CZ9301924A3 - Způsob zjiątění tlouą»ky a rovnoměrnosti tlouą»ky průhledného povlaku a zařízení k provádění tohoto způsobu - Google Patents

Způsob zjiątění tlouą»ky a rovnoměrnosti tlouą»ky průhledného povlaku a zařízení k provádění tohoto způsobu Download PDF

Info

Publication number
CZ9301924A3
CZ9301924A3 CZ19931924A CZ192493A CZ9301924A3 CZ 9301924 A3 CZ9301924 A3 CZ 9301924A3 CZ 19931924 A CZ19931924 A CZ 19931924A CZ 192493 A CZ192493 A CZ 192493A CZ 9301924 A3 CZ9301924 A3 CZ 9301924A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
coating
thickness
light
discrete
intensity
Prior art date
Application number
CZ19931924A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ289962B6 (cs
Inventor
Michel Ing. Hannotiau
Guy Ing. Renard
Robert Ing. Terneu
Original Assignee
Glaverbel
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Glaverbel filed Critical Glaverbel
Publication of CZ9301924A3 publication Critical patent/CZ9301924A3/cs
Publication of CZ289962B6 publication Critical patent/CZ289962B6/cs

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • G01B11/0625Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/892Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
    • G01N21/896Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
    • G01N2021/8427Coatings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

(57) Anotace:
Způsob monitorování spočívá v tom, že se na množinu poloh na povlaku nasměruje mnohobarevné světlo a měří se intenzita světla odraženého od povlaku, přičemž se v každé poloze na povlaku měří intenzita odraženého světla alespoň na dvou diskrétních vlnových délkách a tato měření se zpracovávají na elektrický signál, který se srovnává s jednou nebo několika prahovými hodnotami a s elektrickými signály získanými pro jiné polohy k získání údajů o tom, zda tloušťka povlaku je v předem určených mezích. Zařízení k provádění tohoto způsobu obsahuje zdroj světla (16) pro směrování mnohobarevného světla na řadu poloh povlaku, lineární CCD kameru (20) pro měření intenzity odráženého světla a mikroprocesor (24) pro zpracováni výsledků měření.
r. - .,/«‘-A* * ·&
65330
Způsob monitorování tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky průhledného povlaku a zařízení k provádění tohoto způsobu.
Oblast techniky
Vynález se týká způsobu monitorování tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky průhledného povlaku naneseného na podklad ve formě vrstvy a zařízení k provádění tohoto způsobu.
Dosavadní stav techniky
Regulace tloušťky a indexu lomu povlaků nanášených na skleněné tabule, zejména na čerstvě tvarované pásy skla, je důležité. V oboru je dobře známé nanášení jednoho nebo několika povlaků na skleněné tabule v rámci četných aplikací. Tyto povlaky jsou obvykle tenké, například tenčí než 100 nanometrů a měření povlaků takové tloušťky je obtížné, zejména, kdy je Žádoucí provést tato měření rychle, plynule a na velkých plochách skla a zjišťovat změny tloušťky povlaku v podélném i příčném směru pásu skla nebo skleněných tabulí. Tloušťka těchto povlaků představuje důležitý parametr při výrobě kvalitního zasklívacího materiálu. Fyzikální a zejména optické vlastnosti zasklených ploch totiž výrazně závisí na uvedené tloušťce povlaku. Geometrická tloušťka povlaku a jeho index lomu hrají významnou roli, pokud jde o interferenční charakteristiky uvedených pásů nebo tabulí opatřených uvedeným povlakem. Zjistí-li se, že naměřená tloušťka povlaku je mimo přijatelné meze, stávají se z tabulí skla, jejichž povlak je již nanesen, zmetky určené do odpadu. To
I představuje o to větší problém v případě, že tabule již byly mezitím opatřeny dalšími povlaky nebo byly zasazeny do zasklívacích panelů.
Je tedy žádoucí zjistit tloušťku a rovnoměrnost této tloušťky povlaku pokud možno bezprostředně potom, co byl povlak na tabuli nebo pás podkladu nanesen v průmyslové výrobní lince.
Patentový dokument GB 2 069 130 popisuje způsob zjištění optické tloušťky povlaku směrováním polychromatického světla nejdříve na měřený vzorek a následně postupně na referenční vzorky mající povlaky odstupňovaných známých tlouštek, přičemž porovnávání se provádí až do okamžiku, kdy spektrum odraženého světla měřeného vzorku odpovídá spektru odraženého světla jednoho z referenčních vzorků. Tento způsob je vhodný pro povlaky mající tloušťku 150 až 3000 nanometrů a vyžaduje přesnou kalibraci referenčního povlaku. Tento způsob neumožňuje provádět kontrolu tloušťky povlaku s geometrickou tloušťku menší než asi 75 nanometrů při indexu lomu povlaku rovném asi 2. Navíc tento způsob nezahrnuje plynulou kontrolu tloušťky povlaku v případě, že měřené hodnoty tloušťky leží mimo rozmezí kalibrace referenčního povlaku, a neumožňuje stistit rovnoměrnost tloušťky povlaku. Kostrukce a poloha zařízení k provádění tohoto způsobu jsou takové, že neumožňují sledování povlaku bezprostředně potom, co byl povlak nanesen.
V patentovém dokumentu IT 2 009 990 se popisuje použití dvou laserových světelných zdrojů, t.j. monochromatických zdrojů, zaměřených na stejné místo povlaku, jehož tloušťka má být měřena, přičemž CCD kamera detekuje světlo jednak odražené a jednak rozptýlené podkladem nesoucím povlak. Nevýhoda použití laserového světla spočívá v komplikované konstrukci odpovídajícího zařízení, která je podmíněna
2a detekcí jak odraženého, tak í rozptýleného světla, přičemž nevýhodné je rovněž to, že detekční sondy musí být umístěny na obou stranách podkladu.
V patentovém dokumentu JP 63 006 632 se popisuje způsob měření světla procházejícího skrze povlečený podklad, přičemž tento způsob neřeší vyhodnocení rovnoměrnosti tloušťky.
Cílem vynálezu takto je poskytnout způsob monitorování tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky průhledného povlaku naneseného na podklad, který by neměl výše uvedené nedostatky řešení podle dosavadního stavu techniky.
Podstata vynálezu
Předmětem vynálezu je způsob monitorování tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky průhledného povlaku naneseného na podklad ve formě vrstvy, jehož podstata spočívá v tom, že se na množinu poloh na povlaku nasměruje mnohobarevné světlo a měří se intenzita světla odraženého od povlaku, přičemž se v každé poloze na povlaku měří intenzita odraženého světla alespoň na dvou diskrétních vlnových délkách a tato měření se zpracovávají na elektrický signál, který se srovnává s jednou nebo několika prahovými hodnotami a s elektrickými signály získanými pro jiné polohy k získání údajů o tom, zda tloušťka povlaku je v předem určených mezích.
Výhodně jsou alespoň dvě diskrétní vlnové délky v rozmezí od 400 do 750 nanomtrů, přičemž jejich rozdíl je roven alespoň 50 nanometrům. Výhodně je první diskrétní monitorovací vlnová délka v rozsahu od 400 do 480 nanometrů pro modrou barvu, zatímco druhá diskrétní monitorovací vlnová délka je v rozsahu od 580 do 750 nanometrů pro
2b červenou barvu. Měření se výhodně provádí za použití dvou vlnových délek. Výhodněji se měření provádí za použití třech vlnových délek. Výhodně se uvedená tři měření zpracují k získání elektrického signálu udávajícího index lomu povlaku. Výhodně je první diskrétní monitorovací vlnová délka v rozsahu od 400 do 480 nanometrů pro modrou barvu, druhá diskrétní monitorovací vlnová délka je v rozsahu od 580 do 750 nanometrů pro červenou barvu a třetí diskrétní monitorovací vlnová délka je v rozsahu od 480 do 580 nanometrů pro zelenou barvu. Výhodně se intenzita odraženého světla měří prvky citlivými na světlo každé diskrétní monitorovací vlnové délky. Výhodně se měření intenzity odraženého světla provádí za použití integrovaného obvodu s vazbou nábojem CCD. Výhodně je integrovaným obvodem s vazbou nábojem lineární CCD barevná kamera. Výhodně má množina poloh vzájemné vzdálenosti nejvýše rovné 50 milimetrům, výhodněji nejvýše rovnou 10 milimetrům a ještě výhodněji nejvýše rovnou 5 milimetrům. Výhodně se měření provádí přes celou šířku podkladu. Výhodně se kontroluje intenzita mnohobarevného světla směrovaného na povlak. Výhodně se měření zpracují pro výpočet rozdílu mezi intenzitou odraženého světla na dvou uvedených diskrétních monitorovacích vlnových délkách.
Předmětem vynálezu je rovněž zařízení pro monitorování tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky průhledného povlaku neneseného na podklad, jehož podstata spočívá v tom, že zahrnuje zdroj světla pro směrování mnohobarevného světla na řadu poloh povlaku, lineární CCD barevnou kameru jako prostředek pro měření intenzity světla odraženého od povlaku v každé poloze alespoň na dvou diskrétních vlnových délkách a mikroprocesor jako prostředek pro zpracování výsledků měření, na jejichž základě se generuje elektrický signál, který se srovnává s jednou nebo několika předem určenými prahovými hodnotami a s takovými elektrickými signály generovanými v jiných polohách pro získání údajů o
2c tom, zda tloušťka povlaku je v předem určených mezích. Výhodně je zdrojem světla podlouhlý zdroj světla mající délku alespoň rovnou šířce povlaku. Výhodně toto zařízení dále obsahuje prostředek pro kontrolování intenzity mnohobarevného světla směrovaného na povlak obsahující alespoň jeden detektor světla.
Způsob a zařízení podle vynálezu umožňují snadné zjištění tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky povlaku a zjištění, zda se tyto parametry nacházejí v předem určených mezích. Vynález rovněž umožňuje získat uvedená zjištění rychlým a jednoduchým způsobem a hlavně bezprostředně potom, co byl povlak na podkladu vytvořen.
Výraz diskrétní vlnové délky uvádí vlnové délky, mezi kterými je rozdíl alespoň 50 nanometrů. Obě diskrétní vlnové délky leží přednostně ve viditelném spektru, to znamená v rozsahu
-3od 380 nm do 780 nm. Nejvýhodnější diskrétní vlnové délky leží v rozsahu od 400 do 480 nm (modrá) a v rozsahu od 580 do 750 nm (červená). Tato skutečnost vyplývá z objevu, že pro mnohé komerční povlaky rozdíl měření prováděných na těchto dvou diskrétních vlnových délkách se s tlouštkou povlaku významně mění.
Odrazivost světla od povlečeného podkladu závisí, jak známo, mezi jinými na vlnové délce odraženého světla, na tlouštce povlaku a na indexu lomu podkladu, povlaku a vzduchu. Odvození všech potřebných parametrů umožňujících přímý výpočet tlouštky povlaku přímo z měření odrazivosti na dvou diskrétních vlnových délkách je složité, v praxi je výhodnější určit mezní hodnoty, například z měření odrazivosti vzorků majících povlaky známé tlouštky.
Výstupy měření odraženého světla se přednostně zavedou do mikroprocesoru, kde se signály zpracují, jak je dále vysvětleno, aby se vytvořil údaj o tlouštce povlaku. Na určitých vlnových délkách závislých na optické tlouštce povlaku vzniká interference vyplývající z charakteristiky odraženého spektra pro tuto optickou tlouštku. Pro daný povlak dané tlouštky existuje obvykle ve viditelném spektru dominantní vlnová délka, na které nastává konstruktivní interference a právě tato dominantní vlnová délka určuje vizuální vzhled povlečeného podkladu.
Přihlašovatelé zjistili, že pro malé tlouštky a diskrétní vlnové délky blízké k dominantní vlnové délce je rozdíl odrazivost í na dvou vlnových délkách přímo úměrný optické tlouštce povlaku, a tedy když je index lomu povlaku stálý, je přímo úměrný geometrické tlouštce povlaku.
Nicméně přesný vztah mezi odrazivostmi na různých vlnových délkách je složitý. Spíše než měření tlouštky v absolutních výrazech tudíž předložený vynález obsahuje zjištění mezí pro každý druh povlaku. Tyto meze jsou zjištěny pokusem.
Jestliže měření na dvou diskrétních vlnových délkách není dostatečné pro opatření přesného údaje o tlouštce povlaku, například když diskrétní vlnové délky neleží těsně u dominantní vlnové délky, měla by být měření provedena alespoň na třech vlnových délkách a třetí diskrétní vlnová délka by přednostně měla být v rozsahu od 480 do 580 nm (zelená). Ze tří provedených měření může potom být vybrán nejvhodnější pár měření pro vyvinutí údaje o tlouštce povlaku. Průměr tří měření dává mnohem přesnější informaci o odrazivosti světla, která může být použita v některých výhodných provedeních jako údaj o indexu lomu.
-4JestliSe změna odrazivosti v závislosti na tlouštce je těsně u maxima, mění se odrazivost s tlouštkou povlaku velmi málo, takže odrazivost potom více závisí na indexu lomu, jak předpovídají Fresnelovy rovnice. Pomocí přesné kalibrace je potom možné snadno určit index lomu povlaku.
Rovnoměrnost tlouštky povlaku na podkladu se stanoví srovnáním elektrického signálu vyvíjeného v jednom místě povlaku a takových signálů vyvíjených na jiných místech. Vzájemná poloha těchto míst určuje spolehlivost údajů o rovnoměrnosti, které jsou takto vyvíjeny. V závislosti na požadované jakosti povlečeného podkladu a na jeho určeném konečném použití přihlašovatelé doporučují zjistit tlouštku povlaku na mnoha místech která jsou od sebe vzdálena nejvýše 200 mm, přednostně nejvýše 100 mm, jako na místech vzdálených od sebe nejvýše 50 um, ideálně nejvýše 10 mm a nejideálněji nejvýše 5 nim.
Vhodný přístroj pro provádění zjištění by pracoval tak, že se měří intenzita odraženého světla různými prvky citlivými na světlo pro každou diskrétní vlnovou délku. Prvky citlivé na světlo mohou být diody citlivé na světlo, například uspořádané v řadě foto-diod. Přednostně se použije přístroj vázaný nábojem (CCD), zvláště lineární barevná CCD kamera. Alternativně mohou být použity alespoň dvě jednobarevné CCD lineární kamery, každá opatřena odpovídajícím filtrem. Použití barevné kamery, která je citlivá na tři vlnové délky má nicméně výhodu, že tři signály jsou mnohem snadněji srovnatelné, protože jsou získány za stejných podmínek stejným zařízením. Dále, jestliže je taková kamera citlivé na primární barvy modrou, zelenou a červenou, jsou výstupní signály z kamery schopné věrněji reprodukovat to, jak se bude povlečený podklad jevit lidskému oku. Kamera může být opatřena infračerveným filtrem k zamezení přehřátí při vystavení prostředí se zvýšenou teplotou a v závislosti na povaze zdroje světla širokopásmovým filtrem pro opravu vyvážení bílého světla.
Podklad je obvykle ve formě tuhé průhledné tabule. Index lomu podkladu může být menší nebo větší než index lomu povlaku. Podklad je obvykle sklovitý materiál jako sklo, mající index lomu typicky 1,52, jako sodné sklo, způsob podle předloženého vynálezu je však stejně použitelný pro zjištění tlouštky povlaku na jiném materiálu podkladu, jako je plastový materiál.
Povlak může být nanesen na podklad mnoha různými způsoby,
-5jako je katodické rozprašování pod vakuem, prováděné při teplotách místnosti, pyrolýza prováděná při zvýšených teplotách a chemické napařování. Pro různé účely jsou v oboru používány různé povlékací materiály. Povlékací materiály jsou obvykle zvoleny mezi kovy, oxidy kovů, nitridy kovů a jejich směsmi. Příklady povlékacích materiálu jsou kovy jako stříbro a křemík, oxidy jako oxid hlinitý s indexem lomu asi 1,7» oxid cínatý s indexem lomu asi 1,9 když je nanášen pyrolýzou, oxid zirkoničitý s indexem lomu asi 2,0 když je nanášen chemickým napařovéním a oxid křemičitý s indexem lomu asi 1,4 když je nanášen chemickým napařováním a nitridy jako nitrid titaničitý, nitrid křemičitý a nitrid hlinitý. Světelný přenos má být nedifuzní a je přednostně alespoň 10%, nejvýhodněji alespoň 20%.
Zdroj mnohobarevného světla má být jednoduše zdroj dvou nebo více vlnových délek, pro které mají být provedena měření, irSeV wííhnHnS -í 2-f ».Λτ»λ -ϊ R<1 *5hn evř+l o. Přpdnnfl+.nš fle mě— ** r tfc τ Λ*’— kw·* ** v.* w y — » w _ _ _ — _ ___ - — ření provádějí přes v podstatě celou šířku podkladu. Ideální je v
podlouhlý zdroj světla, který má délku rovnou alespoň šířce povlaku.
Sestava může být umístěna nad pohyblivým povlečeným pásem skla a obsahuje směrování světla ve formě štěrbiny z podlouhlého zdroje světla umístěného napříč šířky povlečeného pásu skla.
Zdroj světla může obsahovat fluorescenční trubice. Přednostně je osvětleni ze zdroje světle, to znamená intenzita mnohobarevného světla směrovaného na povlak, řízena a prostředek pro provádění takového řízení může obsahovat alespoň jeden detektor světla. Pomocí detektorů světla může být zdroj světla kalibrován měřením osvětlení ve množství bodů rozdělených přes šířku podkladu, například ve dvanácti bodech rozmístěných přes šířku pásu skla, který má typicky Šířku 3,2 m. Naměřené úrovně osvětlení se uloží. Během nanášení povlaku se měří osvětlení ve zvolených bodech. Nastane-li změna oproti uloženým hodnotám, může být ihned provedena oprava úměrná změně automaticky pro její kompenzaci.
Místo fluorescenčních trubic může být použit alternativní zdroj světla méně citlivý na teplotu, jako jsou světelné projektory,, například bodové lqmpy.
Například se zdrojem světla sestávajícím ze tří světelných projektorů by pro toto řízení měly stačit tři detektory světla.
Pro vytvoření rovnoměrnějšího osvětlení může být mezi zdroj světla a povlak vložen filtr z matovaného skla.
Při přímém povlékání na dopravníku by měření intenzity odraženého světla mělo být prováděno bezprostředně po povlečení podkladu v místě následujícím bezprostředně za koncem povlékacího stupně. Kalibrace kamery může být provedena měřením odrazu od nepovlečenmého podkladu a nastavením údaje tloušťky povlaku na hodnotu nula. Při odpovídající kalibraci a při předem určených prahových hodnotách vynález umožňuje snadné zjištění tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky povlaku a to v průběhu výroby povlečeného podkladu. Způsob podle vynálezu může poskytovat informace v reaálném čase a to bezprostředně po nanesení povlaku. V případě, že uvedené parametry povlaku překročí předem určené meze, může být spuštěn poplach nebo/a aktivován mechanismus zpětné vazby nastavující podmínky, za jakých probíhá povlékání podkladu, tak aby se uvedené parametry vrátily do předem určených mezích. Prahové hodnoty mohou být vhodně získány měřením intenzity světla odraženého od vzorků majících známé tloušťky odpovídající požadovaným krajním mezím.
Při nanášení průhledného povlaku na podklad ve formě listu může být například postupováno tak, že se provedou následující kroky:
a) nanesení materiálu povlaku na podklad,
b) zjištění tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky povlaku směrováním mnohobarevného světla na množinu míst povlaku, měření intenzity světla odraženého od povlaku v každém z uvedené množiny míst alespoň na dvou diskrétních vlnových délkách a zpracování měření pro generování elektrického signálu, který se srovnává s jednou nebo několika prahovými hodnotami a s takovými elektrickými signály generovanými pro jiná místa povlaku k získání údajů o tom, zda tloušťka povlaku leží v předem určených mezích, a
c) případné nastavení podmínek povlékacího procesu v odezvu na uvedený elektrický signál.
6a
Vzhledem k notorické obtížnosti měření tloušťky velmi tenkých povlaků je překvapující, že je v rámci vynálezu možné zjišťovat tloušťku povlaku již během výrobního procesu a to bez přerušení výroby, prostou analýzou dvou elektrických signálů generovaných pro různé vlnové délky a to navíc v horkém prostředí, kterým je místo bezprostředně následující za povlékacím stupněn.
Jestliže se podklad opatřuje dvěma nebo více tenkými postupně ukládanými povlaky, potom je možné realizovat monitorování podle vynálezu bezprostředně po každém povlékacím stupni nebo/a po nanesení všech povlaků.
-7Rovněž je možné provést vzorkování povlečeného podkladu ve pravidelných intervalech během jeho výroby a tyto vzorky přezkou šet způsobem podle vynálezu mimo výrobní linku, například v labo ratořl.
Vynález je zvláště užitečný když se měření provádějí na pohyblivém podkladu, například když podklad je sklo a měření se provádějí na pohyblivém pásu skla nebo na pohyblivých skleněných tabulích v některém místě podél výrobní linky pro plynulou výrobu povlečených skleněných tabulí, například v zařízení pro katodické rozprašování pod vakuem nebo v žíhací peci na pásu skla vyrobeném plavením. Tento způsob je zvláště výhodný pro povlaky vyrobené pyrolýzou, měřeni mohou být prováděna když teplota skla je asi 150 °C. Měření se přednostně provádějí uvnitř pásma 20 m od poproudového konce povlékacího stanoviště. Měření mohou být například prováděna když má sklo teplotu od 500 °C do 600 °C Zdroj světla a kamera jsou přednostně unístěny nad klenbou žíhací pece a štěrbina v klenbě umožňuje vystavit pás skla zdroji světla a kameře. Pro další ochranu zdroje světla a kamery před teplem unikajícím ze žíhací pece včetně tepla unikajícího Štěrbinou v její klenbě mohou být zdroj světla a/nebo kamera uzavřeny v ochlazovaném prostoru například statickým studeným vzduchem, proudem vzduchu nebo vodou.
Nastavení nanášení povlékacího materiálu na podklad odezvou na elektrický signál může být prováděno mnoha způsoby v závislosti na použitém povlékacím způsobu, například změnou množství vypouštěného povlékacího materiálu v povlékacím stanovišti, změnou rychlosti pohybu rozprašovací hlavice a/nebo změnou podmínek prostředí, například teploty, v povlékacím stanovišti pro ovlivnění procesu povlékání žádaným způsobem.
Ačkoliv jak je výše popsáno, způsob podle vynálezu může obsahovat přídavný krok nastavení parametrů povlékání odezvou na zmíněný elektrický signál, není to podstatné. Je rovněž možné použít tento elektrický signál pro třídění povlečených vzorků podkladu do dávek různé jakosti, určených například pro různé konečné použití. Dále může být elektrický signál použit pro určení druhu následujícího zpracování povlečeného podkladu.
Přehled obrázků na výkresech
Vynález je znázorněn na výkresech, kde obr.lA znázorňuje schematicky uspořádání zařízení vhodného pro provádění způsobu
-8podle vynálezu v pohledu z jedné strany, obr.lB je pohled ve směru T* v obr.lA, obr.lC znázorňuje schematicky uspořádání obvodů vhodné pro použití se zařízením znázorněným v obr.lA a 1B, obr.2 znázorňuje závislost mezi dominantní odraženou vlnovou délkou a tlouštkou povlaku mezi 65 a 105 nm pro povlaky z oxidu hlinitého s různými indexy lomu a obr.3 znázorňuje závislost mezi odrazivostí a tlouštkou povlaku mezi 65 a Ϊ05 nm pro povlaky z oxidu hlinitého s různými indexy lomu.
Příklady provedeni vynálezu
Podle obr.lA, 1B a 1C je v žíhací peci následující bezprostředně nanášení povlaku na skleněný pás 10 umístěna světelná skříň 12 probíhající napříč pece. Světelná skříň 12 je umístěna například asi 50 cm nad klenbou 14. to znamená asi 1 m nad skleněným pásem 10. Skleněný pás 10 je nesen na dopravních válečcích 15« Svazek světelných paprsků ze světelné skříně 12 dopadá na horní povlečený povrch 11 skleněného pásu 10 ve směru blízkém ke kolmému směru a odražený svazek světelných paprsků dopadá na CCD lineární barevnou kameru 20 umístěnou centrálně vzhledem k šířce skleněného pásu 10 a ve yýšce od 3 do 4 m nad ním. Světelná skříň
20000 Hz. Důležité je zajistit, aby svítivost zdroje světla byla pokud možno nejrovnoměrnější po délce světelné skříně 12. Pro tento účel je výstup světla ze světelné skříně 12 zakryt okénkem 18 z matovaného skla. Alternativně mohou být fluorescenční trubice^ nahrazeny třemi světelnými projektory pro osvětlování okénka 18 z matovaného skla.
Osvětlení ze světelné skříně 12 může být řízeno čtrnácti detektory 19. světla umístěnými ve množině zvolených bodů rozmístěných přes šířku podkladu, tedy skleněného pásu 10. Světelná skříň 12 může být kalibrována měžením osvětlení způsobeného u každého detektoru 19 světla. Naměřené úrovně osvětlení se uloží do paměti mikroprocesoru 24. Během nanášení povlaku se měří osvětlení ve zvolených bodech. Jestliže se vyskytuje odchylka od uložených hodnot, vyvine se mikroprocesorem 24 samočinně korekce úměrná odchylce a zavede se k elektrickým signálům vytvářených pixely CCD kamery 20 sledující pásmo příslušející onomu detektoru 19 světla, který zjistil odchylku. Jsou-li použity světelné projektory místo fluorescenčních trubic JUT. může být korekce vyvinutá mikroprocesorem 24 přivedena přímo do světelné skříně 12.
-SSkleněný pás 10 se pohybuje ve směrní šipky A pod vratnou rozprašovací hlavicí 22 povlékacího stanoviště. Řídicí prostředek 28 nastavuje průtočné množství materiálu rozprašovací hlavicí 22 a/nebo rychlost vratného pohybu rozprašovací hlavice 22. Měření z kamery 20 se vedou do mikroprocesoru 24. kde se provádějí nutné výpočty, jak bude podrobněji vysvětleno s odkazem na obr.lC* Displej 26 ukazuje údaj o tlouštce povlaku nebo o jiných parametrech vypočítaných příslušně naprogramovaným mikroprocesorem 24. Spojení mezi mikroprocesorem 24 a řídicím prostředkem 28 umožňuje samočinné řízení tlouštky povlaku.
Vhodná kamera je TL-2600 RGB Colour Line Scan Osmera společnosti FULNIX. Kamera 20 mé objektiv o ohniskové dálce 50 mm a infračervený filtr pro snížení nebezpečí tepelného poškození. Šířka svazku světelných paprsků ze světelné skříně 12 je větší než šířka skleněného pásu 10, aby bylo zajištěno, že kamera 20 bude přijxuittb uuxa&eHtt ovcixu & ceie «xxkj puvicucuenu ďxicíícíiuív
10. přičemž se bere v úvahu prostorové uspořádání mezi světelnou skříní 12 a skleněným pásem 10 a mezi skleněným pásem 10 a objektivem kamery 20,
TL-2600 RGB Colour Line Scan kamera 20 je tvořena třemi řádky z 864 aktivních pixelů, což pro Šířku skleněného pásu 10 rovnou 3,2 m dává rozlišení asi 4 mm dostatečné pro účely předloženého vynálezu. Každý pixel je mikroskopický světelný detektor o velikosti 14 x 14/Um. Před každým ze tří řádků pixelů je umístěn optický pásmový filtr odpovídající červené, zelené a modré vlnové délce. Před objektivem kamery 20 je umístěn infračervený odřezávací filtr a dva optické pásmové filtry, jejichž křivky odezvy umožňují nastavit vyvážení úrovně osvětlení na červené, zelené a modré vlnové délce.
Přihlédne-li se zejména k obr. 1C, doby integrace elektrických nábojů, které se hromadí na každém pixelů, jsou nastavitelné. Citlivost nasycení pro každý typ povlaku může tudíž být nastavena, aby se počítalo se skutečností, že je významný rozdíl v úrovni světla dopadajícího na kameru 20 mezi vrstvou odrážející 10% světla a vrstvou odrážející 50% světla. Toto nastavení určuje úrověň signálů, které vystupují z kamery 20 na vedení 20. Kamera 20 je napájena synchronizačními pulzy z generátoru 29 hodinových signálů po vedení 21» které spínají přenos náboje z každého pixelu na sousední pixel. Doba integrace musí být delší než počet
-10pixelů kamery 20 násobený dobou T oddělující dva synchronizační pulzy. V daném případě, aby se vzaly v úvahu černé” pixely, je doba integrace delší než 2700 * T*
Elektrické signály vyvíjené kamerou 20 představují odrazivost povlečeného povrchu pro tři barvy, červenou, zelenou a modrou, popřípadě pro vlnové délky 580-700 nm, 515 nm a 420-450 nm. Tyto signály, označené R, G a B, se vedou do mikroprocesoru 2£, kde jsou využity pro odvození tlouštky a dle volby indexu lomu povlaku.
Analogické elektrické signály R, G a B vystupující ze tří řádků pixelů a mající amplitudy úměrné množství světla pohlceného každým pixelem, se multiplexují pixelem, R, G a B signály pro první pixel každého ze tří řádků, potom totéž pro druhý pixel každého ze tří řádků atd. Tyto multiplexované signály se posílají do osmibitového analogočíslicového převodníku 32. který je také napájen přes vedení 33 synchronizačním pulzem z generátoru 29 hodinových signálů. Synchronizační pulz z generátoru 29 hodinových signálů se také vede do generátoru 42 signálu identifikace barvy. Výstupní číslicové signály z analogočíslicového převodníku 32 se potom pošlou po vedení 34 současně se tříbitovým signálem identifikace barvy z generátoru 42 po vedení 43 do mikroprocesoru 24 pro zpracování dat.
Mikroprocesor 24 provede zpracování signálu a určí parametry systému. Výpočty se provádějí pixel po pixelu pro každou barvu. Výsledné hodnoty umožňují nakreslení grafů.
Mikroprocesor 24 vypočítá střední hodnotu signálů R, G a B, to- znamená (R+G+B)/3 pro údaj odrazivosti povlaku. Mikroprocesor 24 také vypočítá rozdíl mezi dvojicemi signálů pro označení tlouštky povlaku při stálém indexu lomu, to je R-B, R-G nebo G-B.
Pro mikroprocesor 24 je také možné vyhladit křivky R, G a B, to znamená, je-li to Žádáno, vytvořit vyhlazené křivky odrazu na každé z vlnových délek R, G a B vypočítáním střední hodnoty z určitého nastavitelného počtu pixelů téže barvy, například ze 3 až 5 sousedních pixelů. To zmenší, je-li žádoucí, rozdíly místních hodnot signálů mezi jedním pixelem a jeho sousedem, způsobené například pohyby horkého vzduchu v zařízení, které mění podmínky osvětlení vrstvy, nebo vlivem prachu apod.
Je-li žádáno, může být procesor 24 naprogramován tak, aby
-11vyvíjel povelový signél reakční smyčky posílaný po vedení £6 do řídicího prostředku 28 pro nastavení parametrů procesu ukládání povlaku·
Také je možné vypočítat a přivést opravné součinitele ke kaž dému S, G a B signálu, aby odpovídal normalizovaným kolorimetrickým hodnotám (tříbarevné souřadnice CIE nebo Hunterovy souřadnice L, a, b). V tomto případě bude také nutné vzít v úvahu podklad, jako čiré sklo, bronzové sklo, šedé sklo atd. a jeho tlouštku·
V tomto případě měření nebude relativní, nýbrž absolutní.
Pro zobrazení zpracovaných dat ve grafické formě mohou být zpracované signály z mikroprocesoru 24 vedeny vedením 37 na obrazovku 26a nebo vedením 39 na tiskárnu nebo plotter 26b*
Horní a spodní meze odpovídající přijatelným výrobním odchyl kám se určí provedením měření na kontrolních vzorcích kontrolovaného laboratorními přístroji. Tyto meze mohou být také zobrazeny na obrazovce 26a a/nebo na tištěném grafu z tiskárny nebo plotteru 26b. například ve formě dvou vodorovných tečkovaných přímek.
To umožňuje, aby operátor snadno poznal, zdali tlouštka a případně index lomu, jsou-li zavedena příslušná data, přesahuje meze odchylek a kterým oblastem šířky skleněného podkladu tyto přesahy odpovídají.
Kalibrace zařízení je provedena měřením odrazivosti nepovlečeného skleněného pásu, což umožňuje oznámení nulové tlouštky povlaku. Nerovnoměrnosti osvětlení přes šířku skleněného pásu 10, chyby způsobené nedokonalostí optiky kamery 20 a rozdíly citlivosti pixelů kamery 20 jsou vyváženy odkazy na sklo před nanesením povlaku. Tato kalibrace vede k použití opravných součinitelů k hodnotám signálů pro každý pixel pro získání tří hladkých křivek odezvy. Tato kalibrace může být provedena bezprostředně před začátkem ukládání povlaku a měla by být provedena před každým spuštěním ukládání povlaku.
Kalibrační součinitelé se například určí tak, že výstupní signály získané s nepovlečeným sklem se po zesílení všechny umístí ve středu možného rozsahu výstupu pro zvolenou kameru 20, to je u 50 % maximální amplitudy. Volba 50 % pro nepovlečené sklo se nicméně může měnit v závislosti na typu povlaku, to je podle úrovně odrazu světla.
Pro každý z pixelů každé ze tří barev je potom možno uložit součinitel pro použití s hodnotou signálu, kterou tento pixel vyvíjí, takže tato hodnota odpovídá zvoleným 50
-12Tento součinitel se potom použije pro všechny další signály z tohoto pixelu.
Za účelem minimalizace chyb vznikajících následkem zvlnění skleněného pásu 10 na dopravníku (odrazy zdroje světla z různých bodů, které nejsou nutně rovnoměrné) nebo turbulence v horkém vzduchu uvnitř žíhacího zařízení (kolísání Indexu lomu vzduchu uvnitř zařízení) se uvažuje určitý nastavitelný počet úplných množin hodnot R, G a B a vypočítají se střední hodnoty odpovídající postupu skla*
Přednostně se určí střední hodnota asi z 90 čtení odpovídajících délce asi 6 m skleněného pásu 10. Tato hodnota se porovná s předem určenou horní a spodní mezí, což umožňuje operátorovi zjistit zdali jsou v některém bodě napříč šířky skleněného pásu 10 překročeny odchylky.
Vstup funkčních parametrů (doba integrace, počet zisků daných
ReTl ·{ Ae + nňeA xriínrtX+om r\T>i*irrtXr»n b-ol Ί KmXziY οΑΐιϋΙηΙ+al é q + A) o volba funkcí a Žádané výstupy mohou být provedeny pomocí klávesnice 41 sdružené s mikroprocesorem 24*
Mikroprocesor 24 vysílá žádané povelové signály kamery po vedení 44 do generátoru 29 hodinových signálů, odkud jsou vedením 31 posílány do kamery 20*
Přiklad 1
Roztok obsahující sloučeninu hliníku se rozprašuje vratnou rozprašovací hlavicí na postupující pás horkého skla při teplotě nad 550 °C. Účel tohoto spodního povlaku je ten, Že když se nanáší vrchní povlak z oxidu cíniČitého, je optická tlouŠtka spodního povlaku dostatečná k omezení interferenčních jevů odraženého viditelného světla vlivem horního povlaku. K dosažení tohoto účelu jsou meze tlouštky povlaku z oxidu hlinitého velmi úzké. V závislosti na tlouštce následně nanesené vrstvy oxidu cíničitého by povlak z oxidu hlinitého měl mít tlouštku od 75 do 100 nm s odchylkou například + 3 mm a s indexem lomu mezi 1,68 a 1,73+0,01.
Pro povlaky s touto tlouštkou a indexem lomu je dominantní odrazová vlnová délka v rozsahu od 480 nm do 575 nm, to znamená v rozsahu od modré do Žluté. Jak tlouštka roste, odražená barva přechází z modré při tlouštce 75-80 nm do jemně žluté při tlouštce 100 nm. To je znázorněno v obr. 2, kde dominantní odražená
-13vlnová délka λρ je vynesena v závislosti na tlouštce t povlaku pro povlaky mající index lomu od 1,60 do 1,72. Přihlašovatelé objevili, Že při cílové tlouštce povlaku rozdíl mezi signálem odrazivosti z červeného pixelu kamery (citlivého převážně na 580 - 700 nm) a ze signálu odrazivosti z modrého pixelu kamery (citlivého převážně na 420 - 450 nm) udává tlouštku povlaku:
t = f(R - B).
Index lomu povlaku závisí mírně na složení, teplotě skla a na teplotě prostředí. Při tlouštce povlaku 75-80 nm je změna odrazivosti s tlouštkou těsně u maxima a změny tlouštky mají tudíž pouze malý vliv na změny odrazivosti. Nicméně odrazivost se významně mění s indexem lomu n povlaku a je tedy možné vytvořit vztah mezi odrazivosti a indexem lomu. Tento vztah je znázorněn v obr,5, kde je střední odrazivost R měřené na třech diskrétních vlnových délkách vynesena v závislosti na tlouštce t pro po vlaky mající index lomu od 1,60 do 1,71. Tedy platí nc = f [(R + S + B)Z3]
Souhrnně tedy platí, že střední hodnota signálů vyvíjených na třech diskrétních vlnových délkách dává informaci, která je přímo úměrná indexu lomu povlaku, zatímco rozdíl mezi signály vyvíjenými na modré a červené vlnové délce dává informaci přímo úměrnou tlouštce povlaku.
Mikroprocesor může být naprogramován tak, aby způsobil ρο*plach když elektrický signál vyvíjený z informace směrodatné pro tlouštku povlaku padne mimo předem určené prahové hodnoty a/nebo aby za těchto podmínek samočinně nastavil proces povlékání, například změnou vratné rychlosti rozprašovací hlavice. Podobně může být mikroprocesor naprogramován tak, aby způsobil poplach když elektrický signál vyvíjený z informace směrodatné pro index lomu povlaku padne mimo předem určené prahové hodnoty a/nebo aby za těchto podmínek samočinně nastavil povlékací proces, například změnou teploty v povlékacím stanovišti.
Příklad 2
Ve případě absorpčního protislunečního povlaku vyrobeného pyrolyzou z acetylacetonátu a obsahujícího 62% CoO, 26,6% a 12% Cr20^ a majícího tlouštku mezi 40 a 50 nm je dominantní odražené barva žlutá. Údaj o optické tlouštce povlaku se získá z rozdílu mezi elektrickými signály vyvíjenými u modré a červené vlnové délky. Nicméně v tomto případě bylo zjištěno, že index
-14lomu se silně mění když je složení povlékacího materiálu fixováno, takže geometrické tlouštka se snadno kontroluje.
Příklad 3
Ve případě mírně absorbujícího protislunečního povlaku vyrobeného pyrolýzou a obsahujícího oxid titaničitý a majícího tlouštku 50 nm +3 nm je dominantní odrážená barva šedomodrá· Rozdíl mezi signály na Červené a modré vlnové délcy umožňuje zjistit optickou tlouštku tohoto povlaku.
Přiklad 4
Ve případě spodního povleku obsahujícího SiOg nebo SiQx a majícího tlouštku asi 90 nm je dominantní odrazová barva šedá. Takový povlak může být vyroben chemickým napařovánim nebo alternativně rozprašováním, zejména vysokofrekvenčním rozprašováním. Odražené barva je světle modrá nebo světle žlutá při změnách tlOUŠtkv DOVlaku. tvto změnv však πρπϊ Snndné z lístit nouhým okem, V tomto případě se doporučuje porovnat signály vyvíjené na zelené a na modré vlnové délce pro zjištění vzhledu povlaku.
Přiklad 5
Ve případě vrchního povlaku obsahujícího SnOg a majícího tlouštku asi 300 nm přikrytého a majícího podklad z oxidu hlinitého v obou povlacích, krycím i podkladovém o tlouštce 75 nm, a vyrobeného podle příkladu 1, neexistuje žádná dominantní odražená barva. Je-li povlak velmi tenký, získá se růžovo-fialová odražená barva. Je-li povlak velmi tlustý, získá se mdle zelená odrazová barva. Rozdíl mezi signály na zelené a červené vlnové v v délce umožňují zjištování parametrů tohoto povlaku. Rozdíly mezi signály na zelené a na modré vlnové délce, nebo mezi signály na červené a na modré vlnové délce umožňuji rozlišení mezi dvěma zelenými, popřípadě dvěma červenými řády interference, například mezi třetím a čtvrtým řádem interference, jestliže se tlouštka povlaku podstatně mění.
Přiklad 6
Skleněný podklad má kovovou křemíkovou vrstvu tlouštky 25 nm nanesenou chemickým napařovánim. Normální barva je kovově šedá. Je-li tlouštka povlaku příliš velké, barva se změní ve žlutou a potom má sklon změnit se v červenou. Světelný odraz je řádu 50% a světelný přenos je asi 33%. Tlouštka povlaku může být zjištěna výpočtem rozdílu mezi signály R a B.
-15Přiklad 7
Podklad povlečený několika vrstvami, ve složení sklo/TiN/SnO^ mající světelný přenos = 35% je vyroben rozprašováním magnetronem. Výrobek je zkoušen odrazem ze strany skla použitím zařízení podle vynálezu. Odražená barva je modrá. Při konstantní tlouštce vrstvy TiN umožňují rozdíly mezi signály na modré a na zelené vlnové délce řízení tlouštky a rovnoměrnosti tlouštky horní vrstvy SnOg pro zajištění rovnoměrného vzhledu výrobku při pohledu ze strany skla. Tlouštka povlaku z TiN může být předběžně řízena podle vynálezu kamerou umístěnou v nanášecím zařízení po nanesení vrstvy TiN a před nanesením vrstvy SnO^.
Přiklad 8
Podklad povlečený několika vrstvami, ve složení sklo/nerezavící ocel/TiN mající světelný přenos T^ = 8% je vyroben rozprašováním masnétronem. Vvrohek -íe 7.irnnSpn nHrcv.em se strsnv skla no— užitím zařízení podle vynálezu. Odražená barva je kovově stříbrná a zářivá. Při konstantní tlouštce vrstvy z nerezavící oceli umoŽv nují rozdíly mezi signály na modré a na červené vlnové délce řízení tlouštky a rovnoměrnosti tlouštky horní vrstvy TiN pro zajištění rovnoměrného vzhledu výrobku při pohledu ze strany skla. TlouŠt ka povlaku z nerezavící oceli může být předběžně řízena způsobem podle vynálezu kamerou umístěnou v nanášecím zařízení po nanesení vrstvy z nerezavící oceli a před nanesením vrstvy TiN.
£i3’fJÁi!
120 CO PftAHA 2, Hůíwrt í
PATENTOVÉ NÁROKY

Claims (19)

1. Způsob monitorování tlouštky a rovnoměrnosti tlouštky průhledného povlaku naneseného na podklad ve formě vrstvy, vyznačující se tím, že se na řadu poloh na povlaku nasměruje mnohobarevné světlo a měří se intenzita světla odraženého od povlaku, přičemž se v každé poloze měří intenzita odraženého světla alespoň na dvou diskrétních monitorovacích vlnových délkách a tato měření se zpracovávají na elektrický signál, který se srovnává s jednou nebo několika prahovými hodnotami a s elektrickými signály zjištěnými na jiných místech pro získání údajů, zda tlouštka povlaku je v předem určených mezích.
2. Způsob podle nároku 1, vyznačující se tím, že alespoň dvě diskrétní vlnové délky jsou v rozsahu od 400 nm do 750 nm a jejich rozdíl je alespoň 50 nm.
3. Způsob podle nároku 2, vyznačující se tím, že první diskrétní monitorovací vlnová délka je v rozsahu od 400 do 480 nm pro modrou barvu a druhá diskrétní monitorovací vlnová délka je v rozsahu od 580 do 750 nm pro červenou barvu.
4. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 3, , vyznačující se tun, že se mereni provádí na dv0ll\ v lnových délkách.
5. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 3, vyznačující se tím, že se měření provádí na tře^íí^^n^v^h^^k^íiC>W^ délkách.
6. Způsob podle nároku 5, vyznačujíc! se tím, že tato tři měření se zpracují pro vyvíjení elektrického signálu udávajícího index lomu povlaku.
7. Způsob podle nároku 5 nebo 6, vyznačující se tím, že první diskrétní monitorovací vlnová délka je v rozsahu od 400 do 480 nm pro modrou barvu, druhá diskrétní monitorovací vlnová délka je v rozsahu od 580 do 750 nm pro červenou barvu a třetí diskrétní monitorovací vlnová délka je v rozsahu od 480 do 580 nm pro zelenou barvu.
8. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 7, vyznačující se tím. že intenzita odraženého světla se měří různými prvky citlivými na světlo pro každou diskrétní monitorovací vlnovou délku.
9. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 8, vyznačující se tím, že měření intenzity odraženého světla se provádí za použití integrovaného obvodu s vazbou nábojem
CCD.
10. Způsob podle nároku 9, vyznačující se tím, že integrovaný obvod s vazbou nábojem je lineární CCD barevná kamera (í<Si.
11. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 10, vyznačující se tím, že řada poloh má vzájemné vzdálenosti nejvýše 50 mm.
12. Způsob podle nároku 11, vyznačující se tím, že řada poloh má vzájemné vzdálenosti nejvýše 10 mm.
13. Způsob podle nároku 12, vyznačující se tím, že řada poloh má vzájemné vzdálenosti nejvýše rovné 5 mm.
14. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 13, vyznačující se tím, že se měření provádí přes celou šířku podkladu.
15. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 14, vyznačující se tím, že se kontroluje intenzita mnohobarevného světla směrovaného na povlak.
16. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 15, vyznačující se tím, že se měření zpracují pro výpočet rozdílu mezi intenzitou odraženého světla na dvou uvedených diskrétních monitorovacích vlnových délkách.
17. Zařízení pro monitorování tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky průhledného povlaku naneseného na podklad, vyznačující se tím, že zahrnuje zdroj světlaypro směrování mnohobarevného světla na řadu poloh povlaku, lineární CCD barevnou kamenu (20) jako prostředek pro měření intenzity světla odraženého od povlaku v každé poloze alespoň na dvou diskrétních vlnových délkách a mikroprocesor (24) jako prostředek pro zpracování výsledků měření, na jejichž základě se generuje elektrický signál, který se srovnává s jednou nebo několika předem určenými prahovými hodnotami a s takovými elektrickými signály generovanými v jiných polohách pro získání údajů o tom, zda tloušťka povlaku je v předem určených mezích.
18. Zařízení podle nároku 17, vyznačující se tím, že zdroj světla^je podlouhlý zdroj světla mající délku alespoň rovnou šířce povlaku.
19. Zařízení podle nároku 17 nebo 18, vyznačující se tím, že dále obsahuje prostředek pro kontrolování intenzity mnohobarevného světla směrovaného na povlak obsahuj ící alespoň jeden detektor (19) světla.
Zastupuj e :
Dr. Miloš Všetečka
Fig. 1a
CZ19931924A 1992-09-15 1993-09-15 Způsob monitorování tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky průhledného povlaku a zařízení k provádění tohoto způsobu CZ289962B6 (cs)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB929219450A GB9219450D0 (en) 1992-09-15 1992-09-15 Thin film thickness monitoring and control

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ9301924A3 true CZ9301924A3 (cs) 2001-12-12
CZ289962B6 CZ289962B6 (cs) 2002-05-15

Family

ID=10721896

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ19931924A CZ289962B6 (cs) 1992-09-15 1993-09-15 Způsob monitorování tloušťky a rovnoměrnosti tloušťky průhledného povlaku a zařízení k provádění tohoto způsobu

Country Status (17)

Country Link
US (1) US5396080A (cs)
JP (1) JPH06201333A (cs)
CN (1) CN1049045C (cs)
AU (1) AU664474B2 (cs)
BE (1) BE1006795A3 (cs)
CA (1) CA2105635A1 (cs)
CZ (1) CZ289962B6 (cs)
DE (1) DE4331355A1 (cs)
ES (1) ES2078864B1 (cs)
FI (1) FI933971A7 (cs)
FR (1) FR2695721B1 (cs)
GB (2) GB9219450D0 (cs)
IT (1) IT1261253B (cs)
LU (1) LU88402A1 (cs)
NL (1) NL194246C (cs)
PT (1) PT101364B (cs)
SE (1) SE515115C2 (cs)

Families Citing this family (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4413745A1 (de) * 1994-04-20 1995-10-26 Gramm Gmbh & Co Kg Verfahren und Vorrichtung zur Kontrolle der Oberfläche von Gegenständen
JP2648098B2 (ja) * 1994-07-29 1997-08-27 日本電気株式会社 薄膜形成装置
JP3308135B2 (ja) * 1994-11-01 2002-07-29 松下電器産業株式会社 インプロセス膜厚モニター装置及び方法
US5835225A (en) * 1994-11-30 1998-11-10 Micron Technology, Inc. Surface properties detection by reflectance metrology
DE19509345A1 (de) * 1995-03-15 1996-09-19 Ver Glaswerke Gmbh Verfahren zum Erkennen und Bewerten von Fehlern in teilreflektierenden Oberflächenschichten
US5619330A (en) * 1995-12-22 1997-04-08 Thomson Consumer Electronics, Inc. Method and apparatus for determining thickness of an OPC layer on a CRT faceplate panel
DE19735246C2 (de) * 1997-08-14 1999-07-15 Bayern Freistaat Verfahren zur Bestimmung eines Volumens
DE19821401C2 (de) * 1998-05-13 2000-05-18 Storz Endoskop Gmbh Schaffhaus Endoskop zur Inspektion eines Beobachtungsraumes
US6392756B1 (en) 1999-06-18 2002-05-21 N&K Technology, Inc. Method and apparatus for optically determining physical parameters of thin films deposited on a complex substrate
EP1069401A1 (en) * 1999-07-13 2001-01-17 ODME International B.V. Optical film thickness measuring device
US6091485A (en) * 1999-12-15 2000-07-18 N & K Technology, Inc. Method and apparatus for optically determining physical parameters of underlayers
US6472238B1 (en) * 2000-02-09 2002-10-29 Therma-Wave, Inc. Evaluation of etching processes in semiconductors
US6570650B1 (en) * 2001-06-21 2003-05-27 Kla-Tenor Corporation Apparatus and methods for reducing thin film color variation in optical inspection of semiconductor devices and other surfaces
US6825933B2 (en) 2002-06-07 2004-11-30 N&K Technology, Inc. Computer-implemented reflectance system and method for non-destructive low dose ion implantation monitoring
TWI372463B (en) 2003-12-02 2012-09-11 Semiconductor Energy Lab Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and method for manufacturing semiconductor device
EP1553643A3 (en) 2003-12-26 2009-01-21 Sel Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation method and method for manufacturing crystalline semiconductor film
DE502004006191D1 (de) * 2004-06-01 2008-03-27 Applied Materials Gmbh & Co Kg Messvorrichtung für die Messung des Transmissionsgrads einer Beschichtung
DE102004034693B4 (de) * 2004-07-17 2006-05-18 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen optischen Messung der Dicke von heißen Glaskörpern mittels der chromatischen Aberration
DE102004037555B4 (de) * 2004-08-03 2012-09-06 Erlus Aktiengesellschaft Verfahren zur berührungslosen und/oder zerstörungsfreien Prüfung einer photokatalytischen Oberflächenbeschichtung
US20060054843A1 (en) * 2004-09-13 2006-03-16 Electronic Design To Market, Inc. Method and apparatus of improving optical reflection images of a laser on a changing surface location
US8084260B2 (en) * 2004-11-24 2011-12-27 Applied Biosystems, Llc Spectral calibration method and system for multiple instruments
JP4930748B2 (ja) * 2005-01-28 2012-05-16 大日本印刷株式会社 被膜検査装置および方法
CN100337091C (zh) * 2005-11-07 2007-09-12 友达光电股份有限公司 光学膜层厚度均匀性的监测方法
US20100087015A1 (en) * 2008-03-05 2010-04-08 Global Solar Energy, Inc. Feedback for buffer layer deposition
JP5738601B2 (ja) 2008-03-05 2015-06-24 ハナジー・ハイ−テク・パワー・(エイチケー)・リミテッド 薄膜太陽電池セルのための緩衝層蒸着
US7985188B2 (en) * 2009-05-13 2011-07-26 Cv Holdings Llc Vessel, coating, inspection and processing apparatus
PT2251454E (pt) 2009-05-13 2014-10-01 Sio2 Medical Products Inc Revestimento e inspeção de vaso
US9458536B2 (en) 2009-07-02 2016-10-04 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles
US11624115B2 (en) 2010-05-12 2023-04-11 Sio2 Medical Products, Inc. Syringe with PECVD lubrication
US9066072B2 (en) * 2010-07-20 2015-06-23 Semiconductor Components Industries, Llc Systems and methods for calibrating image sensors
US20120041583A1 (en) * 2010-08-16 2012-02-16 Joshua Conley Measurement system and method
US9878101B2 (en) 2010-11-12 2018-01-30 Sio2 Medical Products, Inc. Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods
US9272095B2 (en) 2011-04-01 2016-03-01 Sio2 Medical Products, Inc. Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods
US8982362B2 (en) * 2011-10-04 2015-03-17 First Solar, Inc. System and method for measuring layer thickness and depositing semiconductor layers
US11116695B2 (en) 2011-11-11 2021-09-14 Sio2 Medical Products, Inc. Blood sample collection tube
CA2855353C (en) 2011-11-11 2021-01-19 Sio2 Medical Products, Inc. Passivation, ph protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus
US8855450B2 (en) 2012-02-20 2014-10-07 Cardinal Cg Company System and method for measuring properties of a thin film coated glass
US8666202B2 (en) 2012-02-20 2014-03-04 Cardinal Ig Company System and method for measuring properties of a thin film coated glass
EP2846755A1 (en) 2012-05-09 2015-03-18 SiO2 Medical Products, Inc. Saccharide protective coating for pharmaceutical package
US20150297800A1 (en) 2012-07-03 2015-10-22 Sio2 Medical Products, Inc. SiOx BARRIER FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE AND COATING PROCESS
KR101897835B1 (ko) * 2012-07-24 2018-09-12 삼성에스디아이 주식회사 극판 두께 측정 장치 및 방법
US9664626B2 (en) 2012-11-01 2017-05-30 Sio2 Medical Products, Inc. Coating inspection method
WO2014078666A1 (en) 2012-11-16 2014-05-22 Sio2 Medical Products, Inc. Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics
US9764093B2 (en) 2012-11-30 2017-09-19 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition
AU2013352436B2 (en) 2012-11-30 2018-10-25 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition on medical syringes, cartridges, and the like
US9662450B2 (en) 2013-03-01 2017-05-30 Sio2 Medical Products, Inc. Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus
CN105392916B (zh) 2013-03-11 2019-03-08 Sio2医药产品公司 涂布包装材料
US9937099B2 (en) 2013-03-11 2018-04-10 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate
EP2971227B1 (en) 2013-03-15 2017-11-15 Si02 Medical Products, Inc. Coating method.
DE102014100594A1 (de) 2014-01-20 2015-07-23 Isra Surface Vision Gmbh Vorrichtung zur Inspektion eines mit einer beschichteten Oberfläche versehenen Materials und entsprechendes Verfahren
BR112016020894B1 (pt) * 2014-03-12 2022-05-03 Swimc Llc Sistema e método implantado por processador para determinar espessuras de revestimento e meio legível por computador
US9996765B2 (en) 2014-03-12 2018-06-12 The Sherwin-Williams Company Digital imaging for determining mix ratio of a coating
WO2015148471A1 (en) 2014-03-28 2015-10-01 Sio2 Medical Products, Inc. Antistatic coatings for plastic vessels
WO2015165503A1 (en) * 2014-04-29 2015-11-05 Hewlett-Packard Indigo B.V. Transparent layer thickness measurement
ES2706877T3 (es) 2014-11-13 2019-04-01 Gerresheimer Glas Gmbh Filtro de partículas de máquina para conformar vidrio, unidad de émbolo, cabeza de soplado, soporte de cabeza de soplado y máquina para conformar vidrio adaptada a dicho filtro o que lo comprende
CN105115430B (zh) * 2015-05-26 2016-08-31 山东建筑大学 一种点栅透射式化学药液涂抹均匀性检测方法及装置
US9702689B2 (en) * 2015-06-18 2017-07-11 Xerox Corporation Use of a full width array imaging sensor to measure real time film thicknesses on film manufacturing equipment
JP2017013408A (ja) * 2015-07-02 2017-01-19 株式会社リコー 被処理物改質装置、被処理物改質システム、画像形成システムおよび画像形成方法
KR102786617B1 (ko) 2015-08-18 2025-03-26 에스아이오2 메디컬 프로덕츠, 엘엘씨 산소 전달률이 낮은, 의약품 및 다른 제품의 포장용기
EP3400430A4 (en) * 2016-01-07 2019-11-06 Arkema, Inc. OBJECT-POSITION-INDEPENDENT METHOD FOR MEASURING THE THICKNESS OF COATINGS THAT ON CURED OBJECTS MOVING AT HIGH SPEEDS
CN108474739B (zh) * 2016-01-07 2021-10-01 阿科玛股份有限公司 测量基材上沉积的涂层的厚度的光学方法
US11125549B2 (en) 2016-01-07 2021-09-21 Arkema Inc. Optical intensity method to measure the thickness of coatings deposited on substrates
CN107179055B (zh) * 2017-05-28 2019-11-01 中国计量大学 用于bopp薄膜生产的薄膜厚度监测方法
CN107782280B (zh) * 2017-10-20 2020-09-01 维沃移动通信有限公司 一种贴膜厚度的检测方法和移动终端
WO2019099415A1 (en) * 2017-11-14 2019-05-23 Kateeva, Inc. Systems and methods for profiling material layers on a substrate
US10138539B1 (en) * 2018-04-03 2018-11-27 Shiping Cheng Method of managing coating uniformity with an optical thickness monitoring system
DE102018110931C5 (de) 2018-05-07 2023-06-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren und System zum Erfassen der Oberflächenbelegung einer Beschichtung auf einer Oberfläche eines bandförmigen Prüflings
US12265327B2 (en) * 2018-07-30 2025-04-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Semiconductor manufacturing apparatus and method thereof
DE102019112238A1 (de) * 2019-05-10 2020-11-12 HELLA GmbH & Co. KGaA Verfahren zur Kontrolle der Beschichtung eines elektronischen Bauteils
DE102019114242A1 (de) * 2019-05-28 2020-12-03 Infineon Technologies Ag Verfahren zum bereitstellen von beschichteten leadframes oder zum messen einer adhäsionskraft eines verkapselungsmittels auf einem leadframe
JP7400617B2 (ja) * 2020-05-08 2023-12-19 コニカミノルタ株式会社 被覆率検出装置、画像形成装置、被覆率検出方法、および被覆率検出プログラム
FR3116118B1 (fr) * 2020-11-12 2024-07-12 Exelsius Dispositif de caractérisation de l’état de réticulation d’un matériau d’un objet.
CN114292032B (zh) * 2021-12-30 2023-07-25 凯盛信息显示材料(洛阳)有限公司 一种导电玻璃的在线镀膜方法及在线镀膜装置
CN119173756A (zh) * 2022-04-27 2024-12-20 浜松光子学株式会社 折射率分布测量装置、膜厚分布测量装置、折射率分布测量方法及膜厚分布测量方法
CN115046588A (zh) * 2022-06-19 2022-09-13 上海市建筑科学研究院有限公司 钢构件防火防腐涂层厚度和缺陷的检测方法
CN115807219B (zh) * 2023-02-13 2023-05-30 南昌大学 一种光电薄膜材料制备控制系统及方法
CN116603716B (zh) * 2023-04-28 2024-03-29 宁波市融嘉轻合金科技有限公司 一种压铸件表面处理方法、系统、智能终端及存储介质
CN117865447A (zh) * 2023-12-29 2024-04-12 威海中玻新材料技术研发有限公司 浮法在线镀膜热端实时质量检测装置
CN118051069B (zh) * 2024-03-29 2024-07-16 广州泽亨实业有限公司 一种涂层厚度自动控制方法和系统

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2229323A5 (cs) * 1973-01-11 1974-12-06 Saint Gobain
US3892490A (en) * 1974-03-06 1975-07-01 Minolta Camera Kk Monitoring system for coating a substrate
GB2016678B (en) * 1978-03-10 1982-09-15 Asahi Dow Ltd Infrared multilayer film thickness measuring method and apparatus
US4355903A (en) * 1980-02-08 1982-10-26 Rca Corporation Thin film thickness monitor
JPS5830605A (ja) * 1981-08-18 1983-02-23 Kawasaki Steel Corp 表面被膜厚さ測定方法
JPS5840973A (ja) * 1981-09-03 1983-03-10 Toshiba Corp 光学式情報読取装置
JPS617445A (ja) * 1984-06-21 1986-01-14 Toshiba Corp 銅酸化被膜の酸化度判別装置
GB8528448D0 (en) * 1985-11-19 1985-12-24 Infrared Eng Ltd Absorption gauge
US4785336A (en) * 1986-12-04 1988-11-15 Libbey-Owens-Ford Co. Device for monitoring characteristics of a film on a substrate
US4748329A (en) * 1987-02-17 1988-05-31 Canadian Patents And Development Ltd. Method for on-line thickness monitoring of a transparent film
ES2007965A6 (es) * 1988-07-15 1989-07-01 Serrano Juan Jose Monzon Procedimiento y aparato para medir simultaneamente el indice de refraccion, el coeficiente de absorcion y el espesor de laminas planoparalelas.
US4977330A (en) * 1989-02-13 1990-12-11 Batchelder Tom W In-line photoresist thickness monitor
US5101111A (en) * 1989-07-13 1992-03-31 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Method of measuring thickness of film with a reference sample having a known reflectance
DE4017440C2 (de) * 1990-05-30 1994-02-10 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Messung der Schichtdicke und des Brechungsindex einer dünnen Schicht auf einem Substrat und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
IL96483A (en) * 1990-11-27 1995-07-31 Orbotech Ltd Optical inspection method and apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
PT101364A (pt) 1994-12-30
ES2078864R (cs) 1996-12-16
SE9302985L (sv) 1994-03-16
CZ289962B6 (cs) 2002-05-15
SE515115C2 (sv) 2001-06-11
ITTO930654A0 (it) 1993-09-08
GB9318814D0 (en) 1993-10-27
NL9301577A (nl) 1994-04-05
FR2695721A1 (fr) 1994-03-18
GB2270561B (en) 1996-07-17
US5396080A (en) 1995-03-07
IT1261253B (it) 1996-05-09
ITTO930654A1 (it) 1995-03-08
PT101364B (pt) 1999-11-30
FI933971A0 (fi) 1993-09-10
FR2695721B1 (fr) 1995-02-24
CN1049045C (zh) 2000-02-02
AU4487393A (en) 1994-03-24
NL194246B (nl) 2001-06-01
GB9219450D0 (en) 1992-10-28
AU664474B2 (en) 1995-11-16
JPH06201333A (ja) 1994-07-19
BE1006795A3 (fr) 1994-12-13
LU88402A1 (fr) 1995-04-05
DE4331355A1 (de) 1994-03-17
SE9302985D0 (sv) 1993-09-14
ES2078864A2 (es) 1995-12-16
CA2105635A1 (en) 1994-03-16
GB2270561A (en) 1994-03-16
FI933971A7 (fi) 1994-03-16
NL194246C (nl) 2001-10-02
CN1085655A (zh) 1994-04-20
ES2078864B1 (es) 1997-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ9301924A3 (cs) Způsob zjiątění tlouą»ky a rovnoměrnosti tlouą»ky průhledného povlaku a zařízení k provádění tohoto způsobu
RU2427821C2 (ru) Устройство и способ для угловой колориметрии
US7995195B2 (en) Method of optically monitoring the progression of a physical and/or chemical process taking place on a surface of a body
US4785336A (en) Device for monitoring characteristics of a film on a substrate
EP3400431A1 (en) Optical method to measure the thickness of coatings deposited on substrates
JPH08292156A (ja) 表面被覆膜の局所欠陥を認識し、評価する認識および評価方法
US20020191192A1 (en) Method and arrangement for contactless determination of product characteristics
US7027165B2 (en) Method and device for surface evaluation
JP3933581B2 (ja) 表面評価の方法および装置
AU2002338353A1 (en) Method and device for surface evaluation
JPH0953920A (ja) びんのコーティング膜厚測定装置及びコーティング膜厚測定方法
ES2713268T3 (es) Procedimiento para la medición simultánea del grosor y de la temperatura de una capa de óxido
JPH0627678B2 (ja) 金属酸化物薄膜被覆基板検査用囲繞体
JPH0273122A (ja) 連続測色装置
List et al. On‐line Quality Control of Coated Glass. On‐line Qualitätskontrolle von beschichtetem Glas
JP2001215111A (ja) 膜厚測定方法及び膜厚測定装置
JPH067069B2 (ja) 光沢を伴う色の判定装置
ITMI980714A1 (it) Procedimento per il controllo a distanza della temperatura in continuo ed in tempo reale di prodotti alimentari e chimici durante i processi

Legal Events

Date Code Title Description
PD00 Pending as of 2000-06-30 in czech republic
MM4A Patent lapsed due to non-payment of fee

Effective date: 19930915