CA2010482A1 - Processus de fabrication de dispositifs utilisant des gaz electrochimiques - Google Patents

Processus de fabrication de dispositifs utilisant des gaz electrochimiques

Info

Publication number
CA2010482A1
CA2010482A1 CA2010482A CA2010482A CA2010482A1 CA 2010482 A1 CA2010482 A1 CA 2010482A1 CA 2010482 A CA2010482 A CA 2010482A CA 2010482 A CA2010482 A CA 2010482A CA 2010482 A1 CA2010482 A1 CA 2010482A1
Authority
CA
Canada
Prior art keywords
gases
arsine
electrochemically generated
fabrication
devices
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CA2010482A
Other languages
English (en)
Other versions
CA2010482C (fr
Inventor
Gardy Cadet
James Winfield Mitchell
Jorge Luis Valdes
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AT&T Corp
Original Assignee
American Telephone and Telegraph Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by American Telephone and Telegraph Co Inc filed Critical American Telephone and Telegraph Co Inc
Publication of CA2010482A1 publication Critical patent/CA2010482A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of CA2010482C publication Critical patent/CA2010482C/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4488—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by in situ generation of reactive gas by chemical or electrochemical reaction
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
CA002010482A 1989-04-18 1990-02-20 Processus de fabrication de dispositifs utilisant des gaz electrochimiques Expired - Fee Related CA2010482C (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US33934489A 1989-04-18 1989-04-18
US339,344 1989-04-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CA2010482A1 true CA2010482A1 (fr) 1990-10-18
CA2010482C CA2010482C (fr) 1998-08-25

Family

ID=23328589

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CA002010482A Expired - Fee Related CA2010482C (fr) 1989-04-18 1990-02-20 Processus de fabrication de dispositifs utilisant des gaz electrochimiques

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5427659A (fr)
EP (1) EP0393897B1 (fr)
JP (1) JPH071757B2 (fr)
CA (1) CA2010482C (fr)
DE (1) DE69011567T2 (fr)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2792877A1 (fr) * 1999-04-29 2000-11-03 Michelin Soc Tech Pneumatique pourvu d'une protuberance pour devier les projections laterales
US8021536B2 (en) * 2006-04-13 2011-09-20 Air Products And Chemical, Inc. Method and apparatus for achieving maximum yield in the electrolytic preparation of group IV and V hydrides
US20090159454A1 (en) 2007-12-20 2009-06-25 Air Products And Chemicals, Inc. Divided electrochemical cell and low cost high purity hydride gas production process
FR2977579B1 (fr) * 2011-07-08 2015-10-16 Air Liquide Electronics Sys Procede de preparation de monosilane electrochimiquement assiste
DE102017006698B4 (de) * 2017-06-25 2023-07-20 Bvp Gmbh Unter- und überdruckdichter Molekularsiebbehälter
CN111378979B (zh) * 2018-12-29 2022-03-15 紫石能源有限公司 砷纳米颗粒及其制备方法、电解制砷烷的系统和方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1375819A (en) * 1919-06-11 1921-04-26 Jr Henry Blumenberg Process and apparatus for the electrolytic generation of arsin, phosphin and stibin
DE1209302B (de) * 1964-01-18 1966-01-20 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Reinigung von Arsen, insbesondere fuer Halbleiterzwecke
US3404076A (en) * 1965-04-15 1968-10-01 Shell Oil Co Electrolytic preparation of hydrides
US4178224A (en) * 1978-01-19 1979-12-11 Texas Instruments Incorporated Apparatus for generation and control of dopant and reactive gases
SU1033576A1 (ru) * 1982-03-24 1983-08-07 Предприятие П/Я Р-6878 Способ получени сурьм нистого водорода

Also Published As

Publication number Publication date
CA2010482C (fr) 1998-08-25
DE69011567D1 (de) 1994-09-22
JPH02296320A (ja) 1990-12-06
EP0393897A1 (fr) 1990-10-24
US5427659A (en) 1995-06-27
EP0393897B1 (fr) 1994-08-17
DE69011567T2 (de) 1994-12-08
JPH071757B2 (ja) 1995-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY115263A (en) Use of deuterated materials in semiconductor processing
RU94046451A (ru) Способ производства электрической энергии, устройство для его осуществления и соединение
ES2093965T3 (es) Dispositivo tipo reactor de volumen variable y procedimiento de cultivo de material celular.
ES2057526T3 (es) Catalizadores de fluoruro de aluminio y su uso en un procedimiento de clorofluoracion para la preparacion de 1,1-dicloro-1,2,2,2-tetrafluoroetano.
DE69418492D1 (de) Geschlossene wiederaufladbare zellen die quecksilberfreie zinkanoden enthalten und vefahren zur herstellung
EP0208561A3 (fr) Procédé pour la préparation d'alumoxanes
CA2231437A1 (fr) Procede d'actionnement d'un systeme de piles a combustible et systeme de piles a combustible permettant de mettre ledit procede en oeuvre
CA2010482A1 (fr) Processus de fabrication de dispositifs utilisant des gaz electrochimiques
BG48568A3 (bg) Метод за производство на керамични абразивни материали
ATE66708T1 (de) Korrosionsschutz fuer zugglieder.
WO1987007916A1 (fr) Appareil pour former un film mince
DE69002647D1 (de) Gettermaterialien fuer die vakuumisolation von wasserstoffspeichergefaessen und transportlinien.
CA2099385A1 (fr) Oxyde natif d'algaas
AR000393A1 (es) Procedimiento para la preparación de un producto que contiene isobutano/isohexano
GR3025427T3 (en) Process for the realisation of an active composite.
AU7832691A (en) New process for the industrial preparation of 4-chloro-3- sulphamoyl-n-(2,3-dihydro-2-methyl-1h-indol-1-yl)-benzamide from 2,3-dihydro-2-methyl-1h-indole and hydroxylamine-o-sulphonic acid
RU94018532A (ru) Способ и устройство для разгрузки реактора
SU825107A1 (ru) ЗАПОРНОЕ УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВАЛЛОНА СО СЖАТЫМГАЗОМ1Изобретение относитс к пожарной технике, а именно к детал м огнетушителей, у которых огнетушащее вещество выбрасываетс под давлением сжатого газа,наход щегос в отдельном герметически закрытом резервуаре, и может быть использовано в любой отрасли народного хоз йства при изготовлении огнетушителей. .Известно запорное устройство дл баллона со сжатым газом, содержащее установленный в горловине баллона полый штуцер с фланцем и каналом дл впуска сжатого газа и мембрану, размещенную в полости штуцера \^ .Недостатком известного устройства вл етс Мсшый срок службы и сложность конструкции.Цель изобретени - увеличение срока службы и упрощение конструкции.Указанна цель достигаетс тем, что в запорном устройстве дл баллона со сжатым газом канал дл впуска газа выполнен в виде сквозного отверсти в стенке штуцера под нижним торцом фланца, а мембрана расположена у его верхнего торца.Наличие одного сквозного отверсти ,в стенке штуцера вместо нескольких •продольных канавок на его наружнойto15202530поверхности увеличивает прочность устройства, а значит и срок службы его, и упрощает конструкцию.На чертеже изображено запорное устройство, общий вид, разрез.Запорное устройство состоит из полого штуцера 1 с фланцем 2 и мембраны 3. Штуцер ввернут в горловину 4 баллона. В стенке штуцера 1 выполнено сквозное отверстие 5, ме>&хду флйнцем и торцом горловины установлено уплотнительное кольцо 6,Устройство' работает следующим образом.Перед заполнением баллона сжатым газом полый штуцер 1 запорного устройства ввинчивают в.горловину 4 баллона так, чтобы сквозное отверстие 5 было свободным. При зар дке сжатый газ через отверстие 5, полость штуцера и горловину 4 заполн ет бгш- лон. После заполнени баллона сжатым газом до рабочего давлени штуцер 1 ввинчиваетс в горловину 4 баллона до отказа. При этом уплотнительное кольцо 6 сжимаетс , обеспечива герметичное закрытие зар женного баллона.Предлагаемое изобретение обеспечивает повышение срока службы и упро-
SU703090A1 (ru) Способ профилактики послеоперационных артрогенных контрактур
EP0634684A4 (fr) Element magneto-optique.
Bigun et al. The Adsorption of Potassium and Sodium on the Surface of a Germanium Single Crystal
Gasgnier et al. Behaviour of Thin Films of Heavy Rare-Earth Metals and of Sc in an Electron-Microscope Residual Atmosphere
SU576263A1 (ru) Емкость дл цемента
JPS5296866A (en) Gas phase grown unit for chemical compound semiconductor
Flamant et al. Intelligence service: A tool for building expert systems.

Legal Events

Date Code Title Description
EEER Examination request
MKLA Lapsed