CZ309251B6 - Způsob čištění a nedestruktivního sledování procesu čištění křemenných ampulí pro polovodičové technologie - Google Patents

Způsob čištění a nedestruktivního sledování procesu čištění křemenných ampulí pro polovodičové technologie Download PDF

Info

Publication number
CZ309251B6
CZ309251B6 CZ2020-578A CZ2020578A CZ309251B6 CZ 309251 B6 CZ309251 B6 CZ 309251B6 CZ 2020578 A CZ2020578 A CZ 2020578A CZ 309251 B6 CZ309251 B6 CZ 309251B6
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
ampoule
cleaning
neck
furnace
head
Prior art date
Application number
CZ2020-578A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ2020578A3 (cs
Inventor
Pavel Höschl
Roman Fesh
Petr Sladký
Original Assignee
Univerzita Karlova
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Univerzita Karlova filed Critical Univerzita Karlova
Priority to CZ2020-578A priority Critical patent/CZ309251B6/cs
Publication of CZ2020578A3 publication Critical patent/CZ2020578A3/cs
Publication of CZ309251B6 publication Critical patent/CZ309251B6/cs

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/007Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0075Cleaning of glass
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/90Investigating the presence of flaws or contamination in a container or its contents
    • G01N21/9018Dirt detection in containers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00Glass compositions
    • C03C2201/02Pure silica glass, e.g. pure fused quartz

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Způsob čištění a nedestruktivního sledování procesu čištění křemenných ampulí pro polovodičové technologie spočívá v tom, že koncová část (16) hrdla (15) ampule (10) se osadí hlavicí (11), která se opatří přívody a odvody (12, 13, 14) plynů. Dále se ampule (10) umístí do procesní pece (100) tak, že se hlavice (11) s částí hrdla (15) ponechá mimo pec (100) na laboratorní teplotě, přičemž se prostřednictvím hlavice (11) sledují odděleně změny UV-VIS-IR optických vlastností při vytváření úsad reakčních zplodin chloru s nečistotami na hrdle (15) ampule (10) v korelaci s procesem čištění. Objem ampule (10) se čerpá na tlak 0,008 až 0,012 Pa a nechá se ohřívat na procesní teplotu 1050 až 1175 °C a odplyňovat po dobu ohřevu 4 až 6 hod. Dále se plynný Cl2 ponechává působit na procesní teplotě 1050 až 1175 °C po dobu alespoň 12 hod. Poté se ohřev ampule (10)zastaví a ampule (10) se spolu s pecí (100) ponechá samovolně a/nebo řízeně chladnout po dobu 11+/- 1 hod. Po ochlazení ampule (10) a pece (100) na laboratorní teplotu se plynný Cl2 odčerpá, ampule (10) se napustí plynným N2 na atmosférický tlak a přítok a odtok plynu se zastaví. Nakonec se ampule (10) vyjme z pece (100), hlavice (11) se z hrdla (15) ampule (10) sejme, ampule (10) se uzavře a hrdlo (15) a ostatní části ampule se zpřístupní např. vizuálnímu, resp. jinému známému způsobu hodnocení procesu čištění pro další operace a použití.
CZ2020-578A 2020-10-23 2020-10-23 Způsob čištění a nedestruktivního sledování procesu čištění křemenných ampulí pro polovodičové technologie CZ309251B6 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ2020-578A CZ309251B6 (cs) 2020-10-23 2020-10-23 Způsob čištění a nedestruktivního sledování procesu čištění křemenných ampulí pro polovodičové technologie

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ2020-578A CZ309251B6 (cs) 2020-10-23 2020-10-23 Způsob čištění a nedestruktivního sledování procesu čištění křemenných ampulí pro polovodičové technologie

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ2020578A3 CZ2020578A3 (cs) 2022-05-04
CZ309251B6 true CZ309251B6 (cs) 2022-06-22

Family

ID=81926081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ2020-578A CZ309251B6 (cs) 2020-10-23 2020-10-23 Způsob čištění a nedestruktivního sledování procesu čištění křemenných ampulí pro polovodičové technologie

Country Status (1)

Country Link
CZ (1) CZ309251B6 (cs)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12366831B2 (en) 2022-05-20 2025-07-22 Mb-Microtec Ag Fabrication of glass cells for hermetic gas enclosures

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ20012839A3 (cs) * 2000-09-26 2002-05-15 General Electric Company Zařízení pro měření povrchového znečiątění částicemi
WO2009134385A1 (en) * 2008-04-30 2009-11-05 Corning Incorporated Process for preparing an optical preform
WO2012021317A1 (en) * 2010-08-12 2012-02-16 Corning Incorporated Treatment of silica based soot or an article made of silica based soot
CN106353333A (zh) * 2015-07-17 2017-01-25 住友化学株式会社 膜检查装置、膜检查方法及膜制造方法
CN111349968A (zh) * 2020-03-29 2020-06-30 四川大学 一种硒硫化镉多晶的合成方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ20012839A3 (cs) * 2000-09-26 2002-05-15 General Electric Company Zařízení pro měření povrchového znečiątění částicemi
WO2009134385A1 (en) * 2008-04-30 2009-11-05 Corning Incorporated Process for preparing an optical preform
WO2012021317A1 (en) * 2010-08-12 2012-02-16 Corning Incorporated Treatment of silica based soot or an article made of silica based soot
CN106353333A (zh) * 2015-07-17 2017-01-25 住友化学株式会社 膜检查装置、膜检查方法及膜制造方法
CN111349968A (zh) * 2020-03-29 2020-06-30 四川大学 一种硒硫化镉多晶的合成方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
(Threshold of light breakdown of hydroxylfree quartz glass of high purity; A. G. Boganov, G. P. Gusev, V. S. Rudenko, A. V. Shatilov; Fizika i Khimiya Stekla (19801031), 6(5), pp. 573-81 CODEN: FKSTD5 ISSN: 0132-6651) 12.05.1984 *

Also Published As

Publication number Publication date
CZ2020578A3 (cs) 2022-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY146550A (en) Apparatus and process for the production of vinyl chloride by thermal cracking of 1,2-dichloroethane
CZ309251B6 (cs) Způsob čištění a nedestruktivního sledování procesu čištění křemenných ampulí pro polovodičové technologie
ATE496006T1 (de) Verfahren zur herstellung und abkühlung von titandioxid
DE50311015D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Wärmebehandlung metallischer Werkstücke
KR101812081B1 (ko) 염화수소의 제조 방법
NO20071765L (no) Prosess for fremstilling av silisium tetraklorid ved reaksjon mellom silisium metall og klor med intern kjoling
US1495813A (en) Process of calcining rocks
US768230A (en) Manufacture of carbonic-acid gas.
PL420794A1 (pl) Sposób wytwarzania pian z ciekłego aluminium
KR20190082189A (ko) 염화수소 액체 혼합물로부터 불순물을 분리 및 처리하기 위한 방법 및 시스템
CN205328638U (zh) 一种氯气处理装置
UA121828C2 (uk) СПОСІБ ОДЕРЖАННЯ НАТРІЙПЕНТАТІОФОСФАТУ (V) ХЛОРИДУ Na<sub>6</sub>РS<sub>5</sub>Cl
CN102994109B (zh) 煤热解炉的荒煤气导出装置
CN109161966A (zh) 多晶锗的制备装置及制备方法
US1981826A (en) Method of heat treating oil
RU2221670C1 (ru) Способ прокаливания керамических форм
US1030110A (en) Method of producing chlorids of tin.
US985866A (en) Drawing hollow glass articles.
SU1409671A1 (ru) Способ приготовлени контролируемой атмосферы
SA520420950B1 (ar) طريقة وجهاز لتبريد تدفق الغاز الاصطناعي
FR2842191B1 (fr) Procede et installation de traitement thermique de produits en carbonne contenant du sodium
CN106757059A (zh) 一种摇臂的热处理工艺
KR20240116036A (ko) 유리 기물의 제조방법
AR131063A1 (es) Procedimiento para producir una masa fundida de urea y biuret y sistema para producir dicha masa fundida
GB158836A (en) Process for carrying out to the limit otherwise incompletely proceeding reactions

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Patent lapsed due to non-payment of fee

Effective date: 20231023