CZ20012318A3 - Ultrafobní povrch, způsob jeho přípravy a pouľití - Google Patents
Ultrafobní povrch, způsob jeho přípravy a pouľití Download PDFInfo
- Publication number
- CZ20012318A3 CZ20012318A3 CZ20012318A CZ20012318A CZ20012318A3 CZ 20012318 A3 CZ20012318 A3 CZ 20012318A3 CZ 20012318 A CZ20012318 A CZ 20012318A CZ 20012318 A CZ20012318 A CZ 20012318A CZ 20012318 A3 CZ20012318 A3 CZ 20012318A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- hydrophobic
- ultraphobic
- ultrafobic
- log
- polymer
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 38
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 13
- 238000012876 topography Methods 0.000 claims abstract description 52
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 30
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims abstract description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- -1 praseodyne Chemical compound 0.000 claims description 46
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 41
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 27
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 20
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 16
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 14
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims description 13
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 11
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 9
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 claims description 9
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 8
- 238000004574 scanning tunneling microscopy Methods 0.000 claims description 8
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 7
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 7
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 6
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 5
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 claims description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 230000016507 interphase Effects 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 4
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 claims description 4
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 claims description 4
- 239000004035 construction material Substances 0.000 claims description 4
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 4
- ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N polynoxylin Chemical compound O=C.NC(N)=O ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 4
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004621 scanning probe microscopy Methods 0.000 claims description 4
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims description 4
- 229920000638 styrene acrylonitrile Polymers 0.000 claims description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 4
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 claims description 4
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 claims description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 3
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- CGXBXJAUUWZZOP-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 CGXBXJAUUWZZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002397 thermoplastic olefin Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 2
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N technetium atom Chemical compound [Tc] GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 claims 2
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 claims 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 claims 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000010408 film Substances 0.000 description 19
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 15
- 241001484259 Lacuna Species 0.000 description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 11
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 10
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VTXVGVNLYGSIAR-UHFFFAOYSA-N decane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCS VTXVGVNLYGSIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 8
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 8
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 8
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 6
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical class COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 4
- 150000002460 imidazoles Chemical group 0.000 description 4
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical class O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 4
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 3
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000611421 Elia Species 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical class CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N Propionic acid Chemical class CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical group [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005600 alkyl phosphonate group Chemical group 0.000 description 2
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 2
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N benzene-dicarboxylic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008107 benzenesulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical class CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 229920006245 ethylene-butyl acrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920006244 ethylene-ethyl acrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920005676 ethylene-propylene block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 229920005610 lignin Polymers 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 description 2
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZRCGISJYYLJMA-UHFFFAOYSA-N phenol;styrene Chemical compound OC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 UZRCGISJYYLJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N trimesic acid Natural products OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000006833 (C1-C5) alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C(C)=C1 OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAQOZOILPAMFSW-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(CC=2C(=C(CC=3C(=CC=C(C)C=3)O)C=C(C)C=2)O)=C1 MAQOZOILPAMFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 2-(3-hydroxyphenyl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)O)=C1 XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBQRPFBBTWXIFI-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4-[2-(3-chloro-4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C(Cl)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(Cl)=C1 XBQRPFBBTWXIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEKCYPANSOJWDH-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)-1H-indol-2-one Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3NC2=O)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 ZEKCYPANSOJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=C(O)C=C1 BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJGTVJRTDRARGO-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound C=1C=C(O)C=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 XJGTVJRTDRARGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIRYBKWMEWFDPM-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxyphenyl)-3-methylbutyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)CCC1=CC=C(O)C=C1 NIRYBKWMEWFDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIEGINNQDIULCT-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis(4-hydroxyphenyl)-4,6-dimethylheptan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)CC(C)(C=1C=CC(O)=CC=1)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 CIEGINNQDIULCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQNDEQHJTOJHAK-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4,4-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]propan-2-yl]-1-(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]phenol Chemical compound C1CC(C=2C=CC(O)=CC=2)(C=2C=CC(O)=CC=2)CCC1C(C)(C)C(CC1)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 IQNDEQHJTOJHAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIDWAYDGZUAJEG-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)-phenylmethyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=CC=C1 LIDWAYDGZUAJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCLKUCIZOXUEY-UHFFFAOYSA-N 4-[tris(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 BOCLKUCIZOXUEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101001096169 Homo sapiens Phosphatidylserine decarboxylase proenzyme, mitochondrial Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017768 LaF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100037908 Phosphatidylserine decarboxylase proenzyme, mitochondrial Human genes 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYPYTERUKNKOLP-UHFFFAOYSA-N Tetrachlorobisphenol A Chemical compound C=1C(Cl)=C(O)C(Cl)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Cl)=C(O)C(Cl)=C1 KYPYTERUKNKOLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4-ol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000402 bisphenol A polycarbonate polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000006085 branching agent Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYMGIIIPAFAFRX-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;ethene Chemical compound C=C.CCCCOC(=O)C=C QYMGIIIPAFAFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N cyanuric chloride Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000005042 ethylene-ethyl acrylate Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012994 photoredox catalyst Substances 0.000 description 1
- HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N platinum-iridium alloy Chemical compound [Ir].[Pt] HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001864 tannin Polymers 0.000 description 1
- 239000001648 tannin Substances 0.000 description 1
- 235000018553 tannin Nutrition 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/08—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain an anti-friction or anti-adhesive surface
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31507—Of polycarbonate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31605—Next to free metal
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
- Y10T428/31681—Next to polyester, polyamide or polyimide [e.g., alkyd, glue, or nylon, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
- Y10T428/31692—Next to addition polymer from unsaturated monomers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31721—Of polyimide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31725—Of polyamide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31786—Of polyester [e.g., alkyd, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
Oblast techniky
Vynález se týká ultrafobního povrchu, způsobu jeho přípravy a jeho použití. Povrch má povrchovou topografii, ve které jsou prostorové frekvence f jednotlivých Fourierových složek a jejich amplitudy a( f) vyjádřeny integrálem funkce S
S(log f) = a(f).f (1) vypočteným v mezích log(fi/pm_1) = -3 a logífi/pm1) = 3 nejméně 0,5, přičemž povrch sestává z hydrofobního nebo zvláště oleofobního materiálu nebo je povlečen hydrofobním nebo zvláště oleofobním materiálem.
Dosavadní stav techniky
Ultrafobní povrchy se vyznačují skutečností, že kontaktní úhel kapky kapaliny, obvykle vody, je na povrchu podstatně o o větší než 90 a úhel odvalení nepřesahuje 10 . Ultrafobní poo vrchy s kontaktním úhlem >150 a se zmíněným úhlem odvalení mají velké použití v technice, jelikož například nejsou smáčivé olejem nebo vodou, částice špíny k nim přiléhají jen velmi slabě a povrchy jsou samočisticí. Pojem samočisticí zde znamená schopnost povrchu pohotově odvádět částice špíny nebo prachu, ulpělé na povrchu, do kapalin, které přes tento povrch tečou.
Nechybělo proto úsilí vyvinout takové ultrafobní povrchy. Například v patentovém spise Číslo EP 476510 Al se popisuje způsob přípravy ultrafobního povrchu, při kterém se na skleněný povrch nanáší film oxidu kovů a povrch se leptá pomocí Ar plasmy. Povrchy připravené tímto způsobem mají však nevýhodu, o
že kontaktní úhel kapky na povrchu je menší než 150 .
• · • ·
Americký patentový spis číslo US 5 693 236 také uvádí řadu způsobů přípravy ultrafobních povrchů, při kterém se nanášejí mikroskopické jehličky oxidu zinečnatého na povrch pomocí pojivá a odkrývají se různými způsoby (například plasmou). Povrch, strukturovaný tmto způsobem, se povlékne vodoodpudivou kompozicí. Takto strukturovaný povrch má pravděpodobně kontaktní úhly do 150
Světový patentový spis číslo WO 96/04123 podobně popisuje způsoby přípravy ultrafobních povrchů. Kromě jiného se popisují žádoucí povrchové struktury vytvářené již během přípravy lisování hydrofobních polymerů, při kterém se výlisky připravují od počátku ve formách, jejichž povrch je negativem struktury požadovaného povrchu. Jako nedostatek tohoto způsobu je však nutno uvést, že negativ struktury požadovaného povrchu se musí napřed připravit, než může být předmět s požadovanou strukturou povrchu vylisován. Během přípravy negativu formy, jak shora popsáno, se však mohou na povrchu vyskytnout vady, které poškodí povrchové vlastnosti pozitivního výlisku hydrofobního polymeru.
Úkolem vynálezu tedy je vyvinout ultrafobní povrchy a o způsob jejich přípravy, aby byl kontaktní úhel >150 a odváloo vací úhel s výhodou <10
Odvalovacím úhlem se zde míní úhel sklonu v podstatě rovného, ale strukturovaného povrchu vůči vodorovné poloze, na kterém se začne pohybovat stacionární kapka vody o objemu 10 μΐ v důsledku působení gravitační síly při naklonění povrchu.
Konkrétním problémem je, že ultrafobní vlastnost se zjišťuje na povrchách různých materiálů majících úplně jiné povrchové struktury, jak vyplývá z uvedených příkladů. Až dosud neexistoval způsob, který by byl schopen stanovit ultrafobní vlastnost povrchu nezávisle na materiálu. Dalším úkolem vyná3 • ·
lesu tedy je nalézt způsob, při kterém mohou být povrchy zkoušeny na ultrafobní vlastnost nezávisle na materiálu.
Podstata vynálezu
Strukturovaný povrch mající ultrafobní vlastnosti, spočívá podle vynálezu v tom, že povrchová topografie, ve které hodnota integrálu funkce S
S(log f) = a(f) .f ( 1) který udává vztah mezi prostorovými frekvencemi f jednotlivých Fourierových složek a jejich amplitudami a(f) je alespoň 0,5 v integračních mezích 1 og( f i / jam-1) = -3 a log(fi/um_1) = 3 a povrch sestává z hydrofobniho nebo zvláště oleofobního materiálu nebo je povlečen hydrofobním nebo zvláště oleofobním materiálem.
Hydrofobním materiálem se zde vždy míní materiál, který má na úrovni nestrukturovaného povrchu kontaktní úhel pro vodu o větší než 90 .
Oleofobním materiálem se na úrovni nestrukturovaného kaný s dlouhým řetězcem, jako
Integrál funkce (1) má s
Přednost se dává úhel pro vodu nejméně ultrafobnímu
150 , zvláště zde vždy míní materiál, který má povrchu kontaktní úhel pro n-alo je n-dekan, větší než 90 .
výhodou hodnotu >0,6.
povrchu, který má kontaktní o nejméně 155 .
Ultrafobní povrchem nebo jeho substrátem je s výhodou kov, plast, sklo nebo keramický materiál.
Kov je volen s výhodou ze souboru zahrnujícího berylium, hořčík, skandium, titan, vanad, chrom, mangan, železo, kobalt, nikl, měď, technecium, indium, cín,
zinek, galium, yttrium, zirkon, ruthenium, rhenium, palladium, lanthan, cér.
pium, gadolinium, terbium, um, ytterbium lutecium, niob, molybden, stříbro, kadmium, praseodym, neodym, samarium, eurodysprosium, holmium, erbium, thulihafnium, tantal, wolfram, rhenium, osmium, iridizm, platina, zlato, thalium, olovo, vizmut, zejměna t i tan, hliník, hořčík a nikl nebo slitiny těchto kovů.
Kovem ultrafobního povrchu je velmi výhodně slitina hliníku a hořčíku, obzvlášť výhodně slitina AlMg3.
Vhodným polymerem pro ultrafobní povrch nebo jeho substrátem je termoset nebo termoplast.
Termosetový polymer je volen zejména ze souboru zahrnujícího pryskyřici dia11y1ftalátovou, epoxidovou, močovinoformaldehydovou, me1aminformaldehydovou, melaminfenolformaldehydovou nebo fenolformaldehydovou pryskyřici, polyimid, silikonový kaučuk a nenasycenou polyesterovou pryskyřici.
Termoplastový polymer je volen zejména ze souboru zahrnujícího termoplastický polyolefin, například polypropylen nebo polyethylen, polykarbonát, polyesterkarbonát, polyester (například PBT nebo PET), polystyren, styrenový kopolymer, SAN pryskyřici, kaučuk obsahující styrenový roubovaný kopolymer, například ABS polymer, polyamid, polyuretan, polyfenylensulfid, polyvinylchlorid nebo jakékoli možné směsi uvedených po1ymerů.
Jako substráty pro povrchy podle vynálezu se obzvláště dobře hodí tyto termoplastové polymery:
polyolefiny, jako polyethylen s nízkou a vysokou hustotou, například 0,91 g/cm3 až 0,97 g/cm3, které se mohou připravovat známými způsoby (například Ullmann (4.) 19, od str. 167; Winnmacker-Kuchler (4.) 6, str. 353 až 367; Elias & Vohwinkel, • ·
Neuere Polymere Werkstoffe fiir die industrielle Anwendung, Munchen, Hanser 1983.
Vhodnými jsou také polypropyleny s molekulovou hmotností 10000 g/mol až 1 000000 g/mol, které se mohou připravovat známými způsoby (Ullmann (5.) A10, od str. 615; Houben-Weyl E20/2 od str. 722; Ullmann (4.) 19, od str. 195; Kirk-Othmer (3.) 16, od str. 357.
Jsou však také možné kopolymery uvedených olefinů nebo s dalšími cř-olefiny, jako jsou například polymery ethylenu s butenem, s hexenem a/nebo s oktenen, EVA (ethylen-vinylacetátové kopolymery), EBA (ethylen-ethylakrylátové kopolymery), EEA (ethylen-butykakrylátové kopolymery), EAS (kopolymery kyseliny akrylové a ethylenu), EVK (ethylenvinylkarbazolové kopolymery), EPB ( ethylenpropylenové blokové kopolymery), EPDM ( ethylenpropylendienové kopolymery), PB (polybuteny), PMP (polymethylpenteny), PIB (pólyisobutyleny) , NBR (akrylonitrilbutadienové kopolymery), polyisopreny, methylbutylenové kopolymery, isoprenisobutylenové kopolymery.
Způsoby přípravy takových polymerů jsou popsány v literatuře (například Kunststoff-Handbuch [Polymer Handbook], sv.IV, Mtinchen, Hanser Verlag; Ullman (4. vydání) 19, od str. 167; Winnacker-KUchler (4.vydání) 6, str. 353 až 367; Elias & Vohwinkel Neue Polymere Werkstoffe [Novel Polymeric Materials], MUnchen, Hanser 1983; Franck & Biederbick, Kundstoff Kompendium [Polymer Compendium] Wurzburg, Vogel 1984).
Termoplastické polymery vhodné podle vynálezu jsou také termoplastické aromatické polykarbonáty, zvláště na bázi difenolů obecného vzorce I
P • · · • · • · · kde znamená
A jednoduchou vazbu, skupinu alkylenovou s 1 až 5 atomy uhlíku, alkylidenovou se 2 až 5 atomy uhlíku, cykloalkylidenovou s 5 až 6 atomy uhlíku, atom síry,, skupinu -SO2-, atom kyslíku, oxid uhelnatý, nebo skupinu arylenovou se 6 až 12 atomy uhlíku, která je popřípadě kondenzována s dalšími aromatickými kruhy obsahujícími heteroatomy,
B na sobě nezávisle skupinu alkylovou s 1 až 8 atomy uhlíku, arylovou, se 6 až 10 atomy uhlíku, s výhodou fenylovou, aralkylovou se 7 až 12 atomy uhlíku, s výhodou benzylovou, atom halogenu, s výhodou atom chloru nebo bromu, x na sobě nezávisle číslo 0, 1 nebo 2 a
P číslo 1 nebo O;
nebo alkylovou skupinou substituované dihydroxyfenylcykloalkaný obecného vzorce II
kde znamená
R1 a R2 na sobě nezávisle atom vodíku, atom halogenu, s výhodou chloru nebo bromu, skupinu alkylovou s 1 až 8 atomy uhlíku, cykloalkylovou s 5 až 6 atomy uhlíku, arylovou se 6 až 10 atomy uhlíku, s výhodou fenylovou a aralkylovou se 7 až 12 atomy uhlíku, s výhodou fenylalkylovou s^ 1 až 4 atomy uhlíku v alkylovém podílu, zvláště benzylovou skupinu, m Číslo 4 až 7, s výhodou 4 nebo 5,
R3 a R4 pro každé Z na sobě nezávisle atom vodíku nebo skupi7 • · • · «
nu alkylovou s 1 až 6 atomy uhlíku, s výhodou atom vodíku, skupinu methylovou nebo ethylovou a
Z atom uhlíku, s podmínkou, že alespoň jeden atom Z, R3 a R4 znamenají současně skupinu alkylovou.
Vhodnými difenoly obecného vzorce I jsou například hydrochinon, resorcinol, 4,4 -dihydroxydifenyl, 2,2-bis-(4-hydroxyfenyl)propan, 2,4-bis-( 4-hydroxyfeny1)-2-methylbutan, 1,1-bis-(4-hydroxyfenyl)cyklohexan, 2,2-bis-(3-chlor-4-hydroxyfenyl)propan nebo 2,2-bis- ( 3, 5-dibrom-4-hydroxyfenyl)propan.
Výhodnými difenoly obecného vzorce I jsou 2,2-bis-(4-hydroxyfenyl)propan, 2,2-bis-( 3, 5-dichlor-4-hydroxyfenyl)propan a 1 , 1-bis-(4-hydroxyfenyl)cyklohexan.
Výhodnými difenoly obecného vzorce II jsou dihydroxydi feny lcykloa lkaný s 5 až 6 atomy uhlíku v kruhu v cykloalifatické skupině (m =4 nebo 5 v obecném vzorci II), jako jsou například difenoly obecného vzorce
(Ha)
(lib) a (Hc),
CH3 • ·
• ♦ · · · • ······ · • · · · • · · · · · přičemž obzvlášť vhodný je 1,1-bis-(4-hydroxyfenyl)-3,3,5-Lri methylcyklohexin vzorece líc.
Vhodné polykarbonáty podle vynálezu mohou být známým způsobem rozvětvené a s výhodou začleněním 0,05 až 2,0 mol %, vztaženo k sumě použitých difenolu, tří funkčních a více než třífunkčních sloučenin, například sloučenin se třemi nebo více než třemi fenolovými skupinami například florglucinol,
4,6-dimethyl-2,4,6-tri-( 4-hydroxyfenyl)-hept-2-on,
4.6- dimethyl-2,4,6-tri-( 4-hydroxyfenyl)heptan,
1,3,5-tri -(4-hydroxyfenyllbenzen,
1,1,1-tri -(4-hydroxyfenyl)ethan, tri -(4-hydroxyfenyl)fenylmethan,
2,2-bis-(4, 4-bis-(4-hydroxyfenyl)cyklohexyl)propan,
2.4- bis-(4-hydroxyfeny1)isopropyl)fenol,
2.6- bis-(2-hydroxy-5 -methylbenzyl)-4-methyl fenol,
2-(4-hydroxyfenyl)-2-(2, 4-dihydroxyfenyl)propan, hexa- (.4-(. 4-hydroxyf enyl i sopropyl) fenyl ) ortoteref tal át tetra-(4-hydroxyfenyl)methan tetra-(4-(4-hydroxyfenylisopropyl)fenoxy)methan a
1.4- bis-((4’ ,4’ ’ -dihydroxytri fenyl)methyl)benzen.
Některými jinými tri funkčními sloučeninami jsou kyselina
2.4- dihydroxybenzoová, trimesiková nebo trimellitová kyselina, chlorid kyanurové kyseliny a 3,3-bis-(3-methyl-4-hydroxyfeny1)-2-oxo-2, 3-d i hydro i ndo1.
Výhodnými polykarbonáty jsou, vedle bisfenol A homopolykarbonátu, kopo1ykarbonáty bisfenolu A obsahující až 15 mol%, vztaženo na mol všech difenolů, 2,2-bis-(3,5-dibrom-4-hydroxyfenyl)propanu.
Použité aromatické polykarbonáty mohou být částečně nahrazeny aromatickými polyesterkarbonáty.
• ·
• · · · · · • · • · · ·
Aromatické polykarbonáty a/nebo aromatické polyesterkarbonáty jsou z literatury známy a mohou se připravovat způsoby popsanými v literatuře (například příprava aromatických polykarbonátů je popsána v knize Schnell Chemistry and Physics of Polycarbonates Interscience Publishers 1964, v německé vyložené přihlášce vynálezu DE-AS číslo 1 495626, v německé zveřejněné přihlášce vynálezu číslo DE-OS 2 232877 , DE-OS 2 703376, DE-OS 2 714544, DE-OS 3 000610, DE-OS 3 832396: příprava aromatických polyesterkarbonátů je popsána například v německé zveřejněné přihlášce vynálezu číslo DE-OS 3 077934).
Aromatické polykarbonáty a/nebo aromatické polyesterkarbonáty se mohou připravovat například reakcí difenolů s halogenidy kyseliny uhličité, s výhodou s fosgenem a/nebo s dihalogenidy aromatické dikarboxy1ové kyseliny, s výhodou s dihalogenidy benzendikarboxylové kyseliny, s výhodou s dihalogenidy benzendikarboxylové kyseliny, mezi fázovým způsobem, popřípadě za použití terminátorů řetězců a optimálně za použití tri funkčních nebo více než tri funkčních rozvětvovacích činidel Kromě styrenových kopolymerů jednoho nebo alespoň dvou ethylen íčky nenasycených monomerů (vinylmonomerů) jsou vhodné jako termoplastové polymery, jako například polymery styrenu, <x-methyl styrenu, v kruhu substituovaných styrenu, akrylonitrilu, methakrylonitri 1u, methylmethakrylátu, maleinanhydridu, N-substítuovaných maleimidu a (meth)akry1átů majících v alkoholovém podíle 1 až 18 atomů uhlíku.
Kopolymery jsou pryskyřičné, termoplastové a prosté kaučuku .
Výhodnými jsou kopolymery styrenu mající nejméně jeden monomer ze souboru zahrnujícího styren, a-methylstyren a/nebo v kruhu substituovaný styren s alespoň jedním monomerem ze souboru zahrnujícího akry1onítri 1, methakrylonitri1, methyl1.0 ······· ·· ··· · · • · · · · · ··· ··· · ·· ·· ·♦ ··· methakrylát, male inanhydrid a/nebo N-substituovaný maleimid.
Obzvláště s výhodou obsahuje termoplastový kopolymer hmotnostně 60 až 95 % monomerů styrenu a 40 až 5 % dalších vinylových monomerů.
Obzvláště výhodnými jsou kopolymery styrenu s akrylonitrilem a popřípadě s methyl methakryl átem, ot-methyl styrenu s akry Ion i tri lem a popřípadě s methylmethykrylátem, nebo styrenu a cx-methyl styrenu s akry 1 on i tr i 1 em a popřípadě s methylmethakry1átem.
Styrenakrylon itri 1ové kopolymery jsou známé a mohou se připravovat polymeraci s volnými radikály, zvláště emulzní, suspenzní, roztokovou nebo blokovou polymeraci. Kopolymery mají s výhodou molekulovou hmotnost Mw (hmotnostní střední, stanovenou rozptylem světla nebo sedimentací) 15 000 až 200 000 g/mol.
Obzvlášť výhodnými kopolymery jsou také statistické kopolymery styrenu a maleinanhydridu, které se mohou připravovat z odpovídajících monomerů kontinuální blokovou nebo roztokovou polymeraci s neúplnou konversí.
Podíly obou složek statistických styrenmaleinanhydridových kopolymerů, vhodných pro účely vynálezu, mohou kolísat v širokých mezích. Výhodný hmotnostní podíl maleinanhydridu je 5 až 25 %.
Místo styrenu mohou polymery obsahovat také v kruhu substituované styreny, jako je p-methylstyren, 2,4-dimethylstyren a jiné substituované styreny, jako je cí-methylstyren.
Molekulové hmotnosti (střední číselné Mn) styrenmaleinanhydridových kopolymerů může kolísat v širokých mezích. Před• · · nost se dává 60 000 až 200 000 g/mol. U těchto produktů je výhodná mezní viskosita 0,3 až 0,9 (měřeno v dimethy1formamidu
Q při teplotě 25 C; Hoffmann, Kroner, Kuhn, Polymeranalytik I, Stuttgart, od str. 316, 1977).
Vhodnými termoplastovými polymery jsou roubované kopolymery. Zahrnují roubované kopolymery s kaučukovou pružností, které lze získat z alespoň dvou monomerů ze souboru zahrnujícího: choropren, 1,3-butadien, isopren, styren, akrylon itri 1, ethylen, propylen, vinylacetát a (meth)akryláty s 1 až 18 atomy uhlíku v alkoholovém podílu: například jak jsou popsány v knize Methoden der Organischen Chemie (Houben-Weyl), sv. 14/1, Georg Thieme Verlag Stuttgart, str. 393 až 406 1961; a v knize C.B.Bucknal1, Toughened plasics“ Appl . Science Pub1ishers, London 1977. Výhodné roubované polymery jsou částečně zesítěné a mají hmotnostní obsah gelu větší než 20 %, zvláště větší než 40 % a především větší než 60 %.
Výhodnými roubovanými kopolymery jsou například kopolymery styrenu a/nebo akry1 onitri 1u a/nebo alkyl(meth)akrylátů roubované na polybutadieny, butadien/styrenové kopolymery a akrylátové kaučuky; například kopolymery typu popsaného v německé zveřejněné přihlášce vynálezu číslo DE-OS 1 694173 (odpovídá americkému patentovému spiss číslo 3 564 077); polybutadieny, roubované alkylakryláty nebo methakryláty, vinylacetátem, akrylonitri lem, styrenem a/nebo alkylstyreny, butadienstyrenové nebo butadienakrylonitrilové kopolymery, polyísobuteny nebo polyisopreny, popsané například v německé zveřejněné přihlášce vynálezu číslo DE-OS 2 348377 (odpovídající americkému patentovému spisu číslo 3 919353).
Obzvlášť výhodnými polymery jsou například ABS polymery, popsané například v německé zveřejněné přihlášce vynálezu číslo DE-OS 2 035390 (odpovídající americkému patentovému spisu číslo 3 644574) nebo DE-OS 2 248242 (odpovídající britskému • · patentovému spisu číslo 1 409275).
Roubované kopolymery se mohou připravovat známými způsoby, jako je bloková, suspenzní, emulzní nebo bloková suspenzní polymerace.
Termoplastovými polymery, kterých lze použít, jsou polyamid 66 (polyhexamethylenadipamid) nebo polyamidy cyklických laktamů se 6 až 12 atomy uhlíku, s výhodou laurolaktamu a obzvlášť výhodně £-kaprolaktámu = polyamid 6 (polykaprolaktam) nebo kopolyamidy s hlavními složkami 6 nebo 66 nebo směsi, jejíchž hlavní složkou jsou uvedené polyamidy. Přednost se dává polyamidu 6, připravenému aktivovanou aniontovou polymeraci nebo kopolyamid, jehož hlavní složkou je polykaprolaktam a který se připraví aktivovanou aniontovou polymeraci.
Výhodnými keramickými materiály jsou oxidy, karbidy nebo nitridy shora uvedených kovů a kompozity na bázi těchto materiálů.
Topografii jakéhokoli povrchu lze v zásadě popsat kombinací Fourierových složek prostorových frekvencí fx a fy a amplitud a(fx) a a(fy) spojených s frekvencemi. lambdax = fx _1 a lambday = fy-1 jsou strukturní délky souřadnic x a y.
V technologii je zvykem používat tak zvané spektrální hustoty síly Sz(fx,fy). Průměrná spektrální hustota síly je úměrná průměru všech kvadratických amplitud při příslušných prostorových frekvencích fx a fy. Je-li povrch isotropický, může být topografie povrchu charakterizována spektrální hustotou síly PSD(f) zprůměrovanou v polárním úhlu. Spektrální hustota síly PSD(f) je stále dvourozměrnou funkcí rozměru [délka]4, ačkoli oba směry jsou identické a v úvahu se bere pouze jeden. Tento výpočet je popsli například C.Ruppe a A.Duparré (Thin Solid Films 288, str. 9 rovnice (2), 1996).
V závislosti na tom, jakého způsobu měření se použije k určení topografie se získají přímo spektrální hustoty síly, nebo se výsledky převedou na spektrální hustotu síly (PSD(f) pomocí Fourierovy transformace údajů výšky profilu topografie. Tento převod je popsal například C.Ruppe a A.Duparré (Thin Solid Films 288, str. 9 (1996) a zde se na něj odkazuje.
Povrchová topografie ultrafobního povrchu má pod kapkou kapaliny oblasti zvýšené a oblasti snížené, přičemž jejich výška a hloubka kolísá mezi O,1 nm až 1 mm. Vzhledem k enormnímu rozpětí pásma není běžně dosud možno určit povrchovou topografii pomocí jediného způsobu měření, což znamená, že je třeba kombinovat navzájem tři způsoby měření a vyhodnocování k přesnému určení povrchové topografie. Těmito způsoby měření jsou:
1) interferometrie v bílém světle (WLI)
2) řádkovací mikroskopie atomické síly (AFM)
3) řádkovací tunelová mikroskopie (STM).
Pomocí těchto způsobů měření se PSD(f) stanoví v každém případě po sekcích v poměrně malém překrytí delta f prostorové frekvence. Tato spektrální hustota síly, stanovená po sekcích, se pak kombinuje k získání celkové PSD(f) v rozsahu prostorové frekvence f=10'3 μϋΐ1 až f = 103 jam-1. Technika kombinování křivek PDS, stanovených po úsecích, popsal například C.Ruppe a A.Duparré (Thin Solid Films 288, str. 10, 1996).
K určení spektrální hustoty síly se používá interferometrie bílého světla (WLI) v rozsahu prostorové frekvence od delta f=10~3 mm-1 do 1 pm-1, kde v měřeném poli 1120 jam x 1120 jam se měří rozsah prostorové frekvence: delta f = 9xl0-4 pm-1 až 2x101 jam-1 v měřeném poli 280 pm x 280 jam se měří rozsah prostorové frekvence delta f = 4xl0'3 μη1 až 9x101 jam-1 v měřeném poli 140 jam x 140 jam se měří rozsah prostorové frekvence • · delta f = 7xl0-3 μπι1 až 2x10° jum~ 1 .
Při tomto způsobu měření se stanoví výše z(x,y) profilu za použití interferometru bílého světla, kde z je výška nad žádoucí referenční výškou zo v příslušném místě daném souřadnicemi x nebo y. Přesný experimentální pokus a způsob měření popsali R.J.Recknagel, G. Notní (Optics Commun. 148, str.122 až 128, 1998). Výše z(x,y) profilu se převede obdobně jako v případě snímací mikroskopie atomové síly (scanning atom ic force microscopy) nebo snímací tunelovací mikroskopie (scanning tunneling microscopy) dále popsané.
Snímací mikroskopie atomové síly (scanning atomic force microscopy AFM) se používá ke stanovení spektrální hustoty síly v rozsahu prostorové frekvence delta f = lxlO-2 um-1 až lxlO3 μι»1 a je to standardní způsob měření známý pracovníkům v oboru, při kterém se výškový profil zm.n povrchu zaznamenává způsobem kontaktu nebo odpichování pomocí mikroskopu snímání atomové síly. Při tomto způsobu měření se používá různých snímaných oblastí LxL. Tyto snímané oblasti a počet datovaných bodů N se používají k výpočtu minima a maxima prostorové frekvence, která může být zkoumána ve snímané oblasti, kde platí vztah: fmax = N/2L nebo fmin = 1/L. S výhodou se ve snímané ploše měří 512 bodů, takže ve snímané ploše 50 μιη x 50 μιη se měří rozsah prostorové frekvence:
| delta f | = 2x10' | 2 jjm-1 až 5 | jam-1, ve snímané ploše 10 jam x | 10 | μη |
| se měří | rozsah | prostorové | frekvence | ||
| delta f= | 1x10-1 | jim- 1 až 3x | 101 jam-1 , ve snímané ploše 1 μιη x | 1 | jam |
| se měří | rozsah | prostorové | frekvence | ||
| delta f | = 1 um- | 1 až 3x102 | jam- 1 . |
Výškový profil zm,n závisí na smluvní referenční výšce zo;
m,n jsou souřadnice měřených míst směru x nebo y, zaznamenané v ekvidistační vzdálenosti delta L. Data výškového profilu se převádějí na průměrnou spektrální hustotu síly PSD v souladu
« s rovnicemi 1 a 2 , které popsal C. Ruppe a A. Duparré (Thin Solid Films 288, str. 9, 1996).
Snímací tunelové mikroskopie (STM) se používá ke stanovení spektrální hustoty síly v rozsahu prostorové frekvence delta f = 1 x 101 ym_1 až lxlO3 tím1 a je to standardní způsob měření obecně známý pracovníkům v oboru, při kterém se výškový profil ζπ,η povrchu zaznamenává pomocí snímacího tunelového mikroskopu. Také při tomto způsobu měření se používá různých snímaných oblastí LxL. Tyto snímané oblasti a počet datovaných bodů N se používají k výpočtu minima nebo maxima prostorové frekvence, která může být zkoumána ve snímané oblasti, kde platí vztah:
fmax = N/2L nebo fmin =1/L. S výhodou se ve snímané ploše měří 512 bodů, takže ve snímané ploše 0,5 um x 0,5 um se měří rozsah prostorové frekvence delta f = 2 u® 1 až 5 x 103 jjm*1 , ve snímané ploše 0,2 um x 0,2 pm se měří rozsah prostorové frekvence delta f = 5 jum-1 až lxlO3 jam1, ve snímané ploše 0,1 jum x 0, 1 uim se měří rozsah prostorové frekvence delta f = lxlO-1 u®'1 až 3xl03 jam-1.
Výškový profil zm,n závisí na smluvní referenční výšce Zo: m,n jsou souřadnice měřených míst směru x nebo y, zaznamenané v ekvidistační vzdálenosti delta L. Data výškového profilu se převádějí na průměrnou spektrální hustotu síly PSD v souladu s rovnicemi 1 a 2 , které popsal C. Ruppe a A. Duparré (Thin Solid Films 288, str, 9, (1996).
Přesný experientálηí popis a provádění měření AFM a STM popsali například S.N. Magonov, M.H. Whangbo (Surface Analysis s STM a AFM, VCH, Weinheim 1996, zejména na str. 47 až 62).
Křivky PSD získané různými způsoby měření nebo s různými snímanými oblastmi se kombinují k získání křivky PSD(f)
♦ · · β ·· • · «to •· · •9
9« •· * ·t v rozsahu prostorové frekvence ΙΟ-3 μπι'1 až 103 pm-1. Křivka PSDCf) se sestrojí způsobem, který popsali C. Ruppe a A. Duparré (Thin Solid Films 188, str. 10 aš 11, 1996). Na obr. 1 aš 4 jsou výsledné křivky PSD(f) v logaritmických souřadnicích 1og(PSD(f)/nm4) jako funkce logíf/pm1).
Spektrální hustoty síly tohoto typu byly také známy určitou dobu pro mnoho jiných povrchu a lze jich použít k velmi rozmanitým účelům, jak popisuje například J.C. Stover (Optical Scattering, 2. vydání, SPIE Press, Bellingham, Washington, Sp. st. a. , 1995, kapitola 2, od str. 29 a kapitola 4, od str. 85) .
K dosašení lepší ilustrace topografie povrchů pro sledované účele je vypočtena amplituda a(f) závislá na prostorové frekvenci sinusových Fourieriových členů ze spektrálních hustot síly PSD(f). K tomu je použito vzorců (4.19) na stránce 103 a tabulky 2.1 na stránce 34 a tabulky 2.2 na stránce 37 knihy J.C.Stover, Optical Scattering, 2. vydání, SPIE Press, Bellingham, Washington, Sp. st. a., 1995. Amplitudy a( f) sinusových Fourieriových členů normalizované související strukturní délkou lambda = f1 jsou vyneseny na obr. 5 aš 8 v závislosti na logaritmu prostorové frekvence log(f/pm_1) ve funkci S j ako
S(log f) a( f) . f
Vynález je založen na překvapujícím poznatku, še povrch, který je opatřen strukturou, pro kterou integrál funkce SClog f) = a(f).f, vypočtený v mezích fi/pm_1= -3 a f2/pm_1= 3 je větší neš 0,5, a který sestává z hydrofobního materiálu nebo je hydrofobním materiálem povlečen, má ultrafobní vlastnosti takové, o že kapka vody na tomto povrchu má obecně kontaktní úhel >150 .
Úplně nový překvapující poznatek umožňuje předpovídat *· ·· ··
9 · · · · * ·· * · • 9 9 9 9 9 9
9 9 0 9 » •fr ·· ♦·
mnohé detaily týkající se procesních stupňů při přípravě ultrafobních povrchů. Klíčovým postulátem poznatku je = Obr. 5 až 8 ukazují strukturní amplitudy a(f) . f normalizované vlnovými délkami lambda = f1 pro různé frekvence f na logaritmické stupnici log(f). Hodnota a(f).f = 0,5 například znamená, že normovaná amplituda, tedy drsnost Fourierové složky je 0,5násobkem její vlnové délky lambda = f1. Integrál rovnice (1) tedy udává, že
- průměr všech normovaných amplitud aíf).f pro jednotlivé rozdílné frekvence musí přesahovat hodnotu 0,5, tedy, že drsnost zprůměrovaná přes všechny frekvence musí být k získání ultrafobního povrchu maximalizovaná,
- do tohoto součtu jsou pojaty různé prostorové frekvence se stejnou váhou (pomocí reprezentace log(f)). Je proto nevýznamné, ve kterém frekvenčním oboru příslušná drsnost leží.
Na základě tohoto poznatku pracovník v oboru ví, že například zdrsnění povrchu kuželovými částicemi stejné velikosti je nevýhodné. Co však je výhodné, je přídavné zdrsnění povrchu částic menšími strukturami, například použitím malých částic, které přilnou na větších částicích nebo na nich ulpí, ale které nejsou přítomny odděleně podél velkých částic.
Kromě toho je zřejmé, že například při zdrsnění povrchu rýhami (například pomocí abrazivních částic) je třeba zajistit, že dna rýh musejí být z jejich hlediska opět co možná drsná v následném rozměrovém řádu velikostí. Není-li tomu tak, je třeba primární deprese jako takové znovu zdrsnit v dalším stupni.
V této souvislosti se připomíná, ze nové, zde popisované poznatky nekladou žádná omezení depresí nebo drsných struktur, částic, které jsou naneseny na strukturu pro ultrafobní povrch, z hlediska tvaru nebo profilu Pokud jde o příklad drsných povrch, a které tvoří nutnou mohou jemné struktury na částicích samotných mít úplně odlišný tvar (například jiné spektrum prostorové frekvence) od struktury, kterou tvoří na povrchu samotné částice.
Kromě toho stanovení amplitud Fourierových členů závislých na frekvencích s pomocí spektrální hustoty síly ve shora uvedené formě, otevírá netušené možnosti testování různých materiálů s úplně odlišnými strukturami povrchu s ohledem na jejich ultrafobní vlastnost a její posouzení.
Vynález se dále týká způsobu testování povrchů na ultrafobní vlastnosti, spočívajícího v tom, že povrch je povlečen tenkou vrstvou vzácného kovu nebo GaAs jako promotorem adhese, obzvláště zlata obzvláště v tloušťce vrstvy 10 až 100 nm ato mizací, povlékne se fobicizační pomocnou látkou, s výhodou dekanthi olem, pak se topografie povrchu analyzuje, zejména s použitím kombinace snímací tunelové mikroskopie, snímací mikroskpie atomové síly a iterferometri í v bílém světle a z naměřených dat se prostorové frekvence f jednotlivých Fourierových členů a jejich amplitudy a(f) vyjádří integrálem funkce S
S(log f) = a(f).f vypočteným v integračních mezích log fi/gm_1= -3 a log f2/nm_1 =3 a popřípadě se změří kontaktní úhel vody na takto zpracovaném povrchu.
Pomocí povlaku promotorem adheze (zpravidla zlatém v tloušťce 10 až 100 nm) a volbou konsistentního fobizačního činidla, je možno zkoumat různé materiály, jejichž povrch je v zásadě vhodný pro vyvinutí ultrafobních povrchových vlastností, nezávisle na materiálu. Tak jsou navzájem porovnatelné různé povrchové struktury.
Přednost se dává ultrafobnímu povrchu, který má povlak
hydrofobní fobicizační látky, kterou je obzvláště anionická, kationická, amfoterní nebo neionlcká mezifázově aktivní sloučen i na.
Mezifázově aktivní sloučeniny jakékoli molekulové hmotnosti se považují za fobicizační pomocné látky. Těmito sloučeninami jsou s výhodou aniontové, kationtové, amfoterní nebo ne iontové mezifázově aktivní sloučeniny známé z literatury (například Surfactants Europa, A Dictionary of Surface Active Agents available in Europe, Gordon L, Hol lis, Royal Society of Chemistry, Cambridge, 1995).
Příklady aniontových fobicizačních pomocných látek jsou: alkylsulfáty, ethersulfáty, etherkarboxy1áty, fosfátové estery, sulfosukcináty, amidy sulfosukcinátú, parafinsulfonáty, olefinsulfonáty, sarkosináty, isothionáty, tauráty a sloučeniny na bázi ligninů.
Příklady kat iontových fobizačních pomocných átek j sou kvarterní alkylamoniové sloučeniny a imidazoly.
Příklady amfoterních fobizačních pomocných látek j sou betainy, glycináty, propionáty a imidazoly.
Příklady neiontových fobizačních pomocných látek jsou alkoxyláty, alkylamidy, estery, aminoxidy, alkylpolyglykosidy, alkylsulfidy a alkyldisulfidy. Vhodné jsou také reakční produkty alkylenoxidů s alkylovatelnými sloučeninami, jako jsou například mastné alkoholy, mastné aminy, mastné kyseliny, fenoly, alkylfenoly, arylalkylfenoly, jako styrenfenolové kondenzáty, karboxamidy a pryskyřičné kyseliny.
Obzvlášť výhodné jsou fobicizační pomocné látky, ve kterých je 1 až 100 %, obzvlášť výhodně 60 až 95 % vodíkových atomů substituováno atomy fluoru. Příkladně se uvádějí perfluo20
rované alkylsulfáty, perfluorované alkylsulfonáty, perfluorované alkylsulfidy, perfluorované alkyldisulfifdy, perfluorované alkylfosfonáty, perfluorované alkylfosfináty a perfluorované karboxylové kyseliny.
Jako fob icizadních pomocných látek pro hydrofobni povlaky nebo jako polymerního hydrofobního materiálu pro povrch se dává přednost použití sloučenin s molekulární hmotností My >500 až 1 000000, s výhodou 1000 až 500000 a zejména 1500 až 20000. Polymerními pomocnými fobicizačními látkami mohou být neintové, aniontové, kationtové nebo amfoterní sloučeniny. Kromě toho mohou být polymerními pomocnými fobicizačními látkami homopolymery a kopolymery, roubované polymery a roubované kopolymery a statistické blokové polymery.
Obzvlášt výhodnými polymerními pomocnými fobicizačními látkami jsou látky typu AB, BAB, a ABC blokových polymerů. V blokových polymerech AB nebo BAB je segment A hydrofi lni homopolymer nebo kopolymer a B blok je hydrofobní homopolymer nebo kopolymer nebo jeho sůl.
Zvláštní přednost se dává aniontovým polymerním fobicizačním pomocným látkám, zvláště produktům kondenzace aromatických sulfonových kyselin s formaldehydem a alkylnaftalensulfonových kyselin nebo formaldehydu, naftalensulfonových kyselin a/nebo benzensulfonových kyselin, kondenzačním produktům popřípadě fenolu substituovanému formaldehydem a bisulfitem sodným .
Výhodnými jsou také kondenzační produkty získate 1né reakcí naftolů s alkanoly, přidáním alkylenoxidu a alespoň částečnou přeměnou koncových hydroxylových skupin na sulfoskupiny nebo na skupiny monoesteru kyseliny maleinové, ftalové nebo jantarové .
V jiném výhodném provedení jsou fobicizační pomocné látky [lacuna] ze skupiny sulfosukcinátů a alkylbenzensulfonátů. Výhodné jsou také sulfátované, alkoxylované mastné kyseliny a jejich soli. Alkoholy alkoxylováných mastných kyselin se míní obzvlášť alkoholy mastných kyselin se 6 aš 22 atomy uhlíku, které jsou popřípadě nasycené nebo nenasycené a mají 5 až 120, 6 až 60 a obzvlášť výhodně 7 až 30 ethy1enoxidových skupin, zvláště stearylalkohol. Sulfátované alkoxylované alkoholy mastných kyselin jsou nejvýhodněji ve formě solí, zejména solí alkalických kovů nebo amoniové soli, s výhodou diethylamoniová sůl .
Vynáles se dále týká způsob přípravy ultrafobního povrchu, při kterém forma, která má negativ topografie povrchu vhodného pro ultrafobní povrch, se lisuje se směsí plastu a hydrofobní, nebo obzvláště oleofobní přísady, která se odděluje po vytvrzení jako tenký film mezi povrchem formy a plastovým výliskem.
V jiném výhodném provedení je forma vyplněna polymerem a polymerový výlisek je pak opatřen hydrofobním nebo obzvláště oleofobním povlakem.
Pro účely vynálezu je formou jakákoli požadovaná forma, která může být vyplněna polymery nebo směsí polymerů. Tato forma má povrch, jehož povrchová topografie je negativem jakéhokoli žádaného ultrafobního povrchu.
Topografie povrchu odpovídá však s výhodou ultrafobnímu povrchu leptaného, anodizovaného a utěsněného (například ošetřeného horkou vodou nebo vodní párou) hliníkového povrchu, získatelného způsobem podle německé přihlášky vynálezu číslo 19860138.7, přičemž povrchy nemají hydrofobní povlak. V takovém případě povrch hliníkového nosiče, zpracovaný kyselým e1ektrochemickým leptáním, anodickou oxidací a oplachem horkou o vodou nebo vodní párou při teplotě 50 až 100 C je popřípadě
• · povlečen adhezní promotorovou vrstvou.
V závislosti na použitém materiálu muže být povrch formován litím nebo vstřikováním ztekuceného nebo rozpuštěného termoplastového polymeru nebo dosud nevytvrženého polymeru. Příslušné techniky jsou známy a pracovníkům v oboru technologie polymerů jsou běžné.
Vynález se dále týká způsobu přípravy povrchu majícího ultrafobní vlastnosti, který je lisován z pozitivní formy, která má povrchovou strukturu vhodnou pro ultrafobní povrch, se směsí plastu a hydrofobni nebo obzvláště oleofobní přísady, která se oddělí během vytvrzování tenkého filmu mezi povrchem formy a plastovým výliskem.
V jiném výhodném provedení je forma naplněna polymerem a polymerový výlisek je pak opatřen hydrofobním nebo obzvláště oleofobním povlakem.
Podle vynálezu je formou jakákoli požadovaná forma, která může být vyplněna polymery nebo směsí polymerů. Tato forma má povrch, jehož povrchová topografie je negativem jakéhokoli žádaného povrchu, který vytváří [lacuna] strukturní požadavku pro ultrafobní povrch.
Topografie povrchu odpovídá však s výhodou ultrafobnímu povrchu leptaného, anodizovaného a utěsněného (například ošetřeného horkou vodou nebo vodní párou) hliníkového povrchu, získatelného způsobem podle německé přihlášky vynálezu číslo 19860138.7, přičemž povrchy nemají hydrofobni povlak. V takovém případě povrch hliníkového nosiče, zpracovaný kyselým elektrochemickým leptáním, anodickou oxidací a oplachem horkou o
vodou nebo vodní párou při teplotě 50 až 100 C je popřípadě povlečen adhezní promotorovou vrstvou.
• · · · ···· · · · ·
V závislosti na použitém materiálu může být povrch formován litím nebo vstřikováním ztekuceného nebo rozpuštěného termoplastového polymeru nebo dosud nevytvrzeného polymeru. Příslušné techniky jsou známy a pracovníkům v oboru technologie polymerů jsou běžné.
Vynález je založen na překvapujícím poznatku, že povrch, jehož topografie má předpoklady pro ultrafobní povrch může být formován přímo a z výsledného negativu vychází opět ultrafobní povrch. Tento postup činí přebytečným pracné získávání negativu s topografií ultrafobního povrchu, jak tomu bylo v dosvadním stavu techniky.
Způsobem polde vynálezu je možno připravovat ultrafobní povrchy u kterých je kontaktní úhel kapky na povrchu > 155 Vynález se tedy týká ultrafobních povrchů získaných způsobem podle vynálezu.
Polymery vhodné pro provádění obou lisovacích procesů jsou termosetové nebo termoplastové polymery.
Termosetový polymer se volí ze souboru zahrnujícího pryskyřici diallylftalátovou, epoxidovou, močovinoformaldehydovou, melaminoformaldehydovou, melaminfenolformaldehydovou a fenolformaldehydovou pryskyřici, polyimid, silikonový kaučuk a nenasycenou polyesterovou pryskyřici.
Termoplastový polymer se volí ze souboru zahrnujícího termoplastové polyolefiny, například polypropylen nebo polyethylen, polykarbonáty, polyesterkarbonáty, polyester, (například PBT nebo PET), polystyren, styrenový kopolymer, pryskyřici SAN, styrenem roubovaný kopolymer obsahující kaučuk, například polymer ABS, polyamid, polyuretan, polyfeny1ensulfid, polyvinychlorid nebo všechny možné směsi uvedených polymerů.
Podle vynálezu je f orma z polymeru jako PC nebo PMMA přísady, která při vytvrzován í mezi povrchem formy negat i vu kékoli molekulové hmotnost i.
plněna směsí, která sestává a hydrofobní a/nebo oleofobní vytvoří na povrchu tenký film vytvořeným polymerním výliskem.
Těmito sloučeninami jsou s výhodou aniontové, kationtové, amfoterní nebo neiontové mezi fázově aktivní sloučeniny, známé z literatury (například Surfactants
Europa, A Dictionary of Surface Active Agents available in Europe, Gordon L, Hol lis, Royal Society of Chemistry, Cambridge, 1995).
Příklady aniontových přísad jsou: alkylsulfáty, ethersulfáty, etherkarboxy1áty, fosfátové estery, sulfosukcináty, amidy sulfosukcinátů, parafinsulfonáty, olefinsulfonáty, sarkosináty, isothionáty, tauráty a sloučeniny na bázi ligninu.
Příklady kationtových přísad látek jsou kvarterní alkylamoniové sloučeniny a imidazoly.
Příklady amfoterních přísad jsou betainy, glycináty, propionáty a imidazoly.
Příklady neiontových přísad jsou alkoxyláty, alkylamidy, estery, aminoxidy, alkylpolyglykosidy, alkylsulfidy a alkyldisulfidy. Vhodné jsou také reakční produkty alkylenoxidů s a1ky1ovate1nými sloučeninami, jako jsou například mastné alkoholy, mastné aminy, mastné kyseliny, fenoly, alkylfenoly, arylalkylfenoly, jako styrenfenolové kondenzáty, karboxamidy a pryskyřičné kyseliny.
Obzvlášť výhodné jsou přísady, ve kterých je 1 až 100 %, obzvlášť výhodně 60 až 95 % vodíkových atomů substituováno atomy fluoru. Příkladně se uvádějí perf1uorované alky1sulfáty,
2¾ - .. ..
··· · · · · · • · · · · · · · • ····♦· ·· ··· perf1uorované alky1 sulfonáty, perf1uorované alky1 sulfidy, perfluorované alkyldisulfifdy, perf1uorované alkylfosfonáty, perfluorované alkylfosfináty a perf1uorované karboxylové kyseliny.
Jako polymerních přísad pro hydrofobní povlak nebo jako polymerního hydrofobního materiálu pro povrch se dává přednost použití sloučenin s molekulární hmotností Mw >500 až 1 000000, s výhodou 1000 až 500000 a zejména 1500 až 20000. Tyto polymerní přísady mohou být neintové, aniontové, kat iontové nebo amfoterní sloučeniny. Kromě toho mohou být těmito polymerními přísadami homopolymery a kopolymery, roubované polymery a roubované kopolymery a statistické blokové polymery.
Obzvlášť výhodnými polymerními přísadami jsou látky typu AB, BAB, a ABC blokových polymerů. V blokových polymerech AB nebo BAB je segment A hydrofi lni homopolymer nebo kopolymer a B blok je hydrofobní homopolymer nebo kopolymer nebo jeho sůl.
Zvláštní přednost se dává aniontovým polymerním přísadám, zvláště produktům kondenzace aromatických sulfonových kyselin s formaldehydem a alkylnaftalensulfonových kyselin nebo formaldehydu, naftalensulfonových kyselin a/nebo benzensulfonových kyselin, kondenzačním produktům popřípadě fenolu substituovanému forma1dehydem a bisulfi tem sodným.
Výhodnými jsou také kondenzační produkty získate1né reakcí naftolů s alkanoly, přidáním alkylenoxídu a alespoň částečnou přeměnou koncových hydroxy1ových skupin na sulfoskupiny nebo na skupiny monoesteru kyseliny maleinové, ftalové nebo jantarové .
V jiném výhodném provedení jsou přísady [lacuna] ze souboru zahrnujícího sulfosukcináty a alkylbenzensulfonáty. Výhodné jsou také sulfátované, alkoxylované mastné kyseliny a jejich soli. Alkoholy alkoxylováných mastných kyselin se míní obzvlášť alkoholy mastných kyselin se 6 až 22 atomy uhlíku, které jsou popřípadě nasycené nebo nenasycené a mají 5 až 120, 6 až 60 a obzvlášť výhodně 7 až 30 ethy1enoxidových skupin, svláště stearylalkohol. Sulfátované alkoxylované alkoholy mastných kyselin jsou nejvýhodněji ve formě solí, zejména solí alkalických kovů nebo amoniové soli, s výhodou diethy1amoniová sůl .
Tímto způsobem se míní, že výlisek už se nemusí opatřovat hydrofobním nebo oleofobním povlakem, což znamená, že se jeden výrobní stupeň může ušetřit.
Ultrafobní povrchy podle vynálezu mají tu přednost, že jsou kromě jiného samočisticí, což znamená, že samočištění se uplatní, je-li povrch vystaven občas dešti nebo tekoucí vodě. Výsledkem ultrafobní vlastnosti je, že vodní kapky se z povrchu skutálejí a částice špíny, které na povrchu zcela volně ulpěly, se usadí na povrchu vodních kapek, které se odkutálejí a jsou tak z ultrafobního povrchu odstraněny. Toto samočištění funguje nejenom s vodou, ale také s olejem.
Vynález se také týká konstrukčního materiálu, který má ultrafobní vlastnosti podle vynálezu.
Existuje velký počet možností průmyslového využití povrchů podle vynálezu. Vynález proto poskytuje následující použití ultrafobních povrchů podle vynálezu:
Použitím ultrafobního povrchu mohou být trupy lodí povlečené ke snížení jejich odporu třením.
Dalším použitím ultrafobního povrchu je úprava povrchů, na kterých voda nesmí ulpívat, aby tam nezmrzla. Příkladně se uvádějí povrchy výměníků tepla například v lednicích a na povrchu letadel.
Povrchy podle vynálezu jsou také vhodné na domovní fasády, střechy, sochy k zajištění jejich samočištění.
Vynález se také týká použití ultrafohních povrchů pro výstelky snižující tření vozidlových těles, jako jsou trupy letade1 a 1od í .
Vynález se dále týká použití ultrafobních povrchu jako samočisticího povlaku nebo panelování stavebních konstrukcí, střech, oken, keramických konstrukčních materiálů například sanitárních instalací, údržbových aplikací.
Vynález se dále týká použití ultrafobních povrchů jako protikorozního povrchu kovových předmětů. Ultrafobní povrchy podle vynálezu se mohou používat jako průhledné vrstvy v případě průhledného substrátového materiálu nebo jako vrchní průhledné vrstvy, obzvláště skleněných nebo plastových krytů, obzvláště solárních článků, vozidel a skleníků.
Vynález se dále týká použití ultrafobních povrchů jako povlaků nádob, ve kterých se manipuluje s kapalinami, například k jejich odměřování nebo k jejich vnášení. Těmito nádobami mohou být například kanyly, hadice nebo zásobníky.
Vynález se také týká způsobu přípravy povrchů majících ultrafobní vlastnosti na bázi slitiny AlMg3, u nichž se povrch čistí, leptá, anodicky oxiduje, pasivuje ve vařící vodě, pří-
| pádně se | povléká vzácným kovem jako podpory adheze, zvláště |
| zlatém s | tloušťkou vrstvy 10 až 100 nm, případně povlečením |
| atom i zac i | a povlečením hydrofobním materiálem, obzvláště an- |
| iontovou, | kationtovou, amfoterní nebo neiontovou mezifázově |
aktivní sloučeninou jako fobicizační pomocnou látkou.
Místo použití integrálu funkce S • · ·
S(log f) = a( f) . f (1) v integračních mezích 1 og( f i / μτη' 1) = -3 a log( f2/JJW 1) = 3 s hodnotou větší než 0,5 k popsání ultrafobního povrchu, je mošno použít také integrálu funkce F
F(logf) = 3 + log(aíf).f) (2) v intervalu log(fi/ym-1) = -3 až log(fs/ym-1) = 3.
V rozmezí kladných hodnot F musí být hodnota tohoto integrálu vyšší než 5 k zajištění povrchu s ultrafobnímí vlastnostmi. Popis s použitím funkce F byl použit v německé přihlášce vynálezu číslo 19860136.0. Avšak Popis (1) s použitím funkce S má tu přednost, že hodnota integrálu S(logf) je velmi jasná. Je to proto, že je úměrná normované amplitudě Fourierových členů <a(f).f)> způměrovaných na logaritmické stupnici frekvencí v intervalu -3 <log(fym-1)< 3. Nalezená podmínka pro přípravu ultrafobních povrchů je v podstatě: normovaný průměr všech Fourierových amplitud <a(f).f > stanovený na logaritmické stupnici frekvencí musí být větší než 0,5/6 = 0,08. Pro 'průměrnou by tudíž frekvence Fourierovy amplitudy musel-, být alespoň přibližně 8 % strukturní délky.
Vynález blíže objasňují, nijak však neomezují následující obr. a příklady praktického provedení přídavně za pomoci funkce F jako v r.Imecké přihlášce vynálezu číslo DE 19860136.0.
Přehled obrázků na výkresech
| Obr. 1 | křivky PSD(f) v příkladech | ultrafobn í ch 1 až 6. | povrchů | podle | vynálezu | |
| Obr. | 2 | křivky PSD(f) | ultrafobn í ch | povrchů | podle | vynálezu |
| v příkladech | 7 až 9. | |||||
| Obr. | 3 | křivky PSD(f) | ultrafobních | povrchů | podle | vynálezu |
| v příkladech | 10 až 11. |
Obr. 4
Obr. 5
Obr. 6
Obr. 7
Obr. 8
Obr. 9
Obr.10 křivky FSD(f) ultrafobních povrchů podle vynálezu v příkladech 12 až 13.
znázornění amplitud a(f) Fourierových členů závislých na frekvenci u povrchu podle vynálezu v příkladech 1 až 6.
znázornění amplitud a( f ) Fourierových členů závislých na frekvenci u povrchu podle vynálezu v příkladech 7 až 9.
znázornění amplitud a( f) Fourierových členů závislých na frekvenci u povrchu podle vynálezu v příkladech 10 až 11.
znázornění amplitud a( f) Fourierových členů závislých na frekvenci u povrchu podle vynálezu v příkladech 12 až 13.
znázornění kontaktního úhlu vody v závislosti na integrálu funkce S(logf) = a( f) . f vypočteného v integračních mezích log( f ι/μπι *) = -3 a log(f2/um-1) = 3 pro různé příklady 1 až 13. Na ose y je konkontaktní úhel ve stupních.
amplitudy a(f) Fourierových členů závislé na frekvenci povrchů podle vynálezu v příkladech 1 až 6 v log-log znázornění funkce F (log f) (odpovídající znázornění v německé přihlášce vynálezu číslo DE 19860136.0).
Obr. 11 znázornění kontaktního úhlu vody v závislosti na integrálu funkce S(logf) =a(f).f vypočteného v rozsahu kladných hodnot F v intervalu 1 og( f i /μπ)' 1) = -3 a 1 og( f2/JJm-1) =3 pro různé příklady povrchů 1 až 6 (odpovídající znázornění v německé přihlášce vynálezu číslo DE 19860136.0). Na ose y je konkontaktní úhel ve stupních.
Příklady provedení vynálezu
Obecné všeobecné poznámky k příkladům
1. Stanovení topografie povrchu
Ke stanovení topografie povrchu se povrch analyuje pomocí snímacího tunelového mikroskopu, pomocí snímacího mikroskopu atomové síly s použitím interferometrie bílého světla a s použitím úhlového rozkladu rozptylu světla.
Pro snímací tunelovou mikroskopii se použije Nanoscopu III Digital Instruments, Santa Barbara, California, který se provozuje způsobem konstantního toku. Měření se provádí ve vzduchu při teplotě místnosti s použitím mechanicky taženého platino-iridiového hrotu. Snímanými oblastmi L3 jsou postupně plochy 500 x 500 mm3, 200 x 200 mm3 a 50 x 50 mm3, kde v každém případě N3 = 512 x 512 bodů v krocích deltaL = N/L.
Data výškového profilu se převádějí na způměrovanou spektrální hustotu síly PSD v souladu s rovnicemi 1 a 2 (C.Ruppe a A. Duparré, Thin Solid Films 288, str. 9, 1996).
Snímací mikrooskopie atomové síly se provádí pomocí snímacího mikroskopu atomové síly DIMENSION 3000 (Digital Instruments Santa Barbara, California, Sp. st. a.) kontaktním způsobem. Křemíkový hrot má poloměr přibližně 10 nm. Snímanými oblastmi L3 jsou postupně plochy lxl jum3, 10x10 jum3 a 50x50 jum2 kde v každém případě N2 = 512 x 512 bodů v krocích deltaL = N/L.
Pro interferometrii v bíléém světle je použito mikroskopu LEICA DMR (spol. Leica, Wetzlar). Měřená pole jsou 140x140 um2, 280x280 pm2, 1120x1120 jum2, a 2800x2800 pm2, v každém případě s 512x512 body, napětí 50 V..
Křivky PSD(delta f), získané komb1nuj í
k. získání jediné křivky řadn i c í ch log-log podle obr. 1 až tota síly
uvedenmi způsoby měření se
PSD(f) a vynesou se v
4, přičemž spektrální
PSD v nm4 a prostorová frekvence f v um1 jsou souhusbezrozměrné.
2. Výpočet amplitud a( f) závislých na frekvenci
Amplitudy závislé na frekvenci a(f) jsou stanoveny z křivek PSD(f) podle následujícího vzorce:
fJĎ </) = $PSD(f')f'df’ * 2/7πΡ5Ζ)(/)1οβΏ
V f'/Ď
Ve všech případech je za konstantu D, která určuje šířku integračního intervalu a v níž je funkce PSD(f) považována za konstantní, brána hodnota D = 1,5.
Tento vzorec odpovídá v zásadě výpočtu prostorových, na je popsán v literatuře (J.C. Stover. Optical Scattering, 2 vydání, SPIE Press Bel1 i ngham,
Washington, Sp. st.a.,
1995.
103 a v tabulce 2.1 na str. 34 a v tabulce 2,3 na str. 37).
Př i k1 ad
Ve válci ch leštěný plech ze slitiny AlMg3 o ploše 35x35 mm2 a o t1ouštce
0,5 mm se odmastí v destilovaném chloroformu.
pak 20 sekund ve vodném roztoku hydrogenuhličitanu sodného (5 g/l) při teplotě
C.
Plech se pak přeleptá 20 sekund v kyselině fosforečné (100 g/l). opláchne se 30 sekund destilovanou vodou a elektro32
-* ·« · · «· • · · · · · · ······ · · · · · « • · · · · · ·· ··· · ♦ · ·* · · chemicky se moří 90 sekund ve směsi kyseliny chlorovodíkové a o kyseliny bori té (v každém případě 4 g/1) při teplotě 35 C a při proudové hustotě 120 mA/cm2 střídavého proudu o napětí 35
V.
Po oplachu plechu destilovanou vodou 30 sekund a alkalickém oplachu vodným roztokem hydroxidu sodného (5 g/l) 30 sekund, se 2novu opláchne destilovanou vodou 30 sekund a anodicky se oxiduje 90 sekund kyselinou sírovou (200 g/l) při teploo tě 25 C a při proudové hustotě 30 mA/cm2 stejnosměrného proudu o napětí 50 V.
Plech se pak oplachuje 30 sekund v destilované vodě, pak 60 sekund při teplotě 40 C v roztoku hydrogenuhličitanu sodného (20 g/1), pak znovu 30 sekund v destilované vodě a suší a
se 1 hodinu při teplotě 80 C v sušičce.
Takto zpracovaný plech se povlékne přibližně 50 nm tlustou
| vrstvou zlata atomizací. Vzorek se | pak | pov1ékne | 24-hodi novým | ||
| ponořením do roztoku | n-dekanthiolu | v | ethano1u | ( 1 | g/1) př i |
| teplotě místnosti v | uzavřené nádobě, | načež | se | opiáchne | |
| ethanolem a vysuší se. | o |
o
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 167 Kapka o vody o objemu 10 jal se skutálí, je-li povrch skloněn <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je ro popsáno v odstaci 1. Stanovení povrchové topografie (1. Determ ination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacunal jsou vyneseny jako křivka 1 na obr. 1.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích log( í i//am- 1) = -3 až log( fz/pm-1) = 3 je 0,81.
·· ♦·
| • to | • | • • | to w • · | ||
| • | • to | ||||
| to | • • | to ·· | • | • to • to | • · • · |
Příklad 2
V tomto příkladu se plech ze slitiny AlMg3 zpracuje a povlékne stejným způsobem jako v příkladu 1, s tím, že přídavně ke zlatému povlaku se plech leptá 20 sekund v 1M hydroxidu sodném, pak se 30 sekund oplachuje destilovanou vodou, pak o ethanolem a a suší se 1 hodinu při teplotě 80 C v sušičce.
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 161 . Kapka o
vody o objemu 10 yl se skutálí, je-li povrch skloněn <10
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je ro popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie” (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacuna] jsou vyneseny jako křivka 2 na obr. 1.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích
1og(fi/ym“1) = -3 až log(f2/ym_1) = 3 je 0,58.
Porovnávací příklad 3
V tomto příkladu se plech ze slitiny AlMg3 zpracuje a povlevlékne stejně jako v příkladu 2, s tím. že se leptá 120 sekund v 1M hydroxidu sodném.
a
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 150 Kapka o vody o objemu 10 yl se neskutálí, je-li povrch skloněn <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je ro popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty 11acunal jsou vyneseny jako křivka 1 na obr. 3.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud β
*- «· »« ·· s ·»···· • > · · ·· · · •9·· * · ·· » - ·· · · · · ·· ·· ··»♦
S(logf) v integračních mezích log( fi/μιτ1) = -3 až log( f2/jam“ 1) = 3 je 0,46.
Porovnávací příklad 4
V tomto příkladu se polykarbonátový substrát o rozměrech 35x35 mm2 a tloušťce 1 mm povlékne 200 nm tlustou vrstvou hliníku pro atomizaci. Vzorek se pak ponechá 30 minut v deštio
1ovane vodě při teplotě 100 C, pak se 30 sekund oplachuje destilovanou vodou při teplotě místnosti, načež se suší 1 hoo dinu při teplotě 80 C v sušičce.
o
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 135 . Kapka vody o objemu 10 μΐ se neskutálí, je-li povrch skloněn <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacunal jsou vyneseny jako křivka 4 na obr. 1.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích log( f ι/μπΐ1) = -3 až log( f2/jam“ 1) = 3 je 0,28.
Porovnávací příklad 5
V tomto příkladu se ve válcích leštěný plech ze slitiny AlMg3 o ploše 35x35mm2 a o tloušťce 0,5 mm odmastí v destilovaném chloroformu. Po oplachu 30 s v destilované vodě se plech anodicky oxiduje 600 sekund v kyselině sírové (200 g/1) při
O teplotě 20 C při proudové hustotě 10 mA/cm2 stenosměrného proudu o napětí 35 V.
Takto zpracovaný plech se povlékne přibližně 50 nm tlustou vrstvou zlata atomizací. Vzorek se pak povlékne 24 hodinovým ponořením do roztoku n-dekanthiolu v ethanolu (1 g/1) při teplotě místnosti v uzavřené nádobě, načež se opláchne ethanolem a vysuší se.
o
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 122 . Kapka vody o objemu 10 jal se neskutálí, je-li povrch skloněn <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie” (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacuna] jsou vyneseny jako křivka 5 na obr. 1.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích og( f i/jam 1) = -3 až log( fa/jam-1) = 3 je 0,14.
Porovnávací příklad 6
Nezpracovaná vyleštěná monokrystal ická křemíková destička se povlékne 200 nm zlata napařením a vzorek se povlékne ponořením na 24 hodin do roztoku n-dekanthiolu v ethanolu (1 g/1) při teplotě místnosti v uzavřené nádobně, opláchne se ethanolem a usuší se.
o
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 115 Kapka vody o objemu 10 jal se neskutálí, skloní-li se povrch o úhel o <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacuna] jsou vyneseny jako křivka 5 na obr. 1.
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje jak je popsáno v 1.Determination of the surface topography a
- .36» - ·· ·· ·· · • •v · ·· · · · · · ··· ···· ·· · • ······ ·· ··· · · • · · · · · ··· • · · · · · ·· ·· ··· získané naměřené hodnoty [lacuna] jsou vyneseny do křivky 6 na obr.1.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích
Iog(fi/Hm_1) = -3 až 1og(f2/um’1) = 3 je 0,04.
Porovnávací příklad 7
V tomto příkladu se polykarbonátový substrát 35x35 mm2 o tlooušťce 1 mm povlékne 100 nm vrstvou hliníku pro atomizaci Vzorek se pak ponechá 3 minuty v destilované vodě při teplotě o
100 C, načež se 30 sekund opláchne destilovanou vodou a suší a se 1 hodinu při teplotě 80 C v sušicí komoře.
Takto zpracovaný vzorek se polvlékne přibližně 100 nm tlustou vrstvou zlata atomizací. Nakonec se vzorek povlékne ponořením na 24 hodin do roztoku n-dekanthiolu v ethanolu (1 g/1) při teplotě místnosti v uzavřené nádobně, opláchne se ethanolem a usuší se.
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 147 . Kapka vody o objemu 10 μΐ se neskutálί, skloní-li se povrch o úhel o <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacuna] jsou vyneseny jako křivka 1 na obr.2.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích log(fi/um-1) = -3 až log(f2/wm_1) = 3 je 0,39.
Příklad 8
V tomto příkladu se připraví vzorek přesně podle příkladu
7. Avšak na rozdíl od příkladu 7, má zlatá vrstva tloušťku 50 nm.
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 154 . Kapka voo dy o objemu 10 jjl se skutálí, skloní-li se povrch o úhel <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je popsáno v ”1. Stanovení povrchové topografie (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacuna] jsou vyneseny jako křivka 2 na obr,2.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích log( f ι/μπΓ 1) = -3 až logífz/jjm”1) = 3 je 0,53.
Porovnávací příklad 9
V tomto případě se ve válcích vyleštěný plech z materiálu AlMg3 o rozměrech 35x35 mm2 a o tloušťce 0,5 mm odmastí destilovaným chloroformem. Vzorek se pak ponechá 20 s v destilované vodě o teplotě 100 C. Vzorek se opláchne ethanolem a suší se o
hodinu při teplotě 80 C v sušicí komoře.
Takto zpracovaný vzorek se polvlékne přibližně 50 nm tlustou vrstvou zlata atomizací. Nakonec se vzorek povlékne ponořením na 24 hodin do roztoku n-dekantiolu v ethanolu (1 g/1) při teplotě místnosti v uzavřené nádobně, opláchne se ethanolem a usuší se.
o Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 130 . Kapka vody o objemu 10 μ 1 se neskutálí, skloní-li se povrch o úhel o <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie (1. Deternination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacuna] jsou vyneseny jako křivka 3 na obr.2.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích
1og(fi/ym1) = -3 až 1og(f2/um1) = 3 je 0,15.
Porovnávací příklad 10
V tomto příkladu se vyleštěná monokrystalická křemíková
| Si(100) destička | povlékne vrstvou sekvenčního substrátu- HLHL |
| (H=LaF3, L=MgF2) | napařením elektronovým paprskem při teplotě |
| substrátu 520 K. | Jednotlivé tloušťky vrstvy jsou pro H = 100 |
| nm a pro L = 116 | nm. Přípravu popsal S. Jakobs, A. Duparré a H. |
Truckenbrodt (Applied Optics 37, str. 1180, 1998).
Takto zpracovaný vzorek se polvlékne přibližně 50 nm tlustou vrstvou zlata atomizací. Nakonec se vzorek povlékne ponořením na 24 hodin do roztoku n-dekanthiolu v ethanolu (1 g/l) při teplotě místnosti v uzavřené nádobně, opláchne se ethanolem a usuší se.
o
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 120 . Kapka vody o objemu 10 jal se neskutálí, skloní-li se povrch o úhel < 10° .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacuna] jsou vyneseny jako křivka 1 na obr.3.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích log(fi/ym_1) = -3 až log(f2/j4m_1) = 3 je 0,10.
• · • · · · • ·
Porovnávací příklad 11
V tomto příkladu se připraví vzorek přesně podle příkladu 10. Avšak místo substrátu (HL)S je vrstvovou sekvencí substrát- (HL)8.
a
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 130 . Kapka vody o objemu 10 yl se neskutálί, skloní-li se povrch o úhel e <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie” (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacunal jsou vyneseny jako křivka 2 na obr.3.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích og( f i / 1) = -3 až 1 og( f2/jnm-1) = 3 je 0,23.
Příklad 12
V tomto příkladu se připraví vzorek přesně podle nezveřejněné německé přihlášky vynálezu číslo 1993526.3. Způsobem popsaným v německém patentovém spise DE 19603241. se připraví Cyklo-(SiO(CH3)[(CH2)2Si(OH)CH3)2J >4 (D4-silanol) .
Ve 28,5 g 1 -methoxy-2-propanolu, 5,0 g D-4-silanolu a 6,5 g tetraethoxysi 1anu se disperguje 4,1 g AER0SILr R812 (Degussa). Přidá se 1,1 g 0, IN p-toluensulfonové kyseliny a směs se
O míchá 1 hodinu při teplotě místnosti (23 C). Výsledný povlékací roztok se nanese na sklo pomocí film natahovacího rámečku v tloušťce vlhkého filmu 120 jum. Po odpaření těkavých látek při teplotě místnosti se povlak vytvrdí v konvekční sušicí koo moře při teplotě 130 C 1 hodinu.
Takto zpracovaný vzorek se povlékne přibližně 50 nm tlustou vrstvou zlata atomizací. Nakonec se vzorek povlékne ponořením na 24 hodin do roztoku n-dekanthiolu v ethanolu (1 g/1) “ ·40 ” ·· ·· ·· · ··· · · · · · · · · • · · · · · · ·· · • ······ ·· ··· · · • · · · · · ··· «·· · · · · · · · ··· při teplotě místnosti v uzavřené nádobně, opláchne se ethano1em a usuší se.
o
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 165 . Kapka voe dy o objemu 10 jjl se skutálí, skloní-li se povrch o úhel <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacuna] jsou vyneseny jako křivka 1 na obr.4.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích logCři/ym-1) = -3 až log(f2/wm-1) = 3 je 0,71.
Příklad 13
V tomto příkladu se připraví vzorek podle příkladu 12, přičemž místo přísady 1,1 g p-toluensulfonové kyseliny se přidají 2,3 g kyseliny chlorovodíkové.
o
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 157 . Kapka voo dy o objemu 10 μΐ se skutálí, skloní-li se povrch o úhel <10 .
Povrchová topografie tohoto povrchu se analyzuje, jak je popsáno v 1. Stanovení povrchové topografie (1. Determination of the surface topography) a naměřené hodnoty [lacuna] jsou vyneseny jako křivka 2 na obr.4.
Hodnota integrálu normovaných Fourierových amplitud S(logf) v integračních mezích log(fi/ym_1) = -3 až 1 og( f 2/11 = 3 je 0,60.
Příklad 14
Negativní otisk
V tomto příkladu se připraví negativní otisk ultrafobního • 41 - ·· ···· ··· ······· ··· ······ • ······ ·· ··· · ··· · ·· ·· ·· ··· povrchu pomocí polymerního roztoku. Použitou formou je povrch získaný v příkladu 1 .
Na tento povrch formy se nalije přibližně 20 μιη tlustý film poly(methylmethakrylátkoperfluoroktadecylmethakrylátu) ( - [ CH2-C(COOCH3)CH31n-co-[CH2-C(COOC1SF37)CH31m, kde poměr n/m je 10; hmotnostně 50% roztok v butanonu) pomocí film natahovacího rámečku, přičemž 30 % polymeru je rozpuštěno v methylenchloridu. Po vysušení při teplotě místnosti se z filmu skalpelem odřízne proužek široký 10 mm, z vrchní strany, vyztuží se lepicí páskou Sellotape a sejme se z formy.
Spodní strana, která byla ve styku s formou, se povlékne přibližně 50 nm tlustou vrstvou zlata atomizací. Nakonec se vzorek napařuje 24 hodin parami n-dekanthiolu při teplotě místnosti v uzavřené nádobě, načež se opláchne ethanolem a usuší se.
o
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 165 Kapka voo dy o objemu 10 pil se skutálí, skloní-li se povrch o úhel <10 .
Příklad 15
Pozitivní otisk
V tomto příkladu se pozitivní otisk ultrafobního povrchu připraví pomocí roztoku polymeru. Použitou formou je povrch získaný v příkladu 1.
Stupeň 1
Příprava negativního otisku ultrafobního povrchu formy
Přibližně 100 pm tlustý film bisfenol A polykarbonátu (Mn =10 000) se nalije na povrch formy z hmotnostně 50% roztoku v methylenchloridu pomocí rámečku k natažení filmu. Po usušení při teplotě místnosti se skalpelem z filmu odřízne 20 mm široký pásek, z vrchní strany zesílený lepicí páskou Sellotape a sejme se z formy.
Spodní strana filmu (původně přivrácená k formě) se povlékne přibližně 50 nm tlustou vrstvou zlata atomizací. Zlatá vrstva vzorku se pak povlékne na 24 hodin několika kapkami roztoku n-perf luoroktanthiolu v cc, ce, at-tr i f 1 uortol uenu (1 g/l) při teplotě místnosti v uzavřené nádobě, načež se opláchne ct, cť, ct-tri fluor toluenem a usuší se.
Stupeň 2
Formování negativního otisku původního povrchu směsí polymerů obsahující jako aditiv oleofobní polymer
Přibližně 20 ym tlustý film polystyrenu (Mn = 15 000) obsahujícího přibližně hmotnostně 10 % polyímethylmethakrylát-ko-perf1uorooktadecylmethakrylátu) (-[CH2-C(COOCH3)CH3In-co[CH2-C(C00CiSF37)CH31m, kde poměr n/m je 10) se nalije na tento povrch formy pomocí licího rámečku, přičemž 30 % polymerní směsi je rozpuštěnoo v methylenchloridu. Po pomalém sušení při teplotě místnosti (přibližně 10 hodin) se skalpelem odřízne z filmu 10 mm široký pásek, vyztuží se na vrchní straně lepicí páskou Sellotape a z formy se sejme.
Spodní strana, která byla ve styku s formou, se povlékne přibližně 50 nm tlustou vrstvou zlata atomizací. Nakonec se vzorek povlékne na 24 hodin napařením páry n-děkanthiolu při teplotě místnosti v uzavřené nádobě, načež se opláchne ethanolem a usuší se.
o
Povrch má statický kontaktní úhel pro vodu 164 . Kapka voo dy o objemu 10 yl se skutálí, skloní-li se povrch o úhel <10 .
V tabulce I jsou znovu uvedeny přehledně výsledky příkladů podle vynálezu a porovnávacích příkladů.
Je zřejmé, že pouze v případě ultrafobních povrchů, pro
Q které je kontaktní úhel vodní kapky >150 , je hodnota integrá- »43 - · · · · · · ··· · · · · ·· • · · · · · · » · • ······ ·· ··· · • · · · · · ·· •·· · ·· «· ·· • · · lu křivky a(f).f = S( log f), vypočtená v integračních mezích log( f ι/μπι-1) =-3 až log( 1) = 3, větší než 0,5.
P02it i vní nebo negat ivn í ot i sky takového ultrafobn ího o povrchu vykazují kontaktní úhel > 150 .
Tabulka I
| Kontaktní úhel | Integrál | |||
| příklad 1 | o 167 | 0, 81 | ||
| příklad 2 | o 161 | 0, 58 | ||
| porovnávac í | příklad | 3 | 150° | 0, 46 |
| porovnávací | příklad | 4 | 135° | 0, 28 |
| porovnávac í | pří klad | 5 | 122° | 0, 14 |
| porovnávac í | příklad | 6 | c 115 | 0, 04 |
| porovnávac i | př í klad | 7 | 147° | 0, 39 |
| příklad 8 | 154° | 0, 53 | ||
| porovnávac í | příklad | 9 | 130° | 0, 15 |
| porovnávac í | pří klad | 10 | 120° | 0, 10 |
| porovnávac í | př i klad | 11 | 130° | 0, 23 |
| příklad 12 | 165° | 0, 71 | ||
| příklad 13 | 157° | 0,60 | ||
| příklad 14 | 165° | nestanoveno | ||
| příklad 15 | 164° | nestanoveno |
Průmyslová využitelnost o
Ultrafobní povrchy s kontaktním úhlem >150 a s úhlem odkutáo lení <10 mají použitelné v technice, jelikož například nejsou smáčivé olejem nebo vodou, částice špíny k nim přiléhají jen velmi slabě a povrchy jsou samočisticí.
Claims (24)
1. Strukturovaný povrch mající ultrafobní vlastnosti, vyznačující se tím, že povrchová topografie, ve které hodnota integrálu funkce S
S( log f) = a( f) . f Cl) který udává vztah mezi prostorovými frekvencemi f jednotlivých Fourjerových složek a jejich amplitudami a( f) je alespoň 0,5 v integračních mezích logífi/gnr1) = -3 a logCři/ym-1) = 3 a povrch sestává z hydrofobního nebo zvláště z oleofobního materiálu nebo je povlečen hydrofobním nebo zvláště oleofobním mateři ál em.
2. Povrch podle nároku 1,vyznačuj ící se tím, že integrál je > 0,6.
3. Ultrafobní povrch podle nároku 1 nebo 2,v y z n a č u- o jící se tím, že má kontaktní úhel alespoň 150 a úhel odkutálení <10 .
4. Ultrafobní povrch podle nároku 1 až 3, vyznačuj í- o
c í se tím, že kontaktní úhel je nejméně 155
5. Ultrafobní povrch podle nároku 1 až 4, vyznačuj ία í se tím, že sestává z kovu nebo z plastu.
6. Ultrafobní povrch podle nároku 5, vyznačuj ící se tím, že kov je volen ze souboru zahrnujícího berylium, hořčík, skandium, titan, vanad, chrom, mangan, železo, kobalt, nikl, měď, zinek, hliník, galium, yttrium, zirkon, niob, molybden, technecium, ruthenium, rhenium, palladium, stříbro, kadmium, indium, cín, lanthan, cér, praseodyn, neodym, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, hol mium, erbi- .45 • · ♦ • · • ·.
um, thulium, ytterbium, lutecium, hafníum, tantal, wolfram, rhenium, osmium, iridium, platina, zlato, thalium, olovo, vizmut, zejména titan, hliník, hořčík a nikl nebo slitiny těchto kovů.
7. Ultrafobní povrch podle nároku 5, vyznačuj ící se tím, že kovem je slitina hliníku a hořčíku, obzvláště AlMg3.
nujícího pryskyřici diallylftalátovou, epoxydovou, močovinoformaldehydovou, melaminformaldehydovou, melaminfenolformaldehydovou nebo fenolformaldehydovou pryskyřici, polyimid, silikonový kaučuk a nenasycenou polyesterovou pryskyřici a termoplastový polymer je volen zejména ze souboru zahrnujícího termoplastický polyolefin, například polypropylen nebo polyethylen, polykarbonát, polyesterkarbonát, polyester například PBT nebo PET, polystyren, styrenový kopolymer, SAN pryskyřici, styrenový roubovaný kopolymer obsahující kaučuk, například ABS polymer, polyamid, polyuretan, polyfenylensulfid, polyvinylchlorid nebo jakékoli možné směsi uvedených polymerů.
10. Ultrafobní povrch podle nároku 1 až 9, vyznačující se tím, že povrch má povlak s hydrofobními fobi začnimi pomocnými látkami, zejména aniontovými, kat iontovými, amfoterními nebo neiontovými mezifázově aktivními sloučen i nam i.
11. Materiál nebo konstrukční materiál mající ultrafobní povrch podle nárokuů 1 až 10
12. Použití ultrafobního povrchu podle nároku 1 až 10 pro obklady snižující tření u vozidel, letadel a trupů lodí.
13. Použití ultrafobního povrchu podle nároku 1 až 10 pro samočisticí povlaky nebo panely budov, stavebních konstrukcí, střech, oken, keramických konstrukčních materiálů, například pro sanitární instalace a přístroje pro domácnostech.
14.
Použití ultrafobního povrchu podle nároku 1 až 10 jako protikorozního povlaku na kovových objektech.
15. Použití ultrafobního povrchu podle nároku 1 až 10 jako průhledného krytu nebo průhledných tabulí, zejména skleněných nebo plastových tabulí, obzvláště u solárních článků, vozidel a skleníků.
16.
Způsob př í pravý povrchu majícího ultrafobní vlastnosti podle nároku 1 až 10, založeného na slitině AlHg3, v y z t í m, že povrch se čistí, leptá, anodi cky ox i duj e, pas i vuj e ve vroucí vodě, případně povléká vzácným kovem pro podpory adheze, obzvláště zlatém ve vrstvě o tloušťce 10 až
100 nm, obzvláště atomizací a povléká se hydrofobním materiálem, ní nebo ne iontovou obzvláště aniontovou, kationtovou, amfoter povrchově aktivní sloučeninou jako fobici začnim pomocným činidlem.
17. Způsob přípravy povrchu majícího ultrafobní vlastnosti formováním, vyznačující se tím, že forma, která má negativ povrchové topografie vhodný pro ultrafobní povrch, se opatřuje směsí plastu a hydrofobního nebo obzvláště oleofobního činidla, které se oddělí při vytvrzenmí jako tenký film mezi povrchem formy a plastové směsi.
18. Způsob přípravy povrchu majícího ultrafobní vlastnosti formováním, vyznačující se tím, že povrch
- .47 - pozitivní formy, který má strukturu vhodnou pro ultrafobní povrch, se opatří plastem, obzvláště termosetovým nebo termoplastovým polymerem a povrch výsledného obtisku mající negativní obtisk povrchu pozitivní formy se opatří adhezivní podpůrnou vrstvou a pak hydrofobním nebo obzvláště oleofobním povlakem .
19. Způsob podle nároku 18, vyznačuj ící se t í m, že použitým polymerem jé hydrofóbní polymer, s výhodou po1y(methylmethakrylát-ko-perf1uorooktadecylmethakrylát) a dodatečný povlak hydrofobním nebo oleofobním materiálem se popřípadě vynechá
20. Způsob podle nároku 17 nebo 18, vyznačuj ící se tím, že použitá forma je negativem nebo pozitivem struktury leptaného anodizovaného povrchu sestávajícího hlavně z hliníku nebo ze hliníkové slitiny a zpracuje se horkou vodou o teplotě 50 až 100 C.
21. Způsob podle nároku 17 nebo 18, vyznačuj ící se tím, že použitá forma je negativem nebo pozitivem povrchové struktury mikrostrukturovaného, anodizovaného, kalcinovaného povrchu sestávajícího z hliníku nebo hliníkové slitiny.
22. Způsob podle nároku 17 až 21, vyznačuj ící se tím, že plastem použitým k formování je termosetový nebo termplastový polymer.
23. Způsob podle nároku 22, vyznačující se tím, že termosetový polymer je volen ze souboru zahrnujícího pryskyřici diallylftalátovou, epoxidovou, močovinoformaldehydovou, melaminformaldehydovou, me1aminfenolformaldehydovou nebo fenol forma1dehydovou pryskyřici, polyímid, silikonový kaučuk a nenasycenou polyesterovou pryskyřici.
- .42 - • ······ ·· · · · · • · ···· · · ·· · · ·· ·· · ·
24. Způsob podle nároku 22, vyznačující se t í m, že termoplastový polymer je volen ze souboru zahrnují ho termoplastický poíyolefin, například polypropylen nebo polyethylen, polykarbonát, polyesterkarbonát, polyester například PBT nebo PET, polystyren, styrenový kopolymer, SAN pryskyřici, kaučuk obsahující styrenový roubovaný kopolymer, například ABS polymer, polyamid, polyuretan, polyfenylensulfid, polyvinylchlorid nebo jakékoli možné směsi uvedených polymerů.
25. Způsob podle nároku 17 až 24, vyznačuj ící se tím, že povrch formy s výliskem má povlak s hydrofobní fobicizační pomocnou látkou, obzvláště aniontovou, kationtovou, amfoterní nebo neiontovou mezi fázově aktivní sloučeninou, nebo takovou fobicizační pomocnou látkou, která hydrofobizuje povrch a je použita jako přísada do polymerů s ní kompat ibilních.
26. Způsob testování povrchů na ultrafobní vlastnosti, vyznačující se tím, že se povrch povlékne tenkou vrstvou vzácného kovu nebo GaAs jako promotorem adheze, obzvláště zlata obzvláště v tloušťce vrstvy 10 až 100 nm atomizací, povlékne se fobicizační pomocnou látkou, s výhodou dekanthiolem, pak se topografie povrchu analyzuje, zejména s použitím kombinace snímací tunelové mikroskopie, snímací mikroskopie atomové síly a iterferometrií v bílém světle a z naměřených hodnot se prostorové frekvence f jednotlivých Fourierových členů a jejich amplitudy a(f) vyjádří integrálem funkce S
S( log f) = a(f) .f ( 1) vypočteným v integračních mezích log fi/ym_1= -3 a log fs/jLun-1 = 3 a případně se změří kontaktní úhel vody na takto zpracovaném povrchu.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19860141 | 1998-12-24 | ||
| DE1998160136 DE19860136C2 (de) | 1998-12-24 | 1998-12-24 | Ultraphobe Oberfläche, deren Verwendung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| DE19860134 | 1998-12-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ20012318A3 true CZ20012318A3 (cs) | 2002-02-13 |
| CZ301248B6 CZ301248B6 (cs) | 2009-12-23 |
Family
ID=27218895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20012318A CZ301248B6 (cs) | 1998-12-24 | 1999-12-22 | Strukturovaný ultrafobní povrch, zpusob jeho prípravy a jeho použití |
Country Status (20)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7285331B1 (cs) |
| EP (1) | EP1144537B1 (cs) |
| JP (1) | JP4566409B2 (cs) |
| KR (1) | KR100689730B1 (cs) |
| CN (1) | CN1220747C (cs) |
| AT (1) | ATE262016T1 (cs) |
| AU (1) | AU770714B2 (cs) |
| BR (1) | BR9916844B1 (cs) |
| CA (1) | CA2356178C (cs) |
| CZ (1) | CZ301248B6 (cs) |
| DE (1) | DE59908917D1 (cs) |
| HU (1) | HU228095B1 (cs) |
| IL (2) | IL143728A0 (cs) |
| MX (1) | MXPA01006488A (cs) |
| NO (1) | NO20013050D0 (cs) |
| NZ (1) | NZ512428A (cs) |
| PL (1) | PL195907B1 (cs) |
| SK (1) | SK285652B6 (cs) |
| TR (1) | TR200101847T2 (cs) |
| WO (1) | WO2000039240A1 (cs) |
Families Citing this family (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19947788A1 (de) | 1999-10-05 | 2001-04-12 | Bayer Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Bewegen von Flüssigkeiten |
| DE10004724A1 (de) * | 2000-02-03 | 2001-08-09 | Bayer Ag | Rohrleitung mit ultraphober Innenwand |
| DE10007859A1 (de) | 2000-02-21 | 2001-08-23 | Bayer Ag | Langzeitstabile wasser- und ölabweisende Oberfläche |
| DE10026299A1 (de) * | 2000-05-26 | 2001-11-29 | Sunyx Surface Nanotechnologies | Substrat mit gering lichtstreuender, ultraphober Oberfläche und Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE10028772B4 (de) * | 2000-06-07 | 2005-03-17 | Technische Universität Dresden | Aluminiumwerkstoff mit ultrahydrophober Oberfläche, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung |
| DE10138037A1 (de) * | 2001-08-03 | 2003-02-20 | Creavis Tech & Innovation Gmbh | Pipettenspitzen mit teilweise strukturierten Oberflächen mit verbesserten Pipettiereigenschaften |
| EP1478926A1 (de) * | 2002-02-22 | 2004-11-24 | Sunyx Surface Nanotechnologies GmbH | Ultraphobe oberfläche mit einer vielzahl reversibel erzeugbarer hydrophiler und/oder oleophiler bereiche |
| AU2003215590A1 (en) * | 2002-02-22 | 2003-09-09 | Scienion Ag | Ultraphobic sample carrier having functional hydrophilic and/or oleophilic areas |
| EP1478925A1 (de) * | 2002-02-22 | 2004-11-24 | Sunyx Surface Nanotechnologies GmbH | Verwendung von ultraphoben oberflächen mit einer vielzahl hydrophiler bereiche zur analyse von proben |
| GB0206930D0 (en) | 2002-03-23 | 2002-05-08 | Univ Durham | Method and apparatus for the formation of hydrophobic surfaces |
| DE10258674A1 (de) * | 2002-12-13 | 2004-06-24 | Sunyx Surface Nanotechnologies Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Probenträgers für die MALDI-Massenspektrometrie |
| US6911276B2 (en) | 2003-04-15 | 2005-06-28 | Entegris, Inc. | Fuel cell with ultraphobic surfaces |
| DE10340429A1 (de) * | 2003-09-02 | 2005-04-07 | GESELLSCHAFT FüR BIOTECHNOLOGISCHE FORSCHUNG MBH (GBF) | Hydrophober Gegenstand mit Raster hydrophiler Bereiche, dessen Herstellung und Verwendung |
| US8556127B2 (en) | 2004-05-24 | 2013-10-15 | Pur Water Purification Products, Inc. | Additive dispensing system for a refrigerator |
| US8893927B2 (en) | 2004-05-24 | 2014-11-25 | Pur Water Purification Products, Inc. | Cartridge for an additive dispensing system |
| US7670479B2 (en) * | 2004-05-24 | 2010-03-02 | PUR Water Purification, Inc. | Fluid container having an additive dispensing system |
| US7695767B2 (en) * | 2005-01-06 | 2010-04-13 | The Boeing Company | Self-cleaning superhydrophobic surface |
| JP4868810B2 (ja) * | 2005-09-30 | 2012-02-01 | 小林製薬株式会社 | 水洗により洗浄される硬質表面用の防汚剤 |
| GB0618460D0 (en) * | 2006-09-20 | 2006-11-01 | Univ Belfast | Process for preparing surfaces with tailored wettability |
| EP2125220A1 (en) * | 2006-12-13 | 2009-12-02 | Qiagen GmbH | Transfection microarrays |
| US7888127B2 (en) | 2008-01-15 | 2011-02-15 | Sequenom, Inc. | Methods for reducing adduct formation for mass spectrometry analysis |
| US8870839B2 (en) | 2008-04-22 | 2014-10-28 | The Procter & Gamble Company | Disposable article including a nanostructure forming material |
| US8286561B2 (en) | 2008-06-27 | 2012-10-16 | Ssw Holding Company, Inc. | Spill containing refrigerator shelf assembly |
| US11786036B2 (en) | 2008-06-27 | 2023-10-17 | Ssw Advanced Technologies, Llc | Spill containing refrigerator shelf assembly |
| EP2157432A1 (en) | 2008-08-15 | 2010-02-24 | Qiagen GmbH | Method for analysing a complex sample by mass spectrometry |
| FR2935326B1 (fr) * | 2008-08-28 | 2011-11-04 | Peugeot Citroen Automobiles Sa | Vehicule automobile comportant une face exposee au ruisselement de l'eau |
| EP2346678B1 (en) | 2008-10-07 | 2017-10-04 | Ross Technology Corporation | Spill resistant surfaces having hydrophobic and oleophobic borders |
| CA2742829C (en) | 2008-11-12 | 2017-02-07 | Georgia-Pacific Chemicals Llc | Method for inhibiting ice formation and accumulation |
| US20100159195A1 (en) * | 2008-12-24 | 2010-06-24 | Quincy Iii Roger B | High repellency materials via nanotopography and post treatment |
| ES2613885T3 (es) | 2009-11-04 | 2017-05-26 | Ssw Holding Company, Inc. | Superficies de aparatos de cocción que tienen un patrón de confinamiento de salpicaduras y procedimientos de fabricación de las mismas |
| DE102009057444A1 (de) * | 2009-12-08 | 2011-06-09 | Dürr Systems GmbH | Lackieranlagenbauteil mit einer Oberflächenbeschichtung |
| CA2796305A1 (en) | 2010-03-15 | 2011-09-22 | Ross Technology Corporation | Plunger and methods of producing hydrophobic surfaces |
| CN103476898A (zh) | 2011-02-21 | 2013-12-25 | 罗斯科技公司 | 具有低voc粘合剂体系的超疏水性和疏油性涂层 |
| DE102011085428A1 (de) | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Schott Ag | Einlegeboden |
| EP2791255B1 (en) | 2011-12-15 | 2017-11-01 | Ross Technology Corporation | Composition and coating for superhydrophobic performance |
| EP2864430A4 (en) | 2012-06-25 | 2016-04-13 | Ross Technology Corp | ELASTOMERIC COATINGS WITH HYDROPHOBIC AND / OR OLEOPHOBIC PROPERTIES |
| AU2013322247B2 (en) * | 2012-09-25 | 2018-02-15 | Stora Enso Oyj | A method for the manufacturing of a polymer product with super- or highly hydrophobic characteristics, a product obtainable from said method and use thereof |
| US9305756B2 (en) | 2013-03-13 | 2016-04-05 | Agena Bioscience, Inc. | Preparation enhancements and methods of use for MALDI mass spectrometry |
| WO2015143389A1 (en) * | 2014-03-20 | 2015-09-24 | Arizona Science And Technology Enterprises, Llc | Pagophobic coating compositions, method of manufacture and methods of use |
| TWI548429B (zh) | 2014-11-07 | 2016-09-11 | 財團法人工業技術研究院 | 醫療用複合材料及其製作方法與應用 |
| TWI522231B (zh) * | 2014-12-01 | 2016-02-21 | 財團法人工業技術研究院 | 金屬/高分子複合材料及其製作方法 |
| CN105039872A (zh) * | 2015-06-09 | 2015-11-11 | 倍德力能源装备(江苏)有限公司 | 一种耐高温高强度弹簧吊架 |
| JP6811415B2 (ja) * | 2016-01-29 | 2021-01-13 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 小便器 |
| US10501640B2 (en) | 2017-01-31 | 2019-12-10 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University | Nanoporous materials, method of manufacture and methods of use |
| CN113214693B (zh) * | 2021-05-24 | 2022-08-26 | 张义和 | 一种抗菌、杀菌、抑菌控味、永久抗污染树脂胶衣 |
| KR102435592B1 (ko) * | 2022-01-21 | 2022-08-24 | 주식회사 에스엘티지 | 의약품 캡슐 외관 검사장치 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61272388A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-02 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 水漏れ性の優れた熱交換器用フイン及びその製造法 |
| JPH04124047A (ja) * | 1990-09-17 | 1992-04-24 | Nissan Motor Co Ltd | ガラス表面の撥水処理方法 |
| US5277788A (en) * | 1990-10-01 | 1994-01-11 | Aluminum Company Of America | Twice-anodized aluminum article having an organo-phosphorus monolayer and process for making the article |
| US5296282A (en) * | 1991-08-12 | 1994-03-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Degradable repellant coated articles |
| JP3059307B2 (ja) * | 1992-09-01 | 2000-07-04 | 株式会社神戸製鋼所 | 撥水性及び着霜防止性が優れた部材及びその製造方法 |
| JPH07149512A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水性撥油性を有する組成物及びその製造方法 |
| JPH07316546A (ja) * | 1994-05-23 | 1995-12-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水表面構造及びその形成方法 |
| EP0772514B1 (de) | 1994-07-29 | 1998-12-23 | Wilhelm Barthlott | Selbstreinigende oberflächen von gegenständen sowie verfahren zur herstellung derselben |
| US5624632A (en) * | 1995-01-31 | 1997-04-29 | Aluminum Company Of America | Aluminum magnesium alloy product containing dispersoids |
| US5674592A (en) * | 1995-05-04 | 1997-10-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Functionalized nanostructured films |
| JPH08323285A (ja) * | 1995-05-31 | 1996-12-10 | Kobe Steel Ltd | 撥水性及び着霜防止性が優れた部材及びその製造方法 |
| EP0754738B1 (en) * | 1995-07-19 | 2003-03-12 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Water repellent composition, fluorocarbon polymer coating composition and coating film therefrom |
| DE19610111A1 (de) * | 1996-03-14 | 1997-09-18 | Wacker Chemie Gmbh | Zusammensetzungen für die wasser- und ölabweisende Behandlung saugfähiger Materialien |
| AU2020597A (en) * | 1996-04-03 | 1997-10-29 | Alusuisse Technology & Management Ag | Coating substrate |
| EP0825241B1 (en) * | 1996-08-16 | 2003-03-26 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Water repellent coating composition, method for preparing the same, and coating films and coated articles using the same |
| JP4046792B2 (ja) * | 1997-01-16 | 2008-02-13 | 関西ペイント株式会社 | アニオン型電着塗料及びそれを使用した塗膜形成方法 |
| JPH10305538A (ja) * | 1997-05-02 | 1998-11-17 | Daikin Ind Ltd | 撥水性複合材 |
| DE19803787A1 (de) | 1998-01-30 | 1999-08-05 | Creavis Tech & Innovation Gmbh | Strukturierte Oberflächen mit hydrophoben Eigenschaften |
| JPH11314253A (ja) * | 1998-05-01 | 1999-11-16 | Japan Polychem Corp | 熱可塑性樹脂のガス射出成形用金型 |
-
1999
- 1999-12-22 JP JP2000591140A patent/JP4566409B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-22 CZ CZ20012318A patent/CZ301248B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-12-22 EP EP19990965539 patent/EP1144537B1/de not_active Revoked
- 1999-12-22 US US09/869,123 patent/US7285331B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-22 CN CNB998162914A patent/CN1220747C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-22 DE DE59908917T patent/DE59908917D1/de not_active Revoked
- 1999-12-22 BR BR9916844A patent/BR9916844B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-12-22 WO PCT/EP1999/010322 patent/WO2000039240A1/de not_active Ceased
- 1999-12-22 KR KR1020017007964A patent/KR100689730B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-22 AT AT99965539T patent/ATE262016T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-12-22 NZ NZ51242899A patent/NZ512428A/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-12-22 IL IL14372899A patent/IL143728A0/xx active IP Right Grant
- 1999-12-22 CA CA2356178A patent/CA2356178C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-22 TR TR200101847T patent/TR200101847T2/xx unknown
- 1999-12-22 AU AU21014/00A patent/AU770714B2/en not_active Ceased
- 1999-12-22 PL PL99349423A patent/PL195907B1/pl unknown
- 1999-12-22 HU HU0200082A patent/HU228095B1/hu not_active IP Right Cessation
- 1999-12-22 MX MXPA01006488A patent/MXPA01006488A/es not_active Application Discontinuation
- 1999-12-22 SK SK833-2001A patent/SK285652B6/sk not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-06-13 IL IL143728A patent/IL143728A/en not_active IP Right Cessation
- 2001-06-19 NO NO20013050A patent/NO20013050D0/no not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59908917D1 (de) | 2004-04-22 |
| BR9916844B1 (pt) | 2010-07-27 |
| CN1337984A (zh) | 2002-02-27 |
| ATE262016T1 (de) | 2004-04-15 |
| CA2356178C (en) | 2010-04-13 |
| MXPA01006488A (es) | 2002-06-04 |
| CZ301248B6 (cs) | 2009-12-23 |
| SK285652B6 (sk) | 2007-05-03 |
| CN1220747C (zh) | 2005-09-28 |
| TR200101847T2 (tr) | 2001-10-22 |
| NO20013050L (no) | 2001-06-19 |
| NO20013050D0 (no) | 2001-06-19 |
| SK8332001A3 (en) | 2002-03-05 |
| CA2356178A1 (en) | 2000-07-06 |
| IL143728A (en) | 2006-10-05 |
| KR100689730B1 (ko) | 2007-03-09 |
| HUP0200082A2 (en) | 2002-05-29 |
| AU770714B2 (en) | 2004-02-26 |
| US7285331B1 (en) | 2007-10-23 |
| PL195907B1 (pl) | 2007-11-30 |
| JP2002533560A (ja) | 2002-10-08 |
| IL143728A0 (en) | 2002-04-21 |
| AU2101400A (en) | 2000-07-31 |
| EP1144537B1 (de) | 2004-03-17 |
| BR9916844A (pt) | 2001-10-09 |
| PL349423A1 (en) | 2002-07-29 |
| WO2000039240A1 (de) | 2000-07-06 |
| EP1144537A1 (de) | 2001-10-17 |
| NZ512428A (en) | 2004-02-27 |
| KR20010093213A (ko) | 2001-10-27 |
| HU228095B1 (en) | 2012-10-29 |
| JP4566409B2 (ja) | 2010-10-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100689730B1 (ko) | 초소성 표면 | |
| US7632466B2 (en) | Ultraphobic surface structure having a plurality of hydrophilic areas | |
| US20030124360A1 (en) | Substrate with a reduced light-scattering, ultraphobic surface and method for the production of the same | |
| JP2002533560A5 (cs) | ||
| US8691147B2 (en) | Apparatus for processing a sample in a liquid droplet and method of using the same | |
| US7563505B2 (en) | Long-time stable water-repellent and oil-repellent surface | |
| US6652669B1 (en) | Method for producing an ultraphobic surface on an aluminum base | |
| WO2017157752A1 (en) | Microfluidic devices having a microchannel with hydrophilic coating | |
| TWI542626B (zh) | Composition and film formed by it | |
| US20110030874A1 (en) | Low temperature method of bonding substrates having at least one surface that includes a layer of su8 | |
| RU2232648C2 (ru) | Ультрафобная поверхность | |
| DE19860136C2 (de) | Ultraphobe Oberfläche, deren Verwendung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| TW201338865A (zh) | 光觸媒載持構造體 | |
| TW202446846A (zh) | 共聚體、親水撥油組合物、親水撥油膜、親水撥油層疊體和物品 | |
| JPH083478A (ja) | 透明合成樹脂製の道路用側壁板 | |
| JPH05345878A (ja) | 被覆用組成物および被覆物品 | |
| JPS63178038A (ja) | 積層体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20181222 |