CH698528B1

CH698528B1 - Schiebereinrichtung eines Vakuumprozesssystems.

Info

Publication number: CH698528B1
Application number: CH01997/05A
Authority: CH
Inventors: Tsutomu Hiroki
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2004-12-17
Filing date: 2005-12-16
Publication date: 2009-08-31
Also published as: CN100383918C; KR100756110B1; JP2006170373A; JP4010314B2; CN1790617A; TW200629358A; KR20060069287A; TWI362056B

Abstract

Eine Schiebereinrichtung eines Vakuumprozesssystems besitzt eine umgebende Wand (36), welche einen Übergaberaum definiert, und besitzt einen Übergabeanschluss (37). Ein erster Ventilsitz (37s) ist um den Übergabeanschluss angeordnet. Ein Ventilkörper (44) ist innerhalb der Wand beweglich angeordnet um den Übergabeanschluss zu öffnen und zu schliessen. Ein erstes Dichtungselement (66) ist auf dem Ventilkörper angeordnet um mit dem ersten Ventilsitz zusammenzuwirken. Ein Wartungsanschluss (72) ist in der Wand ausgeformt um eine Wartung des ersten Dichtungselements durchzuführen. Ein zweiter Ventilsitz (72s) ist um den Wartungsanschluss angeordnet. Ein zweites Dichtungselement (68) ist am Ventilkörper um das erste Dichtungselement angeordnet um mit dem zweiten Ventilsitz zusammenzuwirken. Ein Wartungsdeckel (74) ist aussen abnehmbar angeordnet, um den Wartungsanschluss zu schliessen. Ein Antriebsmechanismus (46) treibt den Ventilkörper innerhalb der Wand an.

Description

[0001] Die vorliegende Erfindung betrifft eine Schiebereinrichtung eines Vakuumprozesssystems, ein Halbleiterbearbeitungssystem einschliesslich einer Vielzahl von Prozesskammern und ein Verfahren zur Nutzung des Systems.

[0002] Der Begriff "Schiebereinrichtung" wird hier im Sinne des englischen Fachbegriffs "gate valve" verwendet.

[0003] Der hier benutzte Begriff "Halbleiterbearbeitung" schliesst verschiedene Arten von Prozessen ein, die ausgeführt werden, um ein Halbleiterelement oder eine Struktur, die Verdrahtungsschichten, Elektroden und dergleichen hat, die mit einem Halbleiterelement zu verbinden sind, auf einem Zielobjekt, wie beispielsweise einem Halbleiterwafer oder einem Glassubstrat zur Verwendung für einen Flüssigkristallbildschirm (LCD: Liquid Crystal Display) oder einem Flachbildschirm (FPD: Fiat Panel Display), durch Schaffen von Halbleiterschichten, Isolationsschichten und leitenden Schichten in vorgegebenen Mustern auf dem Zielobjekt herzustellen.

[0004] Der Begriff "Zielobjekt" wird hier im Sinne des englischen Fachbegriffs "target object" verwendet.

[0005] Im Allgemeinen werden in einem Herstellungsprozess für ein Halbleiterelement verschiedene Prozesse, beispielsweise Trockenätzen, Kathodenzerstäubung und chemische Gasphasenabscheidung (CVD: Chemical Vapor Depostion), wiederholt auf einem Halbleiterwafer ausgeführt. Die meisten dieser Prozesse werden in einer Vakuumatmosphäre ausgeführt, und Übergabeanschlüsse zum Laden bzw. Entladen der Wafer in bzw. aus Prozesskammern, die diese Prozesse ausführen, sind durch Schiebereinrichtungen während der Prozesse luftdicht abgedichtet.

[0006] Beispielsweise offenbart Patentdokument 1 (Japanische Patentanmeldung KOKAI Veröffentlichungsnummer 8-60 374) ein Beispiel dieses Typs von Schiebereinrichtung. Ein Übergabeanschluss einer Grösse, die die Passage eines Wafers erlaubt, ist beispielsweise in einer Seitenwand einer Prozesskammer gebildet, die evakuiert werden kann. Der Übergabeanschluss ist mit einer Schiebereinrichtung ausgestattet. Zum Zeitpunkt der Ausführung eines Prozesses ist der Übergabeanschluss luftdicht durch einen Ventilkörper mit beispielsweise einem O-Ring der Schiebereinrichtung abgedichtet.

[0007] Die oben genannten Prozesse schliessen einen Prozess ein, der ein korrosives Gas verwendet. Selbst dann, wenn kein korrosives Gas im Prozess verwendet wird, wird ein Reinigungsprozess regelmässig oder unregelmässig unter Verwendung eines Ätzgases, das ein korrosives Gas ist, ausgeführt, um verschiedene unnötige Schichten oder Verunreinigungen, die am Innern der Prozesskammer anhaften, zu entfernen. In diesem Fall ist ein Dichtungselement der Schiebereinrichtung dem korrosiven Gas ausgesetzt und das Dichtungselement wird zersetzt, obwohl ein solcher Zersetzungsprozess nach und nach fortschreitet. Das Dichtungselement ist ausserdem in Kontakt mit einer Sitzoberfläche oder ist dagegen gepresst, was zu einer physikalischen Zersetzung, wie beispielsweise Abnutzung und Ermüdung, führt. Diese erfordert ein regelmässiges oder unregelmässiges Ersetzen des Dichtungselementes.

[0008] Eine Vielzahl der oben genannten Prozesskammern sind im Allgemeinen um eine einzige, gemeinsame Übergabekammer herum mittels Schiebereinrichtungen gekoppelt, wodurch ein sogenanntes "Cluster Tool" gebildet wird. Arbeiten zum Ersetzen des Dichtungselementes der Schiebereinrichtung werden generell gleichzeitig mit Wartungsarbeiten ausgeführt, die in einem Zustand erfolgen, in dem das Innere der Prozesskammer, das durchgängig zur Schiebereinrichtung ist, für die Aussenluft geöffnet ist. Da jedoch das Innere der Prozesskammer für die Aussenluft geöffnet ist und die Schiebereinrichtung für den Ersatz des Dichtungselementes geöffnet ist, ist das Innere der gemeinsamen Übergabekammer ebenfalls für die Aussenluft geöffnet. Zu diesem Zeitpunkt sind die anderen Prozesskammern durch die verbundenen Schiebereinrichtungen geschlossen.

[0009] In diesem Fall ist, nach Abschluss der Wartungsarbeiten und dem Ersatz des Dichtungselementes, jede der Übergabekammer und der Prozesskammer evakuiert und eine vorherbestimmte Unterdruckatmosphäre wiederhergestellt. Wenn diese Kammern jedoch einmal für die Aussenluft geöffnet sind, haften Feuchtigkeit oder verschiedene unreine Gase in der Luft beispielsweise an der inneren Wandoberfläche. Sehr viel Zeit für die Evakuierung wird benötigt, um die anhaftende Feuchtigkeit und unreinen Gase nahezu vollständig zu entfernen. Demzufolge kommt es zu einem Rückgang der Arbeitsgeschwindigkeit der Einrichtung und des Durchsatzes.

[0010] Um dieses Problem zu lösen, wurde eine Schiebereinrichtung mit zwei Ventilkörpern vorgeschlagen, die beispielsweise in Patentdokument 2 (PCT Anmeldung Veröffentlichungsnummer 2003 503 844) offenbart ist. Speziell sind zwei, unabhängig voneinander betriebsfähige Antriebsmechanismen in der Schiebereinrichtung angeordnet, und diese Antriebsmechanismen sind mit Ventilkörpern ausgestattet. Wenn die Wartung des Innern der Prozesskammer durchgeführt wird, oder das dem korrosiven Gas ausgesetzte Dichtungselement auf der Seite des Ventilkörpers ersetzt wird, ist die Öffnung auf der Seite der gemeinsamen Übergabekammer durch den anderen Ventilkörper luftdicht abgedichtet. Selbst wenn das Innere der Prozesskammer für die Aussenluft geöffnet wird, kann dadurch das Innere der Übergabekammer in einem Vakuumzustand gehalten werden.

[0011] Bei dieser herkömmlichen Schiebereinrichtung müssen jedoch zwei Sets des Ventilkörpers und Antriebsmechanismus vorhanden sein, woraus eine komplexe Gesamtstruktur und eine Zunahme der Anlagengrösse resultieren. Wenn das Dichtungselement ersetzt wird, ist ausserdem notwendig, das Gehäuse der Schiebereinrichtung etc. zu zerlegen. Infolgedessen wird selbst die Ersatzarbeit ein umfangreiches, zeitaufwändiges Unterfangen. Wenn das Dichtungselement ersetzt werden muss, muss ausserdem das Innere der Schiebereinrichtung für die Aussenluft geöffnet werden. Dies hat zur Folge, dass das Innere der Schiebereinrichtung verunreinigt wird, oder dass die Zeit für die Evakuierung des Innern der Schiebereinrichtung nach der Ersatzarbeit zunimmt. Mit anderen Worten, das Dichtungselement kann nicht ersetzt werden, ohne dass das Innere der Prozesskammer für die Aussenluft geöffnet wird.

[0012] Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, es zu ermöglichen, ein Dichtungselement in einer Schiebereinrichtung eines Vakuumprozesssystems zu ersetzen, ohne eine verbundene Prozesskammer für Aussenluft öffnen zu müssen.

[0013] Gemäss einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist eine Schiebereinrichtung eines Vakuumprozesssystems geschaffen, die enthält:
eine umgebende Wand, die einen Übergaberaum zum Hindurchführen eines Zielobjekts definiert;
ein in der Wand gebildeter Übergabeanschluss für das hindurchzuführende Zielobjekt;
einen ersten Ventilsitz, der durch einen Teil der Wand gebildet ist, und der den Übergabeanschluss umgibt;
einen Ventilkörper, der so angeordnet ist, dass er innerhalb der Wand beweglich ist und den Übergabeanschluss öffnet und schliesst;
ein erstes Dichtungselement, das am Ventilkörper angeordnet ist, um mit dem ersten Ventilsitz zusammenzuwirken;
einen Wartungsanschluss, der in der Wand gebildet ist, um Wartungsarbeiten am ersten Dichtungselement auszuführen;

einen zweiten Ventilsitz, der durch einen Teil der Wand gebildet ist, und der den Wartungsanschluss umgibt;
ein zweites Dichtungselement, das am Ventilkörper angeordnet ist, um mit dem zweiten Ventilsitz zusammenzuwirken, wobei das zweite Dichtungselement das erste Dichtungselement umgibt;
einen Wartungsdeckel, der abnehmbar an einer Aussenseite der Wand befestigt ist, um den Wartungsanschluss zu schliessen; und
einen Antriebsmechanismus, der den Ventilkörper innerhalb der Wand antreibt.

[0014] Gemäss einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist eine Schiebereinrichtung geschaffen, die in" einer umgebenden Wand in einem Vakuumprozesssystem angeordnet ist, die einen Übergaberaum zum Hindurchführen eines Zielobjekts definiert, wobei die Wand enthält:
einen in der Wand gebildeten Übergabeanschluss für das hindurchzuführende Zielobjekt;
einen ersten Ventilsitz, der durch einen Teil der Wand gebildet ist, und der den Übergabeanschluss umgibt;
einen Wartungsanschluss, der in der Wand gebildet ist, um Wartungsarbeiten an der Schiebereinrichtung durchzuführen
einen zweiten Ventilsitz, der durch einen Teil der Wand gebildet ist, und der den Wartungsanschluss umgibt;

und
einen Wartungsdeckel, der abnehmbar an einer Aussenseite der Wand befestigt ist, um den Wartungsanschluss zu schliessen;
wobei die Schiebereinrichtung enthält:
einen Ventilkörper, der so angeordnet ist, dass er innerhalb der Wand beweglich ist und den Übergabeanschluss öffnet und schliesst;
ein erstes Dichtungselement, das am Ventilkörper angeordnet ist, um mit dem ersten Ventilsitz zusammenzuwirken;
ein zweites Dichtungselement, das am Ventilkörper angeordnet ist, um mit dem zweiten Ventilsitz zusammenzuwirken, wobei das zweite Dichtungselement das erste Dichtungselement umgibt; und
einen Antriebsmechanismus, der ausgestaltet ist, um den Ventilkörper innerhalb der Wand anzutreiben.

[0015] Gemäss einem dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Halbleiterbearbeitungssystem geschaffen, das enthält:
eine druckeinstellbare gemeinsame Übergabekammer, die eine Vielzahl von Seitenoberflächen hat;
druckeinstellbare erste und zweite Prozesskammern, die an zwei der Vielzahl von Seitenoberflächen angeschlossen sind, um am Zielobjekt einen Halbleiterprozess auszuführen;
einen Übergabemechanismus innerhalb der gemeinsamen Übergabekammer, um das Zielobjekt in die erste und zweite Prozesskammer zu laden und daraus zu entnehmen; und
Schiebereinrichtungen, die jeweils zwischen der gemeinsamen Übergabekammer und der ersten Prozesskammer und zwischen der gemeinsamen Übergabekammer und der zweiten Prozesskammer angeordnet sind,
wobei jede der Schiebereinrichtungen eine Schiebereinrichtung gemäss dem oben beschrieben ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist.

[0016] Weitere Aufgaben und Vorteile der Erfindung werden in der nachfolgenden Beschreibung dargelegt und werden zum Teil aus der Beschreibung offensichtlich sein, oder können bei der Ausführung der Erfindung erkannt werden. Die Aufgaben und Vorteile der Erfindung können durch die im Folgenden besonders hervorgehobenen Instrumentarien und Kombinationen realisiert und erzielt werden.

[0017] Die beiliegenden Zeichnungen, die hier einbezogen sind und einen Teil der Beschreibung darstellen, illustrieren Ausführungsbeispiele der Erfindung und dienen, zusammen mit der allgemeinen, oben gegebenen Beschreibung und der folgenden detaillierten Beschreibung der Ausführungsbeispiele, zur Erläuterung der Prinzipien der Erfindung.
<tb>Fig. 1<sep>ist eine Draufsicht, die ein Prozesssystem zeigt, das eine Schiebereinrichtung gemäss einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung verwendet;

<tb>Fig. 2<sep>ist eine vergrösserte Ansicht eines Querschnitts, die eine Schiebereinrichtung gemäss einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt;

<tb>Fig. 3<sep>ist eine Aufsicht auf die in Fig. 2gezeigte Schiebereinrichtung;

<tb>Fig. 4<sep>ist eine perspektivische Vorderansicht, die einen Ventilkörper und einen Antriebsmechanismus der in Fig. 2 gezeigten Schiebereinrichtung zeigt;

<tb>Fig. 5<sep>ist eine perspektivische Rückansicht, die den Ventilkörper und den Antriebsmechanismus der in Fig. 2gezeigten Schiebereinrichtung zeigt;

<tb>Fig. 6A bis Fig. 6F<sep>sind Ansichten zur Erläuterung eines Betriebs der in Fig. 2 gezeigten Schiebereinrichtung;

<tb>Fig. 7<sep>ist ein Flussdiagramm, das ein Verfahren zum Ersetzen eines Dichtungselementes der in Fig. 2gezeigten Schiebereinrichtung darstellt;

<tb>Fig. 8A bis Fig. 8F<sep>sind Ansichten zur Erläuterung eines Betriebs einer Schiebereinrichtung gemäss einem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;

<tb>Fig. 9<sep>ist eine Ansicht eines Querschnitts, die eine Schiebereinrichtung gemäss einem dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt;

<tb>Fig. 10<sep>ist eine Ansicht eines Querschnitts, die eine Schiebereinrichtung gemäss einem vierten Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt;

<tb>Fig. 11A bis Fig. 11E<sep>sind Ansichten zur Erläuterung eines Betriebs einer Schiebereinrichtung gemäss einem fünften Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;

<tb>Fig. 12A bis Fig. 12C<sep>sind Ansichten zur Erläuterung eines Betriebs einer Schiebereinrichtung gemäss einem sechsten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;

<tb>Fig. 13A bis Fig. 13C<sep>sind Ansichten zur Erläuterung eines Betriebs einer Schiebereinrichtung gemäss einem siebten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; und

<tb>Fig. 14<sep>ist eine Ansicht eines Querschnitts, die eine Schiebereinrichtung gemäss einem achten Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt.

[0018] Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden jetzt mit Bezug auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben. In der folgenden Beschreibung werden die strukturellen Elemente, die im Wesentlichen die gleiche Funktionen und Strukturen haben, durch gleiche Bezugszeichen gekennzeichnet, und eine überlappende Beschreibung ist nur dann gegeben, wenn nötig.

[0019] Fig. 1 ist eine Draufsicht, die ein Prozesssystem zeigt, das eine Schiebereinrichtung gemäss einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung verwendet. Wie in Fig. 1gezeigt, hat das Prozesssystem 2 eine hexagonale gemeinsame Übergabekammer 6. Vier Prozesskammern 4A, 4B, 4C und 4D und zwei Kammern 8A und 8B, die beladen und verriegelt werden können, sind mit der gemeinsamen Übergabekammer 6 verbunden.

[0020] Speziell ist jede Prozesskammer 4A bis 4D so ausgestaltet, so dass deren Innendruck durch Gaszufuhr und Gasabzug einstellbar ist. Jede Prozesskammer 4A bis 4D hat eine Halterung 10A, 10B, 10C, 10D, um einen Halbleiterwafer W zu halten, der ein Zielobjekt darstellt. In einem Zustand, in dem der Wafer W auf dem Trägertisch platziert ist, werden verschiedene Prozesse ausgeführt. Im Allgemeinen werden diese Prozesse unter einer Vakuumatmosphäre ausgeführt. In manchen Fällen und abhängig von der Art des Prozesses wird der Prozess jedoch, bei Normaldruck ausgeführt. Die entsprechenden Prozesskammern 4A bis 4D sind durch Schiebereinrichtungen 12A, 12B, 12C und 12D mit den entsprechenden Seiten der Übergabekammer 6 verbunden.

[0021] Die gemeinsame Übergabekammer 6 ist demnach so ausgestaltet, dass ihr Innendruck durch Gaszufuhr und Evakuierung einstellbar ist. Ein Übergabemechanismus 14, der einziehbar, ausziehbar und drehbar ist, um den Wafer W zu überführen, ist in der Übergabekammer 6 angeordnet. Der Übergabemechanismus 14 kann den Wafer W in und aus den Prozesskammern 4A bis 4D via den geöffneten Schiebereinrichtungen 12A bis 12D laden.

[0022] Zwei Kammern 8A und 8B des Laden- und Verriegeln-Typs sind mit der Übergabekammer 6 via Schiebereinrichtungen 16A und 16B verbunden. Die Kammer 8A, 8B ist so ausgestaltet, dass ihr Innendruck durch Gaszufuhr und Evakuierung einstellbar ist. Die Kammer 8A, 8B ist mit einem Lademodul 20 via den Schiebereinrichtungen 18A, 18B verbunden. Das Lademodul 20 ist mit zwei Anschlüssen 22 ausgestattet, in denen Kassetten, die eine Vielzahl von Wafern W enthalten, angeordnet sind. Ein Transferarmmechanismus 24, der einziehbar, ausziehbar und drehbar ist, ist im Lademodul 20 so angeordnet, dass er entlang einer Führungsschiene 26 bewegt werden kann. Der Transferarmmechanismus 24 kann den Wafer W aus der im Anschluss 22 platzierten Kassette nehmen und kann ihn zur Kammer 8A, 8B überführen.

Der Wafer W in der Kammer 8A, 8B wird vom Übergabemechanismus 14 innerhalb der Übergabekammer 6 aufgenommen und, wie oben beschrieben, in die Prozesskammer 4A bis 4D geladen. Wenn der Wafer W herausgenommen werden soll, wird er auf einem dem Ladeweg entgegengesetzten Weg entnommen.

[0023] Als Nächstes werden die Schiebereinrichtungen 12A bis 12D, die zwischen der Übergabekammer 6 und den Prozesskammern 4A bis 4D angeordnet sind, beschrieben. Da die Schiebereinrichtungen 12A bis 12D die gleiche Struktur haben, werden sie vertretungsweise als "Schiebereinrichtung 12" bezeichnet, und die Prozesskammern 4A bis 4D werden vertretungsweise als "Prozesskammer 4" bezeichnet. Fig. 2ist eine vergrösserte Ansicht eines Querschnitts, die eine Schiebereinrichtung gemäss einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt. Fig. 3ist eine Aufsicht auf die in Fig. 2 gezeigte Schiebereinrichtung.

[0024] Wie in Fig. 2 gezeigt, ist ein länglicher Anschluss 30, durch den der Wafer W geladen und entladen wird, in einer Seitenwand 28 gebildet, die die Prozesskammer 4 definiert. Zusätzlich ist ein Anschluss 34 in einer Seitenwand 32 gebildet, die die Übergabekammer 6 definiert. Die Schiebereinrichtung 12 hat ein Gehäuse 36, das eine äussere Hülle bildet, d. h. es definiert einen Übergaberaum, durch den der Wafer W geführt wird. Das Gehäuse 36 ist im Wesentlichen ein würfelartiger Körper, der beispielsweise aus Aluminium ist, und hat im Wesentlichen einen quadratischen Querschnitt. Ein länglicher Übergabeanschluss 37, der mit dem Innern der Prozesskammer 4 kommuniziert, ist an einer Seite des Gehäuses 36 gebildet. Ein länglicher Anschluss 38, der mit dem Innern der Übergabekammer 6 kommuniziert, ist an der gegenüberliegenden Seite des Gehäuses 36 gebildet.

O-Ringe 40 und 42 zum luftdichten Abschluss sind an Übergängen zwischen dem Gehäuse 36 und der Prozesskammer 4 und der Übergabekammer 6 vorhanden. Innerhalb des Gehäuses 36 ist ein Ventilkörper 44 zum luftdichten Schliessen des Übergabeanschlusses 37 an einem Antriebsmechanismus 46 befestigt. Da der Übergabeanschluss 37 und der Übergabeanschluss 30 ganz miteinander kommunizieren, wird der Anschluss 30 geöffnet bzw. geschlossen, indem der Anschluss 37 geöffnet bzw. geschlossen wird.

[0025] Fig. 4 ist eine perspektivische Vorderansicht, die den Ventilkörper und den Antriebsmechanismus der in Fig. 2gezeigten Schiebereinrichtung zeigt. Fig. 5 ist eine perspektivische Rückansicht, die den Ventilkörper und den Antriebsmechanismus der in Fig. 2 gezeigten Schiebereinrichtung zeigt. Wie in den Fig. 4 und 5gezeigt, hat der Antriebsmechanismus 46 einen U-förmigen Teil 48. Getriebewellen erstrecken sich von beiden Enden des Basisteils 48 nach aussen. Die Getriebewellen 50 durchdringen luftdicht die Seitenwände in Längsrichtung des Gehäuses 36 und sind drehbar gelagert. Eine magnetische Flüssigkeitsdichtung (nicht gezeigt) ist beispielsweise am eindringenden Teil einer jeden Getriebewelle 50 vorhanden, und ein Drehen der Getriebewelle 50 ist möglich, während Abdichtung gewährleistet ist.

[0026] Zwei Antriebskolben 52, die beispielsweise aus Luftzylindern bestehen, sind parallel zueinander am Basisteil 48 vorhanden. Ein plattenförmiger Ventilkörper 44 ist an entfernten Enden der Antriebskolben 52 befestigt. Durch Aus- und Einfahren der Antriebskolben 52 kann der Ventilkörper 44 vorgeschoben oder zurückgezogen werden. Da der Antrieb für das Aus- und Einfahren mittels Druckluft erfolgt, ist im Basisteil 48 eine Gasflusspassage 56 geformt, die mit den Antriebskolben 52 in Verbindung steht. Die Gasflusspassage 56 ist durch eine der Getriebewellen 50 nach aussen geführt. Ein drehbares Stellglied 58, das durch Druckluft angetrieben ist, ist an derjenigen Getriebewelle 50 befestigt, in der die Gasflusspassage 56 gebildet ist.

Das drehbare Stellglied 58 hat einen Gasanschluss 60 zum Aus- und Einfahren der Antriebskolben 52, und einen Gasanschluss 62 zum Drehen des Basisteils 48 um einen festgelegten Winkel im oder entgegen dem Uhrzeigersinn. Kurzum, das Aus- und Einfahren der Antriebskolben 52 und das Drehen des Basisteils 48 können ausgeführt werden, wenn es notwendig ist.

[0027] Wie unten noch beschrieben wird, wird der Basisteil 48 zwischen einer ersten Position, in der der Ventilkörper 44 dem Übergabeanschluss 37 gegenübersteht, und einer zweiten Position, in der der Ventilkörper 44 einem Wartungsanschluss 72 (weiter unten beschrieben) gegenübersteht, gedreht. Der Basisteil 48 ist so ausgestaltet, dass er in der zweiten Position den Wafer nicht stört, wenn dieser via dem Übergabeanschluss 37 durch den Übergaberaum geführt wird. Ein ausdehnbarer bzw. einziehbarer metallischer Balg 64 ist so angeordnet, dass er jeden Antriebskolben 52 umgibt. Der Balg 64 verhindert, dass Druckluft austritt, erlaubt aber das Aus- und Einfahren der Antriebskolben 52.

[0028] Ein erstes Dichtungselement 66 mit einer dünnen ringartigen Form, das beispielsweise aus einem O-Ring geformt ist, ist an einer vorderen Oberfläche des Ventilkörpers 44 vorhanden, um das Innere der Prozesskammer 4 abzudichten. Das erste Dichtungselement 66 kontaktiert luftdicht einen ersten Ventilsitz 37s, der durch einen inneren Oberflächenteil des Gehäuses 36 definiert ist, der den Übergabeanschluss 37 umgibt, wodurch der Übergabeanschluss 37 sicher abgedichtet ist. Ein zweites Dichtungselement 68, das beispielsweise aus einem O-Ring geformt ist, ist am Ventilkörper 44 vorhanden, um das erste Dichtungselement 66 mit einer vorherbestimmten Distanz L1 zu umgeben. Kurzum, das erste und zweite Dichtungselement 66 und 68 sind konzentrisch doppelspurartig angeordnet. Die vorherbestimmte Distanz L1 ist beispielsweise auf etwa 5 mm bis 20 mm festgelegt.

[0029] Um den ersten Ventilsitz 37s herum ist auf der inneren Oberfläche des Gehäuses 36 in Umfangsrichtung des Übergabeanschlusses 37 ein ausgesparter Bereich 70 ausgeformt, der eine dünne kreisförmige Gestalt hat. Der ausgesparte Bereich 70 ist so geformt, um Kontakt zwischen dem zweiten Dichtungselement 68 und der inneren Oberfläche des Gehäuses 36 zu vermeiden, wenn der Ventilkörper 44 auf dem Übergabeanschluss 37 platziert ist. Dies vermeidet unnötige Zersetzung (Abnutzung oder Ermüdung) des zweiten Dichtungselementes 68.

[0030] Ein länglicher Wartungsanschluss 72 zum Ersetzen des ersten Dichtungselementes 66, das an der Innenseite des Ventilkörpers vorhanden ist, ist in einem Deckenteil des Gehäuses 36 gebildet. Ein zweiter Ventilsitz 72s ist durch einen inneren Oberflächenteil des Gehäuses 36 gebildet, der den Wartungsanschluss 72 umgibt. Wenn der Wartungsanschluss 72 durch den Ventilkörper 44 geschlossen ist, ist nur das zweite Dichtungselement 68 in engem Kontakt mit dem zweiten Ventilsitz 72s Mit anderen Worten, der Wartungsanschluss 72 ist etwas breiter ausgelegt als der Übergabeanschluss 37. Der Wartungsanschluss 72 ist dadurch durch das zweite Dichtungselement 68 luftdicht abgedichtet, während das innere, erste Dichtungselement 66 im Wartungsanschluss 72 freiliegt.

[0031] Der Wartungsanschluss 72 ist durch einen Wartungsdeckel 74 über einen O-Ring 76 luftdicht abgedichtet. Der Wartungsdeckel 74 ist an der Aussenseite des Gehäuses 36 befestigt. Der Wartungsdeckel 74 ist mittels einer Vielzahl von Bolzen 78 abnehmbar befestigt. Der Wartungsdeckel 74 ist aus einer transparenten Platte, beispielsweise einer Acrylharzplatte, oder hat an einer Stelle ein transparentes Sichtfenster. Der Grad der Zersetzung des ersten Dichtungselementes 66 kann dadurch von aussen sichtbar erkannt werden, ohne dass der Wartungsdeckel 74 abgenommen werden muss.

[0032] Ein Gaszufuhrsystem 80 und ein Evakuierungssystem 88 sind mit dem Wartungsanschluss 72 verbunden, um den Druck in einem Raum 82 (s. Fig. 6E) einzustellen, der zwischen dem Wartungsdeckel 74 und dem Ventilkörper 44 definiert ist, wenn das zweite Dichtungselement 68 in engem Kontakt mit dem zweiten Ventilsitz 72s ist. Wie in Fig. 2 gezeigt, hat das Gaszufuhrsystem 80 speziell einen Flusspfad 84, der in einem Wandteil um den Wartungsanschluss 72 herum gebildet ist und den Austausch zwischen dem Raum 82 (der Region des Wartungsanschlusses 72 entsprechend) und aussen erlaubt. Ein Gasspeisesystem (nicht gezeigt), das bei Bedarf via ein (Auf/Zu) Ventil 86 beispielsweise N2 Gas oder saubere Luft zuführt, ist an den Flusspfad 84 angeschlossen.

Alternativ dazu kann beispielsweise ein manuell oder automatisch betriebenes Entlastungsventil am Wartungsdeckel 74 statt des Gaszufuhrsystems 80 vorgesehen sein.

[0033] Das Evakuierungssystem 88 hat einen Flusspfad 90, die in einem Wandteil um den Wartungsanschluss 72 herum gebildet ist und den Austausch zwischen dem Raum 82 und aussen erlaubt. Eine Vakuumabzugspumpe (nicht gezeigt), die bei Bedarf via ein Auf/Zu Ventil 92 eine Atmosphäre im Raum 82 entleert, ist an den Flusspfad 90 angeschlossen. Alternativ dazu kann beispielsweise ein Belüftungsventil, das automatisch öffnet und schliesst, am Wartungsanschluss 72 als das Evakuierungssystem 88 vorgesehen sein, wodurch eine Verbindung zwischen dem Raum 82 und dem Innern des Gehäuses 36 erlaubt wird.

[0034] Alternativ können die zwei Pflusspfade 84 und 90 unter Verwendung eines Dreiwegeventils zusammengelegt werden. Durch das Schalten des Dreiwegeventils können die Zufuhr von N2Gas oder reiner Luft oder der Abzug wahlweise ausgeführt werden.

[0035] Fig. 6A bis 6F sind Ansichten zur Erläuterung eines Betriebs der in Fig. 2gezeigten Schiebereinrichtung. Fig. 6A bis 6Fzeigen nur die hauptsächlichen Teile der oben beschriebenen Schiebereinrichtung 12 in vereinfachter Art.

[0036] Um die Richtung des Ventilkörpers 44 der Schiebereinrichtung 12 zu ändern, wird, wie oben beschrieben wurde, das Basisteil 48 im oder gegen den Uhrzeigersinn gedreht, wodurch der Ventilkörper 44 nach oben oder seitwärts gedreht wird, wie in den Fig. 6A bis 6F gezeigt (der in Fig. 5 gezeigte Gasanschluss 62 wird benutzt). Um den Ventilkörper 44 vor oder zurück zu bewegen, werden ausserdem die Antriebskolben 52, die z.B. aus Luftzylindern gebildet sind, aus- und eingefahren (der in Fig. 5 gezeigte Gasanschluss 60 wird benutzt). Der Antriebsmechanismus 46 ist mit einem Verriegelungsmechanismus 51 ausgestattet, um den Basisteil 48 an entsprechenden Haltepositionen zu verriegeln. Der Verriegelungsmechanismus 51 sorgt für Sicherheit, insbesondere zur Zeit des Ersatzes des Dichtungselementes, wie weiter unten beschrieben.

[0037] Wenn der Wafer W von der Übergabekammer 6 in die Prozesskammer 4 geladen wird, oder wenn der Wafer W aus der Prozesskammer 4 in die Übergabekammer 6 entladen wird, wird der Ventilkörper 44 eingefahren und der Basisteil 48 wird in diesem Zustand nach oben gedreht, wie in Fig. 6Dgezeigt. Der Übergabeanschluss 37 wird dabei geöffnet und ein Bewegungspfad 94 des Wafers W wird nicht unterbrochen, so dass der Wafer W entlang des Bewegungspfades 94 geführt werden kann. In diesem Fall wird die Übergabekammer 6 immer unter Vakuum gehalten. Die Übergabekammer 6 und die Prozesskammer 4 können miteinander kommunizieren, nachdem eine Druckdifferenz zwischen den beiden Kammern auf einen vorherbestimmten Wert, oder darunter, eingestellt ist.

[0038] Wenn ein Prozess, z.B. Schichtbildung, ausgeführt wird, wird der Basisteil 48 seitwärts gedreht, wie in Fig. 6A gezeigt, und der Ventilkörper 44 wird vorwärts bewegt und an den Übergabeanschluss 37 platziert. Das erste Dichtungselement 66 am Ventilkörper 44 kontaktiert demnach den ersten Ventilsitz 37s und der Übergabeanschluss 37 ist luftdicht abgedichtet. Das Innere der Prozesskammer 4 befindet sich dadurch im geschlossenen Zustand, und in diesem Zustand wird ein vorgeschriebener Prozess oder eine Reinigung in der Prozesskammer 4 ausgeführt. Zu dieser Zeit steht das zweite Dichtungselement 68 an der Aussenseite des ersten Dichtungselementes 66 dem ausgesparten Bereich 70 gegenüber, der sich um den ersten Ventilsitz 37s herum in einem berührungslosen Zustand befindet.

Das zweite Dichtungselement 68 wird somit nicht nutzlos deformiert und eine durch Deformierung verursachte Zersetzung des zweiten Dichtungselementes 68 kann vermieden werden. Währenddessen braucht der ausgesperrte Bereich 70 nicht vorgesehen zu sein, und eine im Allgemeinen flache Sitzfläche ohne einen abgestuften Teil kann stattdessen gebildet sein.

[0039] Fig. 7 ist ein Flussdiagramm, das ein Verfahren zum Ersetzen des Dichtungselementes der in Fig. 2 gezeigten Schiebereinrichtung darstellt. Das Verfahren zum Ersetzen des ersten Dichtungselementes 66 der in Fig. 2 gezeigten Schiebereinrichtung 12 wird mit Bezug auf Fig. 6Abis Fig. 6Fbeschrieben.

[0040] Der Ersatz des ersten Dichtungselementes 66 wird zur gleichen Zeit wie die Wartung des Innern der Prozesskammer 4 vorgenommen. In diesem Fall wird auch die Übergabekammer 6 evakuiert und das Innere der Kammer 6 wird auf einer vorherbestimmten druckreduzierten Atmosphäre (in einem Vakuumzustand) gehalten. Zusätzlich wird das Innere der Schiebereinrichtung 12, die immer mit der Übergabekammer 6 kommuniziert, auf einer druckreduzierten Atmosphäre gehalten.

[0041] Anfangs, wie in Fig. 6Agezeigt, wird vor der Wartung der Prozesskammer 4 der Ventilkörper 44 an den Übergabeanschluss 37 platziert und dichtet somit den Übergabeanschluss 37 luftdicht ab (Schritt S1). Dadurch ist die Kommunikation zwischen der Prozesskammer 4 und der Übergabekammer 6 gesperrt. In diesem Zustand wird das Innere der Prozesskammer 4 für Aussenluft geöffnet und notwendige Wartung, wie z.B. Ersatz einer Elektrode oder Ersatz einer inneren Komponente, wird durchgeführt (Schritt S2).

[0042] Nach Abschluss der Wartungsarbeiten wird die Prozesskammer wieder zusammengebaut und mit der Evakuierung der Prozesskammer 4, die unter Atmosphärendruck steht, wird begonnen und der Druck in der Prozesskammer 4 wird schrittweise reduziert (Schritt S3). Während die Prozesskammer 4 evakuiert wird, wird die Druckdifferenz zwischen dem Innern der Prozesskammer 4 und dem Innern der Übergabekammer 6 mit einem Druckmessgerät (nicht gezeigt) gemessen, und es wird bestimmt, ob die Druckdifferenz einen vorherbestimmten Wert, oder darunter, erreicht (Schritt S4).

[0043] Wenn die Druckdifferenz den vorherbestimmten Wert, oder darunter, erreicht (JA in Schritt S4 ), dann sinkt die Möglichkeit, Partikel einzubinden im Wesentlichen auf Null. Der Ventilkörper 44 wird daher zurückgezogen, wie in Fig. 6B gezeigt. Infolge wird der Übergabeanschluss 37 geöffnet und die Prozesskammer 4 und die Übergabekammer 6 werden wieder in den Zustand versetzt, in dem das Innere der Prozesskammer 4 mit dem Inneren der Übergabekammer 6 unter einer druckreduzierten Atmosphäre kommuniziert. Danach wird der Basisteil 48, wie in Fig. 6C und 6Dgezeigt, schrittweise um z.B. 90[deg.] gedreht, und der Ventilkörper 44 wird in Richtung des Wartungsanschlusses 72 gedreht (Schritt S5). In diesem Fall wird auch die Evakuierung der Prozesskammer 4 für eine lange Zeit fortgesetzt, um Feuchtigkeit oder unnötiges, an der Wandoberfläche haftendes Gas zu entfernen.

[0044] Wie in Fig. 6E gezeigt, wird dann der Ventilkörper 44 vorgeschoben und am Wartungsanschluss 72 platziert, um somit den Wartungsanschluss 72 luftdicht abzudichten (Schritt S6). In diesem Fall kontaktiert das äussere zweite Dichtungselement 68 den zweiten Ventilsitz 72s, da der Wartungsanschluss 72 etwas grösser ausgestaltet ist als der Übergabeanschluss 34. Andererseits liegt das innere erste Dichtungselement 66, das zersetzt wird, am Wartungsanschluss 72 frei.

[0045] Zu dieser Zeit ist ein geschlossener Raum 82, obschon klein, zwischen dem Ventilkörper 44 und dem Wartungsdeckel 74 definiert. Wenn der Wartungsdeckel 74 schnell entfernt wird, geht das Vakuum im Raum 82 verloren, was zu einer Verteilung von Partikeln etc. führt. Um das zu vermeiden, wird vor dem Entfernen des Wartungsdeckels 74 das in Fig. 2gezeigte Gaszufuhrsystem 80 aktiviert, um z.B. N2 Gas in den Raum 82 zu leiten, wodurch der Raum 82 in einen atmosphärischen Druckzustand gebracht wird. Im Fall, dass das Entlassungsventil statt des Gaszufuhrsystems 80 vorhanden ist, kann das Entlastungsventil manuell geöffnet werden, um den Raum 82 in den atmosphärischen Druckzustand zu bringen.

[0046] Wenn der Raum 82 in den atmosphärischen Zustand übergegangen ist, werden auf diese Weise die in den Fig. 2 und 3gezeigten Bolzen 78 gelockert und der Wartungsdeckel 74 wird wie in Fig. 6Fgezeigt entfernt (Schritt S7). Dadurch wird der Wartungsanschluss 72 für die Aussenluft geöffnet.

[0047] Ein Wartungsarbeiter ersetzt dann das zersetzte erste Dichtungselement 66, das im Wartungsanschluss 72 frei- liegt, durch ein neues Dichtungselement (Schritt S8). In diesem Fall, wenn der Wartungsarbeiter, das neue Dichtungselement befestigt, drückt der Wartungsarbeiter oder die Wartungsarbeiterin kräftig auf den Ventilkörper 44. Da jedoch der Antriebsmechanismus 46 durch den aktivierten Verriegelungsmechanismus 51 in den verriegelten Zustand gesetzt wird, ist die Sicherheit während der Arbeit gewährleistet.

[0048] Wenn die Prozedur zum Ersetzen des ersten Dichtungselementes 66 abgeschlossen ist, wird der Wartungsdeckel 74 wieder angebracht und durch die Bolzen 78 befestigt (Schritt S9). Der Zustand zu dieser Zeit ist in Fig. 6Egezeigt. Zu dieser Zeit, entgegen dem oben beschriebenen Fall, ist der Raum 82 im atmosphärischen Druckzustand. Wenn der Ventilkörper 44 in diesem Zustand zurückgezogen wird, diffundiert Feuchtigkeit etc. enthaltende Aussenluft, auch wenn die Menge gering ist, in die Prozesskammer 4 oder in die Übergabekammer 6. Wenn also der Ventilkörper 44 zurückgezogen werden soll, wird das in Fig. 2 gezeigte Evakuierungssystem 88 aktiviert und das atmosphärische Druckgas im Raum 82 wird evakuiert. Nachdem die Evakuierung über eine gewisse Zeitdauer ausgeführt wurde, wird der Ventilkörper 44 zurückgezogen und getrennt vom Wartungsanschluss 72 (Schritt S10).

Der Zustand zu dieser Zeit ist in Fig. 6Dgezeigt. Die Arbeit zum Ersetzen des ersten Dichtungselementes 66 ist damit abgeschlossen.

[0049] Wie oben beschrieben, kann die Arbeit zum Ersatz des ersten Dichtungselements 66 ausgeführt werden, während in der Übergabekammer 6 und in der Prozesskammer 4 ein Vakuum aufrecht erhalten wird. In diesem Fall kann die Arbeitsgeschwindigkeit des Prozesssystems deutlich verbessert werden, da in der Übergabekammer 6, die eine grössere Kapazität hat als die Prozesskammer 4, ein Vakuumzustand aufrecht erhalten werden kann.

[0050] Die Arbeit zum Ersatz des ersten Dichtungselements 66 ist in einigen zehn Minuten ausgeführt. Andererseits benötigt das Austreiben durch Evakuation zur Elimination von z.B. Feuchtigkeit in der einmal zur Umgebungsluft geöffneten Prozesskammer 4, das so genannte "depleting driving", mehrere Stunden (bis zu zehn und mehr Stunden). Somit kann die Haltezeit des ganzen Prozesssystems reduziert werden, wenn die Arbeit zum Ersatz des ersten Dichtungselements 66 während dem "depleting driving" durchgeführt wird, und die Betriebsgeschwindigkeit des Prozesssystems kann erhöht werden.

[0051] Weiter ist es nicht nötig, die Schiebereinrichtung in grossem Masse auseinanderzunehmen, wenn das erste Dichtungselement 66 ersetzt wird. Die Arbeit zum Ersatz des ersten Dichtungselements 66 erfordert lediglich das Abmontieren des Wartungsdeckels 74. Somit wird die Arbeitseffizienz verbessert und die Arbeit zum Ersatz kann schneller durchgeführt werden.

[0052] Da nur ein Ventilkörper und nur ein Antriebssystem notwendig sind, wird die Struktur der ganzen Vorrichtung ausserdem vereinfacht und die Grösse der ganzen Vorrichtung reduziert

Zweite Ausführung

[0053] Fig. 8A bis 8F zeigen Ansichten zur Erklärung des Betriebs einer Schiebereinrichtung gemäss einer zweiten Ausführung der vorliegenden Erfindung. Die Fig. 8A bis 8Fzeigen nur die wichtigsten Teile der Schiebereinrichtung.

[0054] In der ersten Ausführung ist ein ausgesparter Bereich 70 um den ersten Ventilsitz 37s des Übergabeanschlusses 37 vorgesehen, und das zweite Dichtungselement 68 wird daran gehindert, die innere Oberfläche des Gehäuses zu kontaktieren, wenn der Ventilkörper 44 aufsitzt. In der zweiten Ausführung ist eine zurückversetzte Stufe 70X, welche zur Erzielung des gleichen Effekts ausgestaltet ist, am Rand des Ventilkörpers 44 ausgeformt, so dass sie das erste Dichtungselement 66 des Dichtungskörpers 44 umgibt. Im Übrigen ist die Struktur der zweiten Ausführung die gleiche wie jene der ersten Ausführung.

[0055] Insbesondere ist die Dicke des Ventilkörpers 44 etwas höher, und ein Randbereich des Ventilkörpers 44 hat Stufenform. So wird die zurückversetzte Stufe 70X am Rand gebildet. Das zweite Dichtungselement 68 ist an der zurückversetzten Stufe 70X angeordnet. Zusätzlich ist das erste Dichtungselement 66 an einem mittleren, vorstehenden Teil des Ventilkörpers 44 vorgesehen. Der vorstehende Teil ist, wie in Fig. 8E und 8Fdargestellt, so geformt, dass er im Wartungsanschluss 72 aufgenommen wird.

[0056] Wenn der Ventilkörper 44 auf dem Übergabeanschluss 37 aufsitzt, wie in Fig. 8A gezeigt, berührt das erste Dichtungselement 66 den ersten Ventilsitz 37s um die Dichtung zu bewirken. Zu dieser Zeit wird das zweite Dichtungselement 68, das an der zurückversetzten Stufe, 70X angeordnet ist, in einem berührungsfreien Zustand gehalten. Andererseits berührt das zweite Dichtungselement 68 den zweiten Ventilsitz 72s und dichtet den Wartungsanschluss 72 ab, wenn der Ventilkörper 44 auf dem Wartungsanschluss 72 sitzt, während das erste Dichtungselement 66 im Wartungsanschluss 72 zugänglich ist.

Dritte Ausführung

[0057] Fig. 9 ist eine Schnittansicht, welche eine Schiebereinrichtung gemäss einer dritten Ausführung der Erfindung zeigt. Fig. 9zeigt nur die wichtigsten Teile der Schiebereinrichtung.

[0058] In der ersten und der zweiten Ausführung ist der Basisteil 48 des Antriebsmechanismus 46 drehbar. In der dritten Ausführung ist ein Basisteil 98 in Stangenform vorgesehen und so ausgestaltet, dass er vertikal bewegbar ist. Ein ausfahrbarer, beweglicher Ventilkörper 44 ist am distalen Ende des Basisteils 98 vorgesehen. Das Gehäuse 36 ist so ausgeformt, dass es rechteckigen Querschnitt hat und nach oben verlängert ist. Der stabförmige Basisteil 98 durchdringt den Deckenteil des Gehäuses 36 und ist nach aussen geführt. Ein metallischer, verlängerbarer und einfahrbarer Balg 100 ist an diesem Teil des Basisteils 98 vorgesehen, der den Deckenteil des Gehäuses 36 durchdringt. Der Balg 100 hält die Luftdichtigkeit der Schiebereinrichtung aufrecht und erlaubt eine vertikale Bewegung des stabförmigen Basisteils 98.

[0059] Ein Wartungsanschluss 72 und ein Wartungsdeckel 74 sind an einer Seitenwand des oberen Teils des Gehäuses 36 vorgesehen. In dieser Ausführung ist der Wartungsanschluss 72 vertikal zum Übergabeanschluss 37 ausgerichtet.

[0060] In der dritten Ausführung wird der Basisteil 98 vertikal und linear bewegt, so dass der Ventilkörper wahlweise vor dem Übergabeanschluss 37 oder vor dem Wartungsanschluss 72 steht. Wird der Wafer W eingebracht oder herausgenommen, wird das Ventil 44 nach oben in einen Standby-Zustand gebracht. In der dritten Ausführung wird der Drehmechanismus nicht benötigt und es ist nur ein Linearverschiebungsmechanismus notwendig. Dadurch kann die Struktur der Vorrichtung vereinfacht werden.

[0061] Der Grund, wieso der Wartungsanschluss 72 auf der oberen Seite der Prozesskammer 4 angeordnet ist, liegt darin, dass die obere Seite der Prozesskammer generell viel Platz bietet und einen einfachen Austausch des Dichtungselements erlaubt. Abhängig von den Anforderungen kann das Gehäuse 36 auch nach unten verlängert werden und der Wartungsanschluss 72 kann unterhalb der Prozesskammer 4 angeordnet werden.

Vierte Ausführung

[0062] Fig. 10 ist eine Schnittansicht einer Schiebereinrichtung gemäss einer vierten Ausführung der Erfindung. Fig. 10zeigt nur die wichtigsten Teile der Schiebereinrichtung.

[0063] In der vierten Ausführung ist das Gehäuse 36 der dritten Ausführung nach Fig. 9 nach unten verlängert, und zwar mindestens um eine Länge, die der Höhe des Ventils 44 entspricht. Der stabförmige Basisteil 98 ist so angeordnet, dass er den Bodenteil des Gehäuses 36 durchdringt. In diesem Fall kann der Ventilkörper 44 an die tiefste Stellung im Gehäuse abgesenkt werden, so dass er den Pfad 94 des Wafers W nicht unterbricht, wenn dieser zwischen der Übergabekammer 6 und der Prozesskammer 4 überführt werden muss.

Fünfte Ausführung

[0064] Fig. 11A bis 11E zeigen Ansichten zur Illustration des Betriebs einer Schiebereinrichtung gemäss einer fünften Ausführung der vorliegenden Erfindung. Fig. 11A bis 11Ezeigen nur die wichtigsten Teile der Schiebereinrichtung. Die fünfte Ausführung ist eine Modifikation der oben erwähnten ersten und zweiten Ausführungen.

[0065] In der fünften Ausführung hat das Gehäuse 36 einen im Wesentlichen sechseckigen Querschnitt, und nicht einen ungefähr quadratischen Querschnitt. Der drehbare Basisteil 48 hat einen Querschnitt, der im Wesentlichen einem gleichschenkligen Dreieck entspricht. Zwei Ventilkörper, d.h. ein erster und ein zweiter Ventilkörper 44A und 44B, welche unabhängig voneinander ausgefahren und zurückgezogen werden können, sind auf den gleichen Schenkelseiten des Basisteils 48 angeordnet. Ein Winkel [theta] zwischen dem ersten Ventilköper 44A und dem zweiten Ventilkörper 44B in Bezug auf das Drehzentrum beträgt etwa 60[deg.]. Auch in diesem Fall sind individuell steuerbare Antriebskolben 52 für den ersten und den zweiten Ventilkörper 44A bzw. 44B vorgesehen.

[0066] Der Ventilkörper der zweiten Ausführung gemäss Fig. 8A bis 8F, d.h. der Ventilkörper mit der zurückversetzten Stufe 70X, wird für den ersten Ventilkörper 44A sowie den zweiten Ventilkörper 44B verwendet. Ein erster länglicher Wartungsanschluss 72 und ein zweiter länglicher Wartungsanschluss 72B sind an denjenigen Teilen des sechseckigen Gehäuses 36 angeordnet, die beidseits an den Übergabeanschluss 37 angrenzen. Ein erster und ein zweiter Wartungsdeckel 74A und 74B sind mittels Bolzen (nicht gezeigt) entfernbar an den Wartungsanschlüssen 72A und 72B angebracht. Am ersten und am zweiten Wartungsanschluss 72A und 72B sind Systeme zur Evakuation und Gaszufuhr, 80 bzw. 88, wie in Fig. 2 gezeigt, vorgesehen.

[0067] In der fünften Ausführung wird der Basisteil 48 wie in Fig. 11A oder 11D gezeigt positioniert, wenn der Wafer W passieren muss, so dass sein Pfad 94 nicht unterbrochen wird. Insbesondere sind sowohl der erste als auch der zweite Ventilkörper 44A und 44B zurückgezogen und der erste und der zweite Ventilkörper 44A und 44B sind in diesem Zustand nach oben oder nach unten weggedreht. Wird der Basisteil 48 verschwenkt, werden der erste und der zweite Ventilkörper 44A und 44B zurückgezogen, wie in Fig. 11Bgezeigt, so dass sie nicht mit den Innenwänden kollidieren.

[0068] Wird ein Prozessschritt durchgeführt, sitzt der erste oder der zweite Ventilkörper 44A bzw. 44B auf dem Übergabeanschluss 37, wodurch er den Übergabeanschluss 37 abdichtet und das Innere der Prozesskammer 4 in abgedichtetem Zustand hält. Insbesondere haben der erste und der zweite Ventilkörper 44A und 44B äquivalente Funktionen. In Fig. 11Csitzt der erste Ventilkörper 44A auf dem ersten Wartungsanschluss 72A. In Fig. 11Esitzt der zweite Ventilköper 44B auf dem zweiten Wartungsanschluss 72B. Wenn jedoch die Verarbeitung durchgeführt wird, ist es nicht notwendig, den Ventilkörper 44A, 44B auf den Wartungsanschluss zu setzen und die Ventilkörper 44A und 44B werden zurückgezogen.

[0069] Als Nächstes wird das Verfahren zum Ersetzen der inneren Dichtungselemente 66 auf dem ersten und dem zweiten Ventilkörper 44A, 44B beschrieben.

[0070] Zuerst wird, wenn das innere erste Dichtungselement 66 auf dem ersten Ventilkörper 44A ersetzt werden muss, der zweite Ventilkörper 44B auf den Übergabeanschluss 37 gesetzt, wie in Fig. 11C gezeigt, um den Übergabeanschluss 37 abzudichten. Andererseits wird der erste Ventilkörper 44A auf den ersten Wartungsanschluss 72A gesetzt, um den Wartungsanschluss 72A abzudichten. In diesem Zustand wird der erste Wartungsdeckel 74A gelöst, und das erste Dichtungselement 66 des ersten Ventilkörpers 44A wird durch ein neues Dichtungselement ersetzt.

[0071] Wenn dass innere erste Dichtungselement 66 auf dem zweiten Ventilkörper 44b ersetzt werden soll, wird der erste Ventilkörper 44A auf den Übergabeanschluss 37 gesetzt, wie in Fig. 11E gezeigt, um den Übergabeanschluss 37 abzudichten. Andererseits wird der zweite Ventilkörper 44B auf den unteren zweiten Wartungsanschluss 72B gesetzt, um den Wartungsanschluss 72B abzudichten. In diesem Zustand wird der zweite Wartungsdeckel 74B gelöst, und das erste Dichtungselement 66 des zweiten Ventilkörpers 44A wird durch ein neues Dichtungselement ersetzt.

[0072] In der fünften Ausführung kann das erste Dichtungselement 66 ersetzt werden, selbst wenn der Prozess in der Prozesskammer 4 läuft oder wenn Wartungsarbeiten unter Öffnung der Prozesskammer 4 zur Umgebung stattfinden, unabhängig von den Durckverhältnissen in der Prozesskammer 4. Insbesondere um eine gegenseitige Verschmutzung der Prozesskammern 4A bis 4D zu vermeiden, ist es notwendig, eine Situation zu vermeiden, bei welcher eine Mehrzahl von Prozesskammern gleichzeitig zur Übergabekammer 6 hin offen sind. In diesem Fall wird in der fünften Ausführung verhindert, dass die Übergabekammer 6 mit der Prozesskammer 4 kommuniziert, und das ganze System inklusive die Schiebereinrichtung kann unter Vakuum gehalten werden.

Deshalb ist die fünfte Ausführung, welche die zwei Ventilkörper verwendet, mit besonders grossem Vorteil auf den oben beschriebenen Fall anwendbar.

Sechste Ausführung

[0073] Fig. 12A bis 12C sind Ansichten zur Erklärung eines Betriebs der Schiebereinrichtung gemäss einer sechsten Ausführung der vorliegenden Erfindung. Fig.12A bis 12Czeigen nur die wichtigsten Teile der Schiebereinrichtung. Die sechste Ausführung ist eine Modifikation der fünften Ausführung nach Fig. 11Abis 11E.

[0074] In der sechsten Ausführung haben ein erster Ventilkörper 44A und ein zweiter Ventilkörper 44B unterschiedlichen Aufbau. Einer der beiden Ventilkörper, z.B. der erste Ventilkörper 44A, ist mit einem ersten Dichtungselement 66, einer zurückgesetzten Stufe 70X und einem zweiten Dichtungselement 68 versehen. Der andere Ventilkörper, d.h. der zweite Ventilkörper 44B, ist mit einem ersten Dichtungselement 66A versehen, aber nicht mit einer zurückversetzten Stufe 70X oder einem zweiten Dichtungselement 68. Mit anderen Worten ist der zweite Ventilkörper 44B ein Dichtungskörper in Form einer flachen Platte, wie in Fig. 2 gezeigt, jedoch ohne das zweite Dichtungselement 68. Während einem Prozess oder einer Reinigung wird prinzipiell der erste Ventilkörper 44A zum Abdichten des Übergabeanschlusses 37 verwendet.

[0075] Wenn der erste Ventilkörper, wie in Fig.12Cgezeigt, auf dem Wartungsanschluss 72A sitzt um das erste Dichtungselement 66 des ersten Ventilkörpers 44A zu ersetzen, sitzt der zweite Ventilkörper 44B auf dem Übergabeanschluss 37, um diesen abzudichten. In dieser Ausführung wird das erste Dichtungselement 66 des zweiten Ventilkörpers 44B kaum abgenutzt und benötigt keinen Ersatz. Deshalb ist es nicht notwendig, das Gehäuse 36 mit dem zweiten Wartungsanschluss 72B zu versehen, wie dies in der fünften Ausführung nach Fig. 11Abis 11E der Fall war. Wenn der Basisteil 48 gedreht wird, werden sowohl der erste als auch der zweite Ventilkörper 44A und 44B zurückgezogen, wie in Fig. 12Agezeigt. In der sechsten Ausführung können die gleichen vorteilhaften Effekte erzielt werden wie mit der fünften Ausführung.

Siebte Ausführung

[0076] Fig. 13A bis 13C sind Ansichten zur Erklärung eines Betriebs der Scheibereinrichtung gemäss einer siebten Ausführung der vorliegenden Erfindung. Fig.13A bis 13Czeigen nur die wichtigsten Teile der Schiebereinrichtung. Die siebte Ausführung im wesentlichen eine Kombination der fünften Ausführung nach Fig. 11A bis 11Eund der sechsten Ausführung nach Fig. 12A bis 12C.

[0077] In der siebten Ausführung ist eine linke Hälfte des Gehäuses 36 direkt und in offenem Zustand mit der Übergabekammer 6 gekoppelt. Der erste und. der zweite Ventilkörper 44A und 44B haben den gleichen Aufbau wie die zwei Ventilkörper 44A und 44B, die in der fünften Ausführung verwendet wurden. Das Gehäuse 36 ist mit dem ersten Wartungsanschluss 74A versehen, aber nicht mit dem zweiten Wartungsanschluss, wie in der sechsten Ausführung nach Fig. 12Abis 12C. In der siebten Ausführung können ebenfalls die gleichen vorteilhaften Effekte erzielt werden wie mit der sechsten Ausführung gemäss Fig. 12Abis 12C.

Achte Ausführung

[0078] Fig. 14 ist eine Schnittansicht, welche eine Schiebereinrichtung gemäss einer achten Ausführung der Erfindung zeigt. In der Schiebereinrichtung gemäss der ersten bis siebten Ausführung sind das Gehäuse 36, der Basisteil 48, der Ventilkörper 44 etc. als Einheit konstruiert, welche als ein Teil abnehmbar am Vakuumprozesssystem angeordnet ist. In der achten Ausführung dient jedoch eine Seitenwand einer benachbarten Kammer gleichzeitig als Teil der umgebenden Wand, die den Übergaberaum der Schiebereinrichtung definiert.

[0079] Wie in Fig. 14 gezeigt, erfüllt beispielsweise ein Teil der Seitenwand der Prozesskammer 4 die Funktion des oben erwähnten Gehäuses 36 auf der Seite des Übergabeanschlusses 37. Zusätzlich erfüllt ein Teil der Seitenwand der Übergabekammer 6 die Funktion der anderen Wand des Gehäuses 36. Insbesondere sind Ventilkörper 44, der Basisteil 48, etc. in einem Endbereich der Übergabekammer 6 angeordnet, und ein distales Ende dieses Endbereichs ist mit der Seitenwand 28 der Prozesskammer 4 gekoppelt. Entsprechend wird ein erster Ventilsitz 37s durch die äussere Oberfläche der Seitenwand 28 definiert, welche den Übergabeanschluss 30 definiert, und der Ventilkörper 44 sitzt direkt auf dem ersten Ventilsitz 37s. Ausserdem ist ein zurückversetzter Bereich 70 als Schutz. für das zweite Dichtungselement 68 in der äusseren Oberfläche der Seitenwand 28 ausgeformt.

[0080] In den oben beschriebenen Ausführungen wurde ein Halbleiterwafer als Beispiel für das Zielobjekt genannt. Die vorliegende Ausführung kann jedoch auch mit Glassubstraten, LCD-Substraten etc. verwendet werden.

[0081] Zusätzliche Vorteile und Varianten werden einem Fachmann klar sein. Deshalb ist die Erfindung in ihren allgemeinen Aspekten nicht auf die hier beschriebenen spezifischen Details und Ausführungsbeispiele beschränkt. Entsprechend können unterschiedliche Varianten ausgeführt werden, ohne vom Geist oder Schutzbereich des allgemeinen Erfindungsgedankens abzuweichen, wie dieser in den angefügten Ansprüchen definiert ist.

Claims

1. Schiebereinrichtung eines Vakuumprozesssystems, gekennzeichnet durch:

- eine umgebende Wand (36), die einen Übergaberaum zum Hindurchführen eines Zielobjekts definiert;

- einen in der Wand gebildeten Übergabeanschluss (37) für das hindurchzuführende Zielobjekt;

- einen ersten Ventilsitz (37s), der durch einen Teil der Wand gebildet ist, und der den Übergabeanschluss umgibt;

- einen Ventilkörper (44), der so angeordnet ist, dass er innerhalb der Wand beweglich ist und den Übergabeanschluss öffnet und schliesst;

- ein erstes Dichtungselement (66), das am Ventilkörper angeordnet ist, um mit dem ersten Ventilsitz zusammenzuwirken;

- einen Wartungsanschluss (72), der in der Wand gebildet ist, um Wartungsarbeiten am ersten Dichtungselement auszuführen;

- einen zweiten Ventilsitz (72s), der durch einen Teil der Wand gebildet ist, und der den Wartungsanschluss umgibt;

- ein zweites Dichtungselement (66), das am Ventilkörper angeordnet ist, um mit dem zweiten Ventilsitz zusammenzuwirken, wobei das zweite Dichtungselement das erste Dichtungselement umgibt;

- einen Wartungsdeckel (74), der abnehmbar an einer Aussenseite der Wand befestigt ist, um den Wartungsanschluss zu schliessen; und

- einen Antriebsmechanismus (46), der den Ventilkörper innerhalb der Wand antreibt.

2. Schiebereinrichtung nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass ein zurückversetzter Bereich (70) in der Wand (36) ausgebildet ist, derart, dass der zurückversetzte Bereich den ersten Dichtungssitz (37s) umgibt, wobei der zurückversetzte Bereich ausgestaltet ist um einen Kontakt zwischen dem zweiten Dichtungselement (68) und der Wand zu verhindern, wenn der Übergabeanschluss (37) vom Dichtungsschluss (44) geschlossen ist.

3. Schiebereinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine zurückversetzte Stufe am Ventilkörper (44) ausgeformt ist, derart, dass die zurückversetzte Stufe das erste Dichtungselement (66) umgibt, wobei das zweite Dichtungselement (68) auf der zurückversetzten Stufe70X angeordnet ist, und wobei die zurückversetzte Stufe 70X ausgestaltet ist, um einen Kontakt zwischen dem zweiten Dichtungselement und der Wand zu verhindern, wenn der Übergabeanschluss (37) vom Ventilkörper (44) geschlossen ist.

4. Schiebereinrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch ein Gaszufuhrsystem (80) und ein Evakuierungssystem (88), welche mit dem Wartungsanschluss (72) verbunden sind um einen Druck im Raum zwischen dem Wartungsdeckel (74) und dem Ventilkörper (44) einzustellen, wenn das zweite Dichtungselement (68) auf dem zweiten Ventilsitz (72s) sitzt.

5. Schiebereinrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Antriebsmechanismus (46) einen Basisteil (48) aufweist, der den Ventilkörper (44) hält, wobei der Basisteil mit dem Antriebsmechanismus zwischen einer ersten Position, in welcher der Ventilkörper vor dem Übergabeanschluss (37) angeordnet ist, und einer zweiten Position, in welcher der Ventilkörper vor dem Wartungsanschluss (72) angeordnet ist, bewegbar ist, wobei der Ventilkörper auf dem Basisteil mit dem Antriebsmechanismus ausfahrbar und einfahrbar ist.

6. Schiebereinrichtung nach Anspruch 5, wobei der Basisteil (48) mit dem Antriebsmechanismus (46) zwischen der ersten und der zweiten Position verschwenkbar ist.

7. Schiebereinrichtung nach Anspruch 5, wobei der den; Basisteil (48) mit dem Antriebsmechanismus (4 6) zwischen der ersten und der zweiten Position linear verfahrbar ist.

8. Schiebereinrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 7, wobei der Antriebsmechanismus (46) einen Verriegelungsmechanismus (51) zum Verriegeln des Basisteils an einer Position aufweist.

9. Schiebereinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Basisteil (48) in der zweiten Position so angeordnet ist, dass er mit einem sich im Übergaberaum durch den Übergabeanschluss (37) bewegenden Zielobjekt nicht kollidiert.

10. Schiebereinrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 9, gekennzeichnet durch

einen zweiten, auf dem Basisteil (48) angeordneten Ventilkörper (44B) zum Öffnen/Schliessen des Übergabeanschlusses (37), und

ein erstes Dichtungselement (66), das auf dem zweiten Ventilkörper zum Zusammenwirken mit dem ersten Ventilsitz (37s) angeordnet ist,

wobei in der zweiten Position des Basisteils, in welcher der erste Ventilkörper (44A) vor dem Wartungsanschluss (72A) ist, der zweite Ventilkörper (44B) vor dem Übergabeanschluss (37) ist.

11. Schiebereinrichtung nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch ein zweites Dichtungselement (68), das auf dem zweiten Ventilkörper (44B) angeordnet ist, um mit dem zweiten Ventilsitz (72s) zusammenzuwirken, wobei das zweite Dichtungselement (68) das erste Dichtungselement (66) umgibt.

12. Schiebereinrichtung nach Anspruch 5, gekennzeichnet durch

einen zweiten, am Basisteil (48) angeordneten Ventilkörper (44B) zum Öffnen/Schliessen des Übergabeanschlusses;

ein erstes Dichtungselement (66), welches am zweiten Ventilkörper (44B) angeordnet ist, um mit dem ersten Ventilsitz (37s) zusammenzuwirken,

einen zweiten Wartungsanschluss (72B), der in der Wand (36) angeordnet ist, um die Wartung des dritten Dichtungselements (66) durchzuführen;

einen zweiten Ventilsitz (72s), der durch einen Bereich der Wand gebildet wird und der den zweiten Wartungsanschluss umgibt;

ein zweites Dichtungselement (68), welches am zweiten Ventilkörper (44B) angeordnet ist, um mit dem zweiten Ventilsitz (72s) zusammenzuwirken, wobei das zweite Dichtungselement (68) das erste Dichtungselement (66) umgibt, und

einen zweiten Wartungsdeckel (74B), der lösbar an der Aussenseite der Wand angeordnet ist, um den zweiten Wartungsanschluss zu schliessen,

wobei in der ersten Position des Basisteils, in welcher der erste Ventilkörper (44A) vor dem Übergabeanschluss (37) ist, der zweite Ventilkörper (44B) vor dem zweiten Wartungsanschluss (72B) ist.

13. Schiebereinrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Wartungsdeckel (74) eine transparente Platte aufweist.

14. Schiebereinrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Wartungsdeckel (74) ein Sichtfenster zur visuellen Inspektion eines Innenraums der Wand (36) aufweist.

15. Schiebereinrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Wand (36) und der Ventilkörper (44) als Einheit ausgestaltet sind, welche als ein Teil abnehmbar am Vakuumprozesssystem anordenbar ist.

16. Schiebereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Wand (36) mindestens teilweise als Wand einer benachbarten Prozesskammer (4) ausgestaltet ist.

17. Schiebereinrichtung zum Anordnen in einer umgebenden Wand (36), welche einen Übergaberaum zum Hindurchführen eines Zielobjekts in einem Vakuumprozesssystem definiert, wobei die umgebende Wand aufweist:

einen in der Wand gebildeten Übergabeanschluss (37) für das hindurchzuführende Zielobjekt;

einen ersten Ventilsitz (37s), der durch einen Teil der Wand gebildet ist, und der den Übergabeanschluss umgibt;

einen Wartungsanschluss (72), der in der Wand gebildet ist, um Wartungsarbeiten an der Schiebereinrichtung durchzuführen;

einen zweiten Ventilsitz (72s), der durch einen Teil der Wand gebildet ist, und der den Übergabeanschluss umgibt; und

einen Wartungsdeckel (74), der abnehmbar an einer Aussenseite der Wand befestigt ist, um den Wartungsanschluss zu schliessen;

wobei die Schiebereinrichtung gekennzeichnet ist durch:

einen Ventilkörper (44), der so angeordnet ist, dass er innerhalb der Wand, beweglich ist und den Übergabeanschluss öffnet und schliesst;

ein erstes Dichtungselement (66), das am Ventilkörper angeordnet ist, um mit dem ersten Ventilsitz zusammenzuwirken;

ein zweites Dichtungselement (68), das am Ventilkörper angeordnet ist, um mit dem zweiten Ventilsitz zusammenzuwirken, wobei das zweite Dichtungselement das erste Dichtungselement umgibt; und

einen Antriebsmechanismus (46), der ausgestaltet ist, um den Ventilkörper innerhalb der Wand anzutreiben.

18. Halbleiterbearbeitungssystem, gekennzeichnet durch:

eine druckeinstellbare gemeinsame Übergabekammer (6), die eine Vielzahl von Seitenoberflächen hat;

druckeinstellbare erste und zweite Prozesskammern (4A, 4B), die an zwei der Vielzahl von Seitenoberflächen angeschlossen sind, um am Zielobjekt einen Halbleiterprozess auszuführen;

einen Übergabemechanismus (14) innerhalb der gemeinsamen Übergabekammer, um das Zielobjekt in die erste und zweite Prozesskammer zu laden und daraus zu entnehmen; und

Schiebereinrichtungen (12A, 12B), die jeweils zwischen der gemeinsamen Übergabekammer und der ersten Prozesskammer und zwischen der gemeinsamen Übergabekammer und der zweiten Prozesskammer angeordnet sind,

wobei jede Schiebereinrichtung aufweist:

eine umgebende Wand (36), die einen Übergaberaum zum Hindurchführen des Zielobjekts definiert;

einen in der Wand gebildeten Übergabeanschluss (37) für das zur zugeordneten Prozesskammer hin hindurchzuführende Zielobjekt;

einen Ventilkörper (44), der so angeordnet ist, dass er innerhalb der Wand beweglich ist und den Übergabeanschluss öffnet und schliesst;

einen Wartungsanschluss (72), der in der Wand gebildet ist, um Wartungsarbeiten am ersten Dichtungselement auszuführen;

einen zweiten Ventilsitz (72s), der durch einen Teil der Wand gebildet ist, und der den Wartungsanschluss umgibt;

ein zweites Dichtungselement (68), das am Ventilkörper angeordnet ist, um mit dem zweiten Ventilsitz zusammenzuwirken, wobei das zweite Dichtungselement das erste Dichtungselement umgibt;

einen Wartungsdeckel (74), der abnehmbar an einer Aussenseite der Wand befestigt ist, um den Wartungsanschluss zu schliessen; und

einen Antriebsmechanismus (46), der den Ventilkörper innerhalb der Wand antreibt.

19. Verfahren zum Betrieb des Halbleiterbearbeitungssystems nach Anspruch 18, gekennzeichnet durch die Schritte

Durchführen einer Wartung in der ersten Prozesskammer (4A), indem ein Inneres der ersten Prozesskammer zur Umgebungsluft hin geöffnet wird, in einem Zustand, in welchem die gemeinsame Übergabekammer (6) unter Vakuum gehalten wird, der Übergabeanschluss (37) durch den Ventilkörper (44) geschlossen ist, und der erste Ventilsitz (37s) und das erste Dichtungselement (66) miteinander in Kontakt sind,

Evakuieren der ersten Prozesskammer nach Abschluss der Wartung, in einem Zustand, in welchem das Innere der gemeinsamen Übergabekammer (6) unter Vakuum gehalten wird und der Übergabeanschluss (37) durch den Ventilkörper (44) geschlossen ist,

Wegbewegen des Ventilkörpers vom Übergabeanschluss zum Wartungsanschluss (72), nachdem durch das Evakuieren der Druckunterschied zwischen der ersten Prozesskammer und der gemeinsamen Übergabekammer unter einen vorgegebenen Wert abgesunken ist; und

Ersetzen des ersten Dichtungselements durch Abnehmen des Wartungsdeckels (74) in einem Zustand, in welchem der Wartungsanschluss durch den Ventilkörper geschlossen ist, wobei der zweite Ventilsitz (72s) und das zweite Dichtungselement (68) miteinander in Kontakt sind.

20. Verfahren zum Betrieb des Halbleiterbearbeitungssystems nach Anspruch 18, wobei das Halbleiterbearbeitungssystem weiter aufweist:

einen zweiten, auf dem Basisteil (48) angeordneten Ventilkörper (44B), zum Öffnen/Schliessen des Übergabeanschlusses (37) und

ein erstes Dichtungselement (66), welches auf dem zweiten Ventilkörper angeordnet ist, um mit dem ersten Ventilsitz (37s) zusammenzuwirken,

wobei in der zweiten Position des Basisteils, in welcher der erste Ventilkörper (44A) vor dem Wartungsanschluss (72) angeordnet ist, der zweite Ventilkörper (44B) vor dem Übergabeanschluss (37) angeordnet ist,

wobei das Verfahren gekennzeichnet ist durch die Schritte:

Erstellen eines abgedichteten Zustands, in welchem der Wartungsanschluss durch den ersten Ventilkörper geschlossen ist und der Übergabeanschluss durch den zweiten Ventilkörper geschlossen ist, so dass der zweite Ventilsitz (72s) und das zweite Dichtungselement (68) miteinander in Kontakt sind und der erste Dichtungssitz (37s) und das erste Dichtungselement (66) miteinander in Kontakt sind, und

Ersetzen des ersten Dichtungselements durch Abnahme des Wartungsdeckels (74), während der abgedichtete Zustand aufrechterhalten wird.