CZ298904B6 - Alkalická zinko-niklová lázen - Google Patents
Alkalická zinko-niklová lázen Download PDFInfo
- Publication number
- CZ298904B6 CZ298904B6 CZ20010189A CZ2001189A CZ298904B6 CZ 298904 B6 CZ298904 B6 CZ 298904B6 CZ 20010189 A CZ20010189 A CZ 20010189A CZ 2001189 A CZ2001189 A CZ 2001189A CZ 298904 B6 CZ298904 B6 CZ 298904B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- anode
- nickel
- alkaline
- bath
- zinc
- Prior art date
Links
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 claims abstract description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 5
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 claims description 5
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 claims description 3
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 claims description 2
- UUWCBFKLGFQDME-UHFFFAOYSA-N platinum titanium Chemical compound [Ti].[Pt] UUWCBFKLGFQDME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical compound NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 abstract description 6
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 abstract 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000005811 Viola adunca Nutrition 0.000 description 1
- 240000009038 Viola odorata Species 0.000 description 1
- 235000013487 Viola odorata Nutrition 0.000 description 1
- 235000002254 Viola papilionacea Nutrition 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/02—Tanks; Installations therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Abstract
V alkalické lázni pro nanášení zinko-niklových povlaku je anoda oddelena od alkalického elektrolytuionexovou membránou, címž dochází k zamezení vzniku nežádoucích vedlejších reakcí behem nanášení povlaku.
Description
Vynález se týká alkalické galvanické lázně pro nanášení zinko-niklových povlaků s anodou, katodou a alkalickým elektrolytem, v němž aminy slouží jako komplexotvomé látky pro ionty niklu.
Dosavadní stav techniky
Je známa možnost pokrývání elektricky vodivých materiálů slitinami zinku a niklu za účelem zlepšení jejich korozivzdornosti. K tomu se obvykle používá kyselá elektrolytová lázeň, například sulfátový, chloridový, flouropromátový nebo sulfamátový elektrolyt. U těchto postupů je dosažení rovnoměrné tloušťky zinko-niklového povlaku na příslušném materiálu technicky velmi náročné a v praxi obvykle nemožné.
Z toho důvodu se v poslední době používají alkalické zinko-niklové galvanické lázně, které jsou uvedeny v německém patentu DE 37 12 511 a které mají například následující složení:
11,3 g/1 ZnO
4.1 g/1 NiSO4 * 6 H2O 120 g/1 NaOH
5.1 g/1 polyethylenimin
Aminy obsažené v alkalické lázni slouží jako komplexotvomá látka pro ionty niklu, které jsou jinak v alkalickém médiu nerozpustné. Složení lázně se liší podle výrobce.
Tyto galvanické lázně jsou obvykle napájeny nerozpustnými niklovými anodami. Koncentrace zinku se udržuje konstantní přidáváním zinku a koncentrace niklu se udržuje konstantní pridává30 ním roztoku niklu, například niklsulfátového roztoku.
Tyto lázně však po několika hodinách provozu vykazují změnu barvy z původní modrofialové na hnědou. Po několika dnech, popřípadě týdnech se toto zbarvení zesiluje a lze zjistit rozdělení lázně na dvě fáze, přičemž horní fáze je tmavě hnědá. Tato fáze způsobuje značná narušení povlaku produktů, například nerovnoměrnou tloušťku vrstvy nebo tvorbu puchýřků. Kontinuální čištění lázně, tedy kontinuální odebírání této vrstvy je proto nevyhnutelné. To je ovšem nákladné a časově náročné.
Dále lze po několika týdnech provozu prokázat v lázni kyanid. V důsledku znečištění kyanidem je zapotřebí pravidelné obnovování lázně a speciální zpracovávání odpadních vod, které značně ovlivňuje provozní náklady lázně. A to tím víc, že odpadní vody mají vysokou organickou koncentraci a ztěžují detoxikaci kyanidu hodnotou CSB 15 000 až 20 000 mg/1. Dodržování hodnot stanovených zákonodárcem pro odpadní vody (nikl 0,5 ppm a zinek 2 ppm) je pak možné pouze za značného přidávání chemikálií.
Vytvoření druhé fáze vyplývá z reakce aminů, které se v alkalickém roztoku mění na niklových anodách na nitrily (mezi jinými také kyanid). Na základě rozkladu aminů se musí do lázně navíc kontinuálně přidávat nové komplexotvomé látky, což zvyšuje náklady na proces.
Jiné než niklové anody nemohou být použity, protože se v alkalickém roztoku rozpouštějí, což má rovněž neblahý vliv na kvalitu povlaku.
-1 CZ 298904 B6
S ohledem na uvedený dosavadní stav techniky je úkolem vynálezu vytvořit zinko-niklovou galvanickou lázeň, která umožní cenově výhodné vytváření zinko-niklových povlaků o vysoké kvalitě.
Podstata vynálezu
Tento úkol je vyřešen alkalickou galvanickou lázní s anodou, katodou a alkalickým elektrolytem, v němž aminy slouží jako komplexotvomé látky pro ionty niklu, přičemž podle vynálezu je anoda oddělena od alkalického katolytu ionexovou membránou.
Tímto oddělením se zabrání reakci aminů na niklové anodě a v důsledku toho neprobíhají žádné nežádoucí vedlejší reakce, které by způsobovaly problémy s odpadním vodami nebo vedly k reakčním produktům usazujícím se do druhé fáze a nevýhodně ovlivňovaly kvalitu zinko-niklového povlaku. Nákladné odstraňování této vrstvy a obnovování lázně je díky tomuto vynálezu zbytečné. Dále lze zaznamenat značné zlepšení kvality povlaku.
Jako obzvlášť výhodné se ukázalo použití katexové membrány z perfluorovaného polymeru, neboť má zanedbatelný elektrický odpor, avšak vysokou chemickou a mechanickou odolnost.
Dále odpadá znečištění odpadních vod kyanidem, čímž je značně zjednodušeno čištění odpadní vody. Navíc je zbytečné doplňování komplexotvomé látky do elektrolytu, protože se již nerozkládá a její koncentrace v lázni zůstává téměř konstantní. Tento postup je tedy mnohem méně nákladný.
Zinko-niklová lázeň funguje v řešení podle vynálezu jako katolyt. Jako anolyt mohou být například použity kyselina sírová, kyselina fosforečná, kyselina metansulfonová, kyselina amidosulfonová a/nebo kyselina fosfonová (kyselina hydridofosforečná). Jako materiál anody připadají v úvahu do galvanického článku podle vynálezu obvyklé anody, například platinované titanové anody, protože již nejsou vystaveny působení zásadité zinko-niklové lázně.
Přehled obrázků na výkresech
Vynález je podrobněji popsán pomocí příkladného provedení znázorněného na obrázku, kde je schematicky zobrazena konstrukce galvanické lázně.
Příkladná provedení vynálezu
Na obr. 1 je znázorněn galvanický článek 1., který je opatřen anodou 2 a katodou 3, u níž se jedná o potahovaný předmět. Katolyt 4 obklopující anodu je alkalický a sestává ze zinko-niklové galvanické lázně o známém složení, v níž se jako komplexotvomá látka pro ionty niklu používají aminy. Anolyt 5 obklopující anodu 2 může být například tvořen kyselinou sírovou nebo fosforečnou. Anolyt 5 a katolyt 4 jsou od sebe odděleny perflourovanou katexovou membránou 6.
Tato membrána umožňuje bezbariérový průchod elektrického proudu lázní, avšak brání tomu, aby katolyt 4, zvláště v něm obsažené aminy, přišly do styku s anodou 2, čímž jsou vyloučeny reakce, které byly podrobně uvedeny v popise, včetně jejich nežádoucích důsledků.
Claims (4)
- PATENTOVÉ NÁROKY5 1. Alkalická galvanická lázeň pro nanášení zinko-niklových povlaků s anodou (
- 2), katodou (3) a alkalickým katolytem (4), v němž aminy slouží jako komplexotvomé látky pro ionty niklu, vyznačující se tím, že anoda (2) je od alkalického katolytu (4) oddělena ionexovou membránou.ío 2. Galvanická lázeň podle nároku 1, vyznačující se tím, že anoda (2) je od alkalického katolytu (4) oddělena perfluorovanou katexovou membránou (6).
- 3. Galvanická lázeň podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že jako anolyt (5) je použita kyselina sírová, kyselina fosforečná, kyselina metansulfonová, kyselina amidosulfo15 nová a/nebo kyselina fosfonová.
- 4. Galvanická lázeň podle jednoho z nároků 1 až 3, vyznačující se tím, že anoda je platinovaná titanová anoda.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19834353A DE19834353C2 (de) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ2001189A3 CZ2001189A3 (cs) | 2001-08-15 |
| CZ298904B6 true CZ298904B6 (cs) | 2008-03-05 |
Family
ID=7875843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20010189A CZ298904B6 (cs) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalická zinko-niklová lázen |
Country Status (22)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US6602394B1 (cs) |
| EP (2) | EP1102875B1 (cs) |
| JP (2) | JP4716568B2 (cs) |
| KR (1) | KR20010071074A (cs) |
| CN (1) | CN1311830A (cs) |
| AT (2) | ATE242821T1 (cs) |
| AU (1) | AU5415299A (cs) |
| BG (1) | BG105184A (cs) |
| BR (1) | BR9912589A (cs) |
| CA (1) | CA2339144A1 (cs) |
| CZ (1) | CZ298904B6 (cs) |
| DE (3) | DE19834353C2 (cs) |
| EE (1) | EE200100059A (cs) |
| ES (2) | ES2277624T3 (cs) |
| HR (1) | HRP20010044B1 (cs) |
| HU (1) | HUP0103951A3 (cs) |
| IL (1) | IL141086A0 (cs) |
| MX (1) | MXPA01000932A (cs) |
| PL (1) | PL198149B1 (cs) |
| SK (1) | SK285453B6 (cs) |
| TR (1) | TR200100232T2 (cs) |
| WO (1) | WO2000006807A2 (cs) |
Families Citing this family (49)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19834353C2 (de) * | 1998-07-30 | 2000-08-17 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| US8852417B2 (en) | 1999-04-13 | 2014-10-07 | Applied Materials, Inc. | Electrolytic process using anion permeable barrier |
| US20060157355A1 (en) * | 2000-03-21 | 2006-07-20 | Semitool, Inc. | Electrolytic process using anion permeable barrier |
| US8236159B2 (en) | 1999-04-13 | 2012-08-07 | Applied Materials Inc. | Electrolytic process using cation permeable barrier |
| US20060189129A1 (en) * | 2000-03-21 | 2006-08-24 | Semitool, Inc. | Method for applying metal features onto barrier layers using ion permeable barriers |
| DE10026956A1 (de) * | 2000-05-30 | 2001-12-13 | Walter Hillebrand Galvanotechn | Zink-Legierungsbad |
| EP1292724B2 (en) † | 2000-06-15 | 2015-12-23 | Coventya, Inc. | Zinc-nickel electroplating |
| US6755960B1 (en) | 2000-06-15 | 2004-06-29 | Taskem Inc. | Zinc-nickel electroplating |
| US7628898B2 (en) * | 2001-03-12 | 2009-12-08 | Semitool, Inc. | Method and system for idle state operation |
| DE10223622B4 (de) * | 2002-05-28 | 2005-12-08 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik | Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute |
| US8377283B2 (en) | 2002-11-25 | 2013-02-19 | Coventya, Inc. | Zinc and zinc-alloy electroplating |
| WO2004108995A1 (en) * | 2003-06-03 | 2004-12-16 | Taskem Inc. | Zinc and zinc-alloy electroplating |
| DE10261493A1 (de) * | 2002-12-23 | 2004-07-08 | METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH | Anode zur Galvanisierung |
| US20050121332A1 (en) * | 2003-10-03 | 2005-06-09 | Kochilla John R. | Apparatus and method for treatment of metal surfaces by inorganic electrophoretic passivation |
| US20050133376A1 (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-23 | Opaskar Vincent C. | Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom |
| FR2864553B1 (fr) * | 2003-12-31 | 2006-09-01 | Coventya | Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc |
| US7442286B2 (en) * | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
| DE102004061255B4 (de) * | 2004-12-20 | 2007-10-31 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern und Vorrichtung zur Durchführung desselben |
| EP1712660A1 (de) | 2005-04-12 | 2006-10-18 | Enthone Inc. | Unlösliche Anode |
| ATE429528T1 (de) * | 2005-04-26 | 2009-05-15 | Atotech Deutschland Gmbh | Alkalisches galvanikbad mit einer filtrationsmembran |
| EP1717351A1 (de) * | 2005-04-27 | 2006-11-02 | Enthone Inc. | Galvanikbad |
| JP4738910B2 (ja) * | 2005-06-21 | 2011-08-03 | 日本表面化学株式会社 | 亜鉛−ニッケル合金めっき方法 |
| US20070043474A1 (en) * | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Semitool, Inc. | Systems and methods for predicting process characteristics of an electrochemical treatment process |
| DE102005051632B4 (de) * | 2005-10-28 | 2009-02-19 | Enthone Inc., West Haven | Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen |
| JP4819612B2 (ja) * | 2006-08-07 | 2011-11-24 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | めっき処理装置および半導体装置の製造方法 |
| DE102007040005A1 (de) | 2007-08-23 | 2009-02-26 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad |
| DE102007060200A1 (de) | 2007-12-14 | 2009-06-18 | Coventya Gmbh | Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad |
| TWI384094B (zh) * | 2008-02-01 | 2013-02-01 | Zhen Ding Technology Co Ltd | 電鍍用陽極裝置及包括該陽極裝置之電鍍裝置 |
| EP2096193B1 (en) | 2008-02-21 | 2013-04-03 | Atotech Deutschland GmbH | Process for the preparation of corrosion resistant zinc and zinc-nickel plated linear or complex shaped parts |
| DE102008058086B4 (de) | 2008-11-18 | 2013-05-23 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen |
| KR100977068B1 (ko) * | 2010-01-25 | 2010-08-19 | 한용순 | 비정질 3가크롬합금도금층을 형성하기 위한 도금장치 및 그 3가크롬합금도금액 |
| EP2384800B1 (de) | 2010-05-07 | 2013-02-13 | Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG | Regeneration alkalischer Zinknickelelektrolyte durch Entfernen von Cyanidionen |
| DE102010044551A1 (de) | 2010-09-07 | 2012-03-08 | Coventya Gmbh | Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad |
| EP2565297A3 (en) | 2011-08-30 | 2013-04-24 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Adhesion promotion of cyanide-free white bronze |
| CN103849915B (zh) * | 2012-12-06 | 2016-08-31 | 北大方正集团有限公司 | 电镀装置和pcb板导通孔镀铜的方法 |
| CN103911650B (zh) * | 2014-04-02 | 2016-07-06 | 广东达志环保科技股份有限公司 | 一种应用于碱性锌镍合金电镀的阳极 |
| DE202015002289U1 (de) | 2015-03-25 | 2015-05-06 | Hartmut Trenkner | Zweikammer - Elektrodialysezelle mit Anionen- und Kationenaustauschermembran zur Verwendung als Anode in alkalischen Zink- und Zinklegierungselektrolyten zum Zweck der Metallabscheidung in galvanischen Anlagen |
| KR101622528B1 (ko) | 2015-07-22 | 2016-05-18 | 딥솔 가부시키가이샤 | 아연 합금 도금 방법 |
| US10156020B2 (en) | 2015-07-22 | 2018-12-18 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Zinc alloy plating method |
| WO2017171113A1 (ko) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | (주) 테크윈 | 전해조 및 전해 방법 |
| CN106987879A (zh) * | 2016-11-23 | 2017-07-28 | 瑞尔太阳能投资有限公司 | 电沉积装置及其电沉积方法 |
| EP3358045A1 (de) * | 2017-02-07 | 2018-08-08 | Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG | Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen |
| ES2969188T3 (es) | 2017-06-14 | 2024-05-16 | Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg | Procedimiento para la deposición galvánica de revestimientos de aleaciones de cinc-níquel a partir de un baño de aleación de cinc-níquel alcalino con degradación reducida de aditivos |
| TWI841670B (zh) * | 2019-01-24 | 2024-05-11 | 德商德國艾托特克公司 | 用於電解鋅-鎳合金沉積之膜陽極系統 |
| CN110462107A (zh) | 2019-02-15 | 2019-11-15 | 迪普索股份公司 | 锌或锌合金电镀方法和系统 |
| JP6750186B1 (ja) | 2019-11-28 | 2020-09-02 | ユケン工業株式会社 | めっき液の亜鉛濃度の上昇を抑制する方法および亜鉛系めっき部材の製造方法 |
| US11946152B2 (en) | 2019-12-20 | 2024-04-02 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Method and system for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate |
| EP4273303A1 (en) | 2022-05-05 | 2023-11-08 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Method for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, an aqueous zinc-nickel deposition bath, a brightening agent and use thereof |
| CN115821346A (zh) * | 2022-11-16 | 2023-03-21 | 广州超邦化工有限公司 | 一种中碳钢机加件镀碱性锌镍合金的方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5893886A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Tokuyama Soda Co Ltd | 電気メツキ方法 |
| EP0410919A1 (fr) * | 1989-07-25 | 1991-01-30 | Institut De Recherches De La Siderurgie Francaise (Irsid) | Procédé de revêtement électrolytique d'une surface métallique, et cellule d'électrolyse pour sa mise en oeuvre |
| JPH0417693A (ja) * | 1990-05-10 | 1992-01-22 | Nippon Steel Corp | Ｎｉ又はＮｉ―Ｚｎ合金又はＮｉ―Ｚｎ―Ｃｏ合金メッキ方法 |
Family Cites Families (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE925264C (de) | 1952-11-15 | 1955-03-17 | Hesse & Co Dr | Verfahren zum Vernickeln ohne Nickelanoden |
| GB1349735A (en) | 1969-11-20 | 1974-04-10 | Fulmer Res Inst Ltd | Electrodeposited metal coatings |
| US3660170A (en) * | 1970-04-08 | 1972-05-02 | Gen Electric | Dendrite-inhibiting additive for battery cell having zinc electrode |
| US3718549A (en) | 1971-06-14 | 1973-02-27 | Kewanee Oil Co | Alkaline nickel plating solutions |
| JPS5128533A (en) * | 1974-09-04 | 1976-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki |
| GB1602404A (en) | 1978-04-06 | 1981-11-11 | Ibm | Electroplating of chromium |
| US4192908A (en) * | 1979-06-15 | 1980-03-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Mass-transport separator for alkaline nickel-zinc cells and cell |
| JPS5893899A (ja) | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 電気メツキの浴管理方法 |
| US4469564A (en) * | 1982-08-11 | 1984-09-04 | At&T Bell Laboratories | Copper electroplating process |
| DE3310730A1 (de) | 1983-03-24 | 1984-03-29 | Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart | Verfahren zum entfernen ueberschuessiger metall-ionen aus sauren chloridhaltigen galvanischen baeder |
| JPS59193295A (ja) | 1983-04-15 | 1984-11-01 | Hitachi Ltd | ニツケルめつき方法及び装置 |
| US4889602B1 (en) | 1986-04-14 | 1995-11-14 | Dipsol Chem | Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating |
| DE3712511C3 (de) * | 1986-04-14 | 1995-06-29 | Dipsol Chem | Alkalisches cyanidfreies Elektroplattierungsbad und Verwendung dieses Bades |
| US4832812A (en) * | 1987-09-08 | 1989-05-23 | Eco-Tec Limited | Apparatus for electroplating metals |
| JPH02175894A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-09 | Kosaku:Kk | スズ、スズ合金電気めっき方法及び同電気めっき装置 |
| JPH049493A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Permelec Electrode Ltd | 鋼板の電気錫メッキ方法 |
| JPH0444374A (ja) | 1990-06-12 | 1992-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エキシマレーザ装置 |
| US5310465A (en) * | 1990-06-14 | 1994-05-10 | Vaughan Daniel J | Electrodialytic oxydation-reduction of metals |
| JPH0452296A (ja) * | 1990-06-20 | 1992-02-20 | Permelec Electrode Ltd | 銅めっき方法 |
| JPH08375Y2 (ja) * | 1990-08-15 | 1996-01-10 | 株式会社アルメックス | メッキ装置の陽極構造 |
| EP0483937A1 (de) | 1990-10-24 | 1992-05-06 | ATOTECH Deutschland GmbH | Membranelektrolysemodul, Verfahren und dessen Verwendung |
| DE4035316C2 (de) | 1990-11-07 | 1993-11-04 | Daimler Benz Ag | Verfahren zur elektrolytischen rueckgewinnung von nickel aus chloridhaltigen elektrolytischen baedern |
| JPH04176893A (ja) | 1990-11-08 | 1992-06-24 | Kawasaki Steel Corp | Ｓｎ―Ｎｉ合金めっき方法 |
| US5162079A (en) | 1991-01-28 | 1992-11-10 | Eco-Tec Limited | Process and apparatus for control of electroplating bath composition |
| JP2997072B2 (ja) * | 1991-02-13 | 2000-01-11 | ディップソール株式会社 | 亜鉛−ニッケル合金めっき浴及び被めっき物上の黒色析出を防止する方法 |
| JPH059776A (ja) * | 1991-07-01 | 1993-01-19 | Fujitsu Ltd | プリント配線板のめつき方法 |
| JPH059799A (ja) | 1991-07-05 | 1993-01-19 | Kawasaki Steel Corp | 硫酸浴Ｚｎ−Ｎｉ電気めつきにおける金属イオンの供給方法及び装置 |
| JPH05128533A (ja) | 1991-11-05 | 1993-05-25 | Nec Eng Ltd | 光デイスク再生装置 |
| FR2686352B1 (fr) | 1992-01-16 | 1995-06-16 | Framatome Sa | Appareil et procede de revetement electrolytique de nickel. |
| US5417840A (en) * | 1993-10-21 | 1995-05-23 | Mcgean-Rohco, Inc. | Alkaline zinc-nickel alloy plating baths |
| US5405523A (en) * | 1993-12-15 | 1995-04-11 | Taskem Inc. | Zinc alloy plating with quaternary ammonium polymer |
| JP4017693B2 (ja) | 1996-10-18 | 2007-12-05 | 株式会社エース電研 | 遊技場管理装置 |
| JPH10130878A (ja) | 1996-11-01 | 1998-05-19 | Asahi Glass Co Ltd | 電解ニッケルめっき方法 |
| US5883762A (en) | 1997-03-13 | 1999-03-16 | Calhoun; Robert B. | Electroplating apparatus and process for reducing oxidation of oxidizable plating anions and cations |
| DE19834353C2 (de) | 1998-07-30 | 2000-08-17 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| JP4176893B2 (ja) | 1999-01-19 | 2008-11-05 | ローランド株式会社 | 波形再生装置 |
| ATE508130T1 (de) | 2004-09-08 | 2011-05-15 | Nycomed Gmbh | 3-oxa-10-aza-phenanthrene als pde4- oder pde3/4- inhibitoren |
| JP5009776B2 (ja) | 2007-12-27 | 2012-08-22 | 株式会社小松製作所 | エンジンのシール構造、樹脂リング、およびエンジン |
| JP5128533B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-01-23 | シャープ株式会社 | 光源モジュールおよびそれを備えた照明装置 |
-
1998
- 1998-07-30 DE DE19834353A patent/DE19834353C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-07-24 US US09/744,706 patent/US6602394B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 JP JP2000562585A patent/JP4716568B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 CZ CZ20010189A patent/CZ298904B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 CN CN99809138A patent/CN1311830A/zh active Pending
- 1999-07-29 CA CA002339144A patent/CA2339144A1/en not_active Abandoned
- 1999-07-29 DE DE59914011T patent/DE59914011D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 KR KR1020017001285A patent/KR20010071074A/ko not_active Withdrawn
- 1999-07-29 EP EP99940077A patent/EP1102875B1/de not_active Revoked
- 1999-07-29 BR BR9912589-7A patent/BR9912589A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-07-29 SK SK89-2001A patent/SK285453B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 MX MXPA01000932A patent/MXPA01000932A/es unknown
- 1999-07-29 EE EEP200100059A patent/EE200100059A/xx unknown
- 1999-07-29 IL IL14108699A patent/IL141086A0/xx unknown
- 1999-07-29 EP EP03003890A patent/EP1344850B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 AT AT99940077T patent/ATE242821T1/de active
- 1999-07-29 TR TR2001/00232T patent/TR200100232T2/xx unknown
- 1999-07-29 HU HU0103951A patent/HUP0103951A3/hu unknown
- 1999-07-29 ES ES03003890T patent/ES2277624T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 AU AU54152/99A patent/AU5415299A/en not_active Abandoned
- 1999-07-29 WO PCT/EP1999/005443 patent/WO2000006807A2/de not_active Ceased
- 1999-07-29 AT AT03003890T patent/ATE346180T1/de active
- 1999-07-29 DE DE59905937T patent/DE59905937D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 HR HR20010044A patent/HRP20010044B1/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 PL PL345970A patent/PL198149B1/pl unknown
- 1999-07-29 ES ES99940077T patent/ES2201759T3/es not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-01-25 BG BG105184A patent/BG105184A/xx unknown
-
2003
- 2003-07-11 US US10/618,352 patent/US20040104123A1/en not_active Abandoned
-
2008
- 2008-02-13 US US12/030,750 patent/US7807035B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2008-03-18 JP JP2008069722A patent/JP2008150713A/ja active Pending
-
2010
- 2010-10-01 US US12/896,673 patent/US8486235B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5893886A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Tokuyama Soda Co Ltd | 電気メツキ方法 |
| EP0410919A1 (fr) * | 1989-07-25 | 1991-01-30 | Institut De Recherches De La Siderurgie Francaise (Irsid) | Procédé de revêtement électrolytique d'une surface métallique, et cellule d'électrolyse pour sa mise en oeuvre |
| JPH0417693A (ja) * | 1990-05-10 | 1992-01-22 | Nippon Steel Corp | Ｎｉ又はＮｉ―Ｚｎ合金又はＮｉ―Ｚｎ―Ｃｏ合金メッキ方法 |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ298904B6 (cs) | Alkalická zinko-niklová lázen | |
| JPH01159395A (ja) | 金属の電気メッキ方法 | |
| WO2014147180A1 (en) | Apparatus and method for electrolytic deposition of metal layers on workpieces | |
| US5419821A (en) | Process and equipment for reforming and maintaining electroless metal baths | |
| Smart et al. | A novel trivalent chromium electroplating bath | |
| CN104911676A (zh) | 具有滤过膜的碱性电镀浴 | |
| US6187169B1 (en) | Generation of organosulfonic acid from its salts | |
| RU2481424C2 (ru) | Способ регенерации раствора черного хроматирования цинковых покрытий | |
| US8801916B2 (en) | Recovery method of nickel from spent electroless nickel plating solutions by electrolysis | |
| US3374154A (en) | Electroforming and electrodeposition of stress-free nickel from the sulfamate bath | |
| CN114787425A (zh) | 用于在衬底上沉积锌-镍合金的方法及系统 | |
| RU2712325C1 (ru) | Способ извлечения кадмия из промывных вод, содержащих цианиды | |
| JPH05311483A (ja) | 錫またははんだめっき浴 | |
| KR20230092886A (ko) | 금속으로 물품을 전기 도금하는 방법 및 시스템 | |
| CA2053342A1 (en) | Nickel electroplating process with reduced nickel ion build up | |
| DE29824094U1 (de) | Alkalisches Zink-Nickelbad | |
| PL130075B1 (en) | Bath for bright nickel plating | |
| PL97794B1 (pl) | Sposob odzyskiwania cynku |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MK4A | Patent expired |
Effective date: 20190729 |