BRPI0903394A2

BRPI0903394A2 - composição de cuidado pessoal e método para reduzir odor originando de uma composição de cuidado pessoal

Info

Publication number: BRPI0903394A2
Application number: BRPI0903394-7A
Authority: BR
Inventors: Thu-Ba Thi Tran; Janet Nadya Younathan
Original assignee: Rohm & Haas
Priority date: 2008-07-24
Filing date: 2009-05-29
Publication date: 2010-06-01
Also published as: AU2009202191A1; US20100022606A1; MX2009007629A; JP2010030987A; CA2668227A1; EP2149364A1; CA2668227C; KR101809465B1; KR20100011910A; KR20150102920A; US8609704B2; BRPI0903394B1; KR20120044959A; AU2009202191B2; CN101632628A

Abstract

Composição de cuidado pessoal que contém de 25 a 200 ppm de 2-metil-4-isotiazolin-3-ona e pelo menos um removedor de radical hidroquinona, e um método para redução de odor que se origina das composições de cuidado pessoal contendo 2-metil-4-isotiazolin-3-ona.

Description

"COMPOSIÇÃO DE CUIDADO PESSOAL E MÉTODO PARA REDUZIRODOR ORIGINANDO DE UMA COMPOSIÇÃO DE CUIDADO PESSOAL"

Esta invenção se refere a um método para redução de odor quese origina de produtos de cuidado pessoal contendo níveis baixos de 2-metil-4-isotiazolin-3 -ona.

Sob algumas condições ambientais, produtos de cuidadopessoal preservados com níveis relativamente baixos de determinadosbiocidas 2-metil-4-isotiazolin-3-ona emitem um odor indesejável. Este fatonão foi reconhecido previamente. Combinações de vários biocidas comhidroquinonas têm sido descritas na arte antecedente, mas não em produtospessoais com níveis baixos. Por exemplo, CN 1.939.254 descreve produtosanti-envelhecimento contendo hidroquinonas e um preservativo, que pode serum biocida isotiazolona. Entretanto, o nível de preservativo descrito nestareferência é extremamente alto, de 0,1 a 0,2%.

O problema dirigido por esta invenção é prover um métodopara redução de odor em produtos de cuidado pessoal contendo níveisrelativamente baixos de 2-metil-4-isotiazolin-3-ona.

SUMÁRIO DA INVENÇÃO

A presente invenção é dirigida a uma composição de cuidadopessoal compreendendo: a) de 25 a 200 ppm de 2-metil-4-isotiazolin-3-ona; e(b) de 50 a 2000 ppm de pelo menos um removedor de radical hidroquinona.

Uma forma de realização da invenção é um método parareduzir o odor que se origina de uma composição de cuidado pessoal. Ométodo compreende adicionar a composição de cuidado pessoal: a) de 25 a200 ppm de 2-metil-4-isotiazolin-3-ona; e (b) de 50 a 2000 ppm de pelomenos um removedor de radical hidroquinona.

DESCRIÇÃO DETALHADA DA INVENÇÃO

"MIT" é 2-metil-4-isotiazolin-3-ona, também referido pelonome de 2-metil-3-isotiazolona. Todas as percentagens são em peso (% peso)e todas as temperaturas em °C, a menos que de outra forma especificado. Asabreviações seguintes são usadas através da especificação: ppm = partes pormilhão em peso (peso/peso).

Combinações de removedores dos radicais listados podem serusadas, com ou sem estabilizadores adicionais. Removedores de radical fenolimpedidos apropriados para uso nesta invenção incluem, por exemplo, 2,5-di-terc-butil-1,4-hidroquinona; 2-terc-butil-1,4-hidroquinona; 2,6-di-terc-butil-4-hidroxitolueno; 2,6-di-terc-butil-4-metoxifenol; terc-butil-4-hidroxianisol;2,5-bis-(2,4-dimetilfenil)hidroquinona; propil 3,4,5-trihidroxobenzoato; 2-(l,l-dimetiletil)-l,4-benzenodiol; 4-terc-butilcatecol; 4-butilresorcinol; 4-hidroxianisol; 4-(l-feniletil)resorcinol; 2,5-di-terc-pentil-l,4-hidroquinona;pirocatecol e 1,2,4-trihidroxibenzeno. Estabilizadores preferidos incluem 2,5-di-terc-butil-l,4-hidroquinona e 2-terc-butil-1,4-hidroquinona.

Uma composição de cuidado pessoal é uma formulaçãocontendo pelo menos um ingrediente ativo, e é planejada para aplicação napele humana. Ingredientes ativos apropriados incluem mas não estãolimitados a ativos para filtros solares (absorvedores de UV), ativosumedecedores tais como óleos umedecedores, ativos de limpeza para cuidadopessoal, ativos detergentes para cuidado pessoal, vitaminas, derivados deácido fólico, agentes esfoliantes, ativos desodorizantes, ativos de fragrância,ativos de medicamento tópico para cuidado pessoal, agentes cosméticos paracuidado pessoal, condicionadores de cabelo, produtos de cuidado facial,líquidos para limpeza corporal, materiais absorvedores de infravermelho (IR)para cuidado pessoal, medicamentos para acne e combinações dos mesmos.Em algumas formas de realização da invenção, as composições e formulaçõesde cuidado pessoal são de quatro composições básicas: dispersões em óleo,emulsões de óleo em água, emulsões de água em óleo e soluções a partir deum ou mais solventes orgânicos. Formulações de cuidado pessoal sãotipicamente preparadas através da combinação de ingredientes ativos, umabase de óleo, opcionalmente incluindo uma fase aquosa, e aditivos opcionais.Informações adicionais com relação a formulações de cuidado pessoal podemser encontradas em "The Chemestry and Manufacture of Cosmetics", Vol. II -Formulação, terceira ed., editor Mitchell L., 1998, Allured PublishingCorporation.

Preferivelmente, o(s) removedor(s) de radical hidroquinonaestá presente(s) na formulação de cuidado pessoal em um nível total de pelomenos 75 ppm, alternativamente pelo menos 100 ppm; alternativamente pelomenos 200 ppm, alternativamente pelo menos 400 ppm. Em algumas formasde realização da invenção, o nível de removedor(s) de radical hidroquinonanão é maior do que 1500 ppm, alternativamente não maior do que 1000 ppm,alternativamente não maior do que 800 ppm, alternativamente não maior doque 600 ppm. Preferivelmente, a quantidade de removedor de radicalhidroquinona é de duas a dez vezes a quantidade de MIT, alternativamente detrês a oito vezes.

Preferivelmente, o nível total de MIT na formulação decuidado pessoal é pelo menos 50 ppm, alternativamente pelo menos 50 ppm,alternativamente pelo menos 75 ppm. Em algumas formas de realização dainvenção, o nível de MIT não é maior do que 150 ppm, alternativamente nãomaior do que 125 ppm, alternativamente não maior do que 110 ppm,alternativamente não maior do que 100 ppm. Em algumas formas derealização da invenção, o MIT usado na formulação de cuidado pessoalcontém menos do que 1% de 5-cloro-2-metil-4-isotiazolin-3-ona (CMIT),alternativamente menos do que 0,5%, alternativamente menos do que 0,4%,alternativamente menos do que 0,3%, alternativamente menos do que 0,2%,alternativamente menos do que 0,1%.

O removedor de radical hidroquinona pode ser adicionado emqualquer ponto durante a preparação da formulação de cuidado pessoal emqualquer forma (por exemplo, como uma emulsão,dispersão, pó seco, pasta oulíquido).

Problemas de odor que se originam de MIT nas formulaçõesde cuidado pessoal se originam freqüentemente na presença de pelo menosum aldeído insaturado, um éster insaturado, uma cetona insaturada e umálcool insaturado. Fontes de tais compostos incluem, por exemplo,fragrâncias, extratos de plantas (por exemplo, erva-mate, azeite de oliva, eextratos de chá, incluindo extrato de chá branco), e impurezas emcomponentes de formulações de cuidado pessoal.

Claims

1. Composição de cuidado pessoal caracterizada pelo fato deque compreende:(a) de 25 a 200 ppm de 2-metil-4-isotiazolin-3-ona; e(b) de 50 a 2000 ppm de pelo menos um removedor de radicalhidroquinona.

2. Composição de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que compreende ainda pelo menos um de um aldeído insaturado,um éster insaturado, uma cetona insaturada e um álcool insaturado.

3. Composição de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que é um creme, uma loção ou um ungüento.

4. Composição de acordo com a reivindicação 3, caracterizadapelo fato de que tem de 50 a 150 ppm de 2-metil-4-isotiazolin-3-ona e de 50 a 1000 ppm de pelo menos um removedor de radical hidroquinona.

5. Composição de acordo com a reivindicação 4, caracterizadapelo fato de que o referido pelo menos um removedor de radical hidroquinonaé selecionado dentre o grupo consistindo de 2,5-di-terc-butil-l,4-hidroquinona; 2-terc-butil-l ,4-hidroquinona; 2,6-di-terc-butil-4-hidroxitolueno; 2,6-di-terc-butil-4-metoxifenol; terc-butil-4-hidroxianisol; 2,5-bis-(2,4-dimetilfenil)hidroquinona; propil 3,4,5-trihidroxobenzoato; 2-(l,l-dimetiletil)-l,4-benzenodiol; 4-terc-butilcatecol; 4-butilresorcinol; 4-hidroxianisol; 4-(l-feniletil)resorcinol; 2,5-di-terc-pentil-l,4-hidroquinona;pirocatecol e 1,2,4-trihidroxibenzeno.

6. Método para reduzir odor originando de uma composição decuidado pessoal, caracterizado pelo fato de que o referido métodocompreende adicionar a composição de cuidado pessoal: (a) de 25 a 200 ppmde 2-metil-4-isotiazolin-3-ona; e (b) de 50 a 2000 ppm de pelo menos umremovedor de radical hidroquinona.

7. Método de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelofato de que a composição compreende ainda pelo menos um de um aldeídoinsaturado, um éster insaturado, uma cetona insaturada e um álcoolinsaturado.

8. Método de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelofato de que a composição é um creme, loção ou ungüento.

9. Método de acordo com a reivindicação 8, caracterizado pelofato de que a composição compreende de 50 a 150 ppm de 2-metil-4-isotiazolin-3-ona e de 50 a 1000 ppm de pelo menos um removedor de radicalhidroquinona.

10. Método de acordo com a reivindicação 9, caracterizadopelo fato de que o referido pelo menos um removedor de radical hidroquinonaé selecionado dentre o grupo consistindo de 2,5-di-terc-butil-l,4-hidroquinona; 2-terc-butil-l,4-hidroquinona; 2,6-di-terc-butil-4-hidroxitolueno; 2,6-di-terc-butil-4-metoxifenol; terc-butil-4-hidroxianisol;-2,5-bis-(2,4-dimetilfenil)hidroquinona; propil 3,4,5-trihidroxobenzoato; 2-(l,l-dimetiletil)-l,4-benzenodiol; 4-terc-butilcatecol; 4-butilresorcinol; 4-hidroxianisol; 4-(l-feniletil)resorcinol; 2,5-di-terc-pentil-l,4-hidroquinona;pirocatecol e 1,2,4-trihidroxibenzeno.