DE3624780C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf die Zonenreinigung von
Cadmium und Tellur und, insbesondere, auf ein Verfahren
zur Reinigung von Cadmium und Tellur durch Zonenreini
gung bzw. Zonenschmelzen in Anwesenheit einer Getter-
Substanz. Bei der Produktion von CdTe- und CdHgTe-Verbin
dungs-Halbleitern ist es erforderlich, die Elemente mit
möglichst hoher Reinheit zu verwenden. Irgendwelche iso-
elektronischen Verunreinigungen können im allgemeinen
in vergleichsweise hoher Menge toleriert werden, und
zwar in der Größenordnung von ppm; es ist jedoch erfor
derlich, daß Ladungsträger erzeugende Verunreinigungen
auf ein Niveau reduziert werden, das vorzugsweise weni
ger als 1015 Ladungsträger/cm3 im fertigen Halbleiter er
gibt. Beispielsweise muß, um eine wirksame Infrarotempfind
lichkeit zu erreichen, die Ladungsträger-Konzentration
in CdHgTe gering, die Beweglichkeit hoch und die Lebens
dauer im angeregten Zustand lang sein. Die Anwesenheit
von Verunreinigungen in Elementen aus CdHgTe hat einen
negativen Einfluß auf diese Charakteristika.
Die Reinigung von Cd, Te und Hg wird von H.E. Hirsch
et al. beschrieben ("Preparation of High Purity Cadmium,
Mercury and Tellurium", Kapitel 2 in Semiconductors and
Semimetals, Band 18, Herausgeber: Willardson, R.K. und
Beer, A.C., Academic Press, 1981).
Eines der Verfahren zur Herstellung von hochreinem, d.h. "6 Neuner"
oder besser, Cadmium und Tellur ist die Zonenrei
nigung. Cadmium ist eines der niedrigschmelzenden Metal
le, das am schwierigsten zonenzureinigen ist, weil es
einen niedrigen Schmelzpunkt, hohe thermische Leitfähig
keit und eine hohe Volumenvergrößerung aufweist. Weil
viele Verunreinigungen Verteilungskoeffizienten nahe
1,0 aufweisen, wird nur eine teilweise Segregation er
reicht. Dies gilt insbesondere für Zn, Cu, K und Mg.
Tellur ist für die Zonenreinigung besser geeignet, da
die meisten Verunreinigungen sehr niedrige Verteilungs
koeffizienten aufweisen und leicht entfernt werden können.
Solche mit Verteilungskoeffizienten nahe eins, nämlich
Hg, Se, Cr, Na und Cd werden nicht so wirksam entfernt.
Cadmium und Tellur werden deswegen üblicherweise einem
oder mehr als einem Zonenreinigungs-Vorgang unterworfen,
wodurch man einfach-, zweifach-, dreifach- oder vierfach
zonengereinigte Qualitäten erhält, die nachstehend als
SZR, DZR, TZR und QZR bezeichnet werden sollen. Cadmium-
und Tellur-Ausgangsmaterial wird zonengereinigt bis ein
Verunreinigungs-Gleichgewicht eingestellt ist. Das gerei
nigte Material wird separiert, d.h. der Ab
schnitt, der die Reinheit "6 Neuner" aufweist, wird vom vorderen
und hinteren Ende getrennt und dem gleichen Zonenreinigungs-
Vorgang unterworfen, um ein DZR -Erzeugnis mit vermindertem
Gehalt an Verunreinigungen zu erhalten. Eine Wiederholung
dieses Vorgangs ergibt TZR-Material und Reinigung dieses
Materials führt zu QZR-Qualität. Das in hohem Maße zonen
gereinigte Cadmium und Tellur sowie hochreines Quecksil
ber ergeben somit, wenn sie bei der Produktion von CdHgTe
verwendet werden, folgerichtig Cd x Hg1-x Te (x = 0,2) mit
Trägerkonzentrationen in der Größenordnung von 1014 bis
1015. Obwohl solche Konzentrationen für die Fertigung
der meisten Anordnungen adäquat sind, ist eine weitere
Senkung der Trägerkonzentration erstrebenswert, die je
doch die Herstellung von Materialien mit noch höherer
Reinheit erfordert.
Die Reinigung von Elementen wie Sn, Si, Ge und Zn kann
durch Zonenreinigung unter Zufügung eines gelösten Stof
fes oder legierungsbildenden Mittels für Verunreinigun
gen oder einer Getter-Substanz durchgeführt werden.
Pfann (Zone Melting, John Wiley & Sons, Inc., 1959) lehrt,
daß eine eine Verunreinigung enthaltende Substanz gerei
nigt werden kann, indem sie in einem Lösungsmittel aufge
löst wird, welches eine bessere Trennung der Verunreini
gung ermöglicht. Das einzige Beispiel, welches Pfann an
gibt, ist das Sn-Si-System, in dem eine geringe Menge
von Si durch einen Rohling aus Sn zurückdiffundiert
und reines Sn erhalten wird.
Gemäß US-PS 27 39 088 wird beim Zonenschmelzen ein System
aus zwei aufgelösten Stoffen verwendet, wobei in der
geschmolzenen Zone die gewünschte Konzentration an gelöstem
Stoff aufgebaut wird. p-n- und p-n-p-Übergänge werden durch
Zusatz wesentlicher Mengen des gelösten Stoffes in der ge
schmolzenen Zone in fester, flüssiger oder Dampfform und
rein, legiert oder als Verbindung gebildet. Dieses Ver
fahren bezieht sich auf das Dotieren und die Ausbildung
von Konzentrationsgradienten des gelösten Stoffes.
Gemäß US-PS 28 35 612 können Materialien mit hohem Schmelz
punkt, beispielsweise Si und Ge, durch die Zonenreinigung
mittels eines Legierung bildenden Mittels , das Verunrei
nigungen anlegiert, derart gereinigt werden, daß die Substanz
in die Vorderfront der flüssigen Region gemischt wird und
an der hinteren Front mit unterschiedlichen Konzentrationen
der Verunreinigungen abgelagert wird.
Gemäß US-PS 30 47 380 wird Ge durch Zonenschmelzen der
art gereinigt, daß ein Element zugesetzt wird, welches
gegenüber O₂ eine höhere Affinität hat als gegenüber
Ge, ein Oxid bildet und eine verhältnismäßig kleine
Segregationskonstante aufweist, wobei man das Ele
ment das Ge durchlaufen läßt und so das Oxid entfernt.
AU-PS 2 73 393 lehrt, daß abtrennbare Verunreinigungen
durch Zonenreinigung von Elementen entfernt werden kön
nen, indem ein Getter mit einem niedrigen Festkörper-
Diffusions-Koeffizienten auf das Ende des Körpers aufge
bracht wird, auf das abtrennbare Verunreinigungen ausge
richtet sind. Speziell In wird als Getter für Cu bei
der Reinigung von Ge verwendet. In wird am Hinterende
zugegeben und man erreicht die endgültige In-Verteilung
rasch (wobei vernachlässigbare Cu-Rückdiffusion angenom
men wird).
Gemäß US-PS 41 65 249 wird eine Schicht eines verhältnis
mäßig reinen Getter-Materials (Si) auf Ge aufgebracht
und das Ge in mehreren Durchgängen zonengereinigt.
In einer russischen Zeitschrift (Chemical Abstracts,
Band 84; 109005r, 1976) ist das Zonenschmelzen von Zn
unter Hinzufügung einer aktiven Komponente, z.B. Ge,
Si, In, Sb, Bi oder Ca beschrieben, wobei eine Kombina
tion von Ge, Sn und Si die höchste Wirkung ergibt.
Elemente mit einem Konzentrationsverhältnis <0,5 sind
am besten geeignet infolge der starken Wechselwirkung
mit Verunreinigungen.
Der Stand der Technik zeigt also, daß das Zonenreinigen
von Cadmium und Tellur und auch das Zonenreinigen in An
wesenheit einer Getter-Substanz für andere Metalle
als Cd und Te bekannt sind.
Der Anmeldung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur
Reinigung eines Metalles der aus Cadmium und Tellur bestehenden
Gruppe bereitzustellen.
Die gestellte Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren mit den
kennzeichnenden Merkmalen des Anspruches 1.
In den Unteransprüchen 2 und 3 sind Ausbildungen des Verfahrens
nach Anspruch 1 angegeben.
Mit dem vorgeschlagenen Verfahren kann auch Cadmium und Tellur
durch Zonenreinigung in Anwesenheit einer Getter-Substanz in
größerer Reinheit hergestellt werden. Genauer gesagt werden
Cadmium und Tellur in Anwesenheit einer sehr geringen Menge von
Tellur bzw. Cadmium oder einer kleinen Menge von CdTe als
Getter-Substanz zonengereinigt. Die Menge des Cd, Te oder CdTe
ist geringer als die Menge des Eutektikums von Cd und Te in dem
einer Zonenreinigung zu unterziehenden Cd oder Te. Das Cd, Te
oder CdTe wird am Vorderende dem Cd- oder Te-Rohling zugesetzt
und die Rohlinge werden dann in mehreren Durchgängen in einer
oder mehreren Stufen zonengereinigt, um SZR-, DZR-, TZR- oder
QZR-Cadmium bzw. Tellur zu erhalten. Die Hinzufügung von Cd, Te
oder CdTe führt zu einer Erhöhung der Konzentration von Cd in
zonengereinigtem Te und von Te in zonengereinigtem Cd. Diese
Erhöhung beeinflußt jedoch die elektrischen Kennwerte von
Halbleiterverbindungen, wie beispielsweise CdTe und CdHgTe, die
aus dem gereinigten Cd und Te hergestellt sind, nicht. Das so
zonengereinigte Cd und Te haben einen Gehalt an
Verunreinigungen, der geringer ist als der von Cd und Te, die
ohne Zusatz von Cd, Te oder CdTe als Getter-Substanz
zonengereinigt wurden. Darüber hinaus wird die zahlenmäßige
Ausbeute an CdHgTe-Scheiben, die aus gereinigtem Cd und Te
hergestellt sind, und die Anforderungen bezüglich der Träger-
Konzentration und -Mobilität erfüllen, erheblich erhöht.
Bei Zonenreinigung wandert eine kurze, geschmolzene Zone durch
einen verhältnismäßig langen Rohling aus festem Material, wobei
sie lösliche Verunreinigungen mit sich führt. Die Einwirkung
von aufeinanderfolgenden, geschmolzenen Zonen, die sich in der
gleichen Richtung bewegen, führt zu einer Verteilung der
Verunreinigungen entsprechend dem Verhältnis der Löslichkeit
ihrer festen und flüssigen Phase.
Die endgültige Verteilung der Verunreinigungen hängt von der
Geschwindigkeit, Frequenz und Richtung der Wanderungsbewegung
der Zone und von einer jeder Verunreinigung eigenen Eigenschaft
ab, die als Verteilungskoeffizient k₀ bekannt ist. Der Wert von
k₀ muß verändert werden, um der Breite der Zone und der Stärke
und Art der Vermischung innerhalb der Zone Rechnung zu tragen.
Diese Kriterien haben Einfluß auf die Verteilung des gelösten
Stoffes
innerhalb der Zone. Die Größe k eff beschreibt die Abtren
nung der Verunreinigungen unter tatsächlichen Arbeitsbe
dingungen. Wenn k ff <1,0 ist, führt dies zu einer An
sammlung der Verunreinigung am Vorderende des Rohlings.
Wenn k eff <1,0 ist, hat die Verunreinigung eine größere
Löslichkeit in der flüssigen Phase und wird zum Hinterende
des Rohlings transportiert.
Eine bestimmte Verunreinigung setzt sich nicht unabhängig
von den anderen Verunreinigungen ab, und es ist deswegen
wichtig, die Wechselwirkung zwischen den Verunreinigungen
zu berücksichtigen. Von Kujawa (Z. für Phys. Chem., 232
(5-6), 1966, S. 425-31) erklärt, daß "wenn eine Mehrzahl
von Verunreinigungen gleichzeitig anwesend sind, die Ver
unreinigung, die in größter Menge vorhanden ist, das Ab
trennverhalten von anderen Verunreinigungen beeinflußt,
die nur in Spuren vorhanden sind, und zwar wegen der Bil
dung von Multikomponenten-Systemen". In der Untersuchung
von von Kujawa führte jede größere Verunreinigung zur Re
duzierung des Grades der Abtrennung geringerer Verunrei
nigungen. Er fand keinen Fall einer Erhöhung der Abtren
nung.
Das Cd-Te-Phasendiagramm ist typisch für II-VI-Verbindungen
mit einem Spitzenwert maximaler Flüssigkeit entsprechend
einer Verbindung mit nahezu 50/50 Atom-Prozent. Der eutek
tische Wert für die Te-reiche Seite des Diagramms liegt
bekannterweise bei etwa 1% Cd. Die eutektische Zusammen
setzung für die Cd-reiche Seite ist nicht genau bekannt
und es wurde berichtet, daß sie sehr nahe bei reinem Cd
liegt (Zanio, K., Cadmium Telluride, Kapitel 1 aus Semi
conductor and Semimetals, Bd. 13, Herausgegeben von Willard
son und Beer, Academic Press, 1978).
Die Zonenreinigung von Cd und die Zonenreinigung von Te
werden in gut eingeführten Verfahren unter Verwendung
von Geräten üblicher Type ausgeführt. Die Zonen-Reiniger be
stehen aus einem Rohr zur Bestimmung der Reinigungskammer,
einem Gasstrom-Steuerpult zur Einstellung der Umgebungs
atmosphäre sowie unabhängigen Energie-Steuergeräten für
jeden Ofen. Im einzelnen ist es so, daß ein Cd- oder Te-
Rohling in einem Quarz-Schiffchen mit einer Länge von
1300 mm und einem halbkreisförmigen Querschnitt von 75 mm
Durchmesser enthalten ist. Das Schiffchen wird in das Zentrum
einer Quarzröhre mit 2400 mm Länge und einem Durchmesser
von 100 mm gebracht. Endkappen aus rostfreiem Stahl werden
an jedem Ende der Röhre mit O-Ringen befestigt. Ringförmige
Öfen sind auf einem beweglichen Wagen montiert und im glei
chen Abstand voneinander angeordnet. Die Bewegung des Wa
gens wird von einem Elektromotor gesteuert, wobei der Be
wegungsweg von zwei Mikroschaltern bestimmt wird. Die Tem
peratur jedes Ofens wird unabhängig gesteuert bzw. geregelt.
Der Gasstrom wird über eine Anzahl von Ventilen gesteuert,
wobei die verwendeten Gase Ar und Pd : Ag diffundierten H2
einschließen.
In dem Zonenreiniger für Cd ist ein Aluminium-Wärmeschild
suf dem Wagen montiert, um ein eingegrenztes Volumen um
die Öfen zu schaffen, wodurch Luft-Konvektion um den Ofen
auf ein Minimum reduziert wird, wodurch man stabilere flüs
sige Zonen erhält.
Bei dem Zonenreinigungs-Verfahren wird ein Rohling aus
Cd oder Te in das Schiffchen eingebracht und es wird eine
Getter-Substanz aus der aus Cd, Te oder CdTe bestehenden
Gruppe dem Rohling hinzugefügt. Die hinzugefügte Menge
ist geringer als die Menge, die in eutektischen Verbin
dungen auf der Cd-reichen Seite bzw. der Te-reichen Seite
des Phasendiagramms vorhanden ist. Wenn die zugefügte
Menge gleich oder größer als die Menge in der eutektischen
Zusammensetzung ist, erhält man die verstärkte Abtrennung
von Verunreinigungen nicht. Beim Zonenreinigen von Cd ist
die hinzugefügte Menge von Te oder die Menge von Te
im hinzugefügten CdTe geringer als etwa 10 ppm w
(10 Teile je Million bezüglich des Gewichts) des
Cd-Rohlings. Beim Zonenreinigen von Te ist die Menge
des hinzugefügten Cd oder die Menge des Cd im hinzu
gefügten CdTe geringer als etwa 1 Gew.-% des Te-Rohlings.
Das Cd, Te oder CdTe wird vorzugsweise vor dem Zonenrei
nigen am Vorderende oder Kopf des Rohlings zugefügt. Die
Hinzufügung von CdTe als Getter-Substanz ist zu bevorzu
gen.
Das Cd oder Te mit der hinzugefügten Getter-Substanz
wird dann einer mehrere Durchgänge umfassenden Zonenrei
nigung in einem oder mehreren Arbeitsgängen unterzogen,
um so ein SZR-, DZR-, TZR- oder QZR-Erzeugnis zu erhalten.
Die Reinheit des gereinigten Cd und Te wird mittels Funken
quellen-Massenspektroskopie oder Emissions-Spektroskopie
bestimmt. Die Reinheit kann indirekt bestimmt werden, in
dem man CdHgTe aus dem Cd und Te (und Hg) produziert
und die elektrischen Kennwerte von Scheiben aus dem CdHgTe
sowie die Ausbeute von Scheiben bestimmt, die die Anforde
rungen für diese Kennwerte erfüllen. Es wurde gefunden,
daß die Reinheit von Cd und Te, welches erfindungsgemäß
erzeugt wurde, verbessert wurde und daß die Ausbeute an
Scheiben aus CdHgTe, welche den Anforderungen hinsichtlich
Trägerkonzentration und -Mobilität entsprachen, beachtlich
erhöht wurde.
Die Erfindung wird nun anhand der nachfolgenden,
Beispiele
erläutert.
Bei Verwendung des vorstehend beschriebenen Verfahrens
und Gerätes, wurde in das Schiffchen ein Ausgangs-Roh
ling aus Cd mit einer Reinheit von "5 Neuner"
eingebracht. Eine Menge von CdTe entsprechend 10 ppm w
des Rohlings wurde in Pulverform am Vorderende des Roh
lings hinzugefügt. Das Schiffchen war mit einer Schicht
aus Kohlenstoff versehen worden, um eine Reaktion zwi
schen Quarz und Cd zu verhindern. Der Rohling wurde mit
einer Geschwindigkeit von 55 mm/h zonengereinigt. Die
Zonenbreite war 60 mm und es wurden 54 Durchgänge ge
macht.
Durch Funkenquellen-Massenspektroskopie (SSMS) und Emis
sions-Spektroskopie (ES) erhaltene Analysenwerte von
nach diesem ersten Satz von Zonendurchgängen und aus
verschiedenen Stellen entlang der Länge des Rohlings
genommenen Mustern wichen nicht wesentlich von Analysen
daten des Standard SZR-Produkts ab, abgesehen von einer
viel höheren Te-Konzentration.
Der Stab wurde dann separiert (wie vorstehend beschrieben
unter Abtrennung des Vorder- und Hinter-Endes) und geätzt,
bevor er einem zweiten Satz von Zonen-Durchgängen unter
den gleichen Bedingungen unterworfen wurde, mit Ausnahme
des Umstandes, daß die Gesamtzahl der Zonendurchgänge
42 war. Nach Abschluß der Bearbeitung wurden wieder Pro
ben genommen.
Für diese Proben verzeichneten die SSMS- und ES-Analysen
wie erwartet die Hinterend-Separation von Te und hohe
Konzentrationen von In. Die Konzentration von In im Aus
gangs-Rohling lag unter der Meßgrenze. Indium wird selten
in zonengereinigtem Cd hoher Reinheit festgestellt. Die
hohen In-Konzentrationen im Hinterende des DZR-Rohlings
zeigen eine verminderte Konzentration des In über den
restlichen Rohling an.
Der Rohling wurde weiter bis zur QZR-Güte bearbeitet.
Es wurde festgestellt, daß mit jedem zusätzlichen Satz
von Zonendurchgängen die Duktilität des Cd-Rohlings zu
nahm. Duktilität ist häufig eine Funktion des Gehalts
an löslichen Verunreinigungen und, obwohl nur eine Absonde
rung von In aus dem Mittelabschnitt des Stabes festge
stellt werden konnte, kann auch die Konzentration ande
rer, in Spuren vorhandener löslicher Verunreinigungen
gesunken sein. Die SSMS- und ES-Analysen-Ergebnisse sind
in Tabelle 1 dargestellt.
Die Ergebnisse zeigen, daß in SZR-Material, In oberhalb
der Nachweisgrenze nicht bestimmt werden konnte, d.h.
keine feststellbare Abscheidung von In vorlag. In DZR-
Material wirkt Te mit In zusammen und es wurde In am
Hinterende abgetrennt. Das Cd war spektroskopisch frei
von Te und In am Ende des QZR-Behandlungsvorganges.
Unter Verwendung des gleichen Verfahrens und Gerätes wie
in Beispiel 1 wurde ein Ausgangsrohling mit einer Reinheit von "5 Neuner" in das
Schiffchen eingebracht. Eine Menge von pulverisiertem
CdTe, die 0,5 Gew.-% des Rohlings entsprach, wurde am
Vorderende des Rohlings zugesetzt. Der Rohling wurde
mit einer Zonengeschwindigkeit von 55 mm/h zonengereinigt.
Die Zonenbreite betrug 70 mm und es wurden 68 Durchgänge
gemacht.
Der Te Rohling wurde bis zur QZR-Güte gereinigt, wobei
Proben aus dem Stab nach der SZR-, DZR- und QZR-Behandlung
genommen wurden. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 wieder
gegeben. Die Werte für Cd mit zugesetztem CdTe sind in
Gew.-%, alle anderen Werte in ppm-Gewicht angegeben.
Die Abkürzungen in vorstehender Tabelle haben die gleiche
Bedeutung wie die in Tabelle 1.
Alle Werte wurden durch SSMS-Analyse erhalten mit Ausnahme
der Werte für Ga im Te mit zugesetztem CdTe. Die letztge
nannten Werte wurden durch Emissions-Spektroskopie (ES)
bestimmt wegen möglicher Interferenzen des Ga-Massen-Spitzen
wertes bei hohen Konzentrationen von Cd. Die ES-Analyse
des zonengereinigten Te ohne Zusatz von CdTe zeigt keine
Spur von Ga. Die Daten lassen eine verstärkte Reinigung
für Ga, Ca und K im Vergleich zu Te erkennen, das ohne
Zusatz von CdTe als Getter-Substanz zonengereinigt wurde.
Der Anteil von Cd im Mittelabschnitt des QZR-Te-Rohlings
wurde mit 5 ppm-Gewicht ermittelt. Die hohen Anteile von
Cd in den Hinterende-Proben bewiesen das starke Separations-
Bestreben von Cd in Te.
Die verstärkte Abtrennung sowohl von Ca als auch K ist
ganz offensichtlich. Beide Substanzen zeigen ein leichtes
Bestreben sich zum Hinterende zu bewegen, welches durch
die Anwesenheit von Cd in der Te-Schmelze verstärkt wurde.
Um die Qualität des durch Zonenreinigung unter Zusatz von
CdTe gereinigten Cd und Te weiter zu untersuchen, wurde
eine Anzahl von Cd0,21Hg0,79Te-Einkristallen unter Verwendung
dieser Elemente als Ausgangssubstanzen hergestellt. Die
Synthese des CdHgTe wurde durch Einfüllung stöchiometri
scher Mengen von QZR-Cd und -Te sowie von Hg mit einer Reinheit
von "7 Neuner" in eine saubere Quarz-Ampulle, die unter Vakuum ver
siegelt wurde, bewerkstelligt. Die Ampulle wurde über die
Liquidus-Temperatur für die x = 0,21-Legierung erhitzt
und dann in einem Wärmegradienten abgeschreckt, um eine
homogene Legierungs-Zusammensetzung zu erhalten, die für
einen Rekristallisations-Prozeß und das Wachsen von Ein
kristallen geeignet ist. Aus den Einkristallen wurden Schei
ben geschnitten und die Scheiben wurden in einem Überdruck
von Hg getempert bzw. geglüht, um die gewachsenen Scheiben
von p- zu n-Leitfähigkeit umzuwandeln. Die elektrischen
Parameter der Ladungsträger-Konzentration und -beweglich
keit, die bei 77 K mit der Van der Pauw-Technik gemessen
wurden, wurden verwendet, um die Reinheit der CdHgTe-
Scheiben zu kennzeichnen.
Für Vergleichszwecke wurde die Ladungsträger-Konzentration und
-Beweglichkeit für eine ähnliche Anzahl von Scheiben be
stimmt, die aus Kristallen der normalen Produktion ge
schnitten worden waren, d.h. aus Kristallen, die aus Cd
und Te produziert worden waren, welche ohne Zusatz einer
Getter-Substanz zonengereinigt waren.
Die Durchschnittswerte für die Ladungsträger-Konzentration
und -Beweglichkeit bei 77 K für den 50prozentigen Anteil
von Produktions-Scheiben höchster Reinheit von Cd x Hg1-x Te
(x=0,21) betrugen
2,00 × 10¹⁴ cm-3 bzw.
2,01 × 10⁵ cm2V-1s-1.
2,01 × 10⁵ cm2V-1s-1.
Die Ausbeute an Scheiben aus CdHgTe mit Kennwerten gleich
oder besser als die vorstehenden Werte war 70% höher bei
Scheiben, die mit nach der Erfindung gereinigtem Cd und Te
hergestellt waren, als bei Scheiben aus CdHgTe, die aus Cd
und Te erzeugt waren, welche ohne Zusatz der Getter-Substanz
zonengereinigt waren.
Claims (3)
1. Verfahren zur Reinigung eines Metalls aus der aus
Cadmium und Tellur bestehenden Gruppe,
dadurch gekennzeichnet,
daß einem Schmelz-Rohling des Metalls eine Menge
einer Getter-Substanz aus der aus Te, Cd oder
CdTe bestehenden Gruppe zugesetzt und das Metall
mit der Getter-Substanz einem Mehrfach-Zonenreinigungs
prozeß unterzogen wird, wobei die bei der Zonenreini
gung von Cd zugesetzte Menge von Te oder von Te in
CdTe geringer als der Anteil von Te in dem Cd-reichen
eutektischen Gemisch aus Cd und Te ist, oder wobei
die bei der Zonenreinigung von Te zugesetzte Menge
von Cd oder von Cd in CdTe geringer ist als der Anteil
von Cd in dem Te-reichen eutektischen Gemisch aus
Cd und Te.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß zur Reinigung von Cd als Getter-Substanz Te oder
CdTe verwendet und diese vor der Zonenreinigung am
Vorderende des Cd-Rohlings zugesetzt wird, und daß
die Menge des zugesetzten Te oder des Te im zuge
setzen CdTe geringer als 10 ppm des Gewichts
des Cd-Rohlings ist.
3.Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
zur Reinigung von Te als Getter-Substanz Cd oder CdTe
verwendet und diese vor der Zonenreinigung am Vorder
ende des Te-Rohlings zugesetzt wird, und daß die Menge des
zugesetzten Cd oder des Cd im zugesetzten CdTe geringer
als 1% des Gewichts des Te-Rohlings ist.
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|---|---|---|---|
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