DE1521993C - Verfahren zum Regenerieren einer Chromschwefelsäurelösung zum Ätzen von Kupfer - Google Patents
Verfahren zum Regenerieren einer Chromschwefelsäurelösung zum Ätzen von KupferInfo
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- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims description 105
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims description 57
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 49
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims description 49
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 title claims description 4
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 22
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 14
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 12
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 12
- -1 Chromium (III) ions Chemical class 0.000 claims description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 8
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 5
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 claims description 5
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 23
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H chromium(III) sulfate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 13
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K chromium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Cr+3] VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JZULKTSSLJNBQJ-UHFFFAOYSA-N chromium;sulfuric acid Chemical compound [Cr].OS(O)(=O)=O JZULKTSSLJNBQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229940079827 sodium hydrogen sulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
Description
In jüngster Zeit werden Chromschwefelsäurelösun-■
gen häufig beim Herstellen gedruckter Schaltungen verwendet. Gedruckte Schaltungen sind bekanntlich
mit elektrischen Leitungszügen versehene Isolierstoffplatten mit Löchern, in die elektrische Bauelemente
eingesteckt werden, die z. B. durch Tauchlöten mit den Leitungszügen elektrisch verbunden werden. Die
Herstellung derartiger gedruckter Schaltungen wird beispielsweise so durchgeführt, daß von einer mit
Metall, im allgemeinen mit Kupfer, beschichteten .Isolierstoffplatte ausgegangen, die Kupferschicht mit
einer ätzfesten Schicht, die beispielsweise aus Fotolack besteht, derartig abgedeckt wird, daß das Muster
der gewünschten Leitungszüge von dem Lack bedeckt ist (Positivverfahren), und anschließend die_ Platte in
ein Ätzbad, z. B. in eine Kupferchlorid-Ätzlösung, getaucht wird. Ein anderes bekanntes Verfahren, das
besonders vorteilhaft ist, da es zu verstärkten Leitungszügen führt, besteht beispielsweise darin, daß
die mit der Kupferschicht bedeckte Isolierstoffplatte so mit einer Abdeckschicht, z. B. Lack, bedeckt wird,
daß die Stellen von dem Lack abgedeckt sind, die abgeätzt werden sollen (Negatiwerfahren). Die Stellen,
die dem Muster der gewünschten Leitungszüge entsprechen, sind also in diesem Fall von der Abdeckschicht
frei. Diese Stellen werden galvanisch verstärkt, indem die ganze Platte in ein Galvanisierbad
getaucht wird. Zum galvanischen Verstärkern hat sich aus verschiedenerlei Gründen vor allem Zinn
sehr bewährt. Anschließend wird dann die. Abdeckschicht entfernt und' die freigelegten Stellen der
Kupferschicht durch einfaches Eintauchen in eine Ätzlösung abgeätzt. Besteht die galvanisch auf die
Leitungszüge aufgebrachte Metallschicht aus einem Edelmetall, ζ. B. aus Gold, so kann zum Abätzen
der nicht gewünschten Teile der Grundmetallschicht die bekannte Kupfer(II)-chlorid-Ätzlösung Verwendung
finden. Gold ist aber sehr teuer. So ist man dazu übergegangen, die Leitungszüge mit anderen
Metallen, z. B. mit Zinn, zu verstärken. In diesem Fall kann aber zum Abätzen der Kupfergrundschicht
nicht die an sich sonst recht vorteilhafte Kupferchlorid-Ätzlösung
verwendet werden, da Zinn von der Kupferchlorid- und auch von der bekannten Eisenchlorid-Ätzlösung angegriffen wird. Für solche
Fälle haben sich Chromschwefelsäure-Ätzlösungen als besonders geeignet erwiesen. Gegen diese Ätzlösungen
zeigen sich nicht nur Zinn und natürlich auch Gold, sondern noch eine ganze Reihe von
anderen, als galvanische Verstärkung der Leitungszüge von gedruckten Schaltungen geeignete und im
Verhältnis zu Gold recht billige Metalle, wie z. B. Blei, Silber und gegebenenfalls Nickel, chemisch
resistent. Ebenso wird Rhodium von Chromschwefelsäure nicht angegriffen.
Der großtechnischen Verwendung von Chromschwefelsäure-Ätzlösungen standen bisher aber mehrere
Schwierigkeiten entgegen. Chromschwefelsäure ist sehr teuer, und es ist bis jetzt kein Verfahren bekanntgeworden,
nach dem verbrauchte, mit Kupfer angereicherte Chromschwefelsäure-Ätzlösungen regeneriert,
d. h. wieder verwendungsfähig gemacht werden könnten. Es können aber auch die verbrauchten
Chromschwefelsäure-Ätzlösungen nicht ohne weiteres in den Abwasserkanal gegeben werden, denn Chromsäure
ist eine der gefährlichsten Verunreinigungen in den Abwässern. Die Chromkonzentration muß nach
dem am 1. 3. 1959 in Kraft getretenen Gesetz zur Ordnung des Wasserhaushalts unter 1 mg pro Liter
liegen. Es muß also dafür gesorgt werden, daß die noch vorhandenen Chromationen der verbrauchten
Chromschwefelsäure-Ätzlösungen mittels eines Reduktionsmittels, z. B. Natriumhydrogensulfit, zu
3wertigem Chrom reduziert und dieses durch Neutralisation als Chromhydroxid ausgefällt wird. Hierfür
müßten also noch eine ganze Reihe von Chemikalien aufgewendet werden. Durch diese Art der
ίο Aufbereitung der verbrauchten Chromschwefelsäure-Ätzlösungen
ginge aber nicht nur wertvolles Chrom verloren, sondern gleichzeitig auch das abgeätzte
Kupfer, ganz abgesehen von den zusätzlichen Kosten, die sich durch die Aufbereitung ergeben.
Es ist zwar bekannt, Metallbeizen in der Weise zu regenerieren, daß die gelösten Metallsalze durch
Einengen, Auskristallisierenlassen entfernt werden. Hierdurch allein ist eine Regenerierung einer Chromschwefelsäure-Ätzlösung
jedoch nicht möglich.
ao Beim Ätzen von Kupfer mit Chromschwefelsäurelösung
läuft hauptsächlich die folgende Reaktion ab:
2H2CrO4+ 3Cu0+ 6H2SO4
a5 -> Cr2(SO4)S + 3 CuSO4 + 8 H2O
a5 -> Cr2(SO4)S + 3 CuSO4 + 8 H2O
Es wird also 6wertiges Chrom zu 3wertigem Chrom reduziert. Gleichzeitig werden Wasserstoffionen
(Schwefelsäure) verbraucht.
Man kann die Reaktion auch folgendermaßen formulieren:
Cr2O7- + 14Ή+ + 3Cu0
-^2Cr+++
-^2Cr+++
3Cu+++ 7H2O
Während des Ätzens von Kupfer verarmt also die Ätzlösung an ätzfähigen Cr2O7—- oder HCrO4 --Ionen
und Wasserstoffionen. Eine Folge hiervon ist natürlich die Schwächung der Ätzkraft der Lösung.
Gleichzeitig wird die Ätzlösung an Cu(IIHonen angereichert. Ohne gleichzeitig während des Ätzens
vorgenommene Regenerierung der Ätzlösung, d. h.
Zurückbildung der ätzfähigen Ionen, fällt, daher die
Ätzgeschwindigkeit der Lösung dauernd ab, bis schließlich ein Punkt erreicht wird, an dem die Ätzgeschwindigkeit
untragbar lang wird. An diesem Punkt sind die ätzfähigen Ionen der Ätzlösung jedoch
erst zu etwa 30% verbraucht.
Eingehende, der Erfindung zugrunde liegende Untersuchungen haben gezeigt, daß die einfache
Umkehrung der Ätzreaktion in einer Elektrolysierzelle,
also die Reaktion:
Cr2(SOJ3 + 3CuSO4 + 8H2O
2H2CrO4 + 3Cu0 + 6H2SO4
oder
2Cr++++ 3Cu+++ 7H2O
-> Cr2O7-" + 14H+ + 3Cu0
unter elektrolytischer Abscheidung des Kupfers an der Kathode und Oxydation der Chrom(III)-ionen
an der Anode der Elektrolysierzelle nicht möglich ist. Wie sich aus dem Vergleich der Normalpotentiale
3 4
der Redoxsysteme E0 für die an der Kathode mög- Die Regenerierung der Ätzlösung kann in gewissen
liehen Reaktionen: · Zeitabständen vorgenommen werden. Bevorzugt erfolgt
sie jedoch gleichzeitig während des Ätzens.
Cr2O7-" + 14H+ + Oe-^Cr+++ + 7H1O; Im Kathodenraum befindet sich während der
£-0=--1360 mV j Elektrolyse die wäßrige Kupfersulfatlösung, aus der
Cu++ -\-2e ->Cu°; E0-- 344mV das Kupfer an der Kathode abgeschieden wird, oder
Schwefelsäure.
ersehen läßt, kann die Kupferabsfheidung erst nach An der Anode der Elektrolysierzelle läuft die
der Reduktion des in der Ätzlösung vorhandenen Reaktion ab:
öwertigen Chroms an der Kathode einsetzen. Sogar »·
praktisch erschöpfte, d. h., nicht mehr ätzfähige Cr1(SO4)J + 8 H2O
Chromschwefelsäure-Lösungen enthalten aber selbst- ->
2H2CrO1 + 3H2SO4 + 6H+ + 6e
verständlich noch einen gewissen Anteil Chrom(VI)- oder
ionen. Außerdem werden an der Anode der Elek- ,Γ,Η,7μη Cr n , 14H+ '
trolysierzelle laufend Chrom(VI)-ionen gebildet. »5 2Cr + 7H*° "* Cri°7 + 14H + 6<?
Bei der elektrolytischen Behandlung einer an „, ... , „ , , ,, , , n . .
Kupfer angereicherten Chromschwefelsäure-Ätzlösung, w?h™d die an der Kathode ablaufende Reaktion
z. B. mit Kupferkathode und Bleianode, wird daher wie folgt formuliert werden kann:
zwar an der Anode das 3wertige Chrom zu 6wertigem . 3CuSO + 6e ->
3 Cu0 + 3SO
Chrom oxydiert, aber an der Kathode wird das ao * ■ ■ * ■
zurück gebildete owertige Chrom wieder zu 3wertigem „ ·,·,,„ , „ , ■
Chrom reduziert, so daß im Endeffekt keine Änderung J? eTgbt™h alsj5"™™5 ?■ Reaktlonen also die
der Badzusammensetzung eintritt. Auf Grund der volllSe Umkehrung der Atzreaktion:
Normalpotentiale ist eine elektrolytische Regene-
Normalpotentiale ist eine elektrolytische Regene-
rierung einer verbrauchten Chromschwefelsäure-Ätz- »5 ->'-u:>IJ« + UASUJ» + ÖH*U
lösung unter gleichzeitiger Abscheidung des abge- ->
2H2CrO4 + 6H2SO4 + 3Cu0
ätzten Kupfers an der Kathode daher aussichtslos. oder
Selbst wenn die kathodische Stromdichte stark erhöht
Selbst wenn die kathodische Stromdichte stark erhöht
wird, wird keine Kupferabscheidung an der Kathode 2Cr+++ + 3Cu+ + 7H2O
ermöglicht. Ebenso führt ein zwischen Kathoden- 3» ->
Cr1O7—+ 14H++ 3Cu0
und Anodenraum angeordnetes Diaphragma, das die ■
Abscheidung des Kupfers nach der vollständigen Die Hälfte der beim Ätzen verbrauchten Schwefel-Reduktion
des owertigen Chroms zu 3wertigem säure wird hierbei an der Anode zurückgebildet.
Chrom ermöglichen soll, nicht zum Ziel. Gleichzeitig werden im Anodenraum Wasserstoff-
An dieser Stelle sei auch auf die Literaturstelle aus 35 ionen gebildet. Diese wandern durch das Diaphragma
»Galvanotechnik«, 55, 1964, Nr. 1, S. 42 bis 44, zum Kathodenraum und kompensieren die dort frei
»Rückgewinnung von Metall aus Beizen«, hingewiesen. gewordenen Sulfationen. Die beim Ätzen verbrauchte
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, Schwefelsäure wird also zur Hälfte an der Anode, zur
ein Verfahren zur Regenerierung der Chromschwefel- anderen Hälfte im Kathodenraum durch die im
säure-Ätzlösungen anzugeben, bei dem die beim 4o Anodenraum gebildeten freien Wasserstoffionen und
Ätzen verbrauchten Ionen wieder zurückgebildet die im Kathodenraum durch die Kupferabscheidung
werden. Hierbei soll auch das von den Isolierstoff- frei werdenden Sulfationen gebildet.
platten abgeätzte Kupfer zurückgewonnen werden. _ Werden beispielsweise 3 Grammatom Kupfer durch
Dieses Verfahren soll wirtschaftlich und darüber Ätzen in der Chromschwefelsäure gelöst, dann,
hinaus auch in großtechnischem Ausmaß leicht 45 werden 6 VaI Wasserstoffionen in der Ätzlösung
durchführbar sein. durch Kupfer(II)-ionen ersetzt, d.h., die Ätzlösung
Zur Lösung dieser Aufgabe wird ein Verfahren verarmt durch Ätzen von 3 Grammatom Kupfer an
zum Regenerieren einer Chromschwefelsäure-Ätz- 3 Mol Schwefelsäure. Beim Regenerieren werden im
lösung zum Ätzen von Kupfer angegeben, bei dem Anodenraum 1,5 Mol Schwefelsäure zurückgebildet,
erfindungsgemäß im Anodenraum einer mit einem 5» Außerdem entstehen hierbei 3 VaI Wasserstoffionen.
Diaphragma versehenen Elektrolysierzelle _die beim Diese 3 VaI Wasserstoffionen wandern durch das
Ätzen anfallenden Chrom(III)-ionen in der Ätzlösung Diaphragma und bilden dort mit der entsprechenden
in an sich bekannter Weise anodisch oxydiert werden Menge Sulfationen die restlichen 1,5 Mol Schwefel-
und gleichzeitig die Hälfte der beim Ätzen verbrauch- säure.
ten Schwefelsäure zurückgebildet wird, das beim 55 Zu Anfang des Ätzverfahrens wird also eine frische
Ätzen zweiwertig angefallene Kupfer aus der Ätz- Ätzlösung angesetzt, die_Chrom(VI)-oxid und Schwelösung
in an sich bekannter Weise durch Einengen feisäure enthält. Diese Ätzlösung wird vorzugsweise
und/oder Abkühlen der Ätzlösung als Kupfersulfat im Kreislauf zwischen Ätzgefäß und Anodenraum
entfernt wird, sobald die Konzentration der Kup- der Elektrolysierzelle, gegebenenfalls über ein Vorfer(II)-ionen
in der Ätzlösung etwa 50 bis 60 g/l 6» ratsgefäß, geführt. In den Kathodenraum der gleichen
beträgt, daß das auskristallisierte Kupfersulfat in Elektrolysierzelle wird eine wäßrig;. Kupfersulfat-Wasser
gelöst wird, die Lösung sodann dem Katho- lösung eingefüllt. Außer diesem Ansatz von Lösung;n
denraum der mit dem Diaphragma versehenen Elekr sind bei dem erfindungsgemäßen Ätz- und Regsnsriertrolysierzelle
zugeführt wird und daß aus dieser verfahren keinerlei Chemikalien erforderlich. Im
Lösung das Kupfer in metallischer Form an der 65 Anodenraum werden ständig Chrom(VI)-ionsn nachKathode
der Elektrolysierzelle abgeschieden und gebildet sowie die Hälfte der beim Ätzen verbrauchten
gleichzeitig die zweite Hälfte der beim Ätzen ver- Schwefelsäure. Dsr andere Teil der Schwefelsäure
brauchten Schwefelsäure zurückgebildet wird. wird im Kathodenraum gebildet. Das abgeätzte
5 6
Kupfer geht ebenfalls nicht verloren, sondern wird Kupfers aus der Ätzlösung und Bildung frischer
nach Auskristallisation aus der kupferreichen Ätz- Ätzlösung wurde Strich Strich verwendet. Für den
lösung als Kupfersulfat in metallischer Form an der Teilkreisprozeß der Kupferabscheidung aus dem ausKathode zurückgewonnen. Abwasserprobleme gibt kristallisierten Kupfersulfat ist Strich Punkt Punkt
es nicht, denn das anfallende Spülwasser kann bei- 5 Strich verwendet worden.
spielsweise der Mutterlauge der Kupfersulfatkristal- In die Ätzmaschine 2 wird die Chromschwefellisation zugesetzt bzw. im Fall der durch Abkühlen säure-Ätzlösung aus etwa 1,5 bis 2,0 Mol Chrom(VI)-crfolgenden Kupfersulfatkristallisation eingeengt wer- oxid und 1,5 bis 2,5 Mol Schwefelsäure pro Liter
den. Wird die Regenerierung gleichzeitig während eingebracht, schematisch durch den Pfeil 19 dardcs Ätzens vorgenommen, so wie es gemäß der Erfin- ίο gestellt, sowie die mit Kupfer belegten Isolierstoffdung insbesondere vorgenommen ist, so bleiben die platten 1. Zur besseren Übersicht ist das auf den
Ätzgeschwindigkeiten praktisch konstant. Unter Ätz- Schaltplatten verbleibende Kupfer mit Cup, das abgeschwindigkeit wird hierbei das Verhältnis der zuätzende Kupfer mit Cue bezeichnet. Die Ätzlösung
Gewichtsabnahme des geätzten Körpers, z. B. der wird während des Ätzens im Kreislauf gehalten. Sie
Schaltplatte, zur Ätzdauer verstanden. Die Ätzzeiten 15 wird über die Leitung 20 dem Anodenraum 54 einer
beispielsweise beim Ätzen von gedruckten Schal- mit einem Diaphragma 53 versehenen Elektrolysiertungcn, die eine Kupferauflage von etwa 35 μΐη zelle 5 zugeführt, zwischen dessen Anode 51 und
besitzen, liegen um 2*/i Minuten, wenn die Tempera- Kathode 52 eine elektrische Gleichspannung von
tür der Ätzlösung zwischen 40und 500C gehalten wird. etwa 4 bis 6 Volt liegt, und verläßt den Anodenraum
Zweckmäßigerweise wird man bei der Durch- ao 54 über die Leitung 21. Sie tritt dann in eine Kammer
führung des erfindungsgemäßen Ätz- und Regenerier- 73 eines Vorratsgefäßes 7 ein und gelangt über die
Verfahrens so vorgehen, daß das Ätzen und gegebenen- Leitung 19 wieder zum Ätzgefäß 2. Bei diesem Kreisfalls Regenerieren weitergeführt werden kann, wenn lauf wird in dem Ätzgefäß Kupfer geätzt, wobei
die an Kupfer stark angereicherte Ätzlösung der Chrom(VI)-ionen zu Chrom(lII)-ionen reduziert wer-Behandlung zur Kupfersulfatkristallisation unter- as den und Schwefelsäure verbraucht wird nach der
worfen wird. Man wird deshalb zu Beginn des Ver.- Gleichung:
fahrens den Anteil der herzustellenden Ätzlösung
zweckmäßigerweise so wähleji, daß er der 3fachcn 2HiCrO4 + 3Cu0 + 6H2SO4
Menge der jeweils in dem Ätzgefäß einzusetzenden Γ /ςη >
, ,/-.,Cn , SH o
Atzlösung entspricht. Ebenso wird man auch fur die 30
in den Kathodenraum einzuführende Kupfersulfat- lm Anodenraum 54 werden Chrom(IlI)-ionen wieder
lösung zweckmäßiger*«.* den 3fachcn Ansatz wählen. zu Chrom(VI)-ionen aufoxydiert und die Hälfte der
im ersten Teil des Arbeitszyklus zum Atzen ver- gebndet nach der Gleichung:
wendet und zur gleichzeitigen Regenerierung im 35
mit einem Diaphragma versehenen Elektrolysierzelle . „ '
geiuhrt. Im Kathodenraum befindet sich ebenfalls ·-»■-H1CrU4-3H1MJ4^ 6H ■-r 6«·
nur ein Drittel der hergestellten Kupfersulfatlösung.
zyklus), wird mit dem zweiten Drittel der hergestellten zur Kathode 52.
(Reinigung des Kupfersulfats und Herstellung der -
Kupfersulfatlösung) dient dann das dritte Drittel der 45 3CuSO4 -~ 6e -v3Cu° — 3SO,—
hergestellten Ätzlösung zum Ätzen des Kupfers. Aus
dem ersten Drittel hat sich währenddessen das Kupfer- Aus den frei gewordenen Sulfationen und den durch
sulfat abgesetzt. Dieses wird beispielsweise im dritten das Diaphragma 53 gewanderten WasserstofTionen
gewaschen, im Wasser gelöst und kann als Kupfer- 50 Schwefelsäure gebildet.
sulfatlösung zu Beginn des nächsten Arbeitszyklus Wenn der erste Arbeitstag vorbei und die Kupfer-
dem Kathodenraum der Elektrolysierzclle zur Ab- konzentration in der Ätzlösung auf etwa 50 bis 60 g/l
scheidung des Kupfers zugeführt werden. Aus der angestiegen ist. wird diese Ätzlösung über die Leitung
an Kupfer verarmten Kathodenraumflüssigkeit wird 55 Gefäß 8 wird am zweiten Tag die Lösung beispiels-
jewcils. gegebenenfalls unter Zugabe oder Wegnahme weise auf ein Viertel des Ausgangsvolumens einge-
von Wasser, frische Ätzlösung bereitet. dampft und über Nacht stehengelassen. Während des
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung wird ein zweiten Tages wird mit der Ätzlösung aus der Kambcvorzugtcs Ausführungsbeispiel an Hand der Figur mer 72 des Vorratsgefäßes 7 geätzt (die . gleichzeitig
beschrieben, die für Fabrikbetrieb schematisch das 60 während des Ätzens im Anodenraum 54 regeneriert
bevorzugte Verfahren des nebeneinander ablaufenden wird). Am dritten Tag. an dem mit der Ätzlösung aus
Ätzens. Regeneriercns und Kupferabscheidcns dar- der Kammer 71 geätzt wird, wird das auskristallisierte
stellt, am Beispiel des Ätzens von gedruckten Schal- Kupfersulfat CuSO4 · 5 H.O. schematisch mit 10
tungen. Hierbei sind die einzelnen Kreisläufe durch bezeichnet, durch Umkristallisation gereinigt (Kamuntcrschiedlichc schematische Leitungsschraffur dar- 65 mer 11) und das gereinigte Kupfersulfat in Wasser
gestellt. Der Kreislauf Ätzgefäß—Anodenraum der gelöst (Kammer 12). Diese Lösung wird, schematisch
Regcnericranlage ist durch Strich Punkt Strich ange- durch die Leitung 34 angedeutet, dem Kathodengeben. Für den Kreislauf zur Anreicherung des raum 55 der Elektrohsierzelle 5 zugeführt. Hier wird
aus dieser Lösung am vierten Tag das Kupfer an der Kathode 52 abgeschieden, das als Cue6 an der Kathode
52 gewonnen wird. Nach dem Abscheiden des Kupfers wird die Kathodenraumflüssigkeit, die ge-,
gebenenfalls mit Wasser verdünnt oder durch Ver- S dampfen eingeengt wird, zusammen mit der Mutterlauge
der Kupfersulfatkristallisation über die Leitung 26 wieder der Kammer 73 des Vorratsgefäßes 7
zugeführt.
Die gedruckten Schaltungen werden nach dem to Verlassen des Ätzgefäßes 2 gespült. Als Cup4 treten
sie aus dem Arbeitskreis aus. Das Spülwasser aus der Kammer 3 wird gegebenenfalls über die Leitung
37 der an Kupfer verarmten Kathodenraumflüssigkeit 13 (und damit der zu bereitenden neuen Ätzlösung)
zugeführt. Wenn erforderlich, kann diese Flüssigkeit 13 jedoch eingeengt werden. Das hierbei
abdampfende Wasser wird in einem Behälter 9 gesammelt (angedeutet durch den Pfeil 38). Ebenso
wird in diesem Behälter 9 das beim Einengen im Kristallisator 8 der an Kupfer angereicherten Ätzlösung
austretende Wasser aufgenommen (Pfeil 27). Es steht dann beispielsweise zum Spülen der geätzten
Platten, schematisch durch den Pfeil 36 angedeutet, bzw. zum Herstellen der Kupfersulfatlösung 12,
schematisch durch den Pfeil 33 angedeutet, zur Verfügung sowie zur Reinigung des auskristallisierten
Kupfersulfats 11, schematisiert durch den Pfeil 30.
Claims (3)
1. Verfahren zum Regenerieren einer Chromschwefelsäure-Ätzlösurig
zum Ätzen von Kupfer, dadurch gekennzeichnet, daß im
Anodenraum einer mit einem Diaphragma versehenen Elektrolysierzelle die beim Ätzen anfallenden
Chrom(III)-ionen in der Ätzlösung in an sich bekannter Weise anodisch oxydiert werden
und gleichzeitig die Hälfte der beim Ätzen verbrauchten Schwefelsäure zurückgebildet wird, das
beim Ätzen zweiwertig angefallene Kupfer aus der Ätzlösung in an sich bekannter Weise durch
Einengen und/oder Abkühlen der Ätzlösung als Kupfersulfat entfernt wird, sobald die Konzentration
der Kupfer(II)-ionen in der Ätzlösung etwa 50 bis 60 g/l beträgt, daß das auskristallisierte
Kupfersulfat in Wasser gelöst wird, die Lösung sodann dem Kathodenraum der mit. dem Diaphragma
versehenen Elektrolysierzelle zugeführt wird und daß aus dieser Lösung das Kupfer in
metallischer Form an der Kathode der Elektrolysierzelle abgeschieden und gleichzeitig die zweite
Hälfte der beim Ätzen verbrauchten Schwefelsäure zurückgebildet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß aus der Mutterlauge der Kupfersulfatkristallisation und der nach dem Abscheiden
des Kupfers übrigbleibenden Kathodenraumfiüssigkeit, gegebenenfalls unter Zugabe oder
Wegnahme von Wasser, wieder Ätzlösung gebildet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß Ätzen und Regenerieren
- sowie die Kupferabscheidung gleichzeitig durchgeführt
werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen 009 640/222
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