênioou metila.
íons de 2-pirazolínio (IVj) e (IVj') muito particularmentepreferidos são aqueles, nos quais:
• R1 é hidrogênio, metila, etila ou fenila e R2 a R6 são, cada qual,independentemente um do outro, hidrogênio ou metila.
Ions de 3-pirazolínio (IVk) e (IVk') muito particularmentepreferidos, são aqueles, nos quais:
R1 e R2 são, cada qual, independentemente um do outro, hidrogênio,metila, etila ou fenila e R3 a R6 são, cada qual, independentementeum do outro, hidrogênio ou metila.
Ions de imidazolínio (Ivl) muito particularmente preferidos sãoaqueles, nos quais:• R1 e R2 são, cada qual, independentemente um do outro, hidrogênio,metila, etila, 1-butila ou fenila, e R3 e R4 são, cada qual,independentemente um do outro, hidrogênio, metila ou etila e R5 eR6 são, cada qual, independentemente um do outro, hidrogênio oumetila.
Ions de imidazolínio (IVm) e (IVm') muito particularmentepreferidos são aqueles, nos quais:
• R1 e R2 são, cada qual, independentemente um do outro, hidrogênio,metila ou etila e R3 a R6 são, cada qual, independentemente um dooutro, hidrogênio ou metila.
Ions de imidazolínio (IVn) e (IVn') muito particularmentepreferidos são aqueles, nos quais:
• R1 a R3 são, cada qual, independentemente um do outro, hidrogênio,metila ou etila e R4 a R6 são, cada qual, independentemente um dooutro, hidrogênio ou metila.
íons de tiazólio (IVo) e (IVo') e íons de oxazólio (IVp) muitoparticularmente preferidos são aqueles, nos quais:
• R1 é hidrogênio, metila, etila ou fenila e R2 e R3 são, cada qual,independentemente um do outro, hidrogênio ou metila.
íons de 1,2,4-triazólio (IVq), (Ivq') e (Ivq") muitoparticularmente preferidos são aqueles, nos quais:
• R1 e R2 são, cada qual, independentemente um do outro, hidrogênio,metila, etila ou fenila, e R3 é hidrogênio, metila ou fenila.
íons de 1,2,3-triazólio (IVr), (IVr') e (IVr") muitoparticularmente preferidos são aqueles, nos quais:
• R1 é hidrogênio, metila ou etila e R2 e R3 são, cada qual,independentemente um do outro, hidrogênio ou metila, ou R2 e R3são juntos 1,4-buta-1,3-dienileno.
íons de pirrolidínio (IVs) muito particularmente preferidos sãoaqueles, nos quais:
• R1 é hidrogênio, metila, etila ou fenila e R2 a R9 são, cada qual,independentemente um do outro, hidrogênio ou metila.
Ions de imidazolínio (IVt) muito particularmente preferidossão aqueles, nos quais:
• R1 e R são, cada qual, independentemente um do outro, hidrogênio,metila, etila ou fenila e R2 e R3 e também R5 a R8 são, cada qual,independentemente um do outro, hidrogênio ou metila.
Ions de amônio (IVu) muito particularmente preferidos sãoaqueles, nos quais:
• R1 a R3 são, cada qual, independentemente um do outro, alquila Ci.ou
• R1 e R2 são juntos 1, 5-pentileno ou 3-oxa-l,5-pentileno e R3 éalquila Cm8, 2-hidroxietila ou 2-cianoetila.
Como íons de amônio (IVu) muito particularmente preferidos,podem ser mencionados metiltri (l-butil)amônio, Ν,Ν-dimetilpiperidínio eN,N-dimetilmorfolíneo.
Exemplos de aminas terciárias, a partir das quais os íons deamônio quaternário da fórmula geral (IVu) são derivados através dequaternização pelos radicais R acima mencionados são dietil-n-butilamina,dietil-terc-butilamina, dietil-n-pentilamina, dietilexilamina, dietiloctilamina,dietil (2-etilexil) amina, di-n-propilbutamina, di-n-propil-n-pentilamina, di-n-propilexilamina, di-n-propiloctilamina, di-n-propil (2-etilexil) amina,diisopropiletilamina, diisopropil-n- propilamina, diisopropilbutilamina,diiisopropilpentilamina, diisopropilexilamina, diisopropiloctilamina,diisopropil(2-etilexil) amina, di-n-butiletilamina, di-n-butil-n-propilamina, di-n-butil-n-pentilamina, di-n-butil hexilamina, di-n-butiloctilamina, di-n-butil(2-etilexil) amina, N-n-butilpirrolidina, N-sec-butilpirrolidina, N-terc-butilpirrolidina, N-n-pentilpirrolidina, N-sec-butilpirrolidina, N-terc-butilpirrolidina, N-n-pentilpirrolidina, Ν,Ν-dimetilcicloexilamina, Ν,N-dietilcicloexilamina, N,N-di- n-butilcicloexilmina, N-n-propilpiperidina, N-isopropilpiperidina, N-n-butilpiperidina, N-sec-butilpiperidina, N-terc-butilpiperidina, N-n-pentilpiperidina, N-n-butilmorfolina, N-sec-butilmorfolina, N-terc-butilmorfolina, N-n-pentilmorfolina, N-benzil-N-etilanilina, N-benzil-N-n-propilanilina, N-benzil- N-isopropilanilina, N-benzil-N-n-butilanilina, N,N-dimetil-p- toluidina, N,N-dietil-p-toluidina, N,N-di-n-butil-p-toluidina, dietilbenzilamina, di-n-propilbenzilamina, di-n-butilbenzilamina, dietilfenilamina, di-n-propilfenilamina e di-n-butilfenilamina.
Aminas terciárias (IVu) preferidas são diisopropiletilamina,dietil- terc-butilamina, diisopropilbutilamina, di-n-butil-n- pentilamina, N,N-di- n- butilcicloexialmina e aminas terciárias derivadas de isômeros pentila.
Aminas terciárias particularmente preferidas são n-butil-n-petilamina e aminas terciárias derivadas de isômeros pentila. Uma outraamina terciária preferida, que possui três radicais idênticos é trialilamina.íons de guanidínio (IVv) muito particularmente preferidos sãoaqueles, os quais:
• R1 a R5 são, cada qual, metila.
Como um íon de guanidínio (IVv) muito particularmentepreferido pode ser mencionado Ν,Ν, N', N', N", N"-hexametilguanidínio.Ions de colínio (IVw) muito particularmente preferidos sãoaqueles, nos quais:
• R1 e R2 são, cada qual, independentemente um do outro, metila,etila, 1-butila ou 1-octila e R3 é hidrogênio, metila, etila, acetila, -SO2OH ou -PO(OH)2;
• R1 é metila, etila, 1-butila ou 1-octila, R2 é um grupo -CH2-CH2-OR e R3 e R4 são, cada qual, independentemente um do outro,hidrogênio, metila, etila, acetila, -SO2OH ou -PO(OH)2; ou• R1 é um grupo -CH2-CH2-OR4, R2 é um grupo - CH2-CH2OR5, e R3a R5 são, cada qual, independentemente um do outro, hidrogênio,metila, etila, acetila, -SO2OH ou -PO(OH)2.
íons de colínio particularmente preferidos (IVw) são aqueles,nos quais R3 é selecionado a partir de hidrogênio, metila, etila, acetila, 5-metóxi-3-oxapentila, 8-metóxi-3,6-dioxaoctila, 11-metóxi-3,6,9-trioxaundecila, 7-metóxi-3-oxapentila, 1 l-metóxi-4,8-dioxaundecila, 15-metóxi-4, 8, 12-trioxapentadecila, 9-metóxi-5-oxanonila, 14-metóxi-5, 10-octatetradecila, 5-etóxi-3-oxapentila, 8-etóxi-3,6-dioxaoctila, ll-etóxi-3, 6, 9-trioxaundecila, 7-etóxi-4-oxaeptila, 1 l-etóxi-4,8-dioxaundecila, 15-etóxi-4,8,12-trioxapentadecila, 9-etóxi-5-oxanonila ou 14-etóxi-5,10-oxatetradecila.
Ions de fosfônio (Vx) muito particularmente preferidos sãoaqueles, nos quais:
• R1 a R3 são, cada qual, independentemente um do outro, alquila Ci.18 em particular butila, isobutila, 1-hexila ou 1-octila.
Dentre os cátions heterocíclicos acima mencionados, os íonsde piridínio, íons de pirazolínio, e íons de pirazólio e os íons de imidazolínio ede imidazólio são preferidos. Além disso, os íons de amônio são preferidos.
São preferidos, em particular, 1-metilpiridínio, 1-etilpiridínio,l-(l-butil) piridínio, l-(l-hexil) piridínio, l-(l-octil) piridínio, l-(l-hexil)piridínio, l-(l-octil)-piridínio, l-(l-dodecil) piridínio, l-(l-tetradecil)piridínio, l-(l-hexadecil)-piridínio, 1,2-dimetilpiridínio, l-etil-2-metilpíridínio, l-(l-butil)-2-metilpiridínio, l-(l-hexil)-2-metilpiridínio, 1-(1-octil)-2-metiliridínio, 1 -(1 -dodecil)-2-metilpiridínio, 1 -(1 -tetradecil)-2-metilpiridínio, l-(l-hexadecil)-2-metilpiridínio, l-metil-2-etilpiridínio, 1,2-dietilpiridínio, l-(l-butil)-2-etilpiridínio, l-(l-hexil)-2-etilpiridínio, l-(l-octil-2-etilpiridínio), l-(l-dodecil)-2-etilpiridínio, l-(l-tetradecil) -2-etilpiridíni, 1-(1 -hexadecil)-2-etil- piridínio, l,2-dimetil-5-etilpiridínio, 1, 5-dietil-2-metilpiridínio, 1 -(1 -butil)-2-metil-3 -etilpiridínio, 1 -(1 -hexil)-2-metil-3 -etilpiridínio, 1 -(1 -octil)-2-metil-3 -etilpiridínio, 1 -(1 -dodecil)-2-metil-3 -etilpiridínio, 1 -(1 -tetradecil)-1 -metil-3 -etilpiridínio, 1 -(1 -dodecil)-2-metil-3 -etipiridínio, 1 -(1 -tetradecil)-2-metil-3-etilpiridínio, 1 -(1 -hexadecil)-2-metil-3 -etilpiridínio, 1-metil-imidazólio, 1-etilimidazólio, l-(l-butil)imidazólio, 1-(1-octil) imidazólio, l-(l-dodecil) imidazólio, 1-(1-tetradecil) imidazólio, 1-(1-hexadecil) imidazólio, 1,3-dimetilimidazólio, l-etil-3-metilimidazólio, 1-(1-butil)-3 -metilimidazólio, 1 -(1 -hexil)-3 -metilimidazólio, 1 -(1 -octil)-3 -metilimidazólio, 1 -(1 -dodecil)-3 -metilimidazólio, 1 -(1 -tetradecil)-3 -metilimidazólio, 1 -(1 -hexadecil)-3-metilimidazólio, 1,2-dimetilmidazólio,1,2,3-trimetilimidazólio, 1-etil- 2,3-dimetilimidazólio, l-(l-butil)-2,3-dimetilimidazólio, l-(l-hexil)-2,3-dimetil-imidazólio e l-(l-octil)-2,3-dimetilimidazólio, 1, 4-dimetilimidazólio, 1,3,4-trimetilimidazólio, 1,4-dimetil-3-etilimidazólio, 3-butilimidazólio, 1, 4-dimetil-3-octilimidazólio,1,4,5-trimetilimidazólio, 1,3,4,5-tetrametil-imidazólio, 1, 4,5-trimetil-3-etilimidazólio, 1, 4,5-trimetil-3-butilimidazólio e l,4,5-trimetil-3-octilimidazólio.
Os cátions metálicos [M1]+, [M2]+, [M3]+, [M4]2+ e [M5]3+ nasfórmulas (IIIa) a (IIIj) são, de um modo geral, cátions metálicos dos grupos 1,2, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12 e 13 da Tabela Periódica. Cátions metálicos adequadossão, por exemplo, Li+, Na+, K+, Cs+, Mg2+, Ca2+, Ba2+, Cr3+, Fe2+, Fe3+, Co2+,Ni2+, Cu2+, Ag+, Zn2+ e Al3+.
Como ânions, é possível, em princípio, usar todos os ânions.
O ânion [Y]n" do líquido iônico e, por exemplo, selecionado apartir de:
o grupo de halogenetos e de compostos que compreendemhalogênio das fórmulas:
F, Cf, Br, I", BF4", PF6', AlCl4", Al2Cl7", Al3Cl10", AlBr4", FeCl4",BCl4", SbF6", AsF6", ZnCl3, SnCl3, CuCl2", CF3SO3", (CF3SO3)2N",CF3CO2-, CCl3CO2", CN", SCN", OCN",• o grupo de sulfatos, sulfitos e sulfonatos das fórmulas gerais:SO42", HSO4", SO32", HSO3", RaOSO3", RaSO3",
• o grupo de fosfatos das fórmulas gerais:PO43", HPO42", H2PO4", RaPO42", HRaPO4., RaRbPO4",
•o grupo de fosfinatos e de fosfinatos das fórmulas gerais:RaHPO3", RaRbPO2", RaRbPO2", RaRbPO3",
•o grupo de fosfitas das fórmulas gerais:PO33", HPO32", H2PO3", RaHPO3", RaRbPO3-,
•o grupo de fosfonitas e fosfinitas das fórmulas grais:RaRbPO2", RaHPO2", RaRbPO", RaHPO",
• o grupo de ácidos carboxílicos da fórmula geral:RaCOO";
•o grupo de boratos das fórmulas gerais:
BO33", HBO32", H2BO3", RaRbBO3", RaBO32", B (ORa)(ORb)(ORc)(ORd)", B(HSO4)", B(RaS04)\
•o grupo de boronatos das fórmulas gerais:RaBO22", RaRbBO",
•o grupo de carbonatos e ésteres carbônicos das fórmulas gerais:HCO3", CO32", RaCO3",
•o grupo de silicatos e de ésteres silílicos das fórmulas gerais:Si44", HsiO43", H2SiO42", H3SiO4., RaSiO43", RaRbSiO42",RaRbRcSiO4., HRaSiO42", H2RaSiO4", HRaRbSiO4",
•o grupo de sais de alquil silano e de aril silano das fórmulas gerais:RaSiO33", RaRbSiO22", RaRbRcSiO", RaRbRcSiO3", RaRbRcSiO2",RaRbSiO32",
•o grupo de carboximidas, bis(sulfonil)imidas e sulfonilimidas dasfórmulas gerais:<formula>formula see original document page 28</formula>.o grupo de metidas da fórmula geral:
<formula>formula see original document page </formula>
em que M é um metal e Hal é flúor, cloro, bromo ou iodo, q e rsão inteiros positivos e indicam a estequiometria do complexo e s é um inteiropositivo e indica a carga do complexo;
um do outro, hidrogênio, alquila Ci.30, alquila C2.i8, que podem seropcionalmente interrompidos por um ou mais átomos de oxigênio e/ouenxofre não- adjacentes e/ou um ou mais grupos imino substituídos ou não-substituídos, arila C6-H, cicloalquila C5_i2, ou um heterociclo, que compreendeoxigênio, nitrogênio e/ou enxofre, de cinco a seis membros, em que dois delespodem, juntos, formar um anel insaturado, saturado ou aromático, que podeser opcionalmente interrompido por um ou mais átomos de oxigênio e/ou
o grupo de sulfetos, hidrogeno sulfetos, polissulfetos, e hidrogenopolissulfetos e tiolatos das fórmulas gerais:S2"; HS-; [Sv]2", [HSv]", [RaS]";
em que ν é um inteiro positivo de 2 a 10;o grupo de íons metálicos complexos, tais que FE(CN)63-,Fe(CN)64'; MnO4-; Fe(CO)4";
Neste caso, Ra, Rb, Rc e Rd são, cada qual, independentementeenxofre e/ou um ou mais grupos imino substituídos ou não- substituídos, emque os radicais mencionados podem, cada qual, ser adicionalmentesubstituídos por grupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio,heteroátomos e/ou heterociclos.
Neste caso, alquila Cms, que pode ser opcionalmentesubstituído por grupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio,heteroátomos e/ou heterociclos é, por exemplo, metila, etila, propila,isopropila, n-butila, sec-butila, terc-butila, pentila, hexila, heptila, octila, 2-etilexila, 2, 41,4-trimetilpentila, decila, dodecila, tetrradecila, heptadecila,octadecila, 1,1-dimetilpropila, 1,1-dimetilbutila, 1,1,3,3-tetrametilbutila,benzila, 1-feniletila, a, a-dimetilbenzila, benzidrila, p-tolilmetila, l-(p-butilfenil) etila, p-clorobenzila, 2,4-diclorbenzila, p-metoxibenzila, m-etoxibenzila, 2-cianoetila, 2-cianopropila, 2-metoxicarboniletila, 2-etoxicarboniletila, 2-butoxicarbonilpropila, 1,2-di-(metoxicarbonil) etila, 2-metoxietila, 2-etoxietila, 2-butoxietila, dietoximetila, dietoxietila, 1,3-dioxolan-2-ila, l,3-dioxan-2-ila, 2-metil-l,3-dioxolan-2-ila, 4-metil-l,3-dioxolan-2-ila, 2-isopropoxietila, 2-butoxipropila, 2-octiloxietila, clorometila,triclorometila, trifluorometila l,l-dimetil-2-cloroetila, 2-metoxiisopropila, 2-etoxietila, butiltiometila, 2-dodeciltioetila, 2-feniltioetila, 2,2,2-trifluoroetila,2-hidroxietila, 2-hidroxipropila, 3-hidroxipropila, 4-hidroxibutila, 6-hidroxietila, 2-aminotila, 2-aminopropila, 4-aminobutila, 6-aminoexila, 2-metilaminoetila, 2-metilaminopropila, 3-metilaminopropila, 4-metilamnobutila, 6-metilaminoexila, 2-dimetilaminoetila, 2-dimetilaminopropila, 3-dimetilaminopropila, 4-dimetilaminobutila, 6-dimetilaminoexila, 2-hidróxi-2,2-dimetiletila, 2-fenoxietila, 2-fenoxipropila,3-fenoxipropila, 4-fenoxibutila, 6-fenoxiexila, 2-metoxietila, 2-metoxipropila,3-metoxipropila, 4-metoxibutila, 6-metoxiexila, 2-etoxietila, 2-etoxipropila,3-etoxipropila, 4-etoxibutila ou 6-etoxiexila.
Alquila C2-18, que pode ser opcionalmente interrompido porum ou mais átomos de oxigênio e/ou enxofre não- adjacentes e/ou um ou maisgrupos imino substituídos ou não- substituídos é, por exemplo, 5-hidróxi-3-oxapentila, 8-hidróxi-3,6-dioxaoctila, 1 l-hidróxi-3, 6, 9-trioxaundecila, 7-hidróxi-4-oxaeptila, 1 l-hidróxi-4,8-dioxaundecila, 15-hidróxi-4, 8, 12-trioxapentadecila, 9-hidróxi- 5-oxanonila, 14-hidróxi-5, 10-oxatetradecila, 5-metóxi-3-oxapentila, 8-metóxi- 3,6-dioxaoctila, ll-metóxi-3, 6, 9-trioxaundecila, 7-metóxi-4-oxaeptila, 11-metóxi- 4, 8-dioxaundecila, 15-metóxi-4, 8, 12-trioxapentadecila, 9-metóxi-5-oxanonila, 14-metóxi-5, 10-oxatetradecila, 5-etóxi-3-oxapentila, 8-etóxi-3,6-dioxaoctila, 1 l-etóxi-3,6,9-trioxaundecila, 7-etóxi-4-oxaeptila, 11-etóxi- 4, 8-dioxaundecila, 15-etóxi-4,8, 12-trioxapentadecila, 9-etóxi-5-oxanonila ou 14-etóxi- 5, 10-oxatetradecila.
Se dois radicais formarem um anel, eles podem, juntos, formarum bloco de construção fundido sobre o mesmo, por exemplo, 1,3-propileno,1,4-butilen, 2-oxa-1,3-propileno, 1-oxa-1,3-propileno, 2-oxa-1,3-propileno, 1-aza-l,3-propenileno, 1-alquila Ci_4-l-aza-l,3-propenileno, l,4-buta-l,3-dienileno, l-aza-l,4-buta-l,3-dienileno ou 2-aza-l,4-buta-l,3-dienileno.
O número de átomos de oxigênio e/ou enxofre não- adjacentese/ou grupos imino não está, em princípio, submetido a quaisquer restrições ouestá automaticamente restrito pelo tamanho do radical ou do bloco deconstrução cíclico. De um modo geral, não existirão mais do que 5 norespectivo radical, de modo preferido não mais do que 4, e de modo muitoparticularmente preferido não mais do que 3. Além disso, existem, de modogeral, pelo menos um, de modo preferido pelo menos dois, átomo(s) decarbono entre dois heteroátomos.
Grupos imino substituídos e não- substituídos podem ser, porexemplo, imino, metil imino, isopropil imino, n-butil imino ou terc-butilimino.
Para os propósitos da presente invenção, o termo "gruposfuncionais" refere-se, por exemplo, aos seguintes: carbóxi, carboxamida,hidróxi, di(alquil C1-4) amino, alquiloxicarbonila C1-4, ciano ou alcóxi C1-4.Neste caso, alquila C1-4 é metila, etila, propila, isopropila, n-butila, sec-butilaou terc-butila.
Arila C6-14, que pode ser opcionalmente substituído por gruposfuncionais, arila, alquila, arilóxi, alquilóxi, halogênio, heteroátomos e/ouheterociclos é, por exemplo, fenila, tolila, xilila, a- naftila, β-naftila, 4-difenila, clorofenila, diclorofenila, triclorofenila, difluorofenila, metilfenila,dimetilfenila, trimetilfenila, etilfenila, dietilfenila, isopropilfenila, terc-butilfenila, dodecilfenila, metoxifenila, dimetoxifenila, etoxifenila,hexiloxifenila, metilnaftila, isopropilnaftila, cloronafitila, etoxinaftila, 2,6-dimeitlfenila, 2, 4, 6-trimetilfenila, 2, 6-dimetoxifenila, 2,6-diclorofenila, 4-bromofenila, 2-ou 4-nitrofenila, 2,4-ou 2,6-dinitrofenila, 4-dimetilaminofenila, 4-acetilfenila, metoxietilfenila ou etoximetilfenila.
Cicloalquila C5-12, que pode ser opcionalmente substituído porgrupos funcionais, arila, alquila, arilóxi, halogênio, heteroátomos e/ouheterociclos é, por exemplo, ciclopentila, cicloexila, ciclooctila, ciclododecila,metilciclopentila, dimetilciclopentila, metilcicloexila, dimetilcicloexila,dietilcicloexila, butilcicloexila, metoxicicloexila, dimetoxicicloexila,dietoxicicloexila, butiltiocicloexila, clorocicloexila, diclorocicloexila,diclorociclopentila ou um sistema bicíclico saturado ou insaturado, tal quenorbornila ou norbormenila.
Um heterociclo, que compreende oxigênio, nitrogênio e/ouenxofre, de cinco ou seis membros é, por exemplo, furila, tiofenila, pirrila,piridila, indolila, benzoxazolila, dioxolila, dioxila, benzimidazolila,benzotiazolila, dimetilpiridila, metilquinolila, dimetilpirrila, metoxifurila,dimetoxipiridila, difluoropiridila, metiltiofenila, isopropiltiofenila ou terc-butiltiofenila.
Como um líquido iônico para os propósitos da invenção, épreferido o uso de substâncias tendo um cátion mole e/ou um ânion mole. Istosignifica que os cátions e/ou os ânions estão bem estabilizados, por exemplo,através de efeitos indutivos e/ou mesoméricos. Os cátions possuem, de ummodo preferido, substituintes em deslocam elétrons. O cátion compreende, demodo preferido, exclusivamente substituintes que deslocam elétrons. O ânionpossui, de modo preferido, substituintes que extraem elétrons. É em particularpreferido o uso de um líquido iônico, no qual a carga no cátion ou no ânion ouno cátion e no ânion é deslocalizada através de efeitos mesoméricos.Derivados de imidazólio, guanidínio ou pirazólio são, portanto, preferidoscomo cátions. Os líquidos iônicos, usados de acordo com a invenção, demodo particularmente preferido possuem cátions selecionados a partir dogrupo, que consiste de 1,2,3-trimetilimidazólio, 1,3,4,5-tetrametilimidazólio,1,3,4-dimetilimidazólio, 1,3,4-trimetilimidazólio, 1,3-dibutil-2-metilimidazólio, 1,3-dibutilimidazólio, 1,2-dimetilmidazólio, 1,3-dimetilimidazólio, l-benzil-3-metilimidazólio, l-butil-2,3-dimetilimidazólio,1 -butil-2-etil-5-metilimidazólio, 1 -butil-2-etilimidazólio, 1 -butil-2-metilimidazólio, l-butil-3,4,5-trimetilimidazólio, l-butil-3,4-dimetilimidazólio, l-butil-3-etilimidazólio, l-butil-3-metilimidazólio, 1-butil-4-metilimidazólio, 1-butilimidazólio, l-decil-3-metilimidazólio, l-dodecil-3-metilmidazólio, l-etil-2,3-dimetilimidazólio, l-etil-3-metilimdiazólio, 1-hexadecil-2,3-dimetilimidazólio, 1 -hexadecil-3-metilimidazólio, 1 -hexil-2,3-dimetilimidazólio, l-hexil-3-metilimidazólio, l-metil-2-etilimidazólio, 1-metil-3-octiloimidazólio, 1-metilimidazólio, l-pentil-3-metilimidazólio, 1-fenilpropil-3-metilimidazólio, 1 -propil-2,3-dimetilimidazólio, 1 -tetradecil-3-metilimidazólio, 2,3-dimetilimidazólio, 2-etil-3,4-dimetilimidazólio, 3,4-dimetilidazólio, 1-12-dimetilpiridínio, guanidínio, hexametilguanidínio,Ν,Ν,Ν' ,N' -tetrametil- N"- etilguanidínio, N-pentametil-N-isopropilguanidínio, N-pentametil-N-propilguanidínio, benziltrifenilfosfônio,tetrabutilfosfônio, triexil(tetradecil) fosfônio e triisobutil(metil)fosfônio.Cátions ainda mais fortemente preferidos são selecionados apartir do grupo, que consiste de 1,2,3-trimetilimidazólio, 1,2-dimetilimidazólio, l-butil-2-metilimidazólio, l-butil-4-metilimidazólio, 1,3-dietilimidazólio, l-benzil-3-metilimidazólio, l-butil-2,3-dimetilimidazólio, 1-butil-2-metilimidazólio, l-butil-3-etilimidazólio, l-butil-3-metilimidazólio, 1-butilimidazólio, l-etil-2,3-dimetilimidazólio, l-etil-3-metilimidazólio, 1-hexil-3 -metilimidazólio, 1 -metil-2-etilimidazólio, 1 -metil-3 -octilimidazólio,1 -metilimidazólio, 1 -decil-3 -metilimidazólio, 1 -dodecil-3 -metilimidazólio,guanidínio, Ν,Ν, N", N'- tetrametil- N"-etilguanidínio, benziltrifenilfosfônioe tetrabutilfosfônio.
De modo particular, os cátions são selecionados a partir dogrupo, que consiste de 1,2,3-trimetilimidazólio, 1,2-dimetilimidazólio, 1-butil-2,3-dimetilimidazólio, 1 -butil-3-metilimidazólio, 1 -etil-2,3-dimetilimidazólio, l-etil-3-metil-imidazólio, 1-butilimidazólio e 1-metilimidazólio.
Para o processo da invenção, os ânions são selecionados, deum modo preferido, a partir do grupo que consiste de acetato, bis (2,4,4-trimetilpentil) fosfinato, bis (malonato)borato, bis (oxalato) borato, bis(pentafluoroetil) fosfinato, bis(ftalato) borato, bis(salicilato) borato, bis(trifluorometanossulfonil) imidat, bis (trifluorometil) imidato, borato,brometo, bromo aluminatos, carbonato, cloroaluminatos, decil benzenosulfonato, diclorocuprato, dicianamida, didecilbenzeno sulfonato,didodecilbenzeno sulfonato, etil sulfato, etil sulfonato, fluoreto,hexafluorofosfato, hidrogeno carbonato, hidrogeno fosfato, hidrogeno sulfato,hidrogeno sulfito, iodeto, metil sulfato, metil sulfonato, nitrato, nitrito,fosfato, sulfito, tetracianobotato, tetrafluoroborato, tetraquis (hidrogenosulfato) borato, tetraquis (metil sulfonato)borato, tiocianato, tosilato,triclorozincato, trifluoroacetato, trifluorometil sulfonato, tris(heptafluoropropil) trifluorofosfato, tris (nonafluorobutil) trifluorofosfato, tris(pentafluoroetil) trifluorofosfato, tris (pentafluoroetilsulfonil) trífluorofosfato.
Anions particularmente preferidos são hexaflurofosfato,tetrafluoroborato, tiocianato e dicianamida, etil sulfato, dietil fosfato, metilsulfato, brometo, iodeto, p-tolueno sulfonato e metano sulfonato.
De modo particular, para os propósitos da invenção, oslíquidos iônicos usados são metil sulfonato de l-etil-3-metilimidazólio, 1-etil-3-metilimidazólio dicianamida, tetrafloroborato de l-etil-3-metilimidazólio ehexaflorofosfato de l-etil-3-metilimidazólio, dietil fosfato de l-etil-3-metilimidazólio, brometo de l-etil-3-metilimidazólio, p- tolueno sulfonato del-etil-3-metilimidazólio e também metano sulfonato de l-butil-3-metilimidazólio, l-butil-3-metilimidazólio dicianamida, etil sulfato de l-butil-3-metilimidazólio, tiocianato de l-butil-3-metilimidazólio, dimetil fosfato de 1-butil- 3-metilimidazólio, brometo de l-butil-3-metilimidazólio, p-toluenosulfonato de l-butil-3-metilimidazólio, tetrafluoroborato de l-butil-3 -metilimidazólio e hexafluorofosfato de l-butil-3-metilimidazólio.
Para o uso como um aditivo antiestático de acordo com ainvenção, este líquido iônico pode ser usado, seja de um modo isolado ouconjunto, com outros aditivos antiestáticos. Podem ser mencionadas, porexemplo, combinações de líquidos iônicos entre si ou com outros aditivosantiestáticos conhecidos, tais que Catafor F® ou Catafor PU® de Rhodia.
O aditivo antiestático compreende, de um modo preferido, umpoliuretano antiestático em uma quantidade de 0,001 a 30 por cento, em peso,de um modo particularmente preferido de 0,01 a 20 por cento, em peso, de ummodo muito particularmente preferido de 0,1 a 10 por cento, e peso, e de ummodo particular de 0,1 a 7 por cento, em peso, com base no peso total dopoliuretano. A resistência de volume do polímero antiestático é baseada dopeso das cadeias de polímero além de quaisquer catalisadores, cargas eaditivos compreendido. O líquido iônico não está, de modo preferido,covalentemente ligado à cadeia de polímero do polímero antiestático.Como poliuretanos que compreendem um líquido iônico, épossível usar todos os produtos de poliadição de poliisocianato conhecidos.Estes compreendem, de um modo particular, poliuretanos termoplásticos epoliuretanos elastoméricos e também espumas baseadas nestes poliuretanos.
Para os propósitos da invenção, os poliuretanos incluem misturas de polímeroque compreendem poliuretanos e, além disso, polímeros e também espumasque compreendem estas misturas de polímero. Os líquidos iônicos estãocompreendidos, de um modo preferido, em uma espuma de poliuretano, deum modo particular em uma espuma de poliuretano tendo uma zonasuperficial compactada, conhecida como uma espuma integral.
A produção de poliuretanos, em particular de espumasintegrais à base de poliuretanos, é geralmente conhecida. Poliuretanosantiestáticos de acordo com a invenção podem ser produzidos através dareação de a) poliisocianatos orgânicos e/ou modificados com (b) pelo menosum composto de peso molecular relativamente alto, tendo pelo menos doisátomos de hidrogênio reativos, c) se apropriado, extensores de cadeia e/oureticuladores de peso molecular relativamente baixo, d) um aditivoantiestático, que compreende líquidos iônicos, e) catalisadores, f) seapropriado, agentes de sopro, e g) se apropriado, outros aditivos. Para ospresentes propósitos, "reagir" significa que os componentes acimamencionados são misturados e o poliuretano é produzido a partir destamistura. Não é intencionado que seja feita uma distinção entre oscomponentes que reagem e os componentes que não reagem.
Os componentes de poliisocianato (a), usados para a produçãodos produtos de poliadição de poliisocianato da invenção, compreendem osisocianatos alifáticos, cicloalifáticos e aromáticos divalentes ou polivalentes(constituinte a-1), conhecidos a partir da arte anterior, e também misturas dosmesmos. São exemplos 4,4'-diisocianato de difenilmetano, as misturas dediisocianatos de difenilmetano monoméricos e homólogos de diisocinato dedifenilmetano tendo mais do que dois anéis (MDI polimérico), diisocianato detetrametileno, diisocianato de hexametileno (HDI), diisocianato de tolileno(TDI) e misturas dos mesmos.
É preferido o uso de 4,4'-MDI e/ou de HDI. 4,4'-MDI, que éusado de um modo particularmente preferido pode compreender pequenasquantidades, de até cerca de 10%, em peso, de poliisocianatos modificadoscom alofanato ou uretonina. Pequenas quantidades de poliisocianato depolifenilenopolimetileno (MDI) polimérico podem ser também usadas. Aquantidade total destes poliisocianatos de alta funcionalidade não deveexceder a 5%, em peso, do isocianato usado.
O componente de poliisocianato (a) é usado, de um modopreferido, sob a forma de pré-polímeros de poliisocianato. Estes pré-polímeros de poliisocianato são obteníveis através da reação dospoliisocianatos (a-1) acima descritos com polióis (a-2), por exemplo emtemperaturas de 30 a 100°C, de modo preferido de cerca de 80°C, de modo afornecer o pré- polímero. Para preparar os pré- polímeros usados de acordocom a invenção, é preferido o uso de 4,4'-MDI, junto com MDI modificadocom uretonina e de polímeros polióis comerciais, baseados em poliésteres, porexemplo derivados a partir do ácido adípico, ou poliéteres, por exemploderivados a partir de óxido de etileno ou de óxido de propileno.
Polióis (a-2) são conhecidos daqueles versados na arte e sãodescritos, por exemplo, em "Kunststoffhandbuch, 7, Polyurethane", CarlHanser Verlag, 3a Edição, 1993, capítulo 3.1.
Pré- polímeros baseados em éteres são, de um modo preferido,obtidos através da reação dos poliisocianatos (a-1) com polioxipropilenopolióis 2-e 3-funcionais e polioxipropileno - polioxietileno polióis. Eles sãopreparados, de um modo usual, através da adição catalisada por basegeralmente conhecida de óxido de propileno, seja de um modo isolado ou emmistura com óxido de etileno, sobre substâncias de partida H- funcionais, ouem particular OH- funcionais. As substâncias de partida são, por exemplo,água, etileno glicol ou propileno glicol ou glicerol ou trimetilol propano. Porexemplo, poliéteres, tal como abaixo descrito sob (b) podem ser usados comoo componente (a-2).
Quando são usadas misturas de óxido de etileno/ óxido depropileno, o óxido de etileno é usado, de um modo preferido, em umaquantidade de 10-50%, em peso, com base na quantidade total de óxido dealquileno. Os óxidos de alquileno podem ser incorporados ou em blocos oucomo uma mistura aleatória. É preferida, de um modo particular, aincorporação de um bloco terminal de óxido de etileno "EO cap"), de modo aaumentar o conteúdo de grupos terminais OH primários mais reativos.
É preferido uso de dióis baseados em polioxipropileno tendocerca de 20%, em peso, de unidades polioxietileno no final da cadeia, de talmodo que mais que 80% dos grupos OH sejam grupos OH primários. O pesomolecular destes dióis está, de um modo preferido, na faixa de 2000 a 4500.
Pré- polímeros baseados em ésteres são obtidos, de um modopreferido, através da reação de 4,4'- MDI junto com MDI modificado poruretonimina e polímeros polióis comercial baseados em poliésteres, porexemplo derivados do ácido adípico. Neste caso, o MDI modificado perfaz,de um modo preferido, de 0 a 25%, em peso, de modo particularmentepreferido de 1 a 20%, em peso, da quantidade total do MDI usado para apreparação do pré- polímero. A razão de poliol / poliisocianato é selecionada,de tal modo que o conteúdo de NCO do pré- polímero seja de 8 a 28%, empeso, de um modo preferido de 14 a 26%, em peso, de modo particularmentepreferido de 16 a 22%, em peso. Para eliminar as reações secundáriascausadas pelo oxigênio atmosférico, a reação pode ser executada sob gásinerte, de modo preferido nitrogênio. Os poliesteróis suados possuem, de ummodo preferido, um número OH de IOa 100, de modo preferido de 20 a 60.Além disso, eles possuem, de um modo geral, uma funcionalidade teórica de1,9 a 4, de modo preferido de 1,9 a 3.
Em uma modalidade, os poliesteróis descritos abaixo sob adescrição do componente (b) podem ser suados como o componente (a -2).Neste caso, é preferido que o componente (a-2) compreenda menos do que10%, em peso, de polieteróis, com base no peso total do componente (a-2).
De modo particular, o componente (a-2) não compreende quaisquerpolieteróis e, de um modo particularmente preferido, consiste inteiramente depoliesteróis.
Em uma modalidade adicional, os poliesteróis ramificados sãosuados como o componente (a-2). Os poliesteróis ramificados possuem, demodo preferido, uma funcionalidade de a partir de > 2 a 3, em particular de2,2 a 2, 8. Além disso, os poliesteróis ramificados possuem, de um modopreferido, um número de peso molecular médio de a partir de 500 a 5000 g/mol, de um modo particularmente preferido de 2000 a 3000 g/ mol. Comrelação aos materiais de partida (ácidos e álcoois) usados para preparar opoliéster ramificado (a-2), faz -se referência ao que é citado abaixo comrespeito ao componente (b).
Se apropriado, extensores de cadeia (a-3) podem seradicionados na reação, de modo a formar o pré- polímero de poliisocianato,tanto no caso de sistemas de poliéter, como também no caso de sistemas depoliéster. Álcoois diídricos ou triídricos, de modo preferido álcoois diídricosou triídricos ramificados, tendo um peso molecular inferior a 450 g/mol, deum modo particularmente preferido inferior a 400 g/ mol, são adequadoscomo extensores de cadeia para o pré- polímero (a-3). É preferido o uso dedipropileno glicol e/ou tripropileno glicol. Os produtos de adição dedipropileno glicol e/ou tripropileno glicol com óxidos de alquileno, de modopreferido óxido de propileno, são também adequados.
Como compostos de peso molecular relativamente alto (b)tendo pelo menos dois átomos de hidrogênio reativos, é vantajoso usarcompostos tendo uma funcionalidade de a partir de 2 a 8 e um peso molecularde 400 a 12 000. Os compostos que foram considerados como sendo úteis são,por exemplo, poliéster poliaminas e/ou preferivelmente polióis selecionados apartir do grupo, que consiste de poliéter polióis, poliéster polióis preparados apartir de ácidos alcanodicarboxílicos e álcoois poliídricos, politioéter polióis,poliésteramidas, poliacetais compreendendo hidroxila e policarbonatosalifáticos compreendendo hidroxila, ou misturas de pelo menos dois dospolióis mencionados. E preferido o uso de poliéster polióis e/ou poliéterpolióis. Em contraste, as resinas alquídeas ou as composições de moldagemde poliéster tendo ligações duplas olefinicamente insaturadas, reativas, nãosão adequadas como compostos de peso molecular relativamente alto (b)tendo pelo menos dois átomos de hidrogênio reativos.
Poliéster polióis adequados podem, por exemplo, serpreparados a partir de ácidos alcanodicarboxílicos tendo de 2 a 12 átomos decarbono, de modo preferido ácidos alcanodicarboxílicos tendo de 4 a 6átomos de carbono, ou misturas de ácidos alcanodicarboxílicos e ácidospolicarboxílicos aromáticos e álcoois poliídricos, de modo preferido dióistendo de 2 a 12 átomos de carbono, de modo preferido de 2 a 6 átomos decarbono, e/ou alquileno glicóis. Exemplos de ácidos alcanodicarboxílicospossíveis são: ácido succínico, ácido glutárico, ácido adípico, ácido subérico,ácido azeláico, ácido sebácico e ácido decanodicarboxílico. Ácidospolicarboxílicos aromáticos adequados são, por exemplo, o ácido itálico,ácido isoftálico e ácido tereftálico. Os ácidos alcanodicarboxílicos podem serusados, seja individualmente ou em mistura um com o outro. Os derivados doácido dicarboxílico correspondentes, tais que os ésteres dicarboxílicos deálcoois tendo de 1 a 4 átomos de carbono ou anidridos dicarboxílicos podemser também usados em lugar dos ácidos dicarboxílicos livres. É preferido ouso de misturas de ácido dicarboxílico dos ácidos succínico, glutárico eadípico, em razões em peso de, por exemplo 20-35: 35-50: 2-0-32, e de modoparticular o ácido adípico. Exemplos de álcoois diídricos e poliídricos, emparticular dióis ou alquileno glicóis, são: etanodiol, dietileno glicol, 1,2-ou1,3-propanodiol, dipropileno glicol, 1,4-butanodiol, 1, 5-pentanodiol, 1,6-hexanodiol, 1,10-decanodiol, glicerol e trimetilolpropano. É preferido o usode etanodiol, dietileno glicol, 1,4-butanodiol, 1,5-pentanodiol, 1,6-hexanodiolou misturas de pelo menos dois dos dióis mencionados, em particular misturasde 1,4-butanodiol, 1,5-pentanodiol e 1,6-hexanodiol. É também possível usarpoliéster polióis derivados de lactonas, por exemplo ε- caprolactona, ouácidos hidroxicarboxílicos, por exemplo o ácido ω-hidroxicapróico.
Para preparar os poliéster polióis, as misturas dos ácidosdicarboxílicos aromático e alifático e, de modo preferido, dos ácidosalcanodicarboxílicos e /ou derivados dos mesmos e de álcoois poliídricospodem ser policondensadas na ausência de catalisadores ou, de modopreferido, na presença de catalisadores de esterificação, de um modovantajoso em uma atmosfera de gases inertes, tais que nitrogênio, hélio,argônio, etc., em temperaturas de fusão de a partir de 150 a 250°C, de modopreferido de 180 a 220°C, se apropriado sob pressão reduzida no valor ácidodesejado, que é, de um modo vantajoso, inferior a 10, de um modoparticularmente preferido inferior a 2. Em uma modalidade preferida, amistura de esterificação é policondensada nas temperaturas acimamencionadas a um valor ácido de 80 a 30, e de modo preferido de 40 a 30,sob pressão atmosférica, e subseqüentemente sob uma pressão inferior a 500hPa, de modo preferido de 50 a 150 hPa. Catalisadores de esterificaçãopossíveis são, por exemplo, catalisadores de ferro, cádmio, cobalto, chumbo,zinco, antimônio, magnésio, titânio e estanho, sob a forma de metais, óxidosmetálicos e sais metálicos. No entanto, a policondensação pode ser tambémexecutada na fase líquida, na presença de diluentes e/ou de agentes de arraste,tais que benzeno, tolueno, xileno ou clorobenzeno, de modo a permitir comque a água da condensação seja destilada de um modo azeotrópico.De modo a preparar os poliéster polióis, os ácidospolicarboxílicos orgânicos e/ou derivados dos mesmos e álcoois poliídricossão, de um modo vantajoso, policondensados em uma razão molar de a partirde 1:1 a 1:1.8, de modo preferido de 1:1,05 a 1:1,2.
Os poliéster polióis obtidos possuem, de um modo preferido,uma funcionalidade de a partir de 2 a 4, de um modo particular de 2 a 3, e umpeso molecular de a partir de 480 a 3000, de modo preferido de 1200 a 300 eem particular de 1800 a 2500.
Poliéter polióis adequados podem ser preparados através demétodos conhecidos, por exemplo a partir de um ou mais óxidos de alquilenotendo de 2 a 4 átomos de carbono no radical alquileno através depolimerização aniônica, usando hidróxidos de metal alcalino, tais quehidróxido de sódio ou de potássio ou alcóxidos de metal alcalino, tais quemetóxido de sódio, etóxido de sódio ou de potássio ou isopropóxido depotássio, como catalisadores, com a adição de pelo menos uma moléculainiciadora, que compreende de 2 a 8 átomos de hidrogênio reativos, em formaligada, ou através de polimerização catiônica, usando ácidos de Lewis, taisque pentacloreto de antimônio, eterato de fluoreto de boro, etc., ou terraalvejante como catalisadores.
Oxidos de alquileno adequados são, por exemplo,tetraidrofurano, óxido de 1,3-propileno, óxido de 1,2-ou 2,3-butileno, óxidode estireno e, de modo preferido, óxido de etileno e óxido de 1,2-propileno.Os óxidos de alquileno podem ser usados de um modo individual, alternadoou sucessivo, ou como misturas. Moléculas de iniciador possíveis são, porexemplo: água. Ácidos dicarboxílicos orgânicos, tais que o ácido succínico,ácido adípico, ácido ftálico e ácido tereftálico, diaminas alifáticas earomáticas, opcionalmente N-monoalquil, N,N-e Ν,Ν'-dialquil substituídas,tendo de 1 a 4 átomos de carbono no radical alquila, por exemploetilenodiamina opcionalmente monoalquil e dialquil substituídas,dietilenotriamina, trietilenotetramina, 1,3-propilenodiamina, 1, 3-ou 1,4-butilenodiamina, 1,2-, 1,3-, 1,4-1,5- e 1,6-hexametilenodiamina,fenilenodiaminas, 2,3-, 2,4- e 2,6-tolilenodiamina e 4,4'-, 2, 4'- e 2,2'-diaminodifenilmetano.
Outras moléculas iniciadores possíveis são: alcanolaminas, taisque etanolamina, dietanolamina, N-metiletanolamina e N-etiletanolamina, N-metildietanolamina e N-etildietanolamina e trietanolamina e amônia. Épreferido o uso de álcoois poliídricos, em particular diídricos a octaídricos,tais que etanodiol, 1,2- e 1,3-propanodiol, dietileno glicol, dipropileno glicol,1,4-butanodiol, 1,6-hexanodiol, glicerol, trimetilolpropano pentaeritritol,sorbitol e sacarose.
Os poliéter polióis, de modo preferido polioxipropileno polióise polioxipropileno- polioxietileno polióis, para a produção de produtos depoliadição de poliisocianato celulares, elásticos ou semi- rígidos, possuemuma funcionalidade, de um modo preferido, de 2 a 4, e de um modo particularde 2 e/ou 3, e pesos moleculares de, preferivelmente, 1800 a 6000 e, emparticular, de 2400 a 400, e polioxitetrametileno glicóis adequados possuemum peso molecular de até cerca de 3500 e, para a produção de produtos depoliadição de poliisocianato celulares, rígidos, em particular de termocurados,possuem uma funcionalidade, de modo preferido, de 3 a 8, e em particular de3 a 6, e um peso molecular de, preferivelmente 400 a 3200, e em particular de600 a 2400.
Como os poliéster polióis, os poliéter polióis podem ser usadosindividualmente ou sob a forma de misturas. De modo a produzir produtostermocurados elásticos, pode ser vantajoso, por exemplo, usar misturas depoliéter polióis tendo pesos moleculares de até 2400 e aquelas tendo pesosmoleculares de a partir de 2800 a 400. Além disso, elas podem ser misturadoscom os poliéter polióis ou poliéster polióis de enxerto e também compoliesteramidas compreendendo hidroxila, poliacetais, policarbonatos e/oupoliéter poliaminas.
Poliacetais que compreendem hidroxila possíveis são, porexemplo, os compostos que podem ser preparados a partir de glicóis, tais quedietileno glicol, trietileno glicol, 4,4'- diidroxietoxidifenildimetilmetano,hexanodiol e formaldeído. Poliacetais adequados podem ser tambémpreparados através da polimerização de acetais cíclicos.
Policarbonatos que compreendem hidroxila possíveis sãoaqueles do tipo em si conhecido, que podem ser preparados, por exemplo,através da reação de dióis, tais que 1,3-propanodiol, 1,4-butanodiol e / ou 1,6-hexanodiol, dietileno glicol, trietileno glicol ou tetraetileno glicol comcarbonatos de diarila, por exemplo carbonato de difenila, ou fosgênio.
As poliesteramidas incluem, por exemplo, os condensadospredominantemente lineares obtidos a partir de ácidos carboxílicospolifuncionais, saturados e/ou insaturados ou seus anidridos e amino álcooispolifuncionais saturados e/ou insaturados, ou misturas de álcooispolifuncionais e amino álcoois e/ou poliaminas.
Poliéter poliaminas adequados podem ser preparados a partirdos poliéter polióis acima mencionados, através de métodos conhecidos.Podem ser mencionados, a título de exemplo, a cianoalquilação depolioxialquileno polióis e a subseqüente hidrogenação da nitrila formada (US3 267 0050) ou a aminação completa ou parcial de polioxialquileno polióis,através de aminas ou de amônia, na presença de hidrogênio e catalisadores(DE 12 15 373).
Outros polióis adequados são polióis modificados compolímero, de modo preferido poliesteróis ou polieteróis modificados compolímero, de modo particularmente preferido polieteróis de enxerto oupoliesteróis de enxerto. Estes são, em cada caso, um polímero poliol, quepossui, de um modo usual, um conteúdo de polímeros termoplásticos de apartir de 5 a 50%, em peso, de modo preferido de 10 a 45%, em peso, demodo particularmente preferido de 15 a 25%, em peso, e de modo particularde 18 a 22%, em peso. Estes polímero poliesteróis são descritos, por exemplo,na EP-A 250 351 e são preparados, de um modo usual, através dapolimerização por radical livre de monômeros olefínicos adequados, porexemplo, estireno, acrilonitrila, acrilatos e / ou acrilamida, em um poliesterolque serve como uma base de enxerto. As cadeias laterais são formadas, de ummodo geral, através da transferência de radicais livres das cadeias do polímeroem crescimento para poliesteróis ou polieteróis. Diferentemente docopolímero de enxerto o polímero poliol compreende predominantemente oshomopolímeros de olefinas dispersados no poliesterol inalterado.
Em uma modalidade preferida, acrilonitrila, estireno, emparticular exclusivamente estireno, são usados como monômeros. Osmonômeros são, se apropriados, polimerizados na presença de outrosmonômeros, de um macrômero, de um moderador e usando um iniciador deradical livre, de modo usual compostos azo ou peróxido, em um poliesterolcomo a fase contínua.
Durante a polimerização por radical livre, os macrômeros sãoincorporados na cadeia de copolímero. Isto resulta na formação decopolímeros em bloco tendo um bloco de poliéster e um bloco depoliacrilonitrila - estireno, que agem como compatibilizadores de fase, nainterface da fase contínua e da fase dispersa e suprimem a aglomeração daspartículas do polímero poliésterol.
A proporção de macrômeros é, de um modo usual, de 1 a 15%,em peso, com base no peso total dos monômeros usados para a preparação dopolímero poliol.
A proporção do polímero poliol é, de um modo preferido,superior a 5%, em peso, com base no peso total do componente (b). Ospolímeros polióis podem, por exemplo, estar compreendidos em umaquantidade de a partir de 30 a 90%, em peso, ou de 55 a 80%, em peso, combase no peso total do componente (b). O polímero poliol é, de um modoparticularmente preferido, um polímero poliesterol ou polieterol.
Os produtos de adição de poliisocianato e, de modo preferido,espumas integrais que compreendem grupos uretano ou grupos uretano eisocianurato podem ser produzidos com ou sem o uso concomitante deextensores de cadeia e/ou agentes de reticulação. No entanto, a adição deextensores de cadeia, agentes de reticulação, ou se apropriado, misturas dosmesmos, pode comprovar ser vantajosa para a modificação das propriedadesmecânicas, por exemplo, da dureza. Os extensores de cadeia e/ou agente4s dereticulação usados são os dióis e/ou trióis tendo pesos moleculares inferiores a400, de modo preferido de a partir de 60 a 300, e, de modo particular de 60 a150. Dióis/ trióis possíveis são, por exemplo, dióis alifáticos, cicloalifáticose/ou aralifáticos tendo de 2 a 14, de modo preferido de 2 a 10, átomos decarbono, por exemplo etileno glicol, 1,3-propanodiol, 1,10-decanodiol, o-, m -p- diidroxicicloexano, dietileno glicol dipropileno glicol e, de modo preferido,1,4-butanodiol, 1, 6 -hexanodiol e bis (2-hidroxietil) hidroquinona, trióis, taisque 1,2,4-, 1,3,5-triidrorixicicloexano, glicerol e trimetilolpropano e óxidos depolialquileno que compreendem hidroxila, baseados em óxido de etileno e/ouóxido de 1,2-propileno e os dióis e/ou trióis acima mencionados comomoléculas iniciadoras.
De modo a produzir elastômeros de poliuretano- poliuréia, épossível empregar diaminas aromáticas secundárias, diaminas aromáticasprimárias, 3,3'-dialquil- e/ou diaminodifenilmetanos 3,3',5,5'-dialquilsubstituídos como extensores de cadeia ou agentes de reticulação, em adiçãoaos dióis e/ou trióis acima mencionados, ou em mistura com estes.
Os extensores de cadeia e/ou agentes de reticulação acimamencionados (c) podem ser usados individualmente ou como misturas detipos idênticos ou diferentes de compostos.
Se extensores de cadeia, agentes de reticulação ou misturasdos mesmos forem empregados, eles são suados, de um modo vantajoso, emquantidades de a partir de 1 a 60%, em peso, de modo preferido de 4 a 50%,em peso, e de modo particular de 5 a 40%, em peso, com base no peso doscomponentes (b) e (c).
A reação dos componentes (a) e (b) e, se apropriado (c), éexecutada na presença de um aditivo antiestático (d), de acordo com ainvenção.
Como catalisadores (e) para a produção dos produtos depoliadição de poliisocinato, em particular de plásticos celulares, através doprocesso de poliadição de poliisocianato, é preferido o uso de compostos queaceleram fortemente a reação dos compostos que compreendem hidroxila docomponente (b) e, se presente (c), com os poliisocianatos orgânicos (s), seapropriado, modificados. Catalisadores possíveis são os compostos metálicosorgânicos, de um modo preferido os compostos de estanho orgânicos, tais quesais de estanho (II) de ácidos carboxílicos orgânicos, por exemplo acetato deestanho (II), octoato de estanho (II), etil hexanoato de estanho (II) e laurato deestanho (II), e os sais de dialquilestanho (IV) de ácidos carboxílicosorgânicos, por exemplo, diacetato de dibutil estanho, dilaurato de dibutilestanho, maleato de dibutil estanho e diacetato de dioctil estanho, e tambémcarboxilatos de bismuto, tais que neodecanaoto de bismuto (III), 2-etilhexanoato de bismuto e octanoato de bismuto ou misturas dos mesmos. Oscompostos metálicos orgânicos são usados ou de um modo isolado ou,de um modo preferido, em combinação com aminas fortementebásicas. Podem ser mencionados por exemplo, amidinas, tais que 2,3-0-dimetil-3,4,5,6-tetraidropiridimida, aminas terciárias, tais quetrietilamina, tributilamina, dimetilbenzilamina, N-metil morfolina, N-etilmorfolina, N-cicloexil morfolina, Ν,Ν,Ν',Ν'-tetrametilenodiamina,Ν,Ν,Ν',Ν'-tetrametilbutanodiamina, Ν,Ν,Ν',Ν'-tetrametilexanodiamina,pentametildietilenotriamina, bis(dimetilaminoetil)éter, bis(dimetilaminopropil) uréia, dimetilpiperazina, 1,2-dimetilimidazol, 1-azabiciclo [3.3 3. 0] octano e, de modo preferido, 1,4-diazabiciclo [2.2.2]octano e compostos de alcanolamina, tais que trietanolamina,triisopropanolamina, N-metildietanolamina e N-etildietanolamina edimetiletanolamina. Se o componente (b) for um éster, é preferido usarexclusivamente catalisadores amina.
Outros catalisadores, que podem ser também considerados, emespecial quando é usado um excesso de poliisocianato relativamente grande,são: tris(dialquilaminoalquil)-s-hexaidrotriazinas, de modo preferido tris(N,N-dimetilaminopropil)-s-hexaidrotriazinas, hidróxidos detetraalquilamônio, tais que hidróxido de tetrametilamônio, hidróxidos demetal alcalino, tais que hidróxido de sódio e alcóxidos de metal alcalino, taisque metóxido de sódio e isopropóxido de potássio e também sais de metalalcalino de ácidos de cadeia longa tendo de 10 a 20 átomos de carbono e, seapropriado, grupos OH laterais. É preferido o uso de 0,001 a 5%, em peso, demodo particular de 0,05 a 2%, em peso, do catalisador ou combinação docatalisador, com base no peso do componente (b).
Além disso, os agentes de sopro (f) estão presentes, de ummodo usual, na produção de poliuretanos celulares. Estes agentes de soprocompreendem, de um modo preferido, água (referido como o constituinte (f-1)). E possível usar, de um modo geral, compostos que agem de modoquímico ou físico conhecidos (estes são referidos como o constituinte (f-1)),em adição ou em lugar de água (f-1) como agentes de sopro (f). Exemplos deagentes de sopro físicos são hidrocarbonetos (ciclo)alifáticos tendo de 4 a 8átomos de carbono, que são vaporizados sob as condições de formação depoliuretano. Além disso, hidrocarbonetos fluorados, tais que Solkane® 365mfc, podem ser também usados como agentes de sopro. Em uma modalidadepreferida, uma mistura destes agentes de sopro que compreendem água éusada como agente de sopro, mas a água é preferivelmente usada como oúnico agente de sopro.
Em uma modalidade preferida, a água (f-1) é usada em umaquantidade de 0,1 a 2%, em peso, de modo preferido de 0,2 a 1, 5%, em peso,de modo particularmente preferido de 0,3 a 1,2 %, em peso, de um modoparticular de 0,4 a 1%, em peso, com base no peso total dos componentes (b)e, se presentes, (c).
Em uma outra modalidade preferida, microesferas, quecompreendem um agente de sopro físico, são adicionadas como um agente desopro adicional (f-2) na reação dos componentes (a), (b) e, se apropriado, (c).As microesferas podem ser também usadas em mistura com os agentes desopro adicionais, acima mencionados (f-2).
As microesferas (f-2) compreendem, de um modo usual, umpolímero termoplástico, e possuem um núcleo enchido com uma substânciade baixo ponto de ebulição, líquida, à base de alcanos. A produção de tais microesferas é descrita, por exemplo, na US 3 615 972. As microesferaspossuem, de um modo geral, um diâmetro de a partir de 5 a 50 μπι. Exemplosde microesferas adequadas podem ser obtidos sob a marca registradaExpancell®, de Akzo Nobel.
As microesferas são adicionadas, de um modo geral, em umaquantidade de 0,5 a 5%, com base no peso total dos componentes (b), sepresente (c), e (f).
Se apropriado, auxiliares e/ou aditivos (f) podem ser tambémadicionados à mistura da reação para a produção de produtos de poliadição depoliisocianato, em particular de plásticos celulares, através do processo depoliadição de poliisocianato. Os exemplos, que são mencionados, sãosubstâncias tensoativas, agentes de estabilização de espuma, reguladorescelulares, agente de liberação de molde, cargas, corantes, pigmentos, agentesde retardo de chama, inibidores de hidrólise, substâncias fungistáticas ebacteriostáticas.Substâncias tensoativas possíveis são, por exemplo, compostosque servem para auxiliar à homogeneização dos materiais de partida e podem,se apropriado, ser também adequados para a regulação da estrutura celular. Osexemplos que podem ser mencionados são agentes de emulsificação, tais queos sais de sódio de sulfatos de óleo de rícino ou ácidos graxos e também saisde ácidos graxos com aminas, por exemplo, oleato de dietilamina, estearato dedietanolamina, ricinoleato de dietanolamina, sais de ácidos sulfônicos, porexemplo sais de metal alcalino ou de amônio de ácido dodecilbenzenosulfônico ou dinaftilmetano dissulfônico e ácido ricinoleico; agentes deestabilização de espuma, tais que copolímeros de siloxano- oxalquileno eoutros organopolissiloxanos, alquil fenóis etoxilados, álcoois graxosetoxilados, óleos de parafina, óleo de rícino e ésteres ricinoleicos, corantevermelho e óleo de amendoim, e reguladores celulares, tais que parafinas,álcoois graxos e dimetilpolissiloxanos. Acrilatos oligoméricos tendo radicaispolioxialquileno e fluoroalcanos como grupos laterais são também adequadospara aperfeiçoar a ação de emulsificação, a estrutura celular e/ou paraestabilizar a espuma. As substâncias tensoativas são empregadas, de um modousual, em quantidades de a partir de 0,01 a 5 partes, em peso, com base em100 partes, em peso, do componente (b).
Como agentes de liberação de molde adequados, podem sermencionados, a título de exemplo, os seguintes: produtos de reação de ésteresde ácido graxo com poliisocianatos, sais de polissiloxanos compreendendogrupos amino e ácidos graxos, sais de ácidos carboxílicos(ciclo) alifáticossaturados ou insaturados tendo pelo menos 8 átomos de carbono e aminasterciárias e também, em particular, agentes de liberação de molde internos,tais que os ésteres carboxílicos e/ou caroboxamidas preparados através deesterificação ou amidação de uma mistura de ácido montânico e de pelomenos um ácido carboxílico alifático tendo, pelo menos 10 átomos decarbono, através de pelo menos alcanolminas bifuncionais, polióis e/oupoliaminas tendo pesos moleculares de a partir de 60 a 400 (EP- A - 153 639),misturas de aminas orgânicas, sais metálicos de ácido esteárico e de ácidosmonocarboxílicos e/ou dicarboxílicos orgânicos e os seus anidridos (DE- A- 3607 447) ou de um composto imino, o sal metálico de um ácido carboxílico e,se apropriado, um ácido carboxílico (US 4 764 537).
Para os propósitos da presente invenção, cargas, em particularcargas de reforço, são cargas orgânicas e inorgânicas usuais, materiais dereforço, agentes de peso, agentes para aperfeiçoar o comportamento deabrasão em tintas, agentes de revestimento, etc., em si conhecidos. Exemplosespecíficos, que podem ser mencionados, são: cargas inorgânicas, tais queminerais siliciosos, por exemplo, silicatos em folha, tais que antigorita,serpentina, hornblendas, anfíbolos, crisolita, talco; óxidos metálicos, tais quecaulim, óxidos de alumínio, óxidos de titânio e óxidos de ferro, sais metálicos,tais que gesso, barita e pigmentos inorgânicos, tais que sulfeto de cádmio,sulfeto de zinco e também vidro, etc. É também preferido o uso de caulim(China clay), silicato de alumínio e coprecipitados de sulfato de bário e desilicato de alumínio e também materiais fibrosos naturais e sintéticos, tais quevolastonita, fibras metálicas, e, de modo particular, fibras de vidro de várioscomprimentos, que podem, ser apropriado ser revestidas com umencolamento. Cargas orgânicas possíveis são, por exemplo: negro-de-fumo,melamina, colofônia, resinas ciclopentadietila e polímeros de enxerto, etambém fibras celulósicas, poliamida, poliacrilonitrila, poliuretano, fibras depoliéster à base de ésteres dicarboxílicos aromáticos e/ou alifáticos e, demodo particular, fibras de carbono.
As cargas orgânicas e inorgânicas podem ser usadas de ummodo individual ou como misturas e são adicionadas vantajosamente àmistura da reação em quantidades de a partir de 0,5 a 50%, em peso, de modopreferido de 1 a 40%, em peso, com base no peso dos componentes (a) a (c),embora o conteúdo das esteiras, tecidos trançados e não- trançados de fibrasnaturais e sintéticas possa alcançar valores de até 80%, em peso.
Agentes de retardo de chama adequados são, por exemplo,fosfato de tricresila, tris-2-cloroetil fosfato, fosfato de triscloropropila efosfato de tris-2,3-dibromopropila.
À parte dos fosfatos substituídos por halogênio acimamencionados, é também possível usar agentes de retardo de chama, tais quefósforo vermelho, hidrato de óxido de alumínio, trióxido de antimônio, óxidoarsênico, polifosfato de amônio e sulfato de cálcio ou derivados de ácidocianúrico, tais que melamina ou misturas de pelo menos dois agentes deretardo de chama, tais que polifosfatos de amônio e de melamina e também,se apropriado, amido, por exemplo, amido de milho, para tornar os produtosde poliadição de poliisocianato resistentes à chama. De um modo geral, foiverificado ser vantajoso usar de 5 a 50 partes em peso, de modo preferido de 5a 25 partes em peso, dos agentes de retardo de chama mencionados por 100partes, em peso, do componente (b).
Para produzir plásticos celulares, que compreendem gruposuréia e/ou preferivelmente uretano, os poliisocianatos orgânicos (a),compostos de peso molecular relativamente alto, tendo pelo menos doisátomos de hidrogênio reativos (b) e, se apropriado, extensores de cadeia e ouagentes de reticulação, são reagidos em quantidades tais, que a razão deequivalência de grupos NCO dos poliisocianatos (a) para a soma dos átomosde hidrogênio reativos dos componentes (b) e, se presentes, (c) e (f), é de 0,85- 1, 25: 1, de modo preferido de 0,90-1,15:1. Se o plástico celularcompreender pelo menos alguns grupos isocianaurato ligados, será usualempregar uma razão de grupos NCP do poliisocianato (a) para a soma deátomos de hidrogênio reativos do componente (b) e, se presentes, (c) e (f) de1,5 - 20: 1, de modo preferido de 1, 5 - 8,1. Uma razão de 1:1 corresponde aum índice de isocianato de 100.
O plástico celular, que compreende os produtos de poliadiçãode poliisocianato, de modo preferido elastômeros celulares ou, de modoparticular, espumas de poliuretano, são produzidos, de um modo vantajoso,através de um processo de carga única, por exemplo, com o auxílio da técnicade moldagem por injeção da reação, da técnica sob alta pressão ou da técnicasob baixa pressão, em moldes fechados ou abertos, por exemplo moldesmetálcios, por exemplo, de alumínio, ferro fundido ou aço, Foi verificado queé particularmente vantajoso empregar o processo de dois componentes ecombinar os componentes de formação (b), (d) (e) e, se apropriado, (c) e (f),de modo a formar o componente (A) e usar os poliisocianatos orgânicos,poliisocianatos modificados (a) ou misturas dos poliisocianatos mencionadose, se apropriado, agentes de sopro (d), como o componente (B).
Os componentes de partida são misturados em umatemperatura de 15 a 90°C, de modo preferido de 20 a 5O0C, e são introduzidosno molde aberto ou, se apropriado, sob pressão superatmosférica, ao interiordo molde fechado. A mistura pode, como já foi mencionado acima, serexecutada mecanicamente por meio de um agitador ou parafuso de agitação,ou sob alta pressão, através do método de injeção em contracorrente. Atemperatura do molde é, de modo vantajoso, de 20 a 90°C, de modo preferidode 30 a 60°C, e, de modo particular, de 45 a 50°C.
Em modalidades preferidas, os poliuretanos celulares, emparticular os elastômeros celulares, são produzidos através de uma técnica demoldagem por injeção da reação em um molde fechado e os moldes, quepossuem uma zona superficial compactada e um núcleo celular sãoproduzidos em um molde fechado, com compactação em um grau decompactação de 1, 5 a 8,5, de modo preferido de 2 a 6.
Os elastômeros celulares, produzidos através do processo dainvenção, e as espumas integrais correspondentes possuem densidades de apartir de cerca de 0,45 a 1,2 g/ cm3, de modo preferido de 0,45 a 0,85 g/ cm3,a densidade dos produtos que compreendem carga sendo capaz de alcançarvalores mais altos, por exemplo de até 1,4 g/ cm3 e maiores. As moldagenscompostas de tais elastômeros celulares, antiestáticos, são usadas, de modoprincipal, entre dois corpos, entre os quais a carga estática deve ser evitada,por exemplo no suporte da carga ou elementos de amortecimento, tais querolos, elementos amortecedores, coberturas para piso e áreas de trabalho,filmes, componentes interiores para automóveis, tais que esterias de piso,rodas de direção e descansos para os braços, colchões para o setor cirúrgico,descansos para braços para cadeiras que são usadas, por exemplo, naprodução de componentes eletrônicos, ou solas de sapatos, estes elementostendo a intenção de evitar a carga estática. A presente invenção compreendeportanto rolos, elementos amortecedores, coberturas para piso, filmes ecomponentes interiores para automóveis, que compreendem um poliuretanoestático de acordo com a invenção. De modo particular, os moldes dainvenção são usados para a sola externa e/ou para a entressola em sapatos, demodo especial no caso de sapatos de segurança antiestática. A invençãoportanto também provê uma sola de sapato, que compreende um poliuretanoantiestático como a entressola e/ou a sola externa de um sapato de segurançaem conformidade com a DIN EN 20344 -1, que possui uma sola de sapato deacordo com a invenção.
Além disso, espumas elásticas flexíveis e semi-rígidas,produzidas através do processo da invenção e também as espumas integraiscorrespondentes podem ser obtidas com uma densidade de 0,02 a 0,45 g/ cm3,as densidades das espumas elásticas flexíveis sendo, de um modo preferido,de 0,025 a 0, 24 g/ cm3 e, de modo particular, de 0,03 a 0,1 g/ cm3. Asdensidades totais das espumas semi- rígidas e das espumas integrais sãopreferivelmente de 0,2 a 0,9 g/ cm3 e, de modo particular, de 0, 35 a 0,8 g/cm3. Estas podem ser usadas, por exemplo, em interiores de automóveis.
Poliuretanos antiestáticos compactos e poliuretanostermoplásticos antiestáticos são usados, de modo preferido, como solas desapato, de modo particular como solas externas, rolos, filmes ou coberturaspara piso.
Os polímeros antiestáticos da invenção, em particular osprodutos de adição de poliisocianato celular, possuem uma resistência devolume de 107Ω/ cm e inferiores, de modo preferido de 5*IO8 Ω/ cm einferiores, em uma adição de apenas 2,5%, em peso, com base no peso totalda espuma. As adaptações usuais da formulação, por exemplo a adaptação daproporção de agente de reticulação, torna possível a obtenção de parâmetrosmecânicos, tais que a resiliência de rechaço de acordo com a DEST 53512, aresistência à tração e o alongamento de acordo com a DIN 535-4. A durezaShore A de acordo com a DEST 53505, a resistência à propagação na rupturade acordo com a DEST 53507, as propriedades flexurais a longo termo deacordo com a DIN 53543 e a intumescência de acordo com a DIN EN 344-1de produtos de poliadição de poliisocianato, que compreende líquidos iônicos,mesmo em condições de 10%, em peso, de líquidos iônicos, com base no pelototal dos componentes (a) a (g), que são essencialmente as mesmas queaquelas obtidas sem a adição do líquido iônico. Além disso, os parâmetrosespecíficos para a reação, tais que os períodos de tempo de formação decreme, os períodos de tempo de elevação total, e os períodos de tempo deempenamento em sistemas que compreende um líquido iônico em umaproporção, em massa, e até 10%, em peso, com base no peso total doscomponentes (a) a (g), permanecem também essencialmente inalterados apósa adaptação dos sistemas, comparados àqueles parâmetros de sistemas usuaissem os aditivos antiestáticos. Finalmente, a resistência de volume dosprodutos de poliadição de poliisocianato da invenção é surpreendentementeindependente de cura, em particular de cura no teste de hidrólise a 70°C e a95% de umidade relativa de acordo com a DIN 53543 ou EN ISP 2440. Aspropriedades vantajosas dos polímeros da invenção estão ilustradas nosexemplos que se seguem.Exemplos
A partir dos materiais de partida indicados na Tabela 1,espumas tendo uma densidade de 260 a 300 g/l foram produzidas. Paraeste propósito, os componentes foram misturados e injetados em um moldeaberto.
Tabela 1. Revisão dos sistemas
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Na Tabela, os itens apresentam os significados que se seguem:
Poliol: Poliéster poliol baseado em ácido adípico (ADA), 1, 4-butanodiol (BI4) e etileno glicol (EG)
KV: Monoetileno glicol
Estabilizador 1: Tegostab B8443® (Degussa)
Estabilizador 2: Elastostab HO1 ® (BASF)
K: Catalisador amina, Lupragen N 203® (BASF)
AS1: Antiestático Inorgânico Catafor MS/T® (Rhodia)
AS2: Antiestático Orgânico Catafor F® (Rhodia)
IL 1: Metil sulfonato de l-etil-3-metilimidazólio
IL 2: 1 -Etil-3 -metilimidazólio dicianamida
IL 3: Hexaflorofosfatode l-Butil-3-metilimidazol
IL 4: Etil sulfato de 1-Etil-3-metilimidazólio
IL 5: Tiocianato de 1-Etil-3-imidazólio
ISO 187/ 3®: Pré- polímero de isocianato de Elastogran baseado em4,4'- MDI, poliéster polióis e, se apropriado, adição dedióis de baixo peso molecular, conteúdo de NCO =16,0%.
ASl e 2 são aditivos antiestáticos da arte antecedente, queforam testados nos Experimentos Comparativos Cl e C2. No caso doExperimento Comparativo C3, não foi adicionado aditivo antiestático. Osexperimentos 1 a 5 apresentam os resultados para espumas de poliuretano deacordo com a invenção, que compreendem um dos líquidos iônicos ILl a IL5como aditivo antiestático. As resistências de volume medidas e a ação dosaditivos antiestáticos sobre a cura no teste de hidrólise são apresentadas naTabela 2. No teste de hidrólise, o artigo a ser testado é armazenado a 7O0C e95% de umidade atmosférica relativa para o período de tempo indicado.
Tabela 2: Revisão das propriedades antiestáticas e da ação a longo termo
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Pode ser observado a partir da Tabela 2 que, em uma adiçãouniforme de 5%, em peso, de aditivo antiestático, a resistência de volumequando do uso de aditivos antiestáticos conhecidos (ExperimentosComparativos 1 e 2) é mais elevada do que quando do uso de líquidos iônicos(Experimentos 1 a 5). Além disso, pode ser observado que a resistência devolume para sistemas, nos quais o aditivo antiestático ASl seja usado, égrandemente aumentada, comparada a sistemas de acordo com a invenção, oque demonstra a baixa eficiência, e que a resistência de volume para sistemas,nos quais outro aditivo antiestático conhecido AS2 seja usado é grandementeaumentada no teste de hidrólise após 14 dias no teste de hidrólise alcançaaproximadamente o valor para uma espuma sem aditivo antiestático. Um talcomportamento não é observado quando os líquidos iônicos são usados comaditivos estáticos.
Os experimentos 6, 7 e 8 mostram os efeitos dos aditivosantiestáticos sobre as propriedades mecânicas e específicas para a reação. Apartir dos materiais de partida indicados na Tabela 3, foram produzidasespumas tendo uma densidade de espuma livre de a partir de 260 a 300 g/l.Para este propósito, os componentes foram misturados e injetados em ummolde aberto. Os parâmetros mecânicos foram determinados em placas deteste em compactação dupla.
Tabela 3:
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As características dos Experimentos 6 a 8 são apresentadas na Tabela 4
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Pode ser observado a partir da Tabela 4 que as propriedades dosistema e também as outras propriedades do produto permanecemessencialmente inalteradas quando líquidos iônicos são adicionados de modoa reduzir a resistência de volume.Os valores foram determinados como se segue:
Resiliência de Rechaço de acordo com a DIN 53512.
Resistência à Tração e ao Alongamento de acordo com a DIN53504.
Dureza Shore A de acordo com a DIN 53505.
Resistência à Propagação na Ruptura de acordo com a DIN53507.
Propriedades de Flexão a Longo Termo de acordo com a DIN53543.
Claims (16)
1. Poliuretano, caracterizado pelo fato de que compreende umlíquido iônico.
2. Poliuretano de acordo com a reivindicação 1, caracterizadopelo fato de que o líquido iônico não está covalentemente ligado à matriz dopolímero.
3. Poliuretano de acordo com a reivindicação 1 ou 2,caracterizado pelo fato de que o líquido iônico está líquido em temperaturaambiente.
4. Poliuretano de acordo com a reivindicação até 3,caracterizado pelo fato de que o cátion usado para o líquido iônico é umcátion selecionado a partir do grupo, que consiste de 1,2,3-trimetilimidazólio,- 1,3,4,5-tetrametilimidazólio, 1,3,4-dimetilimidazólio, 1,3,4-trimetilimidazólio, 1,3-dibutil-2-metilimidazólio, 1,3-dibutilimidazólio, 1,2-dimetilmidazólio, 1,3-dimetilimidazólio, 1 -benzil-3-metilimidazólio, 1 -butil-- 2,3-dimetilimidazólio, 1 -butil-2-etil-5-metilimidazólio, 1 -butil-2-etilimidazólio, l-butil-2-metilimidazólio, 1-butil-3,4,5-trimetilimidazólio, 1-butil-3,4-dimetilimidazólio, 1 -butil-3 -etilimidazólio, 1 -butil-3 -metilimidazólio, l-butil-4-metilimidazólio, 1-butilimidazólio, l-decil-3-metilimidazólio, l-dodecil-3-metilmidazólio, l-etil-2,3-dimetilimidazólio, 1-etil-3-metilimidazólio, 1 -hexadecil-2,3-dimetilimidazólio, 1 -hexadecil-3-metilimidazólio, l-hexil-2,3-dimetilimidazólio, l-hexil-3-metilimidazólio, 1-metil-2-etilimidazólio, l-metil-3-octiloimidazólio, 1-metilimidazólio, 1-pentil-3-metilimidazólio, 1 -fenilpropil-3-metilimidazólio, 1 -propil-2,3-dimetilimidazólio, l-tetradecil-3-metilimidazólio, 2,3-dimetilimidazólio, 2-etil-3,4-dimetilimidazólio, 3,4-dimetilimidazólio,l-2-dimetilpiridínio,guanidínio, hexametilguanidínio, Ν,Ν,Ν',Ν'-tetrametil- N"- etilguanidínio,N-pentametil-N-isopropilguanidínio, N-pentametil-N-propilguanidínio,benziltrifenilfosfônio, tetrabutilfosfônio, triexil(tetradecil) fosfônio etriisobutil(metil)fosfônio.
5. Poliuretano de acordo com qualquer das reivindicações 1 a-4, caracterizado pelo fato de que o ânion usado para o líquido iônico é umânion selecionado a partir do grupo, que consiste de acetato, bis (2,4,4-trimetilpentil) fosfmato, bis (malonato) borato, bis (oxalato) borato, bis(pentafluoroetil) fosfmato, bis(ftalato) borato, bis (salicilato) borato, bis(trifluorometanossulfonil) imidato, bis (trifluorometanossulfonil) metano), bis(trifluorometil) imidato, borato, brometo, bromoaluminatos, carbonato,cloroaluminatos, decilbenzenossulfonato, diclorocuprato, dianamida,didecilbenzenossulfonato, didodecilbenzenossulfonato, dietilfosfato,diidrogeno fosfato, dodecilbenzenossulfonato, etil sulfato, etil sulfonato,fluoreto, hexafluorofosfato, hidrogeno carbonato, hidrogeno fosfato,hidrogeno sulfato, hidrogeno sulfito, iodeto, metil sulfato, metil sulfonato,nitrato, nitrito, fosfato, sulfito, tetracianoborato, tetrafluoroborato, tetraquis(hidrogenossulfato) borato, tetraquis (metilsulfonato) borato, tiocianato,tosilato, triclorozincato, trifluoroacetato, trifluorometilsulfonato, tris(heptafloropropil) trifluorofosfato, tris (nonafluorobutil) trifluorofosfato, tris(pentafluoroetil) trifluorofosfato, tris (pentafluoroetilsulfonil) trifluorofosfato.
6. Poliuretano de acordo com qualquer das reivindicações 1 a-3, caracterizado pelo fato de que o líquido iônico é selecionado a partir dogrupo, que consiste de metil sulfonato de l-etil-3-metilimidazólio, l-etil-3-metilimidazólio dicianamida, etil sulfato de l-etil-3-metilimidazólio,tiocianato de l-etil-3-metilimidazólio, tetrafluoroborato de l-etil-3-metilimidazólio, hexafluorofosfato de l-etil-3-metilmidazólio, dietil fosfatode l-etil-3-metilimidazólio, brometo de l-etil-3-metilimidazólio, p-toluenossulfonato de l-etil-3-metilimidazólio, metano sulfonato de l-butil-3-metilimidazólio, l-butil-3-metilimidazólio dicianamida, etil sulfato de 1-butil--3-metilimidazólio, tiocianato de l-butil-3-metilmidazólio, dimetil fosfato de-l-butil-3-metilimidazólio, brometo de l-butil-3-metilimidazólio, p-toluenosulfonato de l-butil-3-metilimidazólio, tetrafluroborato de l-butil-3-metilimidazólio e hexafluorofosfato de l-butil-3-metilimidazólio.
7. Poliuretano de acordo com qualquer das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que o líquido iônico está compreendido em umaquantidade de a partir de 0,001 a 30%, em peso, com base no peso total dopolímero.
8. Rolo, caracterizado pelo fato de que compreende umpoliuretano como definido em qualquer das reivindicações 1 a 7.
9. Filme, caracterizado pelo fato de que compreende umpoliuretano como definido em qualquer das reivindicações 1 a 7.
10. Cobertura de piso, caracterizada pelo fato de quecompreende um poliuretano como definido em qualquer das reivindicações 1a 7.
11. Poliuretano de acordo com qualquer das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo fato de que é um poliuretano celular.
12. Componente para interior de automóvel, caracterizado pelofato de que compreende um poliuretano celular, como definido nareivindicação 11.
13. Sola de sapato antiestática, caracterizada pelo fato de quecompreende um poliuretano como definido em qualquer das reivindicações 1a 7 ou como definido na reivindicação 11.
14. Sapato de segurança, caracterizado pelo fato de quecompreende uma sola de sapato antiestática, como definida na reivindicação 13, como uma entressola e/ou uma sola externa.
15. Processo para a produção de um produto de poliadição depoliisocianato antiestático, caracterizado pelo fato de que compreende reagir:a) poliisocianatos orgânicos e/ou modificados com:b) pelo menos um composto de peso molecular relativamentealto, tendo pelo menos dois átomos de hidrogênio reativos, ec) se apropriado, extensores de cadeia de baixo pesomolecular, na presença de:d) um aditivo antiestático, que compreende um líquido iônico,e) catalisadores,f) se apropriado, agentes de sopro, eg) se apropriado, outros aditivos.
16. Uso de líquidos iônicos, caracterizado pelo fato de sercomo um aditivo antiestático para poliuretanos.
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| WO2011046756A1 (en) * | 2009-10-15 | 2011-04-21 | Lubrizol Advanced Materials, Inc. | Electrostatic dissipative tpu and compositions thereof |
| EP2504372B1 (de) | 2009-11-23 | 2015-01-07 | Basf Se | Katalysatoren für polyurethanbeschichtungsmassen |
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| CN101962473B (zh) * | 2010-10-28 | 2012-03-21 | 苏州新纶超净技术有限公司 | 耐磨耐水解抗静电聚氨酯材料的制备方法及其制成的鞋材 |
| CN101974219A (zh) * | 2010-10-28 | 2011-02-16 | 深圳市新纶科技股份有限公司 | 耐磨抗静电聚氨酯材料及其制备方法 |
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| EP2665779B1 (de) | 2011-01-20 | 2016-08-03 | Basf Se | Flammgeschützte thermoplastische formmasse |
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| JP5810767B2 (ja) * | 2011-09-06 | 2015-11-11 | Dic株式会社 | 2液硬化型発泡ポリウレタン樹脂組成物、ウレタン成形体、靴底、及び工業部材 |
| CA2854020C (en) | 2011-11-17 | 2018-06-12 | Air Products And Chemicals, Inc. | Processes, products, and compositions having tetraalkylguanidine salt of aromatic carboxylic acid |
| EP2602023A1 (de) | 2011-12-07 | 2013-06-12 | Basf Se | Katalysatorkombination zur Herstellung von Polyurethanschaumstoffformkörpern |
| US8728455B2 (en) | 2012-01-27 | 2014-05-20 | Basf Se | Radiation-curable antimicrobial coatings |
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| DE102012010766A1 (de) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Brandbeständiger Kunststoff-Werkstoff sowie hieraus gebildete Formteile und Brandschutzbeschichtungen |
| US9416256B2 (en) | 2012-07-18 | 2016-08-16 | Dow Global Technologies Llc | Fire retardant and/or antistatic, non-mercury catalyzed polyurethane elastomer |
| CN102786792B (zh) * | 2012-08-07 | 2014-05-07 | 深圳市新纶科技股份有限公司 | 一种耐黄变聚氨酯鞋材及其制备方法 |
| US9562131B2 (en) | 2012-08-21 | 2017-02-07 | Basf Se | Thermoformable rigid polyurethane-polyamide foam |
| EP2700669A1 (de) | 2012-08-21 | 2014-02-26 | Basf Se | Plastisch verformbarer Polyurethan-Polyamid-Hartschaumstoff |
| CN103859696A (zh) * | 2012-12-12 | 2014-06-18 | 许建华 | 一种新型pu抗静电鞋垫 |
| DE102012024437A1 (de) | 2012-12-14 | 2014-07-03 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Erhöhung der Ableitfähigkeit von Fugen aufweisenden Böden |
| WO2014095749A1 (en) | 2012-12-17 | 2014-06-26 | Basf Se | Filtration systems and membranes with enhanced flux and method for their preparation |
| EP2746309A1 (de) * | 2012-12-19 | 2014-06-25 | Basf Se | Hydrolysebeständige Polyurethanformkörper aus Polyesterpolyurethan |
| US9963538B2 (en) | 2013-01-07 | 2018-05-08 | Basf Se | Catalysts for polyurethane coating compounds |
| US10323116B2 (en) * | 2013-03-15 | 2019-06-18 | Imperial Sugar Company | Polyurethanes, polyurethane foams and methods for their manufacture |
| CN103265774B (zh) * | 2013-05-31 | 2015-08-05 | 苏州市景荣科技有限公司 | 一种pvc鞋底复合型防静电剂的制备方法 |
| CN103265807A (zh) * | 2013-05-31 | 2013-08-28 | 苏州市景荣科技有限公司 | 一种pu鞋底防静电剂 |
| EP2813524A1 (de) | 2013-06-10 | 2014-12-17 | Basf Se | Phosphorylierte Polymere |
| WO2014198539A1 (de) * | 2013-06-10 | 2014-12-18 | Basf Se | Beschichtungsmassen, enthaltend leitfähige füllstoffe |
| JP2015034403A (ja) * | 2013-08-08 | 2015-02-19 | 清水建設株式会社 | 帯電防止塗り床材 |
| ES2708652T3 (es) * | 2013-10-15 | 2019-04-10 | Basf Se | Poliuretano termoplástico conductor de electricidad |
| JP6243186B2 (ja) * | 2013-10-22 | 2017-12-06 | 株式会社ジェイエスピー | 帯電防止性複合樹脂発泡粒子の製造方法及び帯電防止性複合樹脂発泡粒子成形体 |
| EP3329036A1 (en) | 2015-07-30 | 2018-06-06 | Basf Se | Process for metallizing plastic surfaces |
| JP6865734B2 (ja) | 2015-07-30 | 2021-04-28 | ビーエイエスエフ・ソシエタス・エウロパエアBasf Se | めっきのためのプラスチック表面の前処理方法 |
| JP2017179253A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | Mcppイノベーション合同会社 | ポリオレフィン系樹脂組成物 |
| ITUA20164776A1 (it) * | 2016-06-30 | 2017-12-30 | Darrell Company S R L | Stivale anti-infortunistico e procedimento per la realizzazione di tale stivale anti-infortunistico |
| PL422051A1 (pl) * | 2017-06-28 | 2019-01-02 | Politechnika Łódzka | Kompozycja na pianki poliuretanowe o strukturze porowatej i polepszonych właściwościach mechanicznych, zastosowanie kompozycji |
| RU2705066C2 (ru) * | 2018-02-05 | 2019-11-01 | МСД Текнолоджис С.а.р.л. | Антистатическое напольное покрытие с углеродными нанотрубками |
| WO2020208021A1 (en) | 2019-04-11 | 2020-10-15 | Basf Se | Yellow pigment composition |
| CN110894352B (zh) * | 2019-11-08 | 2022-02-25 | 深圳市新纶超净科技有限公司 | 一种聚氨酯材料组合物、聚氨酯鞋材及其制备方法 |
| US11279815B2 (en) * | 2020-02-14 | 2022-03-22 | Inovia Materials LLC | Compositions and methods for improving polymer flow rate |
| US12351701B2 (en) * | 2020-05-22 | 2025-07-08 | P.T. Medisafe Technologies | Synthetic rubber latex compositions with ionic liquid for elastomeric gloves |
| TW202225232A (zh) | 2020-11-11 | 2022-07-01 | 英商萊卡英國有限公司 | 抗靜電氨綸及其衣物 |
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| JP2023100504A (ja) * | 2022-01-06 | 2023-07-19 | 株式会社イノアックコーポレーション | ポリウレタンフォーム及び緩衝材 |
| EP4282890A1 (de) * | 2022-05-25 | 2023-11-29 | Evonik Operations GmbH | Herstellung von polyurethanschaum unter verwendung von ionischen flüssigkeiten |
| CN115141480A (zh) * | 2022-06-29 | 2022-10-04 | 上海朗亿功能材料有限公司 | 一种抗静电热塑性聚氨酯及其制备方法和应用 |
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| WO2025117497A1 (en) * | 2023-11-28 | 2025-06-05 | Lubrizol Advanced Materials, Inc. | Electrostatic dissipative thermoplastic polyurethane composition |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU747432A3 (ru) * | 1969-09-04 | 1980-07-23 | Байер Аг (Фирма) | Способ получени полиуретанов |
| JPS5235399B2 (pt) † | 1973-07-31 | 1977-09-08 | ||
| AT328749B (de) † | 1974-04-26 | 1976-04-12 | Semperit Ag | Formkorper aus polyurethan, sowie verfahren zu seiner herstellung |
| US3959574A (en) * | 1974-04-26 | 1976-05-25 | Xerox Corporation | Biasable member and method for making |
| CH1669775A4 (pt) * | 1975-12-23 | 1977-06-30 | ||
| US4460644A (en) † | 1982-12-27 | 1984-07-17 | Beecham Inc. | Polyurethane foam impregnated with or coated with fabric conditioning agent, anti-microbial agent and anti-discolorant |
| US4605684A (en) † | 1985-10-31 | 1986-08-12 | Pcolinsky Jr Michael P | Antistatic polyurethane foam |
| JP2872359B2 (ja) * | 1990-06-29 | 1999-03-17 | 株式会社ブリヂストン | 非帯電性ポリウレタン樹脂の製造方法 |
| TR27248A (tr) * | 1991-06-13 | 1994-12-21 | Dow Italia | Yumusak bölümlü izosiyanat uclu bir önpolimerden poliuretan elastomer hazirlamaya mahsus bir yöntem. |
| DE19927188A1 (de) * | 1999-06-15 | 2000-12-21 | Bayer Ag | Polyharnstoffpolyurethane mit verbesserten physikalischen Eigenschaften |
| US6372829B1 (en) * | 1999-10-06 | 2002-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Antistatic composition |
| US6592988B1 (en) * | 1999-12-29 | 2003-07-15 | 3M Innovative Properties Company | Water-and oil-repellent, antistatic composition |
| US6620231B2 (en) * | 2000-03-14 | 2003-09-16 | Kao Corporation | Antistatic composition |
| DE10120912A1 (de) * | 2001-04-27 | 2002-10-31 | Basf Ag | Verbundbauteile aus Polyurethan und deren Verwendung in Karosserieaussenteilen |
| DE10143195A1 (de) * | 2001-09-04 | 2003-03-20 | Basf Ag | Integriertes Verfahren zur Herstellung von Polyurethan-Schäumen |
| MY138064A (en) * | 2002-01-24 | 2009-04-30 | Basf Ag | Method for the separation of acids from chemical reaction mixtures by means of ionic fluids |
| DE50308930D1 (de) * | 2002-07-05 | 2008-02-14 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Polymerzusammensetzungen aus polymeren und ionischen flussigkeiten |
| JP2005232346A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Sanko Kagaku Kogyo Kk | 制電性重合体組成物、その製造方法、及びそれを用いた成形品 |
| JP4871495B2 (ja) * | 2004-06-11 | 2012-02-08 | 三光化学工業株式会社 | 制電性組成物、その製造方法、及びそれを用いた成形品 |
| JP2006131827A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Koei Chem Co Ltd | 導電性ポリウレタンフォーム |
| DE102005003299A1 (de) * | 2005-01-24 | 2006-07-27 | Goldschmidt Gmbh | Nanopartikel für die Herstellung von Polyurethanschaum |
| JP2006348085A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Nissan Motor Co Ltd | イオン性液体を用いたクッションアクチュエータ、及びそれからなる車両用部品 |
| JP2007321115A (ja) * | 2006-06-05 | 2007-12-13 | Japan Carlit Co Ltd:The | 導電性付与剤及び導電性樹脂組成物 |
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|---|---|---|
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| B06A | Patent application procedure suspended [chapter 6.1 patent gazette] | ||
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