BRPI1103920A2 - Torneira com componente de válvula resistente ao desgaste - Google Patents
Torneira com componente de válvula resistente ao desgaste Download PDFInfo
- Publication number
- BRPI1103920A2 BRPI1103920A2 BRPI1103920-5A2A BRPI1103920A BRPI1103920A2 BR PI1103920 A2 BRPI1103920 A2 BR PI1103920A2 BR PI1103920 A BRPI1103920 A BR PI1103920A BR PI1103920 A2 BRPI1103920 A2 BR PI1103920A2
- Authority
- BR
- Brazil
- Prior art keywords
- layer
- amorphous diamond
- gpa
- valve component
- valve
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 129
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract description 111
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract description 111
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 claims abstract description 61
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 60
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 23
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 16
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 14
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 14
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 14
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 13
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 10
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 6
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N azanylidyneniobium Chemical compound [Nb]#N CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010951 brass Substances 0.000 claims description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 4
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000011195 cermet Substances 0.000 claims 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 157
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 56
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 27
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 26
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 14
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 12
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 10
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- -1 without limitation Substances 0.000 description 4
- UJXVAJQDLVNWPS-UHFFFAOYSA-N [Al].[Al].[Al].[Fe] Chemical compound [Al].[Al].[Al].[Fe] UJXVAJQDLVNWPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 3
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 3
- 229910021326 iron aluminide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 2
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- UNASZPQZIFZUSI-UHFFFAOYSA-N methylidyneniobium Chemical compound [Nb]#C UNASZPQZIFZUSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N methylidynetantalum Chemical compound [Ta]#C NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 238000009428 plumbing Methods 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910003468 tantalcarbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical class [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002194 amorphous carbon material Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N azane;chromium Chemical compound N.[Cr] SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910021386 carbon form Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 238000005255 carburizing Methods 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007739 conversion coating Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000002052 molecular layer Substances 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007745 plasma electrolytic oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003482 tantalum compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K11/00—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves
- F16K11/02—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit
- F16K11/06—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements
- F16K11/078—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements with pivoted and linearly movable closure members
- F16K11/0782—Single-lever operated mixing valves with closure members having flat sealing faces
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K11/00—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves
- F16K11/02—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit
- F16K11/06—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements
- F16K11/065—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements with linearly sliding closure members
- F16K11/0655—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements with linearly sliding closure members with flat slides
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K25/00—Details relating to contact between valve members and seats
- F16K25/005—Particular materials for seats or closure elements
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/86493—Multi-way valve unit
- Y10T137/86549—Selective reciprocation or rotation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/86493—Multi-way valve unit
- Y10T137/86815—Multiple inlet with single outlet
- Y10T137/86823—Rotary valve
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/9464—Faucets and spouts
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Lift Valve (AREA)
Abstract
TORNEIRA COM COMPONENTE DE VÁLVULA RESISTENTE AO DESGASTE . Um componente de válvula para uma torneira inclui um material de base, uma camada de fortalecimento fornecida sobre o material de base, e um material de diamante amorfo fornecido sobre a camada de fortalecimento. O material de diamante amorfo tendo uma dureza que é de pelo menos 20 GPa e menos que 45 GPa e um modulo que é de pelo menos 150 GPa e menos que 400 GPa.
Description
I TORNEIRA COM COMPONENTE DE VÁLVULA RESISTENTE AO
DESGASTE
REFERÊNCIA CRUZADA A APLICAÇÕES RELACIONADAS
O presente pedido é em parte uma continuação do Pedido de Patente No. U.S. 12/141.848 depositado no dia 18 de junho de 2008. Pedido de Patente No. U.S. 12/141.848 é em parte uma continuação do Pedido de Patente No. U.S. 11/732.948 depositado no dia 5 de abril de 2007, que é em parte uma continuação do Pedido de Patente No. U.S. 11/201.395 depositado no dia 10 de agosto de 2005, que é em parte uma continuação do Pedido de Patente No. U.S. 10/741.848 depositado no dia 18 de Dezembro de 2 003, que é em parte uma continuação do Pedido de Patente No. U.S. 10/322.871 depositado no dia 18 de Dezembro de 2002. Pedido de Patente No. U.S. 12/141.848 também é em parte uma continuação do Pedido de Patente No. U.S. 11/784.765 depositado no dia 9 de abril de 2007, que é em parte uma continuação do Pedido de Patente No. U.S. 11/201.395 depositado no dia 10 de agosto de 2005 (que, como descrito acima, é em parte uma continuação do Pedido de Patente No. U.S. 10/741.848 depositado no dia 18 de dezembro de 2003, que é em parte uma continuação do Pedido de Patente No. U.S. 10/322.871 depositado no dia 18 de dezembro de 2002) . As revelações de cada um dos pedidos de patente mencionados anteriormente são incorporados aqui por referência na sua totalidade.
ANTECEDENTES
0 presente pedido se relaciona em geral a revestimentos superficiais de camadas múltiplas para uso com artigos manufaturados e produtos requerendo baixa fricção, baixo desgaste, e superfícies exteriores de proteção. Mais particularmente, o presente pedido está relacionado a artigos tendo componentes mutuamente 5 deslizantes, como componentes de válvulas para válvulas de mistura de água (por exemplo, para o uso em torneiras ou outro hardware de encanamento), tendo camadas protetoras de superfície compreendendo uma camada de fortalecimento e um revestimento de diamante amorfo 10 externa. A camada de fortalecimento e a revestimento de diamante amorfo fornecem o componente de válvula com um revestimento resistente ao desgaste.
Em certas aplicações, como por exemplo, placas de válvula para válvulas de controle de fluido (por exemplo, que podem ser usadas em hardware de encanamento como torneiras), há a necessidade que as superfícies mutuamente deslizantes sejam resistentes ao desgaste, resistentes a abrasão, resistentes a arranhões, e que tenham um baixo coeficiente de fricção. Os elementos de um tipo de válvula de controle para a mistura de fluxos de água quente e fria tipicamente compreendem um disco estacionário e um disco deslizante móvel, apesar dos elementos de placa poder ser de qualquer formato ou geometria tendo uma superfície vedatória, incluindo, por exemplo, superfícies planas, esféricas, e cilíndricas. 0 termo "disco" aqui, portanto refere-se a placas de válvula de qualquer formato e geometria tendo superfícies de contato que acionam e deslizam contra umas as outras para formar uma vedação impermeável a fluidos. 0 disco estacionário tipicamente tem uma entrada de água quente, uma entrada de água fria, e uma saída de descarga de água misturada, enquanto o disco móvel contém características semelhantes e uma câmara de mistura. Deverá ser entendido que a câmara de mistura não precisa ser no disco, mas 5 poderia ser parte de uma estrutura adjacente. 0 disco móvel sobrepõe-se ao disco estacionário e pode ser deslizado e/ou rodado no disco estacionário para que água misturada a uma temperatura desejada e razão de fluxo seja obtida na câmara de mistura ao regular a razão de 10 fluxo e proporções de água quente e água fria admitida da entrada de água quente e a entrada de água fria e descargadas através da saída de descarga de água misturada. As superfícies vedatórias em contato com os discos deverão ser fabricadas com precisão suficiente 15 para permitir que as duas superfícies vedatórias entrem em contato e formem uma vedação impermeável a fluidos (ou seja, devem ser co-conformais e lisas o suficiente para evitar que fluido passe entre as superfícies vedatórias). O grau de achatamento (para um formato de placa chato), 20 ou co-conformidade (para superfícies não-chatas) e lisura requerida dependem até certo ponto da construção da válvula e os fluidos envolvidos, e são geralmente bem conhecidos na indústria. Outros tipos de válvulas de disco, enquanto ainda usam superfícies vedatórias em 25 contato em contato deslizante uma com a outra, podem controlar apenas um fluxo de fluido ou podem fornecer uma mistura por meio de uma estrutura diferente ou configuração dos orifícios. 0 disco estacionário pode, por exemplo, ser uma parte integral do corpo de válvula.
A experiência prévia com este tipo de válvula de controle tem demonstrado que há um problema de desgaste das superfícies de contato dos discos devido ao fato que os discos estacionários e móveis estão em contato e deslizam uns contra os outros (veja, por exemplo, Patentes U.S. Nos. 4.935.313 e 4.966.789). Para minimizar o problema do desgaste, estes discos de válvula são geralmente feitos de uma cerâmica sinterizada como alumina (óxido de alumínio). Enquanto discos de alumina têm boa resistência ao desgaste, eles têm características friccionais indesejáveis no que quando a força de operação aumenta, e eles tendem a ficar "pegajosos" depois que a graxa lubrificante aplicada originalmente nos discos desgasta e é lavada embora. A resistência à abrasão e arranhões de placas de alumina a partículas grandes e pequenas (respectivamente) no fluxo de água é boa; porém, eles ainda são suscetíveis a danos de fluxos de água contaminados contendo partículas abrasivas tal como areia; e melhorias neste quesito seriam benéficas. Adicionalmente, a natureza porosa dos discos de cerâmica sinterizada faz com que sejam propensos a "trancamento" durante longos períodos sem uso, devido a minerais dissolvidos no suprimento de água que precipitam e cristalizam entre poros coincidentes nas superfícies de contato. Um objetivo da presente invenção é de fornecer discos tendo desgaste reduzido, resistência à abrasão e arranhões melhorada e características friccionais reduzidas. Outro objetivo é de fornecer discos de válvulas não-porosos ou de porosidade reduzida para reduzir o número de lugares onde cristais precipitados podem se formar entre as superfícies de contato. Seria vantajoso usar um material para os discos, como metal, que seja menos caro, mais fácil de moer e polir e que não seja poroso. Porém, a resistência ao desgaste e comportamento friccional de discos metálicos 5 nus é geralmente inaceitável para aplicações de vedação deslizante. Um objetivo adicional da presente invenção é de fornecer discos feitos de metal como material de base e tendo resistência melhorada a desgaste, arranhões, e abrasão e características friccionais melhoradas se 10 comparado a discos cerâmicos sem revestimento.
É revelado na técnica anterior (por exemplo, Patentes U.S. Nos. 4.707.384 e 4.734.339, que são incorporadas aqui por referência) que revestimentos de diamantes policristalinos depositadas por deposição química em fase vapor (CVD) em temperaturas de substrato de cerca de 800-1000°C podem ser usadas em combinação com camadas de adesão de diversos materiais para fornecer componentes resistentes a arranhões e ao desgaste. Películas de diamantes policristalinos, porém, são conhecidos por terem superfícies ásperas devido às facetas dos cristais dos grãos individuais dos diamantes, como é aparente nas fotografias das Figuras 2 e 3 na Patente '384. É conhecido na técnica polir tais superfícies para minimizar o coeficiente de fricção em aplicações deslizantes, ou mesmo para depositar o diamante policristalino em um substrato liso e então remover a película do substrato e usar o lado liso da película (que estava previamente contra o substrato) ou invés da superfície original como a superfície do rolamento. A 3 0 presente invenção supera problemas da técnica anterior ao fornecer inúmeras características vantajosas, incluindo, sem limitação, fornecer uma superfície lisa e muito dura para aplicações deslizantes, enquanto evitando um pós- processamento difícil e caro da camada de superfície de 5 diamante policristalino. A metodologia também vantajosamente emprega materiais de substrato (como, metais adequados, vidros, e materiais compostos e orgânicos) que não podem ser processados nas temperaturas elevadas necessárias para deposição CVD de diamante 10 policristalino.
Também é revelado na técnica anterior (por exemplo, Patente U.S. No. 6.165.616, que é incorporada aqui por referência) que camadas de interface de engenharia podem ser empregadas para aliviar a tensão termalmente induzida em uma camada de diamante policristalino. Estas tensões termalmente induzidas surgem durante o resfriamento do substrato após a deposição do revestimento em temperaturas relativamente elevadas, e são devido à diferença no coeficiente de expansão termal entre o substrato e o revestimento de diamante. Cálculos de engenharia bastante complicados são especificados no documento '616 para pré-determinar a composição e espessura desejada da camada de interface. A espessura da camada de interface1 revelada no documento '616 para minimizar a tensão termalmente induzida na camada de diamante são da ordem de 2 0 a 25 mícrons de acordo com as FIGURAS. 1 até 3. Tais camadas de interface espessas são caras de depositar, devido ao tempo necessário para depositá-las e o alto custo do equipamento requerido. A 3 0 presente invenção também vantajosamente inclui, sem limitações, minimizar o custo do revestimento, mas ainda conseguindo os resultados desejados ao empregar camadas de interface muito mais finas que aquelas ensinadas pela Patente '616, e para evitar criar as tensões termalmente 5 induzidas que necessitam de tais cálculos de engenharia complicados ao depositar uma camada de superfície dura em uma temperatura relativamente baixa se comparado com a técnica anterior, como a Patente '616.
É revelado adicionalmente na técnica anterior (por exemplo, Patente U.S. Nos. 4.935.313 e 4.966.789, que são incorporadas aqui por referência) que retícula de carbono cristalográfico cúbico (diamante policristalino) e outros materiais duros podem ser usados como revestimentos de superfície em discos de válvula, e que pares de discos de válvulas mutuamente deslizantes que diferem uns dos outros ou na sua composição de superfície ou acabamento de superfície e são preferíveis a aquelas que são o mesmo nestas características, com relação â minimização da fricção entre as placas. A presente invenção fornece superfícies de disco de válvula em contato tendo um coeficiente de fricção mais baixo que os materiais revelados em aplicações de superfícies molhadas por fluidos ou lubrificadas com água como válvulas de água, e para permitir processamento idêntico de ambas as superfícies de contato para evitar a necessidade de se comprar e operar diferentes tipos de equipamento de processamento. A presente invenção fornece adicionalmente, sem limitação, superfícies de disco de válvula em contato tendo um coeficiente de fricção mais baixo que os materiais revelados em aplicações de superfícies molhadas por fluidos ou lubrificadas com água como válvulas de água. Além do mais, ambas as superfícies deslizantes em contato dos discos podem ser duras e ter uma resistência à abrasão para fluxos de água contaminada e para permitir 5 processamento idêntico de ambas as superfícies de contato para evitar a necessidade de se comprar e operar diferentes tipos de equipamento de processamento.
SUMÁRIO
Uma modalidade exemplificativa se relaciona a um 10 componente de válvula para uma torneira que inclui um material de base, uma camada de fortalecimento fornecida sobre o material de base, e um material de diamante amorfo fornecido acima da camada de fortalecimento. 0 material de diamante amorfo tendo uma dureza que é de 15 pelo menos 2 0 GPa e menos que 4 5 GPa e um modulo que é de pelo menos 15 0 GPa e menos que 400 GPa.
Outra modalidade exemplificativa se relaciona a uma torneira que inclui uma válvula de controle de fluido compreendendo uma pluralidade de componentes de válvulas,
2 0 pelo menos um dos componentes de válvulas compreendendo um substrato, uma camada de fortalecimento fornecida sobre o substrato, e um material de diamante amorfo fornecido acima da camada de fortalecimento. O material de diamante amorfo tem um coeficiente de fricção que é menor que 25 aquele de carbono parecido com diamante, uma dureza que é de pelo menos 20 GPa e menos que 45 GPa, um módulo de pelo menos 150 GPa e menos que 400 GPa, e ligação sp3 de pelo menos cerca de 40%.
Outra modalidade exemplificativa se relaciona a uma torneira que inclui um primeiro componente de válvula e um segundo componente de válvula configurado para engajamento deslizante com o primeiro componente de válvula. Pelo menos um do primeiro componente de válvula e o segundo componente de válvula compreendem um substrato, uma camada de material compreendendo pelo menos um de tântalo e nióbio fornecidos acima do substrato, e uma camada de material de diamante amorfo fornecido acima da camada de fortalecimento. 0 material de diamante amorfo tem um coeficiente de fricção que é menor que aquele de carbono parecido com diamante e uma dureza que é maior que aquela de carbono parecido com diamante. 0 material de diamante amorfo tem uma dureza de pelo menos 2 0 GPa e menos que 4 5 GPa e um módulo de pelo menos 15 0 GPa e menos que 4 00 GPa.
BREVE DESCRIÇÃO DAS FIGURAS
A FIGURA 1 é uma forma de válvula incorporando uma estrutura de múltiplas camadas com uma camada de diamante amorfa sobrejacente ao substrato;
A FIGURA 2 é um detalhe de uma forma de estrutura de múltiplas camadas da invenção;
A FIGURA 3 ilustra ainda outra estrutura de múltiplas camadas com uma camada promotora de adesão adicional adicionada;
A FIGURA 4 é uma outra forma da estrutura de múltiplas camadas da FIGURA 2 em que a camada de fortalecimento inclui duas camadas de diferentes materiais; e
A FIGURA 5 é uma microfotografia da aparência superficial de uma camada exterior de diamante amorfa sobre um substrato ou camada subjacente. DESCRIÇÃO DETALHADA
Modalidades da invenção são ilustradas de forma geral nas figuras, onde a FIGURA 1 mostra uma forma da válvula 10 com uma alça 12 incorporando a invenção. Em particular, as FIGURAS. 2-4 ilustram uma porção da válvula 10 tendo um substrato 18 para um componente deslizante 20 e/ou um componente fixo 22 da válvula 10 que pode compreender um material de base em que o material de base pode ser o mesmo ou diferente no componente deslizante 20 e o componente fixo 22. Em outras modalidades, um dos componentes 20, 22 pode ser fixo. De preferência o material de base é uma cerâmica sinterizada ou um metal. Materiais de base podem também compreender vidros ou materiais vítreos, cermets, materiais poliméricos, materiais compostos, compostos intermetálicos como aluminida de ferro, e outros materiais mecanicamente adequados para a aplicação. Os metais podem incluir, por exemplo, qualquer metal convencional, incluindo, sem limitação, aço inoxidável, latão, zircônio, titânio, alumínio, e ligas dos últimos três materiais. Aço inoxidável, titânio, e zircônio, e alumínio são os metais mais preferidos, com o termo aço inoxidável referindo-se a qualquer tipo como 304, 316, etc., e variações customizadas do mesmo com os termos titânio, zircônio, e alumínio entendidos como incluindo ligas compreendidas ma sua maioria por estes metais. Aço inoxidável sinterizado (em pó) é um substrato material preferido porque ele pode ser moldado economicamente em formas complexas adequadas para discos e pode ser moídos e polidos economicamente para conseguir uma superfície vedatória lisa em contato. No caso de aço inoxidável sinterizado, substratos "totalmente densos" e substratos moldados por injeção metálica são preferidos. Titânio e zircônio são metais de base preferidos porque eles podem 5 ser facilmente oxidados ou anodizados para formar uma camada de superfície dura. Cerâmicas podem ser qualquer material cerâmico convencional, incluindo, sem limitação, por exemplo, alumina sinterizada (óxido de alumínio) e carboneto de silício, com alumina sendo um material 10 preferido. Materiais compostos podem incluir, por exemplo, quaisquer cermets convencionais, poliamidas e epóxis reforçados com fibras, e compostos carbono- carbono. Vidro e materiais vítreos podem incluir, por exemplo, vidro borossilicato como Pyrex™, e materiais 15 como vidro laminado reforçado e cerâmicas de vidro. Vidro, materiais vítreos e cermets são substratos preferidos porque eles podem ser moldados economicamente em formas complexas adequadas para discos e podem ser moídos e polidos economicamente em uma superfície chata e
2 0 lisa. Aluminida de ferro é entendido como sendo um
material consistindo principalmente daquele ferro e alumínio, mas também pode conter pequenas quantidades de tais outros elementos como molibdênio, zircônio, e boro.
Como mostrado na FIGURA 2, a camada de 25 fortalecimento 23 pode também ser colocada na superfície do substrato 18. Esta camada 23 pode compreender um material tendo maior dureza que o substrato 18 (apesar de dever ser entendido que de acordo com outras modalidades exemplificativas, a camada de fortalecimento pode não ter
3 0 uma dureza que seja maior que o substrato) . Materiais adequados para a camada de fortalecimento 23 podem incluir compostos de Cr, Ti, W, Zr, Ta, Nb, e quaisquer outros materiais conhecidos convencionalmente para uso em revestimentos duros. Os compostos incluem, sem limitação, 5 nitretos, carbonetos, óxidos, carbonoitretos, e outros materiais de fase misturada incorporando nitrogênio, oxigênio, e carbono. Um material altamente preferido para a camada de fortalecimento 23 é nitreto de cromo. Nitreto de cromo no presente pedido mais preferencialmente 10 refere-se a um composto de fase única ou misturada de cromo e nitrogênio tendo um conteúdo de nitrogênio na faixa de cerca de 10 a cerca de 50 por cento atômico. 0 termo nitreto de cromo também refere-se a material contendo tais elementos de dopagem ou formadores de ligas 15 como ítrio, escândio, e lantânio além de cromo e nitrogênio.
Outro material adequado para a camada de fortalecimento 23 é DLC (Carbono parecido com diamante) convencional, que é uma forma de carbono não cristalino bem conhecido na técnica e distinto de diamante amorfo. Revestimentos de DLC são descritas, por exemplo, na Patente U.S. No. 6.165.616 (na qual são chamadas de revestimentos (a-C) ) . DLC pode ser depositado por pulverização catódica ou por CVD convencional. DLC é um material de carbono amorfo com um conteúdo significativo de hidrogênio originando de gases precursores usados para a produção de DLC, e difere do diamante amorfo que pode ser produzido sem conteúdo de hidrogênio para obter uma dureza superior. A dureza de DLC é substancialmente mais 3 0 baixa que aquela de diamante amorfo e é mais semelhante à dureza de materiais de revestimento duros como nitreto de titânio e nitreto de cromo. As tensões internas em revestimentos de DLC também são mais baixos que aqueles em revestimentos de diamante amorfo, permitindo que o DLC 5 seja depositado em camadas mais espessas que o diamante amorfo sem perda de adesão. 0 termo DLC como usado aqui inclui formas hidrogenadas do material.
De acordo com outra modalidade exemplificativa, a camada de fortalecimento compreende um material contendo 10 tântalo como carboneto de tântalo, nitreto de tântalo, ou um carbo-nitreto de tântalo. Uma característica vantajosa de se usar tântalo ou um composto de tântalo para a camada de fortalecimento é que tântalo exibe excelente resistência ã corrosão e é relativamente dúctil quando 15 usado como um metal. Adicionalmente, tântalo prontamente forma carbonetos tendo valores de dureza relativamente altos (valores de dureza de Mohs de 9 + ) que são desejáveis para a camada de fortalecimento para fornecer resistência à abrasão e arranhões para o substrato.
De acordo com outra modalidade exemplificativa, a
camada de fortalecimento compreende um material contendo nióbio como carboneto de nióbio, nitreto de nióbio, ou um carbo-nitreto de nióbio.
A camada de fortalecimento 23 funciona 25 primariamente para melhorar a resistência à abrasão e arranhões do revestimento de múltiplas camadas. A dureza da camada de fortalecimento 23 deverá ser pelo menos maior que aquela do substrato 18 para executar sua função pretendida de melhorar a resistência a arranhões do disco 30 revestido. A espessura da camada de fortalecimento 23 é de pelo menos uma espessura suficiente para melhorar a resistência a arranhões do substrato 18. Para materiais tipicamente usados como revestimentos duros, como aqueles revelados acima, esta espessura é geralmente de cerca de 5 500 nm a cerca de 10 mícrons, e preferencialmente de cerca de 2000 nm a cerca de 5000 nm. Nos testes de válvulas de água de torneiras tem sido constatado que uma camada de fortalecimento de nitreto de cromo tendo uma espessura de cerca de 5 mícrons fornece resistência a 10 abrasão e arranhões adequada (em conjunto com uma fina camada de topo de diamante amorfo) para tipos e tamanhos de contaminantes considerados típicos em fontes de água municipais e de poços.
Em algumas modalidades da presente invenção como mostrado na FIGURA 3 e para o componente 22 da FIGURA 4, uma camada fina promotora de adesão 21 pode ser depositada no substrato 18 e então a camada de fortalecimento 23 na camada 21. Esta camada 21 funciona para melhorar a adesão da camada de fortalecimento 23 sobrejacente ao substrato 18. Materiais adequados para a camada promotora de adesão 21 incluem materiais compreendendo cromo, titânio, tungstênio, tântalo, nióbio, outros materiais refratários, silício, e outros materiais conhecidos na técnica como sendo adequados como camadas promotoras de adesão. A camada 21 pode ser feita convenientemente do mesmo material elemental escolhido para a camada de fortalecimento 23. A camada 21 tem uma espessura que é pelo menos adequada para promover ou melhorar a adesão da camada 23 ao substrato 18. Esta espessura é geralmente de cerca de 5 nm a cerca de 200 nm, e mais preferencialmente de cerca de 3 0 nm a cerca de 60 nm. A camada promotora de adesão 21 pode ser depositada por técnicas convencionais de deposição a vapor, incluindo de preferência deposição a vapor física (PVD) e 5 também pode ser feita por deposição química em fase vapor (CVD).
Processos PVD são bem conhecidos e convencionais e incluem evaporação mediante arco catódico (CAE), pulverização catódica, e outros processos de deposição 10 convencionais. Processos CVD podem incluir deposição química em fase vapor de baixa pressão (LPCVD), deposição química em fase vapor aprimorada por plasma (PECVD), e métodos de decomposição térmica. Técnicas e equipamentos PVD e CVD são revelados, inter alia, em J. Vossen e W. 15 Kern "Thin Film Processes II", Academic Press, 1991; R. Boxman et al, "Handbook of Vacuum Arc Science and Technology", Noyes, 1995; e Patentes U.S. Nos. 4.162.954 e
4.5 91.418, com as patentes incorporadas aqui por referência.
No caso de materiais de cerâmica sinterizada,
apesar dos grânulos individuais formando o material sinterizado poderem ter alta dureza, a resistência a arranhões da estrutura sinterizada como um todo como medido por teste de arranhões é muito mais baixa que 25 aquele do material formando os grânulos (por exemplo, alumina) . Isto é devido ao fato que os materiais tipicamente usados para sinterizar ou aglutinar os grânulos de alumina juntos, tipicamente silicatos, não são tão duros quanto os grânulos em si. A dureza da camada de 30 fortalecimento 23 pode ser similar a ou mesmo menor que a dureza dos grânulos individuais compreendendo o disco de cerâmica, e ainda sendo mais duros que a estrutura de cerâmica sinterizada como um todo. Foi constatado mediante ensaios, por exemplo, que a profundidade do arranhão 5 causado por um estilete (raio = 100 mícrons) deslizando sob uma carga de 3 0 Newtons é de aproximadamente 4-6 mícrons em um substrato de alumina não-revestido, enquanto a profundidade do arranhão em um substrato idêntico revestido com uma camada de fortalecimento de 10 nitreto de cromo de uma espessura de 3 mícrons é de apenas 2-3 mícrons.
A camada de fortalecimento 23 pode ser formada por técnicas convencionais de deposição a vapor incluindo, mas não limitado a pulverização catódica, evaporação 15 mediante arco catódico (CAE) , e CVD. Os métodos mais preferidos são pulverização catódica, CAE, ou outros meios que podem ser executados em uma temperatura relativamente baixa, assim minimizando tensões termalmente induzidas na pilha de revestimento mediante 20 resfriamento. Se a camada de fortalecimento 23 é depositada por CAE, também é desejável que se use filtragem de micropartículas para controlar e preservar a lisura da superfície do substrato 18. A camada de fortalecimento 23 pode também ser formada por outros 25 métodos bem conhecidos para formar revestimentos duros como pirólise de aspersão, técnicas sol-gel, imersão em líquido com subseqüente tratamento térmico, métodos de nano-fabricação, métodos de deposição de camada atômicas, e métodos de deposição de camadas moleculares.
3 0 A camada de fortalecimento 23 pode ser formada alternativamente por um processo que produz uma camada de superfície endurecida no substrato material de base. Tais processos incluem, por exemplo, oxidação térmica, nitretação por plasma, implantação de íons, tratamentos de superfície químicos e eletroquímicos como revestimentos de conversão química, anodização incluindo anozidação dura e pós-tratamentos convencionais, oxidação por micro-arco e cementação. A camada de fortalecimento 23 pode também incluir múltiplas camadas 24 e 25 como mostrado na Figura 4, nas qual as camadas 24 e 25 juntas formam a camada de fortalecimento 23. Por exemplo, a camada 24 pode ser um óxido cultivado termicamente no material de base do substrato enquanto a camada 25 é um material depositado como CrN. A camada de fortalecimento 23 pode também incluir mais de duas camadas, e pode de preferência compreender por exemplo um revestimento de tipo super-retícuia com um grande número de camadas alternantes muito finas. Tais formas multicamada ou super-retícula da camada de fortalecimento 23 podem também incluir uma ou múltiplas camadas de diamante amorfo.
Na estrutura de múltiplas camadas das FIGURAS 1-4 a camada de diamante amorfa 3 0 é depositada sobre a camada de fortalecimento 23 para formar uma camada de superfície exterior. 0 propósito da camada de diamante amorfa 3 0 é 25 de fornecer uma camada de topo muito dura, resistente a desgaste e abrasão e lúbrica nos componentes deslizantes. Diamante amorfo é uma forma de carbono não-cristalino que é bem conhecido na técnica, e também é às vezes chamado de carbono amorfo ligado tetraedicamente (taC). Pode ser 30 caracterizado como tendo entre aproximadamente 25 e 85 por cento de ligação de carbono sp3 (e pelo menos 4 0 por cento ligação de carbono sp3 de acordo com uma modalidade exemplificativa), uma dureza de entre aproximadamente 2 0 e 85 gigaPascais (e pelo menos 30 gigaPascais de acordo 5 com uma modalidade exemplificativa), e um módulo elástico de entre aproximadamente 150 e 900 gigaPascais (e pelo menos 250 gigaPascais de acordo com uma modalidade exemplificativa). Materiais de diamante amorfo são descritos, por exemplo, nas Patentes U.S. Nos. 5.799.549 10 e 5.992.268, ambas das quais são incorporadas aqui por referência.
A camada de material de diamante amorfo 3 0 pode ser aplicada a processos incluindo, por exemplo, evaporação filtrada convencional mediante arco catódico e ablação a 15 laser. O termo diamante amorfo como usado aqui inclui todas as formas de carbono de tipo taC e pode também conter elementos de dopagem ou de formação de ligas como nitrogênio e metais, e também inclui materiais nano- estruturais contendo diamante amorfo. Materiais nano- 20 estruturais quer dizer aqui materiais tendo características estruturais na escala de nanômetros ou dez nanômetros, incluindo, mas não limitado a, super- retículas.
A espessura da camada de diamante amorfa 3 0 é de 25 pelo menos um valor que seja efetivo para fornecer uma resistência a desgaste e abrasão melhorada do componente deslizante. Esta espessura é geralmente pelo menos cerca de 100 nm, de preferência pelo menos cerca de 200 nm e mais preferencialmente pelo menos cerca de 300 nm. A 3 0 faixa de espessura superior da camada 3 0 é determinada por características do material, considerações econômicas e a necessidade de se minimizar tensões intrínsecas dependentes da espessura na camada 3 0 como discutido abaixo. Também a camada de diamante amorfa 3 0 vantajosamente exibe uma topologia de superfície extremamente lisa como pode ser visto com referência à foto da FIGURA 5, principalmente porque não há grão de diamante individuais no revestimento amorfo. Além disso, a topografia da superfície da camada de diamante amorfa 30 fina essencialmente repete aquela da subsuperfície na qual foi depositada, e, portanto, a camada de diamante amorfa 30 tem substancialmente a mesma aspereza média de superfície que aquela da subsuperfície. Inclusões grafíticas, visíveis como pontos claros na FIGURA 5, não contribuem para a aspereza de superfície, como o termo é usado aqui, porque são muito macios e são reduzidos a um pó lubrificativo quando as superfícies deslizantes são postas em contato. Diamante amorfo tem a vantagem adicional que pode ser depositado em temperaturas bem mais baixas (geralmente abaixo de aproximadamente 250°C) que diamante policristalino, assim eliminando a necessidade de algumas das camadas de interface espessas de engenharia reveladas na técnica anterior (veja, por exemplo, a Patente U.S. No. 6.16 5.616) para aliviar a tensão termalmente induzida na camada de diamante. Estes tensões termalmente induzidas emerge durante o resfriamento após a deposição nas altas temperaturas que são características de CVD, e são devidas à diferença no coeficiente de expansão térmica entre o substrato e o revestimento de diamante. Tem sido constatado que o tipo de cálculos revelados na Patente '616 para determinar a espessura da sua camada de interface aliviadora da tensão termalmente induzida não são necessárias para películas de diamante amorfo devido à baixa temperatura de deposição.
Um característica de diamante amorfo é que ele desenvolve tensões internas intrínsecas altas (não induzidas termalmente), que aumentam conforme a espessura de revestimento aumenta e que são predominantemente relacionados a distorções na ligação atômica e não expansão/contração térmica. Enquanto acredita-se que esta tensão intrínseca contribua para a alta dureza do material, ele também limita a espessura do revestimento já que forças induzidas por tensão tende a causar a de- laminação do revestimento do substrato 18 (ou a camada de fortalecimento 23) acima de uma certa espessura. Apesar de diamante amorfo poder ser depositado diretamente em um metal, vidro ou aluminida de ferro disco (opcionalmente com uma camada de adesão), é difícil de depositar uma camada espessa o suficiente para fornecer resistência a arranhões adequada para aplicações de válvulas de água. A resistência a arranhões é importante porque suprimentos de água às vezes contém contaminantes abrasivos devido a rompimentos das linhas d'água, construções, etc. A camada de fortalecimento 23 adicional da presente invenção fornece melhor suporte à camada de diamante amorfa 3 0 que o material de substrato mais macio, permitindo vantajosamente que uma camada de diamante amorfo mais fina seja usada, enquanto ainda obtendo uma melhor resistência a abrasão e arranhões. A camada de fortalecimento 23 pode também ser escolhida para ser uma material que tem uma maior razão de deposição e/ou é menos cara de se depositar que a camada de diamante amorfa 30, para minimizar o custo total do revestimento 5 enquanto mantendo o desempenho. Na modalidade mais preferida, um limite superior de espessura para a camada de diamante amorfa 3 0 de cerca de 1-2 mícrons pode ser usada para evitar de-laminações induzidas por tensão, enquanto uma espessura superior de cerca de 800 nm, e 10 mais preferencialmente cerca de 300-500 nm, pode ser desejável por razões econômicas enquanto ainda conseguindo as características desejadas de desempenho.
Diamante amorfo é bem indicado para aplicações deslizantes molhadas em aplicações de válvulas de água. Em particular tem sido demonstrado que tem um coeficiente de fricção muito baixo e também desgaste de abrasão extremamente baixo em testes de deslizamento com lubrificação a água nos quais ambas as superfícies deslizantes são recobertas com diamante amorfo. Em contraste, revestimentos de DLC são conhecidos por ter coeficientes de fricção maiores e maiores razões de desgaste, e que deterioram no seu desempenho friccional com o aumento da umidade. Uma vantagem adicional do diamante amorfo é que a temperatura de deposição relativamente baixa permite uma escolha mais ampla de materiais de substrato e minimiza ou elimina distorção permanente do substrato induzida termicamente.
Com relação ao baixo coeficiente de fricção relatado para revestimentos de diamante amorfo em testes de deslizamento lubrificados por água, é pensado que isto deve ser devido pelo menos em parte a inclusões grafíticas (geralmente chamadas de macropartículas) que são incorporadas em revestimentos de diamante amorfo feitos por alguns métodos. Tais inclusões grafíticas 5 podem ser numerosas em revestimentos de carbono depositadas por evaporação mediante arco catódico, dependendo da escolha de materiais alvo e o uso de meios de filtragem de macropartículas como discutido abaixo. Estas inclusões grafíticas não degradam o desempenho do 10 revestimento de diamante amorfo devido a sua maciez e a pequena fração do da área de superfície total que elas ocupam. Ademais, é pensado que elas podem melhorar o desempenho ao aumentar a retenção de lubrificante entre as placas deslizantes.
É revelado na Patente U.S. No. 5.401.543
(incorporada aqui por referência) que revestimentos de diamante amorfo que são essencialmente livres de macropartículas podem ser depositadas por evaporação mediante arco catódico de um carbono vítreo ou cátodo de grafite pirolítico. A densidade máxima de macropartículas (inclusões grafíticas) em tais revestimentos, como calculado das dimensões de área das figuras fotográficas e as contagens de macropartículas reveladas, é de cerca de 2 00 macropartículas por milímetro quadrado. Tais revestimentos de diamante amorfo livres de macropartículas podem ser usados como a camada 3 0 na presente invenção, mas são menos preferidas que aquelas depositadas de um cátodo de grafite comum e contendo números substanciais de inclusões grafíticas, como, por exemplo, pelo menos cerca de 500 por milímetro quadrado. Também são menos preferidas porque o carbono vítreo ou cátodos de grafite pirolítico requeridos são bastantes caros comparados à grafite comum.
0 número de inclusões grafíticas 4 0 incorporadas nos revestimentos (veja FIGURA 4 que as mostra esquematicamente) depositadas por evaporação filtrada por arco de um cátodo de grafite comum pode ser controlada de acordo com a presente invenção ao escolher o projeto do filtro e parâmetros de operação para permitir que o número desejado de macropartículas seja transmitido através da fonte. Os fatores influenciando a transmissão de macropartículas através de um filtro são discutidas, por exemplo, na Patente U.S. No. 5.84 0.163, incorporada aqui por referência. Projetos de filtros e parâmetros de operação são convencionalmente escolhidos para minimizar o número de macropartículas transmitidas através da fonte, porém esta escolha também geralmente reduz a saída (desejada) de íons de carbono e, portanto reduz a razão de deposição. Ao contrário desta prática usual, foi constatado que é preferível para os propósitos de minimizar o custo dos revestimentos escolher o projeto e parâmetros de operação de filtro que maximizem a saída de íons de carbono da fonte (ou seja, a razão de deposição) sem exceder o número máximo tolerável de inclusões grafíticas incorporadas no revestimento. O número máximo tolerável de inclusões é aquele número acima do qual o desempenho das partes revestidas deteriora
inaceitavelmente devido à fração cada vez maior da área de superfície ocupada pelas inclusões. Fatores de 3 0 desempenho críticos podem incluir não vazamento do fluido de trabalho, coeficiente de fricção deslizante, resistência a abrasão e arranhões, e vida útil de desgaste. Foi constatado que densidades de superfície de inclusões grafíticas substancialmente maiores que 500/mm2 5 são toleráveis, e podem ser benéficas como descrito acima.
O conteúdo de sp3 e o módulo de dureza e propriedades de tensão de diamante amorfo podem ser sistematicamente alteradas por ajuste da temperatura e tensão de polarização durante a deposição da camada de diamante amorfa. Desta forma, faixas de conteúdo de sp3 entre 25% e 85%, dureza entre aproximadamente 2 0 e 8 5 gigaPascais, módulo entre aproximadamente 150 e 900 gigaPascais, e tensão por compressão entre aproximadamente 1 e 12 gigaPascais tem sido produzida por ajuste da temperatura de deposição entre 20°C e 300°C e tensão de polarização entre OV e -600V. Revestimentos de alto sp3 de diamante amorfo tendem a estar na extremidade dura, quebradiça e tensa das faixas acima, enquanto revestimentos de baixo sp3 de diamante amorfo tendem a estar na extremidade moderadamente dura, dúctil e livre de tensão das faixas acima. Foi constatado que revestimentos de diamante amorfo com pelo menos cerca de 40% de conteúdo de sp3 espessuras acima de aproximadamente 0.2 micrômetros tem propriedades de desgaste que as fazem bem indicadas para aplicações de válvulas. Tipicamente, tais revestimentos tem durezas de acima de aproximadamente 3 0 gigaPascais, módulos de acima de aproximadamente 250 gigaPascais, e tensão por compressão de acima de aproximadamente 2 gigaPascais. Dependendo da situação de carga atual dentro da válvula, ura revestimento espesso de 40% sp3 pode ser uma melhor escolha para uma aplicação de alta carga já que tal revestimento é menos propenso a falha por estar 5 quebradiço, enquanto um revestimento fino de alto sp3 pode ser uma melhor escolha para válvulas de baixa carga.
De acordo com outra modalidade exemplificativa, uma camada de diamante amorfa tem uma dureza de pelo menos aproximadamente 20 gigaPascais e menos que 45 gigaPascais (por 10 exemplo, menos que 4 0 gigaPascais ou menos que 3 5 gigaPascais de acordo com várias modalidades exemplificativas) e um módulo de pelo menos 150 gigaPascais e menos que 4 00 gigaPascais (por exemplo, menos que aproximadamente 350 gigaPascais ou menos que 15 300 gigaPascais de acordo com diversas modalidades exemplificativas). De acordo com uma modalidade exemplif icativa, a dureza de tal camada é de pelo menos 3 0 gigaPascais e o módulo é de pelo menos 250 gigaPascais. O conteúdo de sp3 da camada de diamante
amorfa pode ser entre 25 e 85 por cento, e, de acordo com uma modalidade exemplificativa, pelo menos 40 por cento. A espessura da camada pode ser de pelo menos aproximadamente 10 0 nm, e, de acordo com uma modalidade exemplificativa, pelo menos aproximadamente 200 nm. De 25 acordo com uma modalidade exemplificativa, a tensão por compressão da camada é entre aproximadamente 1 e 12 gigaPascais, e, de acordo com uma modalidade exemplificativa, pelo menos aproximadamente 2 gigaPascais.
3 0 A adesão da camada de diamante amorfa 3 0 a uma forma de nitreto da camada de fortalecimento 2 3 pode, em alguns casos, ser melhorada pela introdução de um gás contendo carbono, como metano, durante um curto período no final da deposição da camada de fortalecimento 23.
Isto resulta em uma zona de transição fina de carbo- nitreto e/ou material de carboneto entre a camada de fortalecimento 23 e a camada de diamante amorfa 30. Em outros casos a adesão pode ser melhorada ao desligar todos os gases de reação durante um curto período no 10 final da deposição da camada de fortalecimento 23. Isto resulta em uma camada fina metálica entre a camada de fortalecimento 23 e a camada de diamante amorfa 30. Também foi constatado que a introdução de metano durante a deposição por arco filtrado da camada de diamante amorfa 15 30 aumenta a razão de deposição do revestimento, e pode melhorar a dureza e resistência a arranhões do revestimento. Em ainda outros casos, por exemplo, no caso em que a camada de diamante amorfa 3 0 deverá ser depositada em uma superfície de metal oxidada termalmente,
2 0 pode ser desejável depositar a camada promotora de adesão
21 separada entre a camada de fortalecimento 23 e a camada de diamante amorfa 30. Materiais adequados para a camada de adesão 21 podem incluir, por exemplo, materiais formadores de carboneto refratário, como, Ti e W, e 25 diversos metais de transição como Cr, e podem também incluir carbonetos destes metais.
De acordo com uma modalidade exemplificativa, a camada de diamante amorfa fornece uma resistência física vantajosa a desgaste deslizante e ação abrasiva de particulados em água. Além disso, o material de diamante amorfo em si é quimicamente inerte com relação a constituintes comuns do suprimento de água (por exemplo, íons com cloreto e fluoreto, oxidantes como hipoclorito, etc.) em concentrações que podem estar presente em suprimentos municipais de água.
0 substrato pode também ser formado de um material que resiste a corrosão destes constituintes do suprimento de água. De acordo com uma modalidade exemplificativa, materiais como cerâmicas (por exemplo, alumina), metais 10 (por exemplo, Zr e Ti) e ligas (por exemplo, aço inoxidável) podem ser usados como substrato. De acordo com uma modalidade exemplificativa em particular, o substrato pode ser formado de um material de cerâmica baseado em alumina com diversas quantidades de zircônio e 15 sílica para fornecer uma sensitividade a fluoreto reduzida para o substrato.
Para resistir ainda mais ã corrosão de constituintes comuns do suprimento de água, a camada de fortalecimento pode ser formada de um material que forma materiais de carbono duros (por exemplo, material de carboneto). Por exemplo, a camada de fortalecimento pode ser carbono ou um carboneto de qualquer dos seguintes materiais de acordo com diversas modalidades exemplif icativas: Cr, Hf, La, Mn, Mo, Nb, Ti, Sc, Si, Ta, W, Zr. Por exemplo, carbono ou carbonetos de Hf, La, Nb, Ti, Sc, Si, Ta, W, e Zr podem fornecer uma resistência melhorada à corrosão em relação a agentes oxidantes como hipoclorito. Carbono ou carbonetos de Cr, Mn, Mo, Nb, Ta, e W podem fornecer resistência a corrosão melhorada em relação a fluoretos. Carbono ou carbonetos de Nb, Ta, e W podem fornecer resistência a corrosão geral em relação a agentes oxidantes como hipoclorito e agentes corrosivos gerais como cloreto e fluoreto. De acordo com modalidades exemplificativas em particular, a camada de 5 fortalecimento pode utilizar carbono e/ou um carboneto de Nb.
Para que a invenção possa ser entendida mais prontamente os seguintes exemplos são fornecidos. Os seguintes exemplos são ilustrativos e não limitam a invenção às características em particular descritas.
EXEMPLO 1
Discos de válvula de aço inoxidável limpos são colocados em uma câmara de deposição a vácuo incorporando um cátodo de evaporação a arco e um cátodo de 15 pulverização catódica. A fonte de arco é equipada com meios de filtragem para reduzir a incorporação de macropartículas no revestimento, como descrito, por exemplo, nas Patentes U.S. Nos. 5.480.527 e 5.840.163, incorporadas aqui por referência. Fontes de argônio e
2 0 nitrogênio são ligadas à câmara através de um coletor com válvulas ajustáveis para controlar a razão de fluxo de cada gás para dentro da câmara. O cátodo de pulverização catódica é ligado à saída negativa de uma fonte de energia CC. O lado positivo do suprimento de energia é 25 ligado à parede da câmara. O material do cátodo é cromo. Os discos de válvula são dispostos em frente ao cátodo, e podem ser girados ou de outra forma movidos durante a deposição para assegurar uma espessura de revestimento uniforme. Os discos são isolados eletricamente da câmara 30 e são ligados através da sua prateleira de suporte à saída negativa de um suprimento de energia para que uma tensão de polarização possa ser aplicada aos substratos durante o revestimento.
Antes da deposição, a câmara a vácuo é evacuada para 5 uma pressão de 2,6 x 10e-9 MPa (2 x 10e-5 Torr) ou menos. Gás argônio é então introduzido a uma razão suficiente para manter a pressão de cerca de 3,3 x 10e-6 MPa (25 milliTorr). Os discos de válvula são então sujeitados a uma limpeza por plasma de descarga luminescente na qual 10 uma tensão de polarização negativa de cerca de 500 volts é aplicada à prateleira e discos de válvula. A duração da limpeza é de aproximadamente 5 minutos.
Uma camada de cromo tendo uma espessura de cerca de 20 nm é então depositada nos discos de válvula por 15 pulverização catódica. Após a deposição da camada de adesão de cromo, a camada de fortalecimento de nitreto de cromo tendo uma espessura de cerca de 3 mícrons é depositada por pulverização catódica reativa.
Após a camada de nitreto de cromo ser depositada, os discos de válvula são dispostos voltados para a fonte de arco, e uma camada de diamante amorfa de topo tendo uma espessura de cerca de 300 nm é depositada ao provocar um arco no eletrodo de carbono e expondo os substratos ao plasma de carbono saindo da saída de fonte. Uma polarização CC negativa de cerca de 500 volts é aplicada inicialmente aos substratos para fornecer um bombardeamento de íons de alta energia para a limpeza da superfície e melhoria da ligação. Após cerca de 5 minutos em alta tensão de polarização, a tensão de polarização é reduzida para cerca de 50 volts pelo remanescente do processo de deposição. Uma pressão de argônio de cerca de
6,6 x 10e-8 MPa (0.5 milliTorr) é mantida na câmara durante a deposição. Tensões de polarização pulsadas ou CC podem ser empregadas alternativamente, e um argônio 5 mais alto ou mais baixo pode também ser mantido para estabilizar a operação da fonte de operação de arco e aperfeiçoar as propriedades de revestimento.
Tem sido constatado por ensaios que discos de válvula feitos de aço inoxidável e revestidos de acordo 10 com o exemplo acima foram capazes de agüentar mais de 15,000 ciclos de testes em água circulante carregando areia de sílica de 2 0 mícrons, enquanto discos de válvula de alumina não recobertos padrão falharam sob as mesmas condições em menos que 2500 ciclos. Foi ainda determinado 15 que a camada de diamante amorfa tinha um conteúdo de sp3 de 65%, uma dureza de aproximadamente 50 GPa, e um módulo de aproximadamente 5 00 GPa.
EXEMPLO 2
Discos de válvula de zircônio limpos são colocados
2 0 em um forno a ar, aquecidos a uma temperatura de 5600C, mantidos nesta temperatura por aproximadamente 6 horas, e resfriados. A camada de fortalecimento de óxido de zircônio é, portanto formada na superfície do substrato, tendo uma espessura de 5-10 mícrons. Os discos são então 25 colocados na câmara de deposição a vácuo incorporando um cátodo de evaporação a arco filtrado e um cátodo de pulverização catódica. Uma camada de adesão de cromo tendo uma espessura de cerca de 2 0 nm é depositada nos discos de válvula por pulverização catódica como descrito 30 no Exemplo 1. Após a deposição da camada de adesão de cromo, uma camada de diamante amorfa é depositada como descrito no Exemplo 1.
Discos de válvula feitos de zircônio e tratados como descrito para formar uma estrutura multicamada nas suas superfícies foram testados por resistência a arranhões, usando um testador de arranhão com carga variável. A profundidade dos arranhões gerados nos discos tratados de Zr por uma ponta de estilete tendo um raio de 0 mícrons sob uma carga de 3 Newtons tiveram uma profundidade de cerca de 4.7 mícrons, enquanto aqueles em discos de Zr não tratados foram de cerca de 9.5 mícrons ou mais que o dobro de profundidade. 0 desempenho nos testes de arranhões é considerado como sendo uma fonte relevante para a previsão da resistência a abrasão e arranhões em aplicações de campo.
EXEMPLO 3
Discos de válvula de vidro moldado limpos são colocados em uma câmara de deposição a vácuo incorporando uma fonte de ablação a laser, uma fonte PECVD, e um 20 cátodo de pulverização catódica. Os discos de válvula são sujeitados a uma RF (radio-frequência) limpeza por descarga de plasma por métodos conhecidos. Uma camada de adesão de titânio tendo uma espessura de cerca de 20 nm é então depositada nos discos de válvula por pulverização 25 catódica. A camada de fortalecimento de DLC tendo uma espessura de cerca de 3 mícrons é então depositada em cima da camada de adesão por PECVD usando parâmetros de deposição conhecidos. Uma camada de diamante amorfa tendo uma espessura de cerca de 300 nm é então depositada em
3 0 cima da camada DLC por ablação a laser usando parâmetros de deposição típicos.
EXEMPLO 4
Discos de válvula de aço inoxidável limpos são colocados em uma câmara a vácuo contendo uma fonte de 5 evaporação filtrada por arco e um cátodo de pulverização catódica. A câmara é evacuada, gás de nitrogênio é introduzido, uma descarga de plasma é estabelecida entre os discos e as paredes da câmara, e a superfície do disco é nitretada por plasma de acordo com parâmetros 10 conhecidos. Nitrogênio difunde-se nos substratos inoxidáveis para formar uma camada de superfície mais dura que a massa do substrato, e o processo é continuado por um período de tempo suficiente para que a profundidade da camada chegue a cerca de 2 mícrons. Um super-retícula 15 consistindo de múltiplas camadas alternantes de nitreto de carbono e nitreto de zircônio é então depositado na superfície de aço inoxidável nitretado por evaporação filtrada por arco e pulverização catódica, respectivamente. As camadas individuais alternantes tem 20 uma espessura de cerca de 10 nm, e cerca de 100 camadas de cada material é depositado para uma espessura total do super-retícula de carga de 2 mícrons. A razão de nitrogênio para carbono nas camadas de nitreto de carbono é de preferência cerca de 1.3, já que nitreto de carbono 25 + nitreto de zircônio super-retículas tendo esta razão de N:C tem ido demonstradas como tendo primariamente carbono ligado sp3 e dureza na faixa de 50 gigaPascais. Nitreto de carbono como usado aqui refere-se a um material tendo uma razão de N:C entre cerca de 0.1 e 1.5.
3 0 O grande número de camadas finas pode convenientemente ser depositado ao montar o substrato em um cilindro giratório de tal forma que os substratos passem primeiro em frente de uma fonte de deposição e então a outra, tal que um par de camadas é depositada 5 durante cada revolução do cilindro. A espessura total da camada de fortalecimento espessura é de cerca de 4 mícrons incluindo a camada de aço inoxidável nitretado por plasma. Uma camada de diamante amorfa tendo uma espessura de cerca de 200 nm é então depositada em cima da 10 camada de super-retícula por evaporação filtrada por arco como descrito no Exemplo 1.
EXEMPLO 5
Discos de válvula de cerâmica de alumina limpos são colocados em uma câmara de deposição a vácuo incorporando um cátodo de evaporação a arco e um cátodo de pulverização catódica. A fonte de arco é equipada com meios de filtragem para reduzir a incorporação de macropartículas no revestimento, como descrito, por exemplo, nas Patentes U.S. Nos. 5.480.527 e 5.840.163, incorporadas aqui por referência. Fontes de argônio e nitrogênio são ligadas à câmara através de um coletor com válvulas ajustáveis para controlar a razão de fluxo de cada gás para dentro da câmara. 0 cátodo de pulverização catódica é conectado na saída negativa de um suprimento de energia CC. 0 lado positivo do suprimento de energia é ligado à parede da câmara. O material do cátodo é tântalo. Os discos de válvula são dispostos em frente ao cátodo, e podem ser girados ou de outra forma movidos durante a deposição para assegurar uma espessura de revestimento uniforme. Os discos são eletricamente isolados da câmara e são conectados através da sua prateleira de suporte à saída negativa de um suprimento de energia para que a tensão de polarização possa ser aplicada aos substratos durante o revestimento.
Antes da deposição, a câmara a vácuo é evacuada
para uma pressão de 2,6 x 10e-9 MPa (2xl0e-5 Torr) ou menos. Gás de argônio é então introduzido a uma razão suficiente para manter a pressão de cerca de 3,3 x 10e-6 MPa (25 milliTorr) . A temperatura é elevada e mantida a 10 300°C por meio de elementos de aquecimento pelo remanescente do processo de revestimento. Os discos de válvula são então sujeitados a uma limpeza por plasma de descarga luminescente na qual a tensão de polarização negativa de cerca de 500 volts é aplicada a prateleira e 15 discos de válvula. A duração da limpeza é de aproximadamente 5 minutos.
Uma camada de tântalo tendo uma espessura de cerca de 2 0 nm é então depositada nos discos de válvula por pulverização catódica. Após a camada de adesão de tântalo 20 ser depositada, a camada de fortalecimento de nitreto de tântalo tendo uma espessura de cerca de 3 mícrons é depositada por pulverização catódica reativa.
Após a camada de nitreto de tântalo camada ser depositada, os discos de válvula são dispostos voltando- 25 se para a fonte de arco, e uma camada de diamante amorfa de topo tendo uma espessura de cerca de 300 nm é depositada ao provocar um arco no eletrodo de carbono e expondo os substratos ao plasma de carbono saindo da saída de fonte. Uma polarização negativa CC de cerca de 30 500 volts é aplicada inicialmente aos substratos para fornecer bombardeamento de íons de alta energia para fornecer um bombardeamento de íons de alta energia para limpar a superfície e melhoria da ligação. Após cerca de 5 minutos a uma alta tensão de polarização, a tensão de 5 polarização é reduzida a cerca de 50 volts pelo remanescente do processo de deposição. Uma pressão de argônio de cerca de 6,6 x IOe-8 MPa(0.5 milliTorr) é mantida na câmara durante a deposição. Tensão pulsada ou CC de polarização pode ser empregada alternativamente, e 10 um argônio mais alto ou mais baixo pode também ser mantido para estabilizar a operação da fonte de arco e aperfeiçoar as propriedades de revestimento.
Tem sido constatado por ensaios que discos de válvula feitos de alumina e revestidos de acordo com o 15 exemplo acima foram capazes de aguentar mais de 15,000 ciclos de testes em água circulante carregando areia de sílica de 20 mícrons, enquanto discos de válvula de alumina não-revestidos padrão falharam sob as mesmas condições em menos que 2500 ciclos. Foi constatado 20 adicionalmente que o conteúdo de sp3 da camada de diamante amorfa foi de 45% enquanto a dureza foi de aproximadamente 32 GPa e o módulo foi de aproximadamente 250 GPa.
Aqueles lendo a presente revelação irão apreciar 25 que uma ampla variedade de combinações pode ser possível dentro do escopo da presente invenção. Por exemplo, de acordo com uma modalidade exemplificativa, uma placa de válvula que é formada de alumina ou outro material adequado pode ser revestido com uma primeira camada de
3 0 cromo e uma segunda camada de nitreto de cromo, após o que a camada de diamante amorfo pode ser aplicada no mesmo. De acordo com outra modalidade exemplificativa, uma placa de válvula que é formada de alumina ou outro material adequado pode ter uma primeira camada de tântalo 5 fornecida no mesmo, após a qual uma camada de carboneto de tântalo ou carbo-nitreto de tântalo pode ser fornecida antes da aplicação da camada de diamante amorfo. De acordo com ainda outra modalidade exemplificativa, uma placa de válvula que é formada de alumina ou outro 10 material adequado pode ter uma primeira camada de nióbio fornecida no mesmo, após a qual uma camada de nitreto de nióbio, carboneto de nióbio ou carbo-nitreto de nióbio pode ser fornecida antes da aplicação de uma camada de diamante amorfo.
A construção e arranjo dos elementos mostrados nas
modalidades preferidas e outras modalidades exemplificativas é apenas ilustrativa. Apesar de apenas algumas modalidades serem descritas em detalhes nesta revelação, aqueles versados na técnica que lerem esta revelação irão prontamente apreciar que muitas modificações são possíveis (por exemplo, variações em tamanhos, dimensões, estruturas, formatos e proporções dos diversos elementos, valores de parâmetros, uso de materiais, etc.) sem abandonar materialmente dos novos ensinamentos e vantagens da matéria recitada aqui. Por exemplo, uma torneira pode incluir um revestimento de diamante amorfo em somente um ou em ambos os discos incluídos na montagem. A ordem ou seqüência de quaisquer etapas de processo ou método pode ser variada ou re- sequenciada de acordo com modalidades alternativas. Outras substituições, modificações, mudanças e omissões podem ser feitas no projeto, condições de operação e arranjo das modalidades preferidas ou outras modalidades exemplificativas sem abandonar o escopo da presente invenção.
Claims (30)
1. Componente de válvula para uma torneira caracterizado por compreender: um material de base; uma camada de fortalecimento fornecida sobre o material de base; e um material de diamante amorfo fornecido acima da camada de fortalecimento, o material de diamante amorfo tendo uma dureza que é de pelo menos20 GPa e menos que 6 4 5 GPa e um modulo que é de pelo menos 15 0 GPa e menos que 4 00 GPa.
2. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o material de diamante amorfo tem um coeficiente de fricção que é menor que aquele de carbono parecido com diamante e tem uma dureza que é maior que aquela de carbono parecido com diamante.
3. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o material de diamante amorfo tem ligação de sp3 de entre aproximadamente 2 5 e 8 5 por cento.
4. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 3, caracterizado pelo fato de que o material de diamante amorfo tem ligação sp3 de pelo menos cerca de 40%.
5. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o material de diamante amorfo tem uma dureza de pelo menos 30 gigaPascais e um módulo elástico de pelo menos 250 GPa.
6. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a camada de diamante amorfa tem uma espessura de pelo menos 10 0 nanômetros.
7. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que a camada de diamante amorfa tem uma espessura de pelo menos 200 nanômetros.
8. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a camada de diamante amorfa tem um tensão por compressão de entre aproximadamente 1 e 12 GPa.
9. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a camada de fortalecimento compreende pelo menos um material selecionado do grupo consistindo em titânio, cromo, tungstênio, tântalo, e nióbio.
10. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que a camada de fortalecimento compreende pelo menos material selecionado do grupo consistindo em nitreto de tântalo e nitreto de nióbio.
11. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a camada de fortalecimento compreende pelo menos um material selecionado do grupo consistindo em carbono parecido com diamante, cromo, zircônio, e tungstênio.
12. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o material de base compreende um material selecionado do grupo consistindo em alumina, aço inoxidável, alumínio, latão, titânio, zircônio, um vidro, um cermet, um material contendo vidro, um material polimérico, e um material composto.
13. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por compreender ainda uma camada de material fornecido entre a camada de fortalecimento e o material de diamante amorfo.
14. Componente de válvula, de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de que a camada de material fornecido entre a camada de fortalecimento e o material de diamante amorfo compreende tântalo.
15. Torneira caracterizada por compreender: uma válvula de controle de fluido compreendendo uma pluralidade de componentes de válvulas, pelo menos um dos componentes de válvulas compreendendo: um substrato; uma camada de fortalecimento fornecida acima do substrato; e um material de diamante amorfo fornecido acima da camada de fortalecimento, o material de diamante amorfo tendo um coeficiente de fricção que é mais baixo que aquele de carbono parecido com diamante, uma dureza que é de pelo menos 2 0 GPa e menor que 4 5 GPa, um módulo de pelo menos 15 0 GPa e menos que 4 00 GPa, e ligação sp3 de pelo menos cerca de 4 0%.
16. Torneira, de acordo com a reivindicação 15, caracterizada pelo fato de que o material de diamante amorfo tem uma dureza de pelo menos cerca de 3 0 GPa e um módulo elástico de mais que cerca de 250 GPa.
17. Torneira, de acordo com a reivindicação 15, caracterizada pelo fato de que o material de diamante amorfo tem um tensão por compressão de entre aproximadamente 1 e 12 GPa.
18. Torneira, de acordo com a reivindicação 15, caracterizada pelo fato de que o material de diamante amorfo tem uma espessura de mais que aproximadamente 2 00 nanômetros.
19. Torneira, de acordo com a reivindicação 15, caracterizada pelo fato de que a camada de fortalecimento compreende pelo menos um material selecionado do grupo consistindo em titânio, cromo, tântalo, tungstênio, e nióbio.
20. Torneira, de acordo com a reivindicação 19, caracterizada pelo fato de que a camada de fortalecimento compreende pelo menos um material selecionado do grupo consistindo em nitreto de tântalo e nitreto de nióbio.
21. Torneira, de acordo com a reivindicação 15, caracterizada pelo fato de que o substrato compreende um material selecionado do grupo consistindo em alumina, aço inoxidável, alumínio, latão, titânio, zircônio, um vidro, um cermet, um material contendo vidro, um material polimérico, e um material composto.
22. Torneira, de acordo com a reivindicação 15, caracterizada pelo fato de que compreende adicionalmente uma camada de material fornecido entre a camada de fortalecimento e o material de diamante amorfo.
23. Torneira, de acordo com a reivindicação 15, caracterizada pelo fato de que a pluralidade de componentes de válvulas são fornecidos na forma de discos.
24. Torneira caracterizada por compreender: um primeiro componente de válvula; e um segundo componente de válvula configurado para um engajamento deslizante com o primeiro componente de válvula; em que pelo menos um do primeiro componente de válvula e o segundo componente de válvula compreendem um substrato, uma camada de material compreendendo pelo menos um de tântalo e nióbio fornecido acima do substrato, e uma camada de material de diamante amorfo é fornecido acima da camada de fortalecimento, o material de diamante amorfo tendo um coeficiente de fricção que é mais baixo que aquele de carbono parecido com diamante e uma dureza que é maior que aquela de carbono parecido com diamante, em que o material de diamante amorfo tem uma dureza de pelo menos 2 0 GPa e menos que 4 5 GPa e um modulo de pelo menos 150 GPa e menos que 400 GPa.
25. Torneira, de acordo com a reivindicação 24, caracterizada pelo fato de que o material de diamante amorfo tem uma dureza de pelo menos cerca de 3 0 GPa e um módulo elástico de pelo menos cerca de 250 GPa.
26. Torneira, de acordo com a reivindicação 24, caracterizada pelo fato de que o material de diamante amorfo tem uma espessura de pelo menos aproximadamente 100 nanômetros.
27. Torneira, de acordo com a reivindicação 24, caracterizada pelo fato de que ambos o primeiro componente de válvula e o segundo componente de válvula compreendem um substrato, uma camada de material compreendendo pelo menos um de tântalo e nióbio fornecido acima do substrato, e uma camada de material de diamante amorfo fornecido acima da camada de fortalecimento.
28. Torneira, de acordo com a reivindicação 24, caracterizada pelo fato de que que a camada de material compreendendo pelo menos um de tântalo e nióbio, compreende pelo menos um material selecionado do grupo consistindo de nitreto de tântalo e nitreto de nióbio.
29. Torneira, de acordo com a reivindicação 24, caracterizada pelo fato de que o substrato compreende um material selecionado do grupo consistindo em alumina, aço inoxidável, alumínio, latão, titânio,zircônio, um vidro, um cermet, um material contendo vidro, um material polimérico, e um material composto.
30. Torneira, de acordo com a reivindicação 24, caracterizada pelo fato de que pelo menos um do primeiro componente de válvula e o segundo componente de válvula é fornecido na forma de um disco.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US12/859,085 US8220489B2 (en) | 2002-12-18 | 2010-08-18 | Faucet with wear-resistant valve component |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BRPI1103920A2 true BRPI1103920A2 (pt) | 2014-03-11 |
Family
ID=44645566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BRPI1103920-5A2A BRPI1103920A2 (pt) | 2010-08-18 | 2011-08-18 | Torneira com componente de válvula resistente ao desgaste |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8220489B2 (pt) |
| EP (1) | EP2420710B1 (pt) |
| CN (1) | CN102418794B (pt) |
| BR (1) | BRPI1103920A2 (pt) |
| CA (1) | CA2748920C (pt) |
| ES (1) | ES2628439T3 (pt) |
| MX (2) | MX2011008676A (pt) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7866342B2 (en) * | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Vapor Technologies, Inc. | Valve component for faucet |
| US8555921B2 (en) | 2002-12-18 | 2013-10-15 | Vapor Technologies Inc. | Faucet component with coating |
| WO2009021142A1 (en) * | 2007-08-08 | 2009-02-12 | Obbligato, Inc. | Pyrolytic carbon components for stringed instruments |
| TWI440789B (zh) * | 2010-12-24 | 2014-06-11 | Delta Electronics Inc | 滑動式閥門裝置 |
| US10612123B2 (en) * | 2015-02-04 | 2020-04-07 | The University Of Akron | Duplex surface treatment for titanium alloys |
| JP5841281B1 (ja) * | 2015-06-15 | 2016-01-13 | 伸和コントロールズ株式会社 | プラズマ処理装置用チラー装置 |
| US10344757B1 (en) * | 2018-01-19 | 2019-07-09 | Kennametal Inc. | Valve seats and valve assemblies for fluid end applications |
| GB202018522D0 (en) * | 2020-11-25 | 2021-01-06 | Victrex Mfg Ltd | Linear compressor discharge valves |
Family Cites Families (463)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE25105E (en) * | 1961-12-26 | figure | ||
| US2020286A (en) | 1932-10-05 | 1935-11-12 | Keith D Bittle | Fluid valve |
| US2411867A (en) | 1942-12-19 | 1946-12-03 | Brenner Bert | Industrial diamond tool and method of producing same |
| US2639116A (en) | 1949-04-26 | 1953-05-19 | William P Green | Valve structure |
| DE903017C (de) | 1951-01-31 | 1954-02-01 | Sueddeutsche Lab G M B H | Herstellung kleiner Kugeln aus hochschmelzbaren Materialien |
| US2861166A (en) | 1955-03-14 | 1958-11-18 | Jr William W Cargill | Method and apparatus for hot machining |
| US3173175A (en) | 1958-05-09 | 1965-03-16 | Jerome H Lemelson | Molding apparatus |
| US2968723A (en) | 1957-04-11 | 1961-01-17 | Zeiss Carl | Means for controlling crystal structure of materials |
| US5021628A (en) | 1970-11-30 | 1991-06-04 | Lemelson Jerome H | Apparatus and method for reacting on matter |
| US3371404A (en) | 1957-06-27 | 1968-03-05 | Jerome H. Lemelson | Method of simultaneously cladding and deforming material by intense pressure |
| US4702808A (en) | 1957-06-27 | 1987-10-27 | Lemelson Jerome H | Chemical reaction apparatus and method |
| US4874596A (en) | 1957-06-27 | 1989-10-17 | Lemelson Jerome H | Production of crystalline structures |
| US5462772A (en) | 1957-06-27 | 1995-10-31 | Lemelson; Jerome H. | Methods for forming artificial diamond |
| US4385880A (en) | 1957-06-27 | 1983-05-31 | Lemelson Jerome H | Shock wave processing apparatus |
| US2947610A (en) | 1958-01-06 | 1960-08-02 | Gen Electric | Method of making diamonds |
| US3504063A (en) | 1958-05-09 | 1970-03-31 | Jerome H Lemelson | Article decoration apparatus and method |
| US5552675A (en) | 1959-04-08 | 1996-09-03 | Lemelson; Jerome H. | High temperature reaction apparatus |
| US5131941A (en) | 1959-04-08 | 1992-07-21 | Lemelson Jerome H | Reaction apparatus and method |
| US3207582A (en) | 1960-03-12 | 1965-09-21 | Inoue Kiyoshi | Method of synthesizing diamond particles by utilizing electric discharge |
| US3141746A (en) | 1960-10-03 | 1964-07-21 | Gen Electric | Diamond compact abrasive |
| DE1212229B (de) | 1963-11-28 | 1966-03-10 | Schmidt Paul | Verfahren zum Behandeln von in den inneren Bereich eines Stosswellenraums eingefuehrtem Stoff, insbesondere zum UEberfuehren des Stoffes in den Plasmazustand |
| US3384119A (en) | 1966-03-16 | 1968-05-21 | Masco Corp | Mixing valve |
| USRE32106E (en) | 1967-05-04 | 1986-04-08 | Toy track and vehicle therefor | |
| US3635811A (en) | 1967-11-06 | 1972-01-18 | Warner Lambert Co | Method of applying a coating |
| US3607061A (en) | 1968-06-26 | 1971-09-21 | Univ Case Western Reserve | Manufacture of synthetic diamonds |
| US3630678A (en) | 1968-06-26 | 1971-12-28 | Univ Case Western Reserve | Diamond growth process |
| US3630679A (en) | 1968-06-26 | 1971-12-28 | Univ Case Western Reserve | Diamond growth process |
| US3615208A (en) | 1969-02-06 | 1971-10-26 | John W Byron | Diamond growth process |
| US3702573A (en) | 1969-03-19 | 1972-11-14 | Kennametal Inc | Cermet product and method and apparatus for the manufacture thereof |
| US3829969A (en) | 1969-07-28 | 1974-08-20 | Gillette Co | Cutting tool with alloy coated sharpened edge |
| US3929432A (en) | 1970-05-29 | 1975-12-30 | De Beers Ind Diamond | Diamond particle having a composite coating of titanium and a metal layer |
| US3667503A (en) | 1970-06-05 | 1972-06-06 | Elkay Mfg Co | Single-handle mixing and proportioning valve |
| US3794026A (en) | 1970-07-29 | 1974-02-26 | H Jacobs | Ventilating apparatus embodying selective volume or pressure operation and catheter means for use therewith |
| US3766914A (en) | 1970-07-29 | 1973-10-23 | H Jacobs | High pressure resuscitating and ventilating system incorporating humidifying means for the breathing mixture |
| US4367130A (en) | 1970-11-30 | 1983-01-04 | Lemelson Jerome H | Chemical reaction |
| US3913280A (en) | 1971-01-29 | 1975-10-21 | Megadiamond Corp | Polycrystalline diamond composites |
| US3714332A (en) | 1971-04-21 | 1973-01-30 | Nasa | Process for making diamonds |
| US3879175A (en) | 1971-06-24 | 1975-04-22 | De Beers Ind Diamond | Bearing bodies and methods of forming bearing surfaces |
| BE787422A (fr) | 1971-08-25 | 1973-02-12 | Masco Corp | Robinet melangeur |
| SU411037A1 (ru) | 1971-10-28 | 1974-08-05 | В. М. Гол ЯНОВ , А. П. Демидов | Способ получения искусственных алмазов |
| US3813296A (en) | 1971-11-23 | 1974-05-28 | Mc Graw Edison Co | Insulating coating for electrical devices |
| US3953178A (en) | 1972-08-09 | 1976-04-27 | Engel Niels N | Coated metal product |
| US3941903A (en) | 1972-11-17 | 1976-03-02 | Union Carbide Corporation | Wear-resistant bearing material and a process for making it |
| FR2208499A5 (pt) | 1972-11-29 | 1974-06-21 | Morisseau Bernard | |
| US3854493A (en) | 1972-12-11 | 1974-12-17 | Elkay Mfg Co | Valve cartridge |
| US4054426A (en) | 1972-12-20 | 1977-10-18 | White Gerald W | Thin film treated drilling bit cones |
| US3912500A (en) | 1972-12-27 | 1975-10-14 | Leonid Fedorovich Vereschagin | Process for producing diamond-metallic materials |
| US4029368A (en) | 1973-08-15 | 1977-06-14 | Smith International, Inc. | Radial bearings |
| US3916506A (en) | 1973-10-18 | 1975-11-04 | Mallory Composites | Method of conforming a flexible self-supporting means to the surface contour of a substrate |
| US3934612A (en) | 1974-07-08 | 1976-01-27 | The United States Of America As Represented By The United States National Aeronautics And Space Administration | Fluid valve with wide temperature range |
| US4018241A (en) | 1974-09-23 | 1977-04-19 | The Regents Of The University Of Colorado | Method and inlet control system for controlling a gas flow sample to an evacuated chamber |
| US3959557A (en) | 1974-11-04 | 1976-05-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Wear-resistant, nonabrading tic article and process for making |
| CH589240A5 (pt) | 1975-02-10 | 1977-06-30 | Straumann Inst Ag | |
| US4104441A (en) | 1975-07-29 | 1978-08-01 | Institut Sverkhtverdykh Materialov Ssr | Polycrystalline diamond member and method of preparing same |
| US4084942A (en) | 1975-08-27 | 1978-04-18 | Villalobos Humberto Fernandez | Ultrasharp diamond edges and points and method of making |
| US4006540A (en) | 1975-09-19 | 1977-02-08 | Lemelson Jerome H | Filament winding craft |
| CH611341A5 (pt) | 1976-09-09 | 1979-05-31 | Balzers Hochvakuum | |
| DE2658022C3 (de) | 1976-12-22 | 1979-07-05 | Friedrich Grohe Armaturenfabrik Gmbh & Co, 5870 Hemer | Mischbatterie für das Sanitärfach |
| SE7701680L (sv) | 1977-02-16 | 1978-08-17 | Skf Ab | Axiallager for en rulle i en rullborrkrona sw 77 004 sw |
| CH631371A5 (de) | 1978-06-29 | 1982-08-13 | Diamond Sa | Verfahren zur bearbeitung eines teils aus polykristallinem, synthetischem diamant mit metallischem binder. |
| FR2433130A1 (fr) | 1978-08-11 | 1980-03-07 | Petroles Cie Francaise | Dispositif antifriction, notamment pour turbine, et procede de realisation |
| US4162954A (en) | 1978-08-21 | 1979-07-31 | Vac-Tec Systems, Inc. | Planar magnetron sputtering device |
| US4241135A (en) | 1979-02-09 | 1980-12-23 | General Electric Company | Polycrystalline diamond body/silicon carbide substrate composite |
| EP0019952B1 (en) | 1979-05-04 | 1984-07-18 | Masco Corporation Of Indiana | Single-control mixing cock with plates made of hard material |
| IT1207922B (it) | 1979-07-16 | 1989-06-01 | Gevipi Ag | Coppia di piastrine in materiale duro per rubinetto miscelatore a monocomando |
| US4228142A (en) | 1979-08-31 | 1980-10-14 | Holcombe Cressie E Jun | Process for producing diamond-like carbon |
| US4260203A (en) | 1979-09-10 | 1981-04-07 | Smith International, Inc. | Bearing structure for a rotary rock bit |
| DE3167761D1 (en) | 1980-01-16 | 1985-01-31 | Nat Res Dev | Method and apparatus for depositing coatings in a glow discharge |
| US4620601A (en) | 1981-09-28 | 1986-11-04 | Maurer Engineering Inc. | Well drilling tool with diamond thrust bearings |
| US4468138A (en) | 1981-09-28 | 1984-08-28 | Maurer Engineering Inc. | Manufacture of diamond bearings |
| US4532149A (en) | 1981-10-21 | 1985-07-30 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method for producing hard-surfaced tools and machine components |
| US4504519A (en) | 1981-10-21 | 1985-03-12 | Rca Corporation | Diamond-like film and process for producing same |
| US4378029A (en) | 1981-11-02 | 1983-03-29 | American Standard Inc. | Single control faucet |
| US4410054A (en) | 1981-12-03 | 1983-10-18 | Maurer Engineering Inc. | Well drilling tool with diamond radial/thrust bearings |
| US4434188A (en) | 1981-12-17 | 1984-02-28 | National Institute For Researches In Inorganic Materials | Method for synthesizing diamond |
| US4531273A (en) | 1982-08-26 | 1985-07-30 | Worcester Controls Corporation | Method for fabricating graphite filled sintered metal seats for ball valves |
| AT376460B (de) | 1982-09-17 | 1984-11-26 | Kljuchko Gennady V | Plasmalichtbogeneinrichtung zum auftragen von ueberzuegen |
| US4509519A (en) | 1982-09-21 | 1985-04-09 | Detsch Steven G | Oral electrical treatment apparatus and method |
| BR8307616A (pt) | 1982-11-19 | 1984-10-02 | Gillette Co | Laminas de barbear |
| US4457491A (en) | 1982-12-09 | 1984-07-03 | Egc Enterprises Incorp. | Extreme-temperature sealing device and annular seal therefor |
| US4524106A (en) | 1983-06-23 | 1985-06-18 | Energy Conversion Devices, Inc. | Decorative carbon coating and method |
| US4594294A (en) | 1983-09-23 | 1986-06-10 | Energy Conversion Devices, Inc. | Multilayer coating including disordered, wear resistant boron carbon external coating |
| DE3346190C1 (de) | 1983-12-21 | 1984-08-02 | Carl Hurth Maschinen- und Zahnradfabrik GmbH & Co, 8000 München | Zahnrad- oder zahnstangenfoermiges Werkzeug zum Feinbearbeiten der Zahnflanken von insbesondere gehaerteten Zahnraedern |
| US4540636A (en) | 1983-12-27 | 1985-09-10 | General Motors Corporation | Metal bearing element with a score-resistant coating |
| US4554208A (en) | 1983-12-27 | 1985-11-19 | General Motors Corporation | Metal bearing surface having an adherent score-resistant coating |
| US4618505A (en) | 1983-12-27 | 1986-10-21 | General Motors Corporation | Method of making adherent score-resistant coating for metals |
| CA1232228A (en) | 1984-03-13 | 1988-02-02 | Tatsuro Miyasato | Coating film and method and apparatus for producing the same |
| US4698256A (en) | 1984-04-02 | 1987-10-06 | American Cyanamid Company | Articles coated with adherent diamondlike carbon films |
| US4525178A (en) | 1984-04-16 | 1985-06-25 | Megadiamond Industries, Inc. | Composite polycrystalline diamond |
| US4696829A (en) | 1984-05-29 | 1987-09-29 | Georgia Tech Research Corporation | Process for increasing the wear life of ceramic dies and parts |
| SE442305B (sv) | 1984-06-27 | 1985-12-16 | Santrade Ltd | Forfarande for kemisk gasutfellning (cvd) for framstellning av en diamantbelagd sammansatt kropp samt anvendning av kroppen |
| SE453474B (sv) | 1984-06-27 | 1988-02-08 | Santrade Ltd | Kompoundkropp belagd med skikt av polykristallin diamant |
| US4490229A (en) | 1984-07-09 | 1984-12-25 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Deposition of diamondlike carbon films |
| US4724058A (en) | 1984-08-13 | 1988-02-09 | Vac-Tec Systems, Inc. | Method and apparatus for arc evaporating large area targets |
| US4663183A (en) | 1984-09-10 | 1987-05-05 | Energy Conversion Devices, Inc. | Glow discharge method of applying a carbon coating onto a substrate |
| US4591418A (en) | 1984-10-26 | 1986-05-27 | The Parker Pen Company | Microlaminated coating |
| JPS61111966A (ja) | 1984-11-07 | 1986-05-30 | 工業技術院長 | 黒鉛−金属ホウ化物系摺動部材 |
| US4621031A (en) | 1984-11-16 | 1986-11-04 | Dresser Industries, Inc. | Composite material bonded by an amorphous metal, and preparation thereof |
| US4755237A (en) | 1984-11-26 | 1988-07-05 | Lemelson Jerome H | Methods for making cutting tools |
| US4732364A (en) | 1984-12-17 | 1988-03-22 | Ameron Iron Works USA, Inc. | Wear resistant diamond cladding |
| GB2170279B (en) | 1985-01-30 | 1988-10-19 | Ampep Plc | Self-lubricating bearings |
| IT1182433B (it) | 1985-02-12 | 1987-10-05 | Gevipi Ag | Organi di tenuta in materiale duro aventi basso coefficiente di attrito |
| US4935313A (en) | 1985-02-12 | 1990-06-19 | Masco Corporation Of Indiana | Process of manufacturing seal members having a low friction coefficient |
| US4810584A (en) | 1985-03-27 | 1989-03-07 | North China Research Institute Of Electro-Optics | Lithium tantalum oxide coated tantalum articles with improved wear resistance and process for providing the same |
| US4725345A (en) | 1985-04-22 | 1988-02-16 | Kabushiki Kaisha Kenwood | Method for forming a hard carbon thin film on article and applications thereof |
| US5451307A (en) | 1985-05-07 | 1995-09-19 | Eltech Systems Corporation | Expanded metal mesh and anode structure |
| US4708888A (en) | 1985-05-07 | 1987-11-24 | Eltech Systems Corporation | Coating metal mesh |
| JPS622133A (ja) | 1985-06-28 | 1987-01-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ミクロト−ム用ダイヤモンドコ−テイング刃およびその製造方法 |
| EP0221531A3 (en) | 1985-11-06 | 1992-02-19 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | High heat conductive insulated substrate and method of manufacturing the same |
| DE3690606C2 (de) | 1985-11-25 | 1995-09-21 | Yoichi Hirose | Verfahren zur Synthese von Diamant |
| US4714660A (en) | 1985-12-23 | 1987-12-22 | Fansteel Inc. | Hard coatings with multiphase microstructures |
| US4933058A (en) | 1986-01-23 | 1990-06-12 | The Gillette Company | Formation of hard coatings on cutting edges |
| US4761217A (en) | 1986-02-13 | 1988-08-02 | Dorsett Terry E | Electroplate to moving metal |
| US4661213A (en) | 1986-02-13 | 1987-04-28 | Dorsett Terry E | Electroplate to moving metal |
| EP0245688B1 (en) | 1986-04-28 | 1991-12-27 | Nissin Electric Company, Limited | Method of forming diamond film |
| US4848199A (en) | 1986-05-01 | 1989-07-18 | Carboloy Inc. | Indexable cutting tool |
| US4708496A (en) | 1986-05-20 | 1987-11-24 | Smith International, Inc. | Diamond bearing and manufacture thereof |
| JPS63140083A (ja) | 1986-05-29 | 1988-06-11 | Nippon Steel Corp | 黒色透明外観のステンレス鋼およびその製造方法 |
| US4900628A (en) | 1986-07-23 | 1990-02-13 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Gaseous phase synthesized diamond and method for synthesizing same |
| DE3772671D1 (de) | 1986-08-11 | 1991-10-10 | Sumitomo Electric Industries | Aluminiumoxyd, beschichtet mit diamant. |
| IN167706B (pt) | 1986-08-21 | 1990-12-08 | Sree Chitra Tirunal Inst For M | |
| US4732491A (en) | 1986-08-27 | 1988-03-22 | Smith International, Inc. | Downhole motor bearing assembly |
| US4720199A (en) | 1986-09-03 | 1988-01-19 | Smith International, Inc. | Bearing structure for downhole motors |
| DE3630419A1 (de) | 1986-09-06 | 1988-03-10 | Kernforschungsanlage Juelich | Verfahren zur beschichtung von hoher waermebelastung ausgesetzten bauelementen mit einer amorphen wasserstoffhaltigen kohlenstoffschicht |
| US4858556A (en) | 1986-09-15 | 1989-08-22 | Siebert Jerome F | Method and apparatus for physical vapor deposition of thin films |
| US4824262A (en) | 1986-09-27 | 1989-04-25 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Unlubricated sliding member |
| EP0262579B1 (en) | 1986-09-27 | 1992-04-01 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Process for manufacturing fine zirconium oxide powder |
| JPS6388314A (ja) | 1986-09-30 | 1988-04-19 | Toshiba Corp | 動圧空気軸受 |
| JPS63107898A (ja) | 1986-10-23 | 1988-05-12 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | プラズマを用いるダイヤモンドの合成法 |
| EP0265533A1 (en) | 1986-10-25 | 1988-05-04 | National Research Development Corporation of India | Heart valve assembly |
| NL8703024A (nl) | 1986-12-18 | 1988-07-18 | De Beers Ind Diamond | Werkwijze voor het bepalen van een stralingsdosis alsmede inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. |
| JPS63156082A (ja) | 1986-12-19 | 1988-06-29 | 日本油脂株式会社 | 高硬度焼結体 |
| KR900008505B1 (ko) | 1987-02-24 | 1990-11-24 | 세미콘덕터 에너지 라보라터리 캄파니 리미티드 | 탄소 석출을 위한 마이크로파 강화 cvd 방법 |
| DE3706340A1 (de) | 1987-02-27 | 1988-09-08 | Winter & Sohn Ernst | Verfahren zum auftragen einer verschleissschutzschicht und danach hergestelltes erzeugnis |
| FR2612106B1 (fr) | 1987-03-09 | 1989-05-19 | Alsthom | Procede de pose d'un revetement protecteur sur une aube en alliage de titane et aube ainsi revetue |
| DE3709838C1 (de) | 1987-03-25 | 1988-09-29 | Eastman Christensen Co | Meisseldirektantrieb fuer Tiefbohrwerkzeuge |
| DE3709836C1 (de) | 1987-03-25 | 1988-09-29 | Eastman Christensen Co | Gleitlager fuer Tiefbohrwerkzeuge |
| US4882138A (en) | 1987-03-30 | 1989-11-21 | Crystallume | Method for preparation of diamond ceramics |
| US4849199A (en) | 1987-03-30 | 1989-07-18 | Crystallume | Method for suppressing growth of graphite and other non-diamond carbon species during formation of synthetic diamond |
| US5040501A (en) | 1987-03-31 | 1991-08-20 | Lemelson Jerome H | Valves and valve components |
| US5096352A (en) | 1987-03-31 | 1992-03-17 | Lemelson Jerome H | Diamond coated fasteners |
| US4960643A (en) | 1987-03-31 | 1990-10-02 | Lemelson Jerome H | Composite synthetic materials |
| US5255929A (en) | 1987-03-31 | 1993-10-26 | Lemelson Jerome H | Blade for ice skate |
| US5288556A (en) | 1987-03-31 | 1994-02-22 | Lemelson Jerome H | Gears and gear assemblies |
| US5360227A (en) | 1987-03-31 | 1994-11-01 | Lemelson Jerome H | Skis and runners |
| US5332348A (en) | 1987-03-31 | 1994-07-26 | Lemelson Jerome H | Fastening devices |
| US6083570A (en) | 1987-03-31 | 2000-07-04 | Lemelson; Jerome H. | Synthetic diamond coatings with intermediate amorphous metal bonding layers and methods of applying such coatings |
| US4859493A (en) | 1987-03-31 | 1989-08-22 | Lemelson Jerome H | Methods of forming synthetic diamond coatings on particles using microwaves |
| US5067826A (en) | 1987-03-31 | 1991-11-26 | Lemelson Jerome H | Ball and roller bearings and bearing components |
| US5132587A (en) | 1987-03-31 | 1992-07-21 | Lemelson Jerome H | Spark plug electrodes |
| EP0286306B1 (en) | 1987-04-03 | 1993-10-06 | Fujitsu Limited | Method and apparatus for vapor deposition of diamond |
| US4764036A (en) | 1987-05-14 | 1988-08-16 | Smith International, Inc. | PCD enhanced radial bearing |
| US4822466A (en) | 1987-06-25 | 1989-04-18 | University Of Houston - University Park | Chemically bonded diamond films and method for producing same |
| US4764434A (en) | 1987-06-26 | 1988-08-16 | Sandvik Aktiebolag | Diamond tools for rock drilling and machining |
| JPH0623430B2 (ja) | 1987-07-13 | 1994-03-30 | 株式会社半導体エネルギ−研究所 | 炭素作製方法 |
| US4756631A (en) | 1987-07-24 | 1988-07-12 | Smith International, Inc. | Diamond bearing for high-speed drag bits |
| US4816291A (en) | 1987-08-19 | 1989-03-28 | The Regents Of The University Of California | Process for making diamond, doped diamond, diamond-cubic boron nitride composite films |
| DE3728946A1 (de) | 1987-08-29 | 1989-03-09 | Bran & Luebbe | Homogenisiervorrichtung |
| US4778730A (en) | 1987-09-09 | 1988-10-18 | Remgrit Corporation | Method of applying non-slip coating to tools and resulting product |
| DE3733730C1 (de) | 1987-10-06 | 1988-10-27 | Feldmuehle Ag | Gleit- oder Dichtelementepaarung und Verfahren zu deren Herstellung |
| US4935303A (en) | 1987-10-15 | 1990-06-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Novel diamond-like carbon film and process for the production thereof |
| JPH01138172A (ja) | 1987-11-24 | 1989-05-31 | Toyo Tanso Kk | 黒鉛とメソカーボンマイクロビーズとの焼結体 |
| DE3741127A1 (de) | 1987-12-04 | 1989-06-15 | Repenning Detlev | Verfahren zur herstellung waermestabiler schichten mit hochharten und/oder reibarmen eigenschaften |
| US4776862A (en) | 1987-12-08 | 1988-10-11 | Wiand Ronald C | Brazing of diamond |
| US5900982A (en) | 1987-12-31 | 1999-05-04 | Projectavision, Inc. | High efficiency light valve projection system |
| US5300942A (en) | 1987-12-31 | 1994-04-05 | Projectavision Incorporated | High efficiency light valve projection system with decreased perception of spaces between pixels and/or hines |
| US4902535A (en) | 1987-12-31 | 1990-02-20 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method for depositing hard coatings on titanium or titanium alloys |
| US5602679A (en) | 1987-12-31 | 1997-02-11 | Projectavision, Inc. | High efficiency light valve projection system |
| CH674559A5 (pt) | 1988-01-07 | 1990-06-15 | Maret S A | |
| JP2597497B2 (ja) | 1988-01-14 | 1997-04-09 | 洋一 広瀬 | 気相法ダイヤモンドの合成法 |
| US5190824A (en) | 1988-03-07 | 1993-03-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electrostatic-erasing abrasion-proof coating |
| US5866195A (en) | 1988-03-31 | 1999-02-02 | Lemelson; Jerome H. | Methods for forming diamond-coated superconductor wire |
| US5036733A (en) | 1988-04-12 | 1991-08-06 | Tiholiz Ivan C | Co-aptive instruments with non-slip surfaces and method for their manufacture |
| US5098737A (en) | 1988-04-18 | 1992-03-24 | Board Of Regents The University Of Texas System | Amorphic diamond material produced by laser plasma deposition |
| US5411797A (en) | 1988-04-18 | 1995-05-02 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Nanophase diamond films |
| US4987007A (en) | 1988-04-18 | 1991-01-22 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Method and apparatus for producing a layer of material from a laser ion source |
| US5129289A (en) | 1988-07-13 | 1992-07-14 | Warner-Lambert Company | Shaving razors |
| US5088202A (en) | 1988-07-13 | 1992-02-18 | Warner-Lambert Company | Shaving razors |
| JPH02141494A (ja) | 1988-07-30 | 1990-05-30 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド気相合成装置 |
| US5006203A (en) | 1988-08-12 | 1991-04-09 | Texas Instruments Incorporated | Diamond growth method |
| KR930010193B1 (ko) | 1988-09-13 | 1993-10-15 | 가부시끼가이샤 한도다이 에네르기겐뀨쇼 | 세라믹막 및 탄소막으로 덮인 부품과 그 부품 제작방법 |
| GB8821944D0 (en) | 1988-09-19 | 1988-10-19 | Gillette Co | Method & apparatus for forming surface of workpiece |
| DE3832692A1 (de) | 1988-09-27 | 1990-03-29 | Leybold Ag | Dichtungselement mit einem absperrkoerper aus einem metallischen oder nichtmetallischen werkstoff und verfahren zum auftragen von hartstoffschichten auf den absperrkoerper |
| US4992298A (en) | 1988-10-11 | 1991-02-12 | Beamalloy Corporation | Dual ion beam ballistic alloying process |
| US5185179A (en) | 1988-10-11 | 1993-02-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Plasma processing method and products thereof |
| US5055318A (en) | 1988-10-11 | 1991-10-08 | Beamalloy Corporation | Dual ion beam ballistic alloying process |
| US4904542A (en) | 1988-10-11 | 1990-02-27 | Midwest Research Technologies, Inc. | Multi-layer wear resistant coatings |
| US5161728A (en) | 1988-11-29 | 1992-11-10 | Li Chou H | Ceramic-metal bonding |
| US5392982A (en) | 1988-11-29 | 1995-02-28 | Li; Chou H. | Ceramic bonding method |
| US5874175A (en) | 1988-11-29 | 1999-02-23 | Li; Chou H. | Ceramic composite |
| EP0374923B2 (en) | 1988-12-21 | 1999-06-23 | Mitsubishi Materials Corporation | Diamond-coated tool member, substrate thereof and method for producing same |
| US4919974A (en) | 1989-01-12 | 1990-04-24 | Ford Motor Company | Making diamond composite coated cutting tools |
| US4948629A (en) | 1989-02-10 | 1990-08-14 | International Business Machines Corporation | Deposition of diamond films |
| IL93399A (en) | 1989-02-16 | 1994-06-24 | De Beers Ind Diamond | Epithelium of a diamond or a layer of diamond figures |
| US5227196A (en) | 1989-02-16 | 1993-07-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of forming a carbon film on a substrate made of an oxide material |
| JPH02248397A (ja) | 1989-03-20 | 1990-10-04 | Onoda Cement Co Ltd | ダイヤモンドの製造装置および製造方法 |
| US5104634A (en) | 1989-04-20 | 1992-04-14 | Hercules Incorporated | Process for forming diamond coating using a silent discharge plasma jet process |
| WO1990013683A1 (fr) | 1989-05-10 | 1990-11-15 | Institut Elektrosvarki Imeni E.O.Patona Akademii Nauk Ukrainskoi Ssr | Procede d'obtention de materiaux contenant du carbone |
| US5127983A (en) | 1989-05-22 | 1992-07-07 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of producing single crystal of high-pressure phase material |
| GB8912498D0 (en) | 1989-05-31 | 1989-07-19 | De Beers Ind Diamond | Diamond growth |
| US4961958A (en) | 1989-06-30 | 1990-10-09 | The Regents Of The Univ. Of Calif. | Process for making diamond, and doped diamond films at low temperature |
| US5190823A (en) | 1989-07-31 | 1993-03-02 | General Electric Company | Method for improving adhesion of synthetic diamond coatings to substrates |
| US5242741A (en) | 1989-09-08 | 1993-09-07 | Taiho Kogyo Co., Ltd. | Boronized sliding material and method for producing the same |
| WO1991004353A1 (fr) | 1989-09-22 | 1991-04-04 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Procede de synthese de diamant depose en phase vapeur sur un substrat traite par voie electrochimique |
| US4968326A (en) | 1989-10-10 | 1990-11-06 | Wiand Ronald C | Method of brazing of diamond to substrate |
| US5064682A (en) | 1989-10-26 | 1991-11-12 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of forming a pseudo-diamond film on a base body |
| US5082359A (en) | 1989-11-28 | 1992-01-21 | Epion Corporation | Diamond films and method of growing diamond films on nondiamond substrates |
| US5135941A (en) | 1989-12-18 | 1992-08-04 | G. D. Searle & Co. | LTB4 synthesis inhibitors |
| EP0440326B1 (en) | 1990-01-29 | 1994-12-14 | BAUSCH & LOMB INCORPORATED | Method of depositing diamond-like film onto a substrate having a low melting temperature |
| US5171607A (en) | 1990-01-29 | 1992-12-15 | Bausch & Lomb Incorporated | Method of depositing diamond-like carbon film onto a substrate having a low melting temperature |
| US5132105A (en) | 1990-02-02 | 1992-07-21 | Quantametrics, Inc. | Materials with diamond-like properties and method and means for manufacturing them |
| US5126274A (en) | 1990-03-06 | 1992-06-30 | Mobil Oil Corporation | Method and apparatus for measuring diamondoid compound concentration in hydrocarbonaceous gas streams |
| US5349265A (en) | 1990-03-16 | 1994-09-20 | Lemelson Jerome H | Synthetic diamond coated electrodes and filaments |
| US5137398A (en) | 1990-04-27 | 1992-08-11 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Drill bit having a diamond-coated sintered body |
| DE59108716D1 (de) | 1990-04-27 | 1997-07-03 | Saphirwerk Ind Prod | Wälzkörper, Verfahren zu seiner Herstellung und Wälzkörper- oder Gleitlager |
| US5075094A (en) | 1990-04-30 | 1991-12-24 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method of growing diamond film on substrates |
| US5094915A (en) | 1990-05-16 | 1992-03-10 | The Ohio State University | Laser-excited synthesis of carbon films from carbon monoxide-containing gas mixtures |
| US5139621A (en) | 1990-06-11 | 1992-08-18 | Mobil Oil Corporation | Azeotropic distillation process for recovery of diamondoid compounds from hydrocarbon streams |
| SE9002136D0 (sv) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | Sandvik Ab | Cement carbide body for rock drilling, mineral cutting and highway engineering |
| US5225366A (en) | 1990-06-22 | 1993-07-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Apparatus for and a method of growing thin films of elemental semiconductors |
| FR2663533B1 (fr) | 1990-06-22 | 1997-10-24 | Implants Instr Ch Fab | Valve cardiaque artificielle. |
| JPH0462716A (ja) | 1990-06-29 | 1992-02-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 結晶性炭素系薄膜およびその堆積方法 |
| JPH04165170A (ja) | 1990-06-29 | 1992-06-10 | Tokyo Yogyo Co Ltd | 水栓バルブ部材 |
| US5126207A (en) | 1990-07-20 | 1992-06-30 | Norton Company | Diamond having multiple coatings and methods for their manufacture |
| US5037522B1 (en) | 1990-07-24 | 1996-07-02 | Vergason Technology Inc | Electric arc vapor deposition device |
| US5260106A (en) | 1990-08-03 | 1993-11-09 | Fujitsu Limited | Method for forming diamond films by plasma jet CVD |
| US5114696A (en) | 1990-08-06 | 1992-05-19 | Texas Instruments Incorporated | Diamond growth method |
| US5124179A (en) | 1990-09-13 | 1992-06-23 | Diamonex, Incorporated | Interrupted method for producing multilayered polycrystalline diamond films |
| DE4029270C1 (pt) | 1990-09-14 | 1992-04-09 | Balzers Ag, Balzers, Li | |
| US5135808A (en) | 1990-09-27 | 1992-08-04 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant coated substrate product |
| US5268217A (en) | 1990-09-27 | 1993-12-07 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant coated substrate product |
| CH683844A5 (fr) | 1990-10-04 | 1994-05-31 | Suisse Electronique Microtech | Combinaison autolubrifiante de revêtements. |
| EP0484699B1 (de) | 1990-11-05 | 1993-08-18 | Detlev Dr. Repenning | Reibpaarung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| US5037212A (en) | 1990-11-29 | 1991-08-06 | Smith International, Inc. | Bearing structure for downhole motors |
| US5245104A (en) | 1990-12-17 | 1993-09-14 | Mobil Oil Corporation | Method and apparatus for producing and separating diamondoid compounds from natural gas streams |
| IT1244526B (it) | 1991-01-30 | 1994-07-15 | Bonetti Cesare Spa | Valvola a sfera per fluidi con sedi ad anelli stratificati |
| JPH04305096A (ja) | 1991-04-01 | 1992-10-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 高品質気相合成ダイヤモンドの低温形成法 |
| US5462722A (en) | 1991-04-17 | 1995-10-31 | Liu; Sung-Tsuen | Calcium phosphate calcium sulfate composite implant material |
| EP0509875A1 (fr) | 1991-04-19 | 1992-10-21 | Société dite CARBIONIC SYSTEME | Procédé pour le dépôt sur au moins une pièce, notamment une pièce métallique, d'une couche dure à base de pseudo carbone diamant ainsi que pièce revêtue d'une telle couche |
| CA2065581C (en) | 1991-04-22 | 2002-03-12 | Andal Corp. | Plasma enhancement apparatus and method for physical vapor deposition |
| US5142785A (en) | 1991-04-26 | 1992-09-01 | The Gillette Company | Razor technology |
| US5786068A (en) | 1991-05-03 | 1998-07-28 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Electrically tunable coatings |
| US5718976A (en) | 1991-05-03 | 1998-02-17 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Erosion resistant diamond-like nanocomposite coatings for optical components |
| US5728465A (en) | 1991-05-03 | 1998-03-17 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Diamond-like nanocomposite corrosion resistant coatings |
| US5352493A (en) | 1991-05-03 | 1994-10-04 | Veniamin Dorfman | Method for forming diamond-like nanocomposite or doped-diamond-like nanocomposite films |
| US5800879A (en) | 1991-05-16 | 1998-09-01 | Us Navy | Deposition of high quality diamond film on refractory nitride |
| US5165955A (en) | 1991-05-28 | 1992-11-24 | Dow Corning Corporation | Method of depositing a coating containing silicon and oxygen |
| US5239746A (en) | 1991-06-07 | 1993-08-31 | Norton Company | Method of fabricating electronic circuits |
| JPH05891A (ja) | 1991-06-21 | 1993-01-08 | Canon Inc | ダイヤモンド−金属接合体 |
| US5232568A (en) | 1991-06-24 | 1993-08-03 | The Gillette Company | Razor technology |
| EP0520567A1 (en) | 1991-06-24 | 1992-12-30 | NORSK HYDRO a.s. | Erosion resistant valve |
| EP0520566B1 (en) | 1991-06-24 | 1996-03-13 | NORSK HYDRO a.s. | Valve device having stationary and movable or turnable valve bodies |
| GB9114014D0 (en) | 1991-06-28 | 1991-08-14 | De Beers Ind Diamond | Plasma assisted diamond synthesis |
| US5411758A (en) | 1991-10-09 | 1995-05-02 | Norton Company | Method of making synthetic diamond wear component |
| US5158695A (en) | 1991-10-29 | 1992-10-27 | Yashchenko Nikolay K | Diamond-based antifriction material |
| US5541003A (en) | 1991-10-31 | 1996-07-30 | Tdk Corporation | Articles having diamond-like protective thin film |
| WO1993008927A1 (en) | 1991-11-05 | 1993-05-13 | Research Triangle Institute | Chemical vapor deposition of diamond films using water-based plasma discharges |
| US5669144A (en) | 1991-11-15 | 1997-09-23 | The Gillette Company | Razor blade technology |
| US5370855A (en) | 1991-11-25 | 1994-12-06 | Gruen; Dieter M. | Conversion of fullerenes to diamond |
| US5260141A (en) | 1991-11-29 | 1993-11-09 | Regents Of The University Of Minnesota | Diamond coated products |
| US5366556A (en) | 1992-01-10 | 1994-11-22 | Robert Prince | Process and apparatus for production of diamond-like films |
| US5605759A (en) | 1992-01-14 | 1997-02-25 | Prince; Robert | Physical vapor deposition of diamond-like carbon films |
| JP2924989B2 (ja) | 1992-01-28 | 1999-07-26 | 日本特殊陶業株式会社 | ダイヤモンド膜被覆窒化珪素基部材及びその製造方法 |
| DE69325042T2 (de) | 1992-02-07 | 1999-11-18 | Smith & Nephew, Inc. | Oberflächengehärtetes bioverträgliches medizinisches Metallimplantat |
| US5295305B1 (en) | 1992-02-13 | 1996-08-13 | Gillette Co | Razor blade technology |
| US5543684A (en) | 1992-03-16 | 1996-08-06 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Flat panel display based on diamond thin films |
| US5449569A (en) | 1992-05-20 | 1995-09-12 | Schumm, Jr.; Brooke | Fluid depolarized battery with improved automatic valve |
| US5541016A (en) | 1992-05-20 | 1996-07-30 | Schumm, Jr.; Brooke | Electrical appliance with automatic valve especially for fluid depolarized electrochemical battery |
| US5837394A (en) | 1992-05-20 | 1998-11-17 | Brooke Schumm, Jr. | Electric appliance and fluid depolarized cell with low parasitic usage microactuated valve |
| US5338027A (en) | 1992-06-03 | 1994-08-16 | Jeffrey Rehkemper | Tossing and catching play object |
| US5437243A (en) | 1992-07-01 | 1995-08-01 | Pike-Biegunski; Maciej J. | Process for fabricating diamond by supercritical electrical current |
| US5279723A (en) | 1992-07-30 | 1994-01-18 | As Represented By The United States Department Of Energy | Filtered cathodic arc source |
| US5827613A (en) | 1992-09-04 | 1998-10-27 | Tdk Corporation | Articles having diamond-like protective film and method of manufacturing the same |
| ZA937866B (en) | 1992-10-28 | 1994-05-20 | Csir | Diamond bearing assembly |
| US5449531A (en) | 1992-11-09 | 1995-09-12 | North Carolina State University | Method of fabricating oriented diamond films on nondiamond substrates and related structures |
| US5314652A (en) | 1992-11-10 | 1994-05-24 | Norton Company | Method for making free-standing diamond film |
| US6099639A (en) | 1992-11-17 | 2000-08-08 | National Semiconductor Corporation | Method for solid-state formation of diamond |
| US5257558A (en) | 1992-11-17 | 1993-11-02 | Ormco Corporation | Medical/dental pliers |
| EP0628642B1 (en) | 1992-12-08 | 2001-03-21 | Osaka Diamond Industrial Co. | Superhard film-coated material and method of producing the same |
| CA2085807C (en) | 1992-12-18 | 1999-09-28 | Matthew Simpson | Synthetic diamond wear component and method |
| US5470661A (en) | 1993-01-07 | 1995-11-28 | International Business Machines Corporation | Diamond-like carbon films from a hydrocarbon helium plasma |
| US5249554A (en) | 1993-01-08 | 1993-10-05 | Ford Motor Company | Powertrain component with adherent film having a graded composition |
| US5237967A (en) | 1993-01-08 | 1993-08-24 | Ford Motor Company | Powertrain component with amorphous hydrogenated carbon film |
| US5395221A (en) | 1993-03-18 | 1995-03-07 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Carbide or boride coated rotor for a positive displacement motor or pump |
| US5441013A (en) | 1993-03-23 | 1995-08-15 | At&T Bell Laboratories | Method for growing continuous diamond films |
| US5474816A (en) | 1993-04-16 | 1995-12-12 | The Regents Of The University Of California | Fabrication of amorphous diamond films |
| US5645900A (en) | 1993-04-22 | 1997-07-08 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Diamond composite films for protective coatings on metals and method of formation |
| EP0632344B1 (en) | 1993-05-28 | 1998-07-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Heater and image heating device utilizing the same |
| US5626963A (en) | 1993-07-07 | 1997-05-06 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Hard-carbon-film-coated substrate and apparatus for forming the same |
| US5932302A (en) | 1993-07-20 | 1999-08-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for fabricating with ultrasonic vibration a carbon coating |
| US5405645A (en) | 1993-07-28 | 1995-04-11 | Applied Science And Technology Inc. | High growth rate plasma diamond deposition process and method of controlling same |
| US5388027A (en) | 1993-07-29 | 1995-02-07 | Motorola, Inc. | Electronic circuit assembly with improved heatsinking |
| US5740941A (en) | 1993-08-16 | 1998-04-21 | Lemelson; Jerome | Sheet material with coating |
| US5370195A (en) | 1993-09-20 | 1994-12-06 | Smith International, Inc. | Drill bit inserts enhanced with polycrystalline diamond |
| US6342195B1 (en) | 1993-10-01 | 2002-01-29 | The Penn State Research Foundation | Method for synthesizing solids such as diamond and products produced thereby |
| US5688677A (en) | 1993-10-13 | 1997-11-18 | Genzyme Corporation | Deoxyribonucleic acids containing inactivated hormone responsive elements |
| PL314108A1 (en) | 1993-10-29 | 1996-08-19 | Balzers Hochvakuum | Coated formpiece, method of making same and application thereof |
| EP0727057A4 (en) | 1993-11-04 | 1997-08-13 | Microelectronics & Computer | METHOD FOR PRODUCING FLAT PANEL DISPLAY SYSTEMS AND COMPONENTS |
| US5401543A (en) | 1993-11-09 | 1995-03-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for forming macroparticle-free DLC films by cathodic arc discharge |
| US5585176A (en) | 1993-11-30 | 1996-12-17 | Kennametal Inc. | Diamond coated tools and wear parts |
| US5677051A (en) | 1993-11-30 | 1997-10-14 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium having a specified plasma polymerized hydrogen containing carbon film and lubricant |
| US5533347A (en) | 1993-12-22 | 1996-07-09 | Novar Electronics Corporation | Method of refrigeration case control |
| KR960010086B1 (ko) | 1993-12-29 | 1996-07-25 | 김은영 | 고밀도 직류 글로우 방전에 의한 다이아몬드막 증착방법 |
| US5554415A (en) | 1994-01-18 | 1996-09-10 | Qqc, Inc. | Substrate coating techniques, including fabricating materials on a surface of a substrate |
| DE4406191A1 (de) | 1994-02-25 | 1995-09-07 | Ks Aluminium Technologie Ag | Gleitlagerung |
| US5391407A (en) | 1994-03-18 | 1995-02-21 | Southwest Research Institute | Process for forming protective diamond-like carbon coatings on metallic surfaces |
| US5725573A (en) | 1994-03-29 | 1998-03-10 | Southwest Research Institute | Medical implants made of metal alloys bearing cohesive diamond like carbon coatings |
| US5731045A (en) | 1996-01-26 | 1998-03-24 | Southwest Research Institute | Application of diamond-like carbon coatings to cobalt-cemented tungsten carbide components |
| DE19580519B3 (de) | 1994-03-31 | 2014-03-06 | Ntn Corp. | Ventilanordnung |
| JPH07315989A (ja) | 1994-04-01 | 1995-12-05 | Ngk Spark Plug Co Ltd | ダイヤモンド被覆部材の製造方法 |
| AU2239995A (en) | 1994-04-06 | 1995-10-30 | Regents Of The University Of California, The | Process to produce diamond films |
| JPH09501612A (ja) | 1994-04-08 | 1997-02-18 | マーク エー． レイ， | 選択的プラズマ成長 |
| US5480527A (en) | 1994-04-25 | 1996-01-02 | Vapor Technologies, Inc. | Rectangular vacuum-arc plasma source |
| CN1064294C (zh) | 1994-04-25 | 2001-04-11 | 吉莱特公司 | 制造剃刀刀片的方法 |
| US5836905A (en) | 1994-06-20 | 1998-11-17 | Lemelson; Jerome H. | Apparatus and methods for gene therapy |
| US5393572A (en) | 1994-07-11 | 1995-02-28 | Southwest Research Institute | Ion beam assisted method of producing a diamond like carbon coating |
| JPH10503951A (ja) | 1994-08-12 | 1998-04-14 | ユーエス・シンセティック | ダイヤモンドで覆われた境界面を備えた補綴関節 |
| US5824367A (en) | 1994-08-24 | 1998-10-20 | National Institute Of Technology And Quality | Method for the deposition of diamond film on an electroless-plated nickel layer |
| US5551959A (en) | 1994-08-24 | 1996-09-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article having a diamond-like coating layer and method for making same |
| US5529805A (en) | 1994-09-22 | 1996-06-25 | General Electric Company | Method for manufacturing a diamond article |
| US5814194A (en) | 1994-10-20 | 1998-09-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Substrate surface treatment method |
| US5529815A (en) | 1994-11-03 | 1996-06-25 | Lemelson; Jerome H. | Apparatus and method for forming diamond coating |
| DE4441134A1 (de) | 1994-11-21 | 1996-05-23 | Grohe Armaturen Friedrich | Dichtungselement, insbesondere für Absperr- und Regelorgane und Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE4441132A1 (de) | 1994-11-21 | 1996-05-23 | Grohe Armaturen Friedrich | Dichtungselement, insbesondere für Absperr- und Regelorgane und Verfahren zu seiner Herstellung |
| EP0718256B1 (en) | 1994-12-23 | 1999-06-30 | Maruwa Ceramic Co., Ltd. | Ceramic sliding member and process of fabricating the same |
| US5750207A (en) | 1995-02-17 | 1998-05-12 | Si Diamond Technology, Inc. | System and method for depositing coating of modulated composition |
| US6410144B2 (en) | 1995-03-08 | 2002-06-25 | Southwest Research Institute | Lubricious diamond-like carbon coatings |
| DE19510204A1 (de) | 1995-03-21 | 1996-09-26 | Hoechst Ceram Tec Ag | Scheibenverbund |
| US5549764A (en) | 1995-04-21 | 1996-08-27 | Caterpillar Inc. | Wear resistant coated steel article |
| FR2733255B1 (fr) | 1995-04-21 | 1997-10-03 | France Etat | Procede de fabrication d'une piece metallique recouverte de diamant et piece metallique obtenue au moyen d'un tel procede |
| AU5346596A (en) | 1995-04-24 | 1996-11-18 | Toyo Kohan Co. Ltd. | Articles with diamond coating formed thereon by vapor-phase synthesis |
| GB2300425A (en) | 1995-05-01 | 1996-11-06 | Kobe Steel Europ Ltd | Nucleation of diamond films using an electrode |
| US5571616A (en) | 1995-05-16 | 1996-11-05 | Crystallume | Ultrasmooth adherent diamond film coated article and method for making same |
| US5593234A (en) | 1995-05-16 | 1997-01-14 | Ntn Corporation | Bearing assembly with polycrystalline superlattice coating |
| US5803967A (en) | 1995-05-31 | 1998-09-08 | Kobe Steel Usa Inc. | Method of forming diamond devices having textured and highly oriented diamond layers therein |
| US5714202A (en) | 1995-06-07 | 1998-02-03 | Lemelson; Jerome H. | Synthetic diamond overlays for gas turbine engine parts having thermal barrier coatings |
| US5616372A (en) | 1995-06-07 | 1997-04-01 | Syndia Corporation | Method of applying a wear-resistant diamond coating to a substrate |
| US5679404A (en) | 1995-06-07 | 1997-10-21 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation | Method for depositing a substance with temperature control |
| US5688557A (en) | 1995-06-07 | 1997-11-18 | Lemelson; Jerome H. | Method of depositing synthetic diamond coatings with intermediates bonding layers |
| US6204595B1 (en) | 1995-07-10 | 2001-03-20 | The Regents Of The University Of California | Amorphous-diamond electron emitter |
| JPH0948694A (ja) | 1995-08-04 | 1997-02-18 | Kobe Steel Ltd | 単結晶ダイヤモンド膜の形成方法 |
| US5759623A (en) | 1995-09-14 | 1998-06-02 | Universite De Montreal | Method for producing a high adhesion thin film of diamond on a Fe-based substrate |
| US6063455A (en) | 1995-10-09 | 2000-05-16 | Institute For Advanced Engineering | Apparatus for manufacturing diamond film having a large area and method thereof |
| US5620745A (en) | 1995-12-19 | 1997-04-15 | Saint Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. | Method for coating a substrate with diamond film |
| US5972233A (en) | 1996-01-31 | 1999-10-26 | Refractal Design, Inc. | Method of manufacturing a decorative article |
| JP3176558B2 (ja) | 1996-02-09 | 2001-06-18 | 麒麟麦酒株式会社 | コーティングフィルムおよびその製造方法 |
| US5837331A (en) | 1996-03-13 | 1998-11-17 | Motorola, Inc. | Amorphous multi-layered structure and method of making the same |
| JPH09249873A (ja) | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Toyoda Gosei Co Ltd | 弾性製品 |
| US5644130A (en) | 1996-03-20 | 1997-07-01 | National Electrostatics Corp. | Multi-gas cathode ion surge |
| US5780119A (en) | 1996-03-20 | 1998-07-14 | Southwest Research Institute | Treatments to reduce friction and wear on metal alloy components |
| AT411070B (de) | 1996-03-25 | 2003-09-25 | Electrovac | Verfahren zur herstellung eines substrates mit einer polykristallinen diamantschicht |
| US5747120A (en) | 1996-03-29 | 1998-05-05 | Regents Of The University Of California | Laser ablated hard coating for microtools |
| US5871805A (en) | 1996-04-08 | 1999-02-16 | Lemelson; Jerome | Computer controlled vapor deposition processes |
| US5840132A (en) | 1996-04-24 | 1998-11-24 | Arch Development Corporation | Lubricated boride surfaces |
| JP3217696B2 (ja) | 1996-04-26 | 2001-10-09 | 京セラ株式会社 | ディスクバルブ |
| US5952102A (en) | 1996-05-13 | 1999-09-14 | Ceramatec, Inc. | Diamond coated WC and WC-based composites with high apparent toughness |
| US5858477A (en) | 1996-12-10 | 1999-01-12 | Akashic Memories Corporation | Method for producing recording media having protective overcoats of highly tetrahedral amorphous carbon |
| JPH10310494A (ja) | 1996-05-31 | 1998-11-24 | Ngk Spark Plug Co Ltd | ダイヤモンド被覆膜付き超硬部材の製造方法 |
| US6406760B1 (en) | 1996-06-10 | 2002-06-18 | Celestech, Inc. | Diamond film deposition on substrate arrays |
| US6080470A (en) | 1996-06-17 | 2000-06-27 | Dorfman; Benjamin F. | Hard graphite-like material bonded by diamond-like framework |
| DE69736790T2 (de) | 1996-06-27 | 2007-08-16 | Nissin Electric Co., Ltd. | Mit einem Kohlenstofffilm beschichteter Gegenstand und Verfahren zu dessen Herstellung |
| JPH1082390A (ja) | 1996-07-18 | 1998-03-31 | Sanyo Electric Co Ltd | 摺動部材、圧縮機及び回転圧縮機 |
| JPH1089506A (ja) | 1996-07-25 | 1998-04-10 | Citizen Watch Co Ltd | 混合水栓部材およびその混合水栓部材への被膜形成方法 |
| JPH10101481A (ja) | 1996-08-27 | 1998-04-21 | Samsung Electron Co Ltd | ダイアモンド薄膜のヘテロエピタクシサイクリックテクスチャー成長法 |
| JP4114709B2 (ja) | 1996-09-05 | 2008-07-09 | 株式会社神戸製鋼所 | ダイヤモンド膜の形成方法 |
| EP1067210A3 (en) | 1996-09-06 | 2002-11-13 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method for providing a hard carbon film on a substrate and electric shaver blade |
| DE19637450C1 (de) | 1996-09-13 | 1998-01-15 | Fraunhofer Ges Forschung | Verschleißbeständiger, mechanisch hochbelastbarer und reibungsarmer Randschichtaufbau für Titan und dessen Legierungen sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
| US5713333A (en) | 1996-10-21 | 1998-02-03 | Cummins Engine Company, Inc. | Wear-resistant fuel distributor rotor |
| US5927325A (en) | 1996-10-25 | 1999-07-27 | Inpod, Inc. | Microelectromechanical machined array valve |
| WO1998028462A1 (de) | 1996-12-24 | 1998-07-02 | Widia Gmbh | Verbundkörper, bestehend aus einem hartmetall-, cermet- oder keramiksubstratkörper und verfahren zu seiner herstellung |
| US6080445A (en) | 1997-02-20 | 2000-06-27 | Citizen Watch Co., Ltd. | Method of forming films over insulating material |
| US6066399A (en) | 1997-03-19 | 2000-05-23 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Hard carbon thin film and method of forming the same |
| US6447843B1 (en) | 1997-03-27 | 2002-09-10 | Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. | Synthetic diamond wear component and method |
| US5945656A (en) | 1997-05-27 | 1999-08-31 | Lemelson; Jerome H. | Apparatus and method for stand-alone scanning and audio generation from printed material |
| US6305416B1 (en) | 1997-06-09 | 2001-10-23 | Flexcon Industries | Actuator valve for pressure switch for a fluidic system |
| ES2208830T3 (es) | 1997-07-16 | 2004-06-16 | General Electric Company | Diamante con superficie enriquecida. |
| US5902563A (en) | 1997-10-30 | 1999-05-11 | Pl-Limited | RF/VHF plasma diamond growth method and apparatus and materials produced therein |
| US6096377A (en) | 1997-11-07 | 2000-08-01 | Balzers Hochvakuum Ag | Process for coating sintered metal carbide substrates with a diamond film |
| JP3514091B2 (ja) | 1997-11-17 | 2004-03-31 | 三菱マテリアル株式会社 | 気相合成ダイヤモンド薄膜の表面研磨方法 |
| DE19751337A1 (de) | 1997-11-19 | 1999-05-27 | Fraunhofer Ges Forschung | Verschleißbeständiger, mechanisch hochbelastbarer und reibungsarmer Randschichtaufbau für Titan oder seine Legierungen sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
| US6103305A (en) | 1997-11-26 | 2000-08-15 | Sandia Corporation | Method of forming a stress relieved amorphous tetrahedrally-coordinated carbon film |
| JP4623774B2 (ja) | 1998-01-16 | 2011-02-02 | 住友電気工業株式会社 | ヒートシンクおよびその製造方法 |
| US6250604B1 (en) | 1998-03-02 | 2001-06-26 | T & R Solutions, Inc. | Valve stem and method of manufacturing, improved stem packing |
| US6197438B1 (en) | 1998-03-11 | 2001-03-06 | Roger Faulkner | Foodware with ceramic food contacting surface |
| US6548173B2 (en) | 1998-04-20 | 2003-04-15 | Argonne National Laboratory | Method of produce ultra-low friction carbon films |
| JP3550689B2 (ja) | 1998-05-20 | 2004-08-04 | 日本精工株式会社 | 固体潤滑転がり軸受 |
| US6517902B2 (en) | 1998-05-27 | 2003-02-11 | Camco International (Uk) Limited | Methods of treating preform elements |
| US6347905B1 (en) | 1998-05-28 | 2002-02-19 | Elektroschmelzwerk Kempten Gmbh | Connecting element for the frictional connection of components |
| US6203865B1 (en) | 1998-07-20 | 2001-03-20 | Qqc, Inc. | Laser approaches for diamond synthesis |
| WO2000012775A1 (de) | 1998-08-26 | 2000-03-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von substraten im vakuum |
| AT408153B (de) | 1998-09-02 | 2001-09-25 | Electrovac | Metall-matrix-composite- (mmc-) bauteil |
| US6387502B1 (en) | 1998-09-04 | 2002-05-14 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Diamond-coated hard metal member |
| US6802457B1 (en) | 1998-09-21 | 2004-10-12 | Caterpillar Inc | Coatings for use in fuel system components |
| US6478887B1 (en) | 1998-12-16 | 2002-11-12 | Smith International, Inc. | Boronized wear-resistant materials and methods thereof |
| CA2256847A1 (en) | 1998-12-22 | 2000-06-22 | Munther Kandah | Particle-free cathodic arc carbon ion source |
| US6368664B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-04-09 | Guardian Industries Corp. | Method of ion beam milling substrate prior to depositing diamond like carbon layer thereon |
| US6338901B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-01-15 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
| US6335086B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-01-01 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
| US6447891B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-09-10 | Guardian Industries Corp. | Low-E coating system including protective DLC |
| GB9910842D0 (en) | 1999-05-10 | 1999-07-07 | Univ Nanyang | Composite coatings |
| US6368676B1 (en) | 1999-07-20 | 2002-04-09 | Diversified Technologies, Inc. | Method of coating an article |
| DE69936198T2 (de) | 1999-08-10 | 2008-01-31 | Fuji Oozx Inc., Fujisawa | Tellerventil aus Titanlegierung |
| US6342755B1 (en) | 1999-08-11 | 2002-01-29 | Sony Corporation | Field emission cathodes having an emitting layer comprised of electron emitting particles and insulating particles |
| US6462467B1 (en) | 1999-08-11 | 2002-10-08 | Sony Corporation | Method for depositing a resistive material in a field emission cathode |
| US6423193B1 (en) | 1999-08-30 | 2002-07-23 | Case Western Reserve University | Nitrogen doped carbon electrodes |
| CN1138020C (zh) | 1999-09-29 | 2004-02-11 | 永源科技股份有限公司 | 阴极电弧蒸镀方式淀积类金刚石碳膜的制备方法 |
| US6605352B1 (en) | 2000-01-06 | 2003-08-12 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Corrosion and erosion resistant thin film diamond coating and applications therefor |
| US6696157B1 (en) | 2000-03-05 | 2004-02-24 | 3M Innovative Properties Company | Diamond-like glass thin films |
| DE10011154A1 (de) | 2000-03-07 | 2001-09-13 | Mahle Gmbh | Zylinderkopfeinheit mit Walzendrehschieber |
| US6453946B2 (en) | 2000-03-10 | 2002-09-24 | Rheodyne, Lp | Long lifetime fluid switching valve |
| JP4537556B2 (ja) | 2000-03-31 | 2010-09-01 | 本田技研工業株式会社 | 排気制御弁 |
| JP4418571B2 (ja) | 2000-04-11 | 2010-02-17 | シーケーディ株式会社 | 高温対応ガス制御バルブ |
| DE10018143C5 (de) | 2000-04-12 | 2012-09-06 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | DLC-Schichtsystem sowie Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines derartigen Schichtsystems |
| US6508416B1 (en) | 2000-04-28 | 2003-01-21 | Delphi Technologies, Inc. | Coated fuel injector valve |
| US6713179B2 (en) | 2000-05-24 | 2004-03-30 | Guardian Industries Corp. | Hydrophilic DLC on substrate with UV exposure |
| US6793849B1 (en) | 2000-10-09 | 2004-09-21 | The University Of Chicago | N-type droping of nanocrystalline diamond films with nitrogen and electrodes made therefrom |
| US6503380B1 (en) | 2000-10-13 | 2003-01-07 | Honeywell International Inc. | Physical vapor target constructions |
| US6656444B1 (en) | 2000-10-27 | 2003-12-02 | P1 Diamond, Inc. | Methods for synthesizing high-efficiency diamond and material and diamond material produced thereby |
| US6537688B2 (en) | 2000-12-01 | 2003-03-25 | Universal Display Corporation | Adhesive sealed organic optoelectronic structures |
| JP3590579B2 (ja) | 2000-12-11 | 2004-11-17 | オーエスジー株式会社 | ダイヤモンド被覆部材およびその製造方法 |
| US6537429B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-03-25 | Lam Research Corporation | Diamond coatings on reactor wall and method of manufacturing thereof |
| US6314764B1 (en) | 2001-02-16 | 2001-11-13 | Saatec Engineering Corporation | Method of manufacturing a 1-inch diameter glass substrate for a magnetic disk |
| US6314763B1 (en) | 2001-02-16 | 2001-11-13 | Saatec Engineering Corporation | Method of manufacturing a 2-5 inch diameter glass substrate for a magnetic disk |
| ITTO20010551A1 (it) | 2001-06-08 | 2002-12-08 | Gevipi Ag | Organi di controllo del flusso in materiale duro per apparecchi idraulici. |
| US6817550B2 (en) | 2001-07-06 | 2004-11-16 | Diamicron, Inc. | Nozzles, and components thereof and methods for making the same |
| ES2190345B1 (es) | 2001-07-17 | 2004-05-01 | Industrias Ramon Soler, S.A. | Procedimiento para el recubrimiento de discos ceramicos y disco ceramico obtenido mediante dicho procedimiento. |
| US7106939B2 (en) | 2001-09-19 | 2006-09-12 | 3M Innovative Properties Company | Optical and optoelectronic articles |
| US6610360B2 (en) | 2001-11-28 | 2003-08-26 | Guardian Industries Corp. | Buffing diamond-like carbon (DLC) to improve scratch resistance |
| US6827977B2 (en) * | 2002-03-07 | 2004-12-07 | Guardian Industries Corp. | Method of making window unit including diamond-like carbon (DLC) coating |
| US6921469B2 (en) | 2002-03-26 | 2005-07-26 | Lattice Energy Llc | Electrode constructs, and related cells and methods |
| US6893003B2 (en) | 2002-04-19 | 2005-05-17 | Newfrey Llc | Valves including thermally sprayed sealing components |
| GB0215916D0 (en) | 2002-07-10 | 2002-08-21 | Univ Dundee | Coatings |
| US6895991B2 (en) | 2002-08-09 | 2005-05-24 | Honeywell International, Inc. | Missile thrust system and valve with refractory piston cylinder |
| US6878403B2 (en) | 2002-10-04 | 2005-04-12 | Guardian Industries Corp. | Method of ion beam treatment of DLC in order to reduce contact angle |
| JP2004183678A (ja) | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Nippon M K S Kk | 電磁バルブ |
| US8555921B2 (en) | 2002-12-18 | 2013-10-15 | Vapor Technologies Inc. | Faucet component with coating |
| US7866342B2 (en) * | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Vapor Technologies, Inc. | Valve component for faucet |
| US7866343B2 (en) * | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Masco Corporation Of Indiana | Faucet |
| US6904935B2 (en) | 2002-12-18 | 2005-06-14 | Masco Corporation Of Indiana | Valve component with multiple surface layers |
| US20060005900A1 (en) | 2003-09-27 | 2006-01-12 | Dorfman Benjamin R | High-alloy metals reinforced by diamond-like framework and method for making the same |
| US7195817B2 (en) | 2003-09-29 | 2007-03-27 | General Motors Corporation | Diamond coated article and method of its production |
| DE10346208A1 (de) | 2003-10-06 | 2005-04-21 | Bosch Gmbh Robert | Druckreglermodul zur Steuerung eines Gases |
| US7144753B2 (en) | 2003-11-25 | 2006-12-05 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Boron-doped nanocrystalline diamond |
| JP4456378B2 (ja) | 2004-02-24 | 2010-04-28 | ペルメレック電極株式会社 | 導電性ダイヤモンド電極の製造方法 |
| US7183548B1 (en) | 2004-02-25 | 2007-02-27 | Metadigm Llc | Apparatus for modifying and measuring diamond and other workpiece surfaces with nanoscale precision |
| US20050241239A1 (en) | 2004-04-30 | 2005-11-03 | Chien-Min Sung | Abrasive composite tools having compositional gradients and associated methods |
| US7214600B2 (en) | 2004-06-25 | 2007-05-08 | Applied Materials, Inc. | Method to improve transmittance of an encapsulating film |
| US6902809B1 (en) | 2004-06-29 | 2005-06-07 | Honeywell International, Inc. | Rhenium tantalum metal alloy |
| US7108012B2 (en) | 2004-07-22 | 2006-09-19 | Masco Corporation Of Indiana | Fluid control valve |
| DE102004043550B4 (de) | 2004-09-09 | 2012-02-16 | Schaeffler Technologies Gmbh & Co. Kg | Verschleißfeste Beschichtung, ihre Verwendung und Verfahren zur Herstellung derselben |
| EP1804958A4 (en) | 2004-09-17 | 2010-11-17 | Nanosys Inc | NANOSTRUCTURED THIN FILMS AND ITS USE |
| US20060059688A1 (en) | 2004-09-22 | 2006-03-23 | Tseng Shao C | Method for producing a dynamic fluid bearing with high rotation precision and high hardness |
| US20060079863A1 (en) | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Scimed Life Systems, Inc. | Medical devices coated with diamond-like carbon |
| JP2006138404A (ja) | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Kobe Steel Ltd | 水系環境下での耐摩耗性に優れた摺動部材 |
| AT501408B1 (de) | 2004-12-07 | 2011-03-15 | Physikalisches Buero Steinmueller Gmbh | Biologische oberflächen |
| DE102005019418B4 (de) | 2005-04-25 | 2007-03-15 | Krohne Messtechnik Gmbh & Co. Kg | Magnetisch-induktives Durchflußmeßgerät und Verfahren zur Herstellung eines magnetisch-induktiven Durchflußmeßgeräts |
| EP1915472B1 (en) * | 2005-08-18 | 2018-09-05 | Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon | Substrate coated with a layered structure comprising a tetrahedral carbon layer and a softer outer layer |
| JP5161450B2 (ja) | 2005-09-30 | 2013-03-13 | 財団法人高知県産業振興センター | プラズマｃｖｄ装置及びプラズマ表面処理方法 |
| US20070224242A1 (en) | 2006-03-21 | 2007-09-27 | Jet Engineering, Inc. | Tetrahedral Amorphous Carbon Coated Medical Devices |
| US7939172B2 (en) | 2006-05-17 | 2011-05-10 | G & H Technologies, Llc | Wear resistant vapor deposited coating, method of coating deposition and applications therefor |
| DE102007031464A1 (de) | 2006-07-17 | 2008-01-24 | Alstom Technology Ltd. | Dampfeinlassventil einer Dampfturbine |
| US7833581B2 (en) | 2006-09-11 | 2010-11-16 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Method for making a highly stable diamond film on a substrate |
| JP2009167512A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Kobe Steel Ltd | 摺動部品用ダイヤモンドライクカーボン皮膜およびその製造方法 |
-
2010
- 2010-08-18 US US12/859,085 patent/US8220489B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-08-16 EP EP11177721.5A patent/EP2420710B1/en not_active Not-in-force
- 2011-08-16 CA CA2748920A patent/CA2748920C/en active Active
- 2011-08-16 ES ES11177721.5T patent/ES2628439T3/es active Active
- 2011-08-17 MX MX2011008676A patent/MX2011008676A/es unknown
- 2011-08-17 MX MX2015011238A patent/MX382606B/es unknown
- 2011-08-18 BR BRPI1103920-5A2A patent/BRPI1103920A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2011-08-18 CN CN201110237454.7A patent/CN102418794B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES2628439T3 (es) | 2017-08-02 |
| US8220489B2 (en) | 2012-07-17 |
| CA2748920A1 (en) | 2012-02-18 |
| MX382606B (es) | 2025-03-13 |
| MX2011008676A (es) | 2012-02-22 |
| EP2420710B1 (en) | 2017-05-10 |
| US20110011476A1 (en) | 2011-01-20 |
| CN102418794B (zh) | 2014-07-16 |
| CA2748920C (en) | 2015-05-05 |
| EP2420710A1 (en) | 2012-02-22 |
| CN102418794A (zh) | 2012-04-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7216661B2 (en) | Method of forming a wear resistant component | |
| EP1980776B1 (en) | Valve component for faucet | |
| US9909677B2 (en) | Faucet component with coating | |
| BRPI1103920A2 (pt) | Torneira com componente de válvula resistente ao desgaste | |
| CA2665878C (en) | Faucet | |
| HK1086874A (en) | Valve component with multiple surface layers |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| B03A | Publication of a patent application or of a certificate of addition of invention [chapter 3.1 patent gazette] | ||
| B08F | Application dismissed because of non-payment of annual fees [chapter 8.6 patent gazette] | ||
| B08K | Patent lapsed as no evidence of payment of the annual fee has been furnished to inpi [chapter 8.11 patent gazette] |
Free format text: EM VIRTUDE DO ARQUIVAMENTO PUBLICADO NA RPI 2475 DE 12-06-2018 E CONSIDERANDO AUSENCIA DE MANIFESTACAO DENTRO DOS PRAZOS LEGAIS, INFORMO QUE CABE SER MANTIDO O ARQUIVAMENTO DO PEDIDO DE PATENTE, CONFORME O DISPOSTO NO ARTIGO 12, DA RESOLUCAO 113/2013. |