CZ2001189A3 - Alkalická zinko-niklová lázeň - Google Patents
Alkalická zinko-niklová lázeň Download PDFInfo
- Publication number
- CZ2001189A3 CZ2001189A3 CZ2001189A CZ2001189A CZ2001189A3 CZ 2001189 A3 CZ2001189 A3 CZ 2001189A3 CZ 2001189 A CZ2001189 A CZ 2001189A CZ 2001189 A CZ2001189 A CZ 2001189A CZ 2001189 A3 CZ2001189 A3 CZ 2001189A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- anode
- nickel
- zinc
- bath
- alkaline
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/02—Tanks; Installations therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Description
Vynález se týká galvanické lázně pro nanášení zinko-niklových povlaků s anodou, katodou a alkalickým elektrolytem.
Dosavadní stav techniky
Je známa možnost pokrývání elektricky vodivých materiálů slitinami zinku a niklu za účelem zlepšení jejich korozivzdornosti. K tomu se obvykle používá kyselá elektrolytová lázeň, například sulfátový, chloridový, flouropromátový nebo sulfamátový elektrolyt. U těchto postupů je dosažení rovnoměrné tloušťky zinko-niklového povlaku na příslušném materiálu technicky velmi náročné a v praxi obvykle nemožné.
Z toho důvodu se v poslední době používají alkalické zinko-niklové galvanické lázně, které jsou uvedeny v německém patentu 37 12 511 a které mají například následující složení:
11,3 g/lZnO
4.1 g/1 NiSO4 * 6 H2O
120 g/lNaOH
5.1 g/1 polyethylenimin
Aminy obsažené v alkalické lázni slouží jako komplexotvomá látka pro ionty niklu, které jsou jinak v alkalickém médiu nerozpustné. Složení lázně se liší podle výrobce.
Tyto galvanické lázně jsou obvykle napájeny nerozpustnými niklovými anodami. Koncentrace zinku se udržuje konstantní přidáváním zinku a koncentrace niklu se udržuje konstantní přidáváním roztoku niklu, například niklsulfátového roztoku.
Tyto lázně však po několika hodinách provozu vykazují změnu barvy z původní modrofialové na hnědou. Po několika dnech, popřípadě týdnech se toto zbarvení zesiluje a lze zjistit rozdělení lázně na dvě fáze, přičemž horní fáze je tmavě hnědá. Tato fáze způsobuje značná narušení povlaku produktů, například nerovnoměrnou tloušťku vrstvy nebo tvorbu puchýřků. Kontinuální čištění lázně, tedy kontinuální odebírání této vrstvy je proto nevyhnutelné. To je ovšem nákladné a časově náročné.
Dále lze po několika týdnech provozu prokázat v lázni kyanid. V důsledku znečištění kyanidem je zapotřebí pravidelné obnovování lázně a speciální zpracovávání odpadních vod, které značně ovlivňuje provozní náklady lázně. A to tím víc, že odpadní vody mají vysokou organickou koncentraci a ztěžují detoxikaci kyanidu hodnotou CSB 15.000 až 20.000 mg/1. Dodržování hodnot stanovených zákonodárcem pro odpadní vody (nikl 0,5 ppm a zinek 2 ppm) je pak možné pouze za značného přidávání chemikálií.
Vytvoření druhé fáze vyplývá z reakce aminů, které se v alkalickém roztoku mění na niklových anodách na nitrily (mezi jinými také kyanid). Na základě rozkladu aminů se musí do lázně navíc kontinuálně přidávat nové komplexotvomé látky, což zvyšuje náklady na proces.
Jiné než niklové anody nemohou být použity, protože se v alkalickém roztoku rozpouštějí, což má rovněž neblahý vliv na kvalitu povlaku.
S ohledem na uvedený dosavadní stav techniky je úkolem vynálezu vytvořit zinko-niklovou galvanickou lázeň, která umožní cenově výhodné vytváření zinko-niklových povlaků o vysoké kvalitě.
Podstata vynálezu
Tento úkol je vyřešen podle vynálezu tak, že je anoda oddělena od alkalického elektrolytu ionexovou membránou.
Tímto oddělením se zabrání reakci aminů na niklové anodě a v důsledku toho neprobíhají žádné nežádoucí vedlejší reakce, které by způsobovaly problé·· ···· ·· * · · ·· · · · · · *·· my s odpadním vodami nebo vedly k reakčním produktům usazujícím se do druhé fáze a nevýhodně ovlivňovaly kvalitu zinko-niklového povlaku. Nákladné odstraňování této vrstvy a obnovování lázně je díky tomuto vynálezu zbytečné. Dále lze zaznamenat značné zlepšení kvality povlaku.
Jako obzvlášť výhodné se ukázalo použití katexové membrány z perfluorovaného polymeru, neboť má zanedbatelný elektrický odpor, avšak vysokou chemickou a mechanickou odolnost.
Dále odpadá znečištění odpadních vod kyanidem, čímž je značně zjednodušeno čištění odpadní vody. Navíc je zbytečné doplňování komplexotvomé látky do elektrolytu, protože se již nerozkládá a její koncentrace v lázni zůstává téměř konstantní. Tento postup je tedy mnohem méně nákladný.
Zinko-niklová lázeň funguje v řešení podle vynálezu jako katolyt. Jako anolyt mohou být například použity kyselina sírová nebo fosforečná. Jako materiál anody připadají v úvahu do galvanického článku podle vynálezu obvyklé anody, například platinované titanové anody, protože již nejsou vystaveny působení zásadité zinko-niklové lázně.
Přehled obrázků na výkresech
Vynález je podrobněji popsán pomocí příkladného provedení znázorněného na obrázku, kde je schematicky zobrazena konstrukce galvanické lázně.
Příkladná provedení vynálezu
Na obr. 1 je znázorněn galvanický článek 1, který je opatřen anodou 2 a katodou 3, u níž se jedná o potahovaný předmět. Katolyt 4 obklopující anodu je alkalický a sestává ze zinko-niklové galvanické lázně o známém složení, v níž se jako komplexotvomá látka pro ionty niklu používají aminy. Anolyt 5 obklopující anodu 2 může být například tvořen kyselinou sírovou nebo fosforečnou. Anolyt 5 a katolyt 4 jsou od sebe odděleny perflourovanou katexovou membránou 6. Tato membrána umožňuje bezbariérový průchod elektrického proudu
-4•· ···· ·· · · » ·· « · · ···· · · · · ·· · · · · · · · • « · · · »····· • · · ··· ·«·· ···· ·· · · · · · · α · · lázní, avšak brání tomu, aby katolyt 4, zvláště v něm obsažené aminy , přišly do styku s anodou 2, čímž jsou vyloučeny reakce, které byly podrobně uvedeny v popise, včetně jejich nežádoucích důsledků.
Claims (4)
1. Alkalická galvanická lázeň pro nanášení zinko-niklových povlaků s anodou a katodou, vyznačující se tím, že anoda je od alkalického elektrolytu oddělena ionexovou membránou (6).
2. Galvanická lázeň podle nároku 1, vyznačující se tím, že katoda (3) je od alkalického elektrolytu (4) oddělena perfluorovanou katexovou membránou (6).
3. Galvanická lázeň podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že jako anolyt (5) je použita kyselina sírová, kyselina fosforečná, kyselina metansulfonová, kyselina amidosulfonová a / nebo kyselina fosfonová.
4. Galvanická lázeň podle jednoho z nároků laž3, vyznačující se tím, že anoda je platinovaná titanová anoda.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19834353A DE19834353C2 (de) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ2001189A3 true CZ2001189A3 (cs) | 2001-08-15 |
| CZ298904B6 CZ298904B6 (cs) | 2008-03-05 |
Family
ID=7875843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20010189A CZ298904B6 (cs) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalická zinko-niklová lázen |
Country Status (22)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US6602394B1 (cs) |
| EP (2) | EP1344850B1 (cs) |
| JP (2) | JP4716568B2 (cs) |
| KR (1) | KR20010071074A (cs) |
| CN (1) | CN1311830A (cs) |
| AT (2) | ATE242821T1 (cs) |
| AU (1) | AU5415299A (cs) |
| BG (1) | BG105184A (cs) |
| BR (1) | BR9912589A (cs) |
| CA (1) | CA2339144A1 (cs) |
| CZ (1) | CZ298904B6 (cs) |
| DE (3) | DE19834353C2 (cs) |
| EE (1) | EE200100059A (cs) |
| ES (2) | ES2201759T3 (cs) |
| HR (1) | HRP20010044B1 (cs) |
| HU (1) | HUP0103951A3 (cs) |
| IL (1) | IL141086A0 (cs) |
| MX (1) | MXPA01000932A (cs) |
| PL (1) | PL198149B1 (cs) |
| SK (1) | SK285453B6 (cs) |
| TR (1) | TR200100232T2 (cs) |
| WO (1) | WO2000006807A2 (cs) |
Families Citing this family (49)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19834353C2 (de) * | 1998-07-30 | 2000-08-17 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| US8236159B2 (en) | 1999-04-13 | 2012-08-07 | Applied Materials Inc. | Electrolytic process using cation permeable barrier |
| US8852417B2 (en) | 1999-04-13 | 2014-10-07 | Applied Materials, Inc. | Electrolytic process using anion permeable barrier |
| US20060157355A1 (en) * | 2000-03-21 | 2006-07-20 | Semitool, Inc. | Electrolytic process using anion permeable barrier |
| US20060189129A1 (en) * | 2000-03-21 | 2006-08-24 | Semitool, Inc. | Method for applying metal features onto barrier layers using ion permeable barriers |
| DE10026956A1 (de) * | 2000-05-30 | 2001-12-13 | Walter Hillebrand Galvanotechn | Zink-Legierungsbad |
| US6755960B1 (en) | 2000-06-15 | 2004-06-29 | Taskem Inc. | Zinc-nickel electroplating |
| DE60023190T3 (de) † | 2000-06-15 | 2016-03-10 | Coventya, Inc. | Zink-nickel-elektroplattierung |
| US7628898B2 (en) * | 2001-03-12 | 2009-12-08 | Semitool, Inc. | Method and system for idle state operation |
| DE10223622B4 (de) * | 2002-05-28 | 2005-12-08 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik | Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute |
| US8377283B2 (en) | 2002-11-25 | 2013-02-19 | Coventya, Inc. | Zinc and zinc-alloy electroplating |
| DE10261493A1 (de) * | 2002-12-23 | 2004-07-08 | METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH | Anode zur Galvanisierung |
| BR0318331A (pt) * | 2003-06-03 | 2006-07-11 | Taskem Inc | aparelho para aplicar um eletrodepósito de zinco ou de liga de zinco a uma peça de trabalho |
| US20050121332A1 (en) * | 2003-10-03 | 2005-06-09 | Kochilla John R. | Apparatus and method for treatment of metal surfaces by inorganic electrophoretic passivation |
| US20050133376A1 (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-23 | Opaskar Vincent C. | Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom |
| FR2864553B1 (fr) * | 2003-12-31 | 2006-09-01 | Coventya | Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc |
| US7442286B2 (en) * | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
| DE102004061255B4 (de) * | 2004-12-20 | 2007-10-31 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern und Vorrichtung zur Durchführung desselben |
| EP1712660A1 (de) * | 2005-04-12 | 2006-10-18 | Enthone Inc. | Unlösliche Anode |
| ES2574158T3 (es) * | 2005-04-26 | 2016-06-15 | Atotech Deutschland Gmbh | Baño galvánico alcalino con una membrana de filtración |
| EP1717351A1 (de) * | 2005-04-27 | 2006-11-02 | Enthone Inc. | Galvanikbad |
| JP4738910B2 (ja) * | 2005-06-21 | 2011-08-03 | 日本表面化学株式会社 | 亜鉛−ニッケル合金めっき方法 |
| US20070043474A1 (en) * | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Semitool, Inc. | Systems and methods for predicting process characteristics of an electrochemical treatment process |
| DE102005051632B4 (de) * | 2005-10-28 | 2009-02-19 | Enthone Inc., West Haven | Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen |
| JP4819612B2 (ja) * | 2006-08-07 | 2011-11-24 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | めっき処理装置および半導体装置の製造方法 |
| DE102007040005A1 (de) | 2007-08-23 | 2009-02-26 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad |
| DE102007060200A1 (de) | 2007-12-14 | 2009-06-18 | Coventya Gmbh | Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad |
| TWI384094B (zh) * | 2008-02-01 | 2013-02-01 | Zhen Ding Technology Co Ltd | 電鍍用陽極裝置及包括該陽極裝置之電鍍裝置 |
| EP2096193B1 (en) | 2008-02-21 | 2013-04-03 | Atotech Deutschland GmbH | Process for the preparation of corrosion resistant zinc and zinc-nickel plated linear or complex shaped parts |
| DE102008058086B4 (de) | 2008-11-18 | 2013-05-23 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen |
| KR100977068B1 (ko) * | 2010-01-25 | 2010-08-19 | 한용순 | 비정질 3가크롬합금도금층을 형성하기 위한 도금장치 및 그 3가크롬합금도금액 |
| ES2404844T3 (es) | 2010-05-07 | 2013-05-29 | Dr.Ing. Max Schlötter Gmbh & Co. Kg | Regeneración de electrolitos de cinc-níquel alcalinos mediante la eliminación de iones cianuro |
| DE102010044551A1 (de) | 2010-09-07 | 2012-03-08 | Coventya Gmbh | Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad |
| EP2660360A1 (en) | 2011-08-30 | 2013-11-06 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Adhesion promotion of cyanide-free white bronze |
| CN103849915B (zh) * | 2012-12-06 | 2016-08-31 | 北大方正集团有限公司 | 电镀装置和pcb板导通孔镀铜的方法 |
| CN103911650B (zh) * | 2014-04-02 | 2016-07-06 | 广东达志环保科技股份有限公司 | 一种应用于碱性锌镍合金电镀的阳极 |
| DE202015002289U1 (de) | 2015-03-25 | 2015-05-06 | Hartmut Trenkner | Zweikammer - Elektrodialysezelle mit Anionen- und Kationenaustauschermembran zur Verwendung als Anode in alkalischen Zink- und Zinklegierungselektrolyten zum Zweck der Metallabscheidung in galvanischen Anlagen |
| CN106550606B (zh) | 2015-07-22 | 2019-04-26 | 迪普索股份公司 | 锌合金镀敷方法 |
| RU2613826C1 (ru) | 2015-07-22 | 2017-03-21 | Дипсол Кемикалз Ко., Лтд. | Способ гальваностегии цинковым сплавом |
| WO2017171113A1 (ko) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | (주) 테크윈 | 전해조 및 전해 방법 |
| CN106987879A (zh) * | 2016-11-23 | 2017-07-28 | 瑞尔太阳能投资有限公司 | 电沉积装置及其电沉积方法 |
| EP3358045A1 (de) * | 2017-02-07 | 2018-08-08 | Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG | Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen |
| SI3415665T1 (sl) | 2017-06-14 | 2024-06-28 | Dr. Ing. Max Schloetter Gmbh & Co. Kg | Postopek za galvansko ločitev prevlek iz zlitine cinka in niklja iz alkalne kopeli zlitine iz cinka in niklja z manjšo razgradnjo aditivov |
| KR20210118419A (ko) * | 2019-01-24 | 2021-09-30 | 아토테크더치랜드게엠베하 | 전해 아연-니켈 합금 석출을 위한 멤브레인 애노드 시스템 |
| CN110462107A (zh) | 2019-02-15 | 2019-11-15 | 迪普索股份公司 | 锌或锌合金电镀方法和系统 |
| JP6750186B1 (ja) | 2019-11-28 | 2020-09-02 | ユケン工業株式会社 | めっき液の亜鉛濃度の上昇を抑制する方法および亜鉛系めっき部材の製造方法 |
| EP4077771A1 (en) | 2019-12-20 | 2022-10-26 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Method and system for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate |
| EP4273303A1 (en) | 2022-05-05 | 2023-11-08 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Method for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, an aqueous zinc-nickel deposition bath, a brightening agent and use thereof |
| CN115821346A (zh) * | 2022-11-16 | 2023-03-21 | 广州超邦化工有限公司 | 一种中碳钢机加件镀碱性锌镍合金的方法 |
Family Cites Families (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE925264C (de) | 1952-11-15 | 1955-03-17 | Hesse & Co Dr | Verfahren zum Vernickeln ohne Nickelanoden |
| GB1349735A (en) | 1969-11-20 | 1974-04-10 | Fulmer Res Inst Ltd | Electrodeposited metal coatings |
| US3660170A (en) * | 1970-04-08 | 1972-05-02 | Gen Electric | Dendrite-inhibiting additive for battery cell having zinc electrode |
| US3718549A (en) | 1971-06-14 | 1973-02-27 | Kewanee Oil Co | Alkaline nickel plating solutions |
| JPS5128533A (en) * | 1974-09-04 | 1976-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki |
| GB1602404A (en) | 1978-04-06 | 1981-11-11 | Ibm | Electroplating of chromium |
| US4192908A (en) * | 1979-06-15 | 1980-03-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Mass-transport separator for alkaline nickel-zinc cells and cell |
| JPS5893899A (ja) | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 電気メツキの浴管理方法 |
| JPS5893886A (ja) | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Tokuyama Soda Co Ltd | 電気メツキ方法 |
| US4469564A (en) * | 1982-08-11 | 1984-09-04 | At&T Bell Laboratories | Copper electroplating process |
| DE3310730A1 (de) | 1983-03-24 | 1984-03-29 | Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart | Verfahren zum entfernen ueberschuessiger metall-ionen aus sauren chloridhaltigen galvanischen baeder |
| JPS59193295A (ja) | 1983-04-15 | 1984-11-01 | Hitachi Ltd | ニツケルめつき方法及び装置 |
| US4889602B1 (en) | 1986-04-14 | 1995-11-14 | Dipsol Chem | Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating |
| DE3712511C3 (de) * | 1986-04-14 | 1995-06-29 | Dipsol Chem | Alkalisches cyanidfreies Elektroplattierungsbad und Verwendung dieses Bades |
| US4832812A (en) * | 1987-09-08 | 1989-05-23 | Eco-Tec Limited | Apparatus for electroplating metals |
| JPH02175894A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-09 | Kosaku:Kk | スズ、スズ合金電気めっき方法及び同電気めっき装置 |
| FR2650304B1 (fr) | 1989-07-25 | 1991-10-04 | Siderurgie Fse Inst Rech | Procede de revetement electrolytique d'une surface metallique, et cellule d'electrolyse pour sa mise en oeuvre |
| JPH049493A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Permelec Electrode Ltd | 鋼板の電気錫メッキ方法 |
| JP2764337B2 (ja) * | 1990-05-10 | 1998-06-11 | 新日本製鐵株式会社 | Ni又はNi―Zn合金又はNi―Zn―Co合金メッキ方法 |
| JPH0444374A (ja) | 1990-06-12 | 1992-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エキシマレーザ装置 |
| US5310465A (en) * | 1990-06-14 | 1994-05-10 | Vaughan Daniel J | Electrodialytic oxydation-reduction of metals |
| JPH0452296A (ja) * | 1990-06-20 | 1992-02-20 | Permelec Electrode Ltd | 銅めっき方法 |
| JPH08375Y2 (ja) * | 1990-08-15 | 1996-01-10 | 株式会社アルメックス | メッキ装置の陽極構造 |
| EP0483937A1 (de) | 1990-10-24 | 1992-05-06 | ATOTECH Deutschland GmbH | Membranelektrolysemodul, Verfahren und dessen Verwendung |
| DE4035316C2 (de) | 1990-11-07 | 1993-11-04 | Daimler Benz Ag | Verfahren zur elektrolytischen rueckgewinnung von nickel aus chloridhaltigen elektrolytischen baedern |
| JPH04176893A (ja) | 1990-11-08 | 1992-06-24 | Kawasaki Steel Corp | Sn―Ni合金めっき方法 |
| US5162079A (en) | 1991-01-28 | 1992-11-10 | Eco-Tec Limited | Process and apparatus for control of electroplating bath composition |
| JP2997072B2 (ja) * | 1991-02-13 | 2000-01-11 | ディップソール株式会社 | 亜鉛−ニッケル合金めっき浴及び被めっき物上の黒色析出を防止する方法 |
| JPH059776A (ja) * | 1991-07-01 | 1993-01-19 | Fujitsu Ltd | プリント配線板のめつき方法 |
| JPH059799A (ja) | 1991-07-05 | 1993-01-19 | Kawasaki Steel Corp | 硫酸浴Zn−Ni電気めつきにおける金属イオンの供給方法及び装置 |
| JPH05128533A (ja) | 1991-11-05 | 1993-05-25 | Nec Eng Ltd | 光デイスク再生装置 |
| FR2686352B1 (fr) | 1992-01-16 | 1995-06-16 | Framatome Sa | Appareil et procede de revetement electrolytique de nickel. |
| US5417840A (en) * | 1993-10-21 | 1995-05-23 | Mcgean-Rohco, Inc. | Alkaline zinc-nickel alloy plating baths |
| US5405523A (en) * | 1993-12-15 | 1995-04-11 | Taskem Inc. | Zinc alloy plating with quaternary ammonium polymer |
| JP4017693B2 (ja) | 1996-10-18 | 2007-12-05 | 株式会社エース電研 | 遊技場管理装置 |
| JPH10130878A (ja) | 1996-11-01 | 1998-05-19 | Asahi Glass Co Ltd | 電解ニッケルめっき方法 |
| US5883762A (en) | 1997-03-13 | 1999-03-16 | Calhoun; Robert B. | Electroplating apparatus and process for reducing oxidation of oxidizable plating anions and cations |
| DE19834353C2 (de) * | 1998-07-30 | 2000-08-17 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| JP4176893B2 (ja) | 1999-01-19 | 2008-11-05 | ローランド株式会社 | 波形再生装置 |
| JP5009799B2 (ja) | 2004-09-08 | 2012-08-22 | ニコメッド ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 新規の3−オキサ−10−アザ−フェナントレン |
| JP5009776B2 (ja) | 2007-12-27 | 2012-08-22 | 株式会社小松製作所 | エンジンのシール構造、樹脂リング、およびエンジン |
| JP5128533B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-01-23 | シャープ株式会社 | 光源モジュールおよびそれを備えた照明装置 |
-
1998
- 1998-07-30 DE DE19834353A patent/DE19834353C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-07-24 US US09/744,706 patent/US6602394B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 IL IL14108699A patent/IL141086A0/xx unknown
- 1999-07-29 CZ CZ20010189A patent/CZ298904B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 AT AT99940077T patent/ATE242821T1/de active
- 1999-07-29 SK SK89-2001A patent/SK285453B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 AT AT03003890T patent/ATE346180T1/de active
- 1999-07-29 HU HU0103951A patent/HUP0103951A3/hu unknown
- 1999-07-29 DE DE59905937T patent/DE59905937D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 WO PCT/EP1999/005443 patent/WO2000006807A2/de not_active Ceased
- 1999-07-29 PL PL345970A patent/PL198149B1/pl unknown
- 1999-07-29 CA CA002339144A patent/CA2339144A1/en not_active Abandoned
- 1999-07-29 MX MXPA01000932A patent/MXPA01000932A/es unknown
- 1999-07-29 JP JP2000562585A patent/JP4716568B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 AU AU54152/99A patent/AU5415299A/en not_active Abandoned
- 1999-07-29 HR HR20010044A patent/HRP20010044B1/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 EE EEP200100059A patent/EE200100059A/xx unknown
- 1999-07-29 TR TR2001/00232T patent/TR200100232T2/xx unknown
- 1999-07-29 DE DE59914011T patent/DE59914011D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 KR KR1020017001285A patent/KR20010071074A/ko not_active Withdrawn
- 1999-07-29 EP EP03003890A patent/EP1344850B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 ES ES99940077T patent/ES2201759T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 CN CN99809138A patent/CN1311830A/zh active Pending
- 1999-07-29 ES ES03003890T patent/ES2277624T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 BR BR9912589-7A patent/BR9912589A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-07-29 EP EP99940077A patent/EP1102875B1/de not_active Revoked
-
2001
- 2001-01-25 BG BG105184A patent/BG105184A/xx unknown
-
2003
- 2003-07-11 US US10/618,352 patent/US20040104123A1/en not_active Abandoned
-
2008
- 2008-02-13 US US12/030,750 patent/US7807035B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2008-03-18 JP JP2008069722A patent/JP2008150713A/ja active Pending
-
2010
- 2010-10-01 US US12/896,673 patent/US8486235B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ298904B6 (cs) | Alkalická zinko-niklová lázen | |
| WO2014147180A1 (en) | Apparatus and method for electrolytic deposition of metal layers on workpieces | |
| JPH01159395A (ja) | 金属の電気メッキ方法 | |
| KR101301275B1 (ko) | 여과막을 가지는 알칼리 전기도금조 | |
| US5419821A (en) | Process and equipment for reforming and maintaining electroless metal baths | |
| US4933051A (en) | Cyanide-free copper plating process | |
| US6187169B1 (en) | Generation of organosulfonic acid from its salts | |
| US4652351A (en) | Electrochemical restoration of cyanide solutions | |
| US4208255A (en) | Process and device for the production of metal-complex compounds suitable for electroless metal deposition | |
| US20140097094A1 (en) | Recovery method of nickel from spent electroless nickel plating solutions by electrolysis | |
| KR20230092886A (ko) | 금속으로 물품을 전기 도금하는 방법 및 시스템 | |
| CN114787425A (zh) | 用于在衬底上沉积锌-镍合金的方法及系统 | |
| RU2712325C1 (ru) | Способ извлечения кадмия из промывных вод, содержащих цианиды | |
| JPH05311483A (ja) | 錫またははんだめっき浴 | |
| CA2053342A1 (en) | Nickel electroplating process with reduced nickel ion build up |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MK4A | Patent expired |
Effective date: 20190729 |