DE3689989T2

DE3689989T2 - Durchsichtiger elektromagnetischer Schirm.

Info

Publication number: DE3689989T2
Application number: DE3689989T
Authority: DE
Inventors: Satoshi Nagai; Kazuo Okamoto; Takeshi Saito; Masaki Tsuchida
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1985-04-22
Filing date: 1986-04-21
Publication date: 1995-02-09
Anticipated expiration: 2006-04-22
Also published as: EP0200452A2; JPS61245449A; EP0200452A3; DE3689989D1; JPH0719551B2; EP0200452B1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine lichtdurchlässige Kunststoffplatte, die elektromagnetische Wellen abschirmt. Im spezielleren betrifft die vorliegende Erfindung eine lichtdurchlässige Platte, die fähig ist, schädliche elektromagnetische Wellen, die von einem Display oder einer Braunschen Röhre usw. erzeugt werden, wirksam abzuschirmen. Darüber hinaus betrifft die vorliegende Erfindung eine lichtdurchlässige Platte, die Haltbarkeit aufweist und die Funktion hat, Reflexion zu verringern.
Displays von Büroautomatisierungsgeräten, beispielsweise Textverarbeitungsgeräten oder Computern, oder Braunsche Röhren von Spiel- oder TV-Geräten erzeugen schädliche elektromagnetische Wellen. Es gibt gewisse Probleme aufgrund elektromagnetischer Wellen, auf die häufig hingewiesen wird, beispielsweise Probleme in Hinblick auf die Gesundheit und Störungen, die andere Geräte beeinflussen. Beispielsweise geschieht es häufig, daß in einen Computer falsche Signale aufgrund von Störungen gelangen. Es passiert auch, daß Störungen einer Stereoanlage erzeugt werden, wenn sowohl die Stereoanlage als auch ein TV-Gerät gleichzeitig in Betrieb sind.
Es sind viele Verbesserungen vorgenommen worden, um die Probleme zu lösen. Eine der Verbesserungen besteht in einem Verfahren, bei dem das Gerät, das elektromagnetische Wellen erzeugt, mit elektrisch leitendem Material wie einem Metall abgedeckt wird. Beispielsweise sind ein Tuch, das zum Abschirmen elektromagnetischer Wellen fähig ist, sowie ein "Eyesaver" (Markenname eines Erzeugnisses der japanischen Firma Chori Kabushiki Kaisha) bekannt. Das Tuch wird konstruiert, indem auf eine Faser mit kleinem Durchmesser Kohlenstoff geklebt wird und die Faser dann gewebt wird, um eine gitterförmige Anordnung zu bilden, und das Tuch wird auf Geräte aufgebracht, die elektromagnetische Wellen erzeugen. "Eyesaver" ist aus Glasfolien und zwischen den Folien angeordnetem Metalldraht konstruiert.
Da die obigen Verfahren jedoch eine teilweise Verdeckung der Strahlung von einem Display verursachen, wird es für einen Anwender ziemlich schwierig, das Display deutlich zu sehen.
Es ist auch ein Verfahren zum Ausbilden einer Verdampfungsüberzugsschicht aus elektrisch leitendem Material auf einer Glasplatte bekannt. Ein solches Verfahren wird beispielsweise in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. SHO 49-18447 geoffenbart. Ebenso offenbart die GB-A-2121075 ein Verfahren zum Ausbilden eines Wärmewellenabschirmungslaminierungsüberzugs aus elektrisch leitendem Material auf einem Glasfenster unter Einsatz des Gleichstrom-Magnetron-Sputterverfahrens. Bei diesem Verfahren wird eine Autowindschutzscheibe in einer Atmosphäre bei einem Druck von 3·10&supmin;³ Torr auf 370ºC erwärmt. Der Laminierungsüberzug umfaßt Schichten mit dem gleichen Brechungsindex bei sichtbaren Wellenlängen, aber unterschiedlichen Brechungsindizes bei Infrarotwellenlängen. Wenn derartige Verfahren jedoch auf eine Kunststoffbasisplatte angewandt werden, besteht die Gefahr, daß die Basisplatte sich erweicht oder schmilzt und an der Oberfläche beschädigt wird. Daher kann das Verfahren zur Herstellung einer lichtdurchlässigen Kunststoffplatte nicht angewandt werden.
Darüberhinaus werden in Hinblick auf die Technologie nichtspiegelnder Filme verschiedene Ausbildungsverfahren und verschiedene Anordnungen davon geoffenbart. Die US-A-4422721 beschreibt das Aufbringen von nichtspiegelnden Überzügen, die jeweils eine Schicht mit geringem Brechungsindex umfaßt, die eine elektrisch leitende Schicht mit hohem Brechungsindex trägt, auf Glas. Die EP-A-0145210 beschreibt nichtspiegelnde optische Überzüge, die auf einer nichtspiegelnden Tafel aus nichtspezifiziertem Material vorgesehen und an den Betrachtungsschirm einer Kathodenstrahlröhre gebunden sind. Die nichtspiegelnden optischen Überzuge umfassen jeweils eine elektrisch leitende Schicht und eine freie Oberflächenschicht aus einem Material mit einem Brechungsindex, der geringer ist als jener der elektrisch leitenden Schicht. Dieses Dokument wird gemäß Artikel 54(3) EPÜ anerkannt. Die japanischen Patentveröffentlichungen Nr. SHO 59-48702, SHO 59-78301 und SHO 59- 78304 offenbaren ein Verfahren zur Schaffung nichtspiegelnder Überzüge, worin ein harter Überzugsfilm, der ein Polyorganosilan umfaßt, oder ein gehärteter Film, der ein Epoxyharz umfaßt, auf einer Kunststoffbasisplatte gebildet wird und dann ein nichtspiegelnder Film, der eine Vielzahl von Oxidverbindungsschichten umfaßt, auf einer Kunststoffbasisplatte vorgesehen wird. Die Anordnung verfügt über große Härte an der Oberfläche und eine zufriedenstellende Nichtspiegelungsfunktion, aber die Haftung zwischen der Basisplatte und dem Film, ihre Wärmebeständigkeit, Stoßfestigkeit, Beständigkeit gegen heißes Wasser und Witterungsbeständigkeit sind nicht zufriedenstellend. Die japanischen Patentveröffentlichungen Nr. SHO 45-6193, SHO 59-48702, SHO 59-78301 und SHO 59-78304 offenbaren andere Anordnungen, die andere nichtspiegelnde Filme umfassen, aber die Haftung zwischen der Basisplatte und dem nichtspiegelnden Film ist bei diesen Anordnungen ebenfalls nicht zufriedenstellend, und die Oberflächen der nichtspiegelnden Filme unterliegen der Gefahr der Beschädigung. Darüberhinaus besteht die Gefahr, daß die Platten durch Wasser oder Alkohol beschädigt werden, und bei den Anordnungen bestehen Haftungsprobleme zwischen der Basisplatte und dem Film nach dem Eintauchen der Platte in heißes Wasser und auch bei extremem Wetter.
Es sind zwar mehrere herkömmliche Technologien beschrieben worden, aber bei all diesen Technologien besteht ein Problem in Verbindung mit der Haftung zwischen einer an einer Basisplatte vorgesehenen harten Überzugsschicht und einer auf der harten Überzugsschicht vorgesehenen Schicht aus nichtspiegelndem Film. Daher hat der nichtspiegelnde Film die Tendenz, sich langfristig von der harten Überzugsschicht abzulösen.
Die vorliegende Erfindung zielt darauf ab, eine lichtdurchlässige Platte zu schaffen, die elektromagnetische Wellen abschirmen kann, worin eine elektrisch leitende Schicht auf eine Basisplatte aufgetragen ist, auch wenn die Basisplatte aus einem Kunststoffmaterial konstruiert ist.
Die vorliegende Erfindung zielt in einem ihrer Aspekte auch darauf ab, eine Technologie bereitzustellen, worin die Härte an einer Oberfläche der lichtdurchlässigen Platte erhöht werden kann.
Weiters zielt die Erfindung darauf ab, eine Technik bereitzustellen, worin die lichtdurchlässige Platte auch eine Nichtspiegelungsfunktion haben kann.
Insbesondere zielt die vorliegende Erfindung gemäß einem weiteren Aspekt darauf ab, eine lichtdurchlässige Platte bereitzustellen, die einen nichtspiegelnden Film mit hervorragenden physikalischen Eigenschaften in verschiedenster Hinsicht aufweist.
Somit schafft die vorliegende Erfindung gemäß einem Aspekt eine lichtdurchlässige Platte, die fähig ist, sichtbares Licht hindurchzulassen und dennoch von elektronischen Geräten erzeugte elektromagnetische Wellen abzuschirmen, und die aufweist:
eine transparente Kunststoffbasisplatte;
auf einer Oberfläche der transparenten Basisplatte eine erste harte Überzugsschicht mit Kratzfestigkeit;
auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte entfernten Oberfläche der harten Überzugsschicht eine elektrisch leitende Schicht, die Indiumoxid und Zinnoxid enthält;
auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte entfernten Oberfläche der elektrisch leitenden Schicht eine Schicht mit einem Brechungsindex im sichtbaren Lichtbereich, der geringer ist als jener der elektrisch leitenden Schicht;
auf einer Oberfläche der transparenten Kunststoffbasisplatte, die einem Betrachter zugewandt sein soll eine zweite harte Überzugsschicht:
auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte entfernten Oberfläche der zweiten harten Überzugsschicht einen nichtspiegelnden Überzug, der aus einer Vielzahl von Schichten besteht;
worin die erste harte Überzugsschicht, auf der die elektrisch leitende Schicht angebracht ist, auf einer Oberfläche der transparenten Basisplatte angebracht ist, die der Quelle für sichtbares Licht zugewandt sein soll, welche Oberfläche der Oberfläche der transparenten Basisplatte gegenüberliegt, auf der die zweite harte Überzugsschicht angebracht ist.
Gemäß weiterer Aspekte stellt die Erfindung (i) eine elektronische Vorrichtung, die eine Quelle für sichtbares Licht aufweist und die obige lichtdurchlässige Platte umfaßt, sowie
(ii) die Verwendung der obigen lichtdurchlässigen Platte für die Übertragung von Licht von einer Lichtquelle einer elektronischen Vorrichtung bereit, während gleichzeitig elektromagnetische Wellen von der elektronischen Vorrichtung abgeschirmt werden.
Gemäß einem weiteren Aspekt schafft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung der obigen Platte, welches Verfahren folgende Schritte umfaßt:
(i) das Ausbilden einer ersten harten kratzfesten Überzugsschicht auf einer ersten Oberfläche einer transparenten Kunststoffbasisplatte;
(ii) das Ausbilden einer Indiumoxid und Zinnoxid enthaltenden elektrisch leitenden Schicht auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte entfernten Oberfläche der harten Überzugsschicht, welcher Schritt durch Verdampfungsbeschichtung unter Verwendung von Plasma aufgrund elektrischer Hochfrequenzentladung in einer Sauerstoffatmosphäre und bei einer Temperatur von weniger als 150ºC mit Hilfe einer Ionenkanone durchgeführt wird;
(iii) das Ausbilden einer Schicht mit einem geringeren Brechungsindex im Bereich sichtbaren Lichtes als jenem der elektrisch leitenden Schicht auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte entfernten Oberfläche der elektrisch leitenden Schicht;
(iv) das Ausbilden der zweiten harten Überzugsschicht auf einer zweiten Oberfläche der transparenten Kunststoffbasisplatte gegenüber deren erster Oberfläche; und
(v) das Ausbilden eines aus einer Vielzahl von Schichten bestehenden nichtspiegelnden Überzugs auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte entfernten Oberfläche der zweiten harten Überzugsschicht.
Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nun detailliert unter Bezugnahme auf die bei liegenden Zeichnungen beschrieben.
Fig. 1 ist eine Schnittansicht einer lichtdurchlässigen Platte gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die die Funktion hat, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, sowie die Funktion, statischer Aufladung zu widerstehen. Die harte Überzugsschicht 2 ist auf einer Oberfläche der transparenten Basisplatte vorgesehen, und die harte Überzugsschicht 2 weist Kratzfestigkeit auf. Die elektrisch leitende Schicht 3 ist auf einer Oberfläche der harten Überzugsschicht 2 vorgesehen. Die Schicht 4 ist auf einer Oberfläche der elektrisch leitenden Schicht 3 vorgesehen, und die Schicht 4 hat einen geringeren Brechungsindex als die elektrisch leitende Schicht 3. Auf einer anderen Oberfläche der Basisplatte 1 ist eine kratzfeste harte Überzugsschicht 2 vorgesehen, und auf der harten Überzugsschicht 2' ist ein nichtspiegelnder Film 4' vorgesehen. Bezugszeichen 5 benennt einen Abschnitt einer freiliegenden Oberfläche der elektrisch leitenden Schicht 3. Die lichtdurchlässige Platte 100 ist 50 angeordnet, daß eine Oberfläche mit der elektrisch leitenden Schicht 3 zu einer Oberfläche gerichtet ist, die ein Bild erzeugt, beispielsweise einer Oberfläche einer Kathodenstrahlröhre.
Fig. 2 ist eine Draufsicht der lichtdurchlässigen Platte 100 von Fig. 1. Die freiliegende Oberfläche 5 der elektrisch leitenden Schicht 3 kann entweder entlang der gesamten Peripherie der lichtdurchlässigen Platte 100 oder nur entlang eines Teils der Peripherie ausgebildet sein. Zum Abschirmen elektromagnetischer Wellen und/oder zum Eliminieren statischer Elektrizität ist um die Platte 100 ein (nicht gezeigter) Metallrahmen vorgesehen, so daß er die elektrisch leitende Schicht 3 berührt, oder ein Erdungsdraht 6 ist an die elektrisch leitende Schicht 3 angeschlossen. Der Erdungsdraht 6 ist wünschenswert an eine Ecke der elektrisch leitenden Schicht 3 angeschlossen.
Die Fig. 3-7 zeigen bevorzugte Ausführungsformen gemäß vorliegender Erfindung in Hinblick auf das Anschließen eines Erdungsdrahtes. In Fig. 3 ist das Loch 9 durch die lichtdurchlässige Platte 100 hindurch vorgesehen, und ein Erdungsdraht 15 ist über das Metallanschlußstück 6a daran angeschlossen. Bei diesem Anschluß ist es wünschenswert, eine Metalldichtung 7 zu verwenden. Das Metallanschlußstück 6a ist durch Fixiermittel fixiert, beispielsweise eine Stellschraube 10a und Mutter 10b (Fig. 3), oder ein Klemmstück 8 (Fig. 4). Dann wird der Abschnitt des Anschlusses mit einer Kunststoffabdeckung 11 bedeckt. Fig. 5 zeigt eine Ausführungsform, worin Metallanschlußstück 6a beinahe parallel zur lichtdurchlässigen Platte 100 in der Kunststoffabdeckung 11 fixiert ist. Fig. 6 zeigt eine Ausführungsform, worin der schraubenartige Einsatz 12 in das Loch 9 eingepaßt ist und der Erdungsdraht 15 durch die Schraube 13 über das Metallanschlußstück 6a befestigt ist. In diesem Fall erleichtert das Vorsehen eines Loches 11a auf der Abdeckung 11 das Entfernen der Schraube 13, und die Anordnung ist zweckmäßig, um die lichtdurchlässige Platte 100 vom Gerät abzunehmen oder die Platte 100 zu reinigen. Fig. 7 zeigt eine Ausführungsform, worin der Erdungsdraht 15 über den Regler 14a und 14b an die Platte 100 angeschlossen ist.
Fig. 8 ist eine teilweise Schnittansicht einer lichtdurchlässigen Platte mit einem nichtspiegelnden Film, der gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung aus einer Vielzahl von Schichten besteht. Auf einer Oberfläche der transparenten Kunststoffbasisplatte 1 sind die harte Überzugsschicht 2, die elektrisch leitende Schicht 3 und die Schicht 4 mit einem geringeren Brechungsindex als die elektrisch leitende Schicht 3 vorgesehen, und auf einer anderen Oberfläche der Basisplatte 1 sind die harte Überzugsschicht 2' mit Kratzfestigkeit und der nichtspiegelnde Film 20 vorgesehen. Der nichtspiegelnde Film 20 ist konstruiert aus Nr. 1 Schicht 21, Nr. 2 Schicht 22, Nr. 3 Schicht 23 und Nr. 4 Schicht 24.
Eine spezielle Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nun beschrieben.
Eine erste kratzfeste harte Überzugsschicht ist auf einer ersten Oberfläche einer transparenten Kunststoffbasisplatte vorgesehen. Bei dem Kunststoff, aus dem die Basisplatte besteht, kann es sich um jeden herkömmlichen Kunststoff handeln. Mit der transparenten Basisplatte ist jede Kunststoffplatte gemeint, die fähig ist, Licht hindurchzulassen. In dem Fall, daß eine lichtdurchlässige Platte für ein Display eines Textverarbeitungsgerätes usw. verwendet wird, ist es wünschenswert, eine Basisplatte zu verwenden, die durch ihre eigene Farbe oder Färbung auf das Hindurchlassen sichtbarer Strahlen mit 25-75% eingestellt ist. Durch die obige Einschränkung wird eine Ermüdung der Augen einer Bedienungsperson verringert. Mit der kratzfesten harten Überzugsschicht ist eine Überzugsschicht mit hoher Härte gemeint, beispielsweise eine Schicht, die Polyorganosiloxan, Silika oder Tonerde enthält, oder eine Überzugsschicht, die aus einem Härtungsanstrich, beispielsweise einem Acrylanstrich, konstruiert ist. Obwohl die Oberfläche der Kunststoffplatte im allgemeinen der Gefahr der Beschädigung ausgesetzt ist, können die Eigenschaften der Oberfläche durch die harte Überzugsschicht verbessert werden, und gleichzeitig wird die Haftung einer elektromagnetische Wellen abschirmenden Schicht durch das Auftragen der harten Überzugsschicht darunter erhöht. Am meisten bevorzugt besteht die harte Überzugsschicht aus einem Polyorganosiloxan, das durch Wärmekondensation nach dem Auftragen von Methyltrimethoxysilan und Vinyltriäthoxysilan oder nach dem Auftragen einer Hydrolyseverbindung davon hergestellt wird. Eine wünschenswerte Filmdicke der harten Überzugsschicht liegt im Bereich von etwa 1-10 um. Die Acryl enthaltende harte Überzugsschicht ist beispielsweise aus einer Verbindung konstruiert, die mit einer Acrylverbindung und einer Esterverbindung vernetzt ist. Die Acrylverbindung ist beispielsweise aus Methacrylsäure konstruiert, und die Esterverbindung ist beisielsweise aus einer Esterverbindung konstruiert, die aus einem Ester und einem polyfunktionalen Glykol, beispielsweise Pentaerythritol oder Glycerin, hergestellt wird.
Als nächstes wird auf einer Oberfläche der harten Überzugsschicht eine elektrisch leitende Schicht vorgesehen. Für die elektrisch leitende Schicht kann jedes Material verwendet werden, das elektrische Leitfähigkeit aufweist und fähig ist, Licht hindurchzulassen, aber vorzugsweise ist die Schicht aus einer Mischung mit Indiumoxid (In&sub2;O&sub3;) und Zinnoxid (SnO&sub2;) konstruiert, die in der Folge als "ITO" bezeichnet wird. "ITO" weist große elektrische Leitfähigkeit auf, kann elektromagnetische Wellen wirksam abschirmen und kann sichtbare Strahlen hindurchlassen. Die Filmdicke der "ITO"-Schicht kann beliebig groß sein, solange die Schicht die obigen Funktionen erfüllen kann. Eine wünschenswerte Dicke liegt im Bereich von 100-3000 A/(10-300 nm). Wenn eine Dicke von mehr als 300 nm eingesetzt wird, besteht die Gefahr, daß Risse auftreten. Die "ITO"-Schicht kann durch Sputtern aufgetragen werden. Es können andere Verfahren angewandt werden, um die "ITO"-Schicht auszubilden. Beispielsweise wird die "ITO"-Schicht durch Verdampfungsbeschichtung unter Verwendung von Plasma aufgrund der elektrischen Hochfrequenzentladung in einer Sauerstoffatmosphäre und in einem Temperaturzustand von weniger als 150ºC mit Hilfe einer Ionenkanone gebildet.
Als nächstes wird auf der Oberfläche der elektrisch leitenden Schicht eine Schicht mit einem geringeren Brechungsindex als jenem der elektrisch leitenden Schicht vorgesehen. Im allgemeinen ist der Brechungsindex der Schicht hoch, da die elektrisch leitende Schicht Metall enthält. Beispielsweise beträgt der Brechungsindex der "ITO"- Schicht etwa 2,0. Wenn das Reflexionsausmaß aufgrund des hohen Brechungsindex größer wird, nimmt auch die Ermüdung der Augen der Bedienungsperson zu. Daher ist es notwendig, auf der Oberfläche der elektrisch leitenden Schicht eine Schicht mit geringem Brechungsindex vorzusehen, wodurch Reflexion auf die lichtdurchlässige Platte verhindert wird. Bei der Schicht mit geringem Brechungsindex kann es sich um jede herkömmliche Schicht mit geringem Brechungsindex handeln, aber die Schicht ist wünschenswert eine Schicht, die anorganische Silika enthält. Die anorganische Silika enthaltende Schicht kann durch Sputtern der Silika oder durch Vakuumverdampfungsbeschichtung der Silika gebildet werden. Die Filmdicke der Schicht kann beliebig groß sein, solange die Schicht Reflexion entsprechend verhindern kann.
Die erste harte Überzugsschicht, die elektrisch leitende Schicht und die Schicht mit dem geringen Brechungsindex sind auf der ersten Oberfläche der Basisplatte vorgesehen, während auf der zweiten Oberfläche der Basisplatte gegenüber der ersten Oberfläche zumindest eine zweite harte Überzugsschicht vorgesehen ist und auf dieser zweiten harten Überzugsschicht ein nichtspiegelnder Überzug vorgesehen ist.
Der nichtspiegelnde Überzug ist ein Film, der aus einer Vielzahl von Schichten besteht, die wiederum als Schicht Nr. 1, Schicht Nr. 2, Schicht Nr. 3 und Schicht Nr.4 bezeichnet werden können. Die Schicht Nr. 1 ist auf der Oberfläche der zweiten harten Überzugsschicht vorgesehen. Der Hauptbestandteil der Schicht Nr. 1 ist Zirkonoxid. Die Schicht Nr. 2 ist auf der Oberfläche der Schicht Nr. 1 vorgesehen, und der Hauptbestandteil der Schicht Nr. 2 ist Siliziumdioxid. Die Schicht Nr. 1 dient als Verbinder zwischen der harten Überzugsschicht und der Schicht Nr. 2, und die Stärke sowohl der Haftung zwischen der harten Überzugsschicht und der Schicht Nr. 1 als auch zwischen der Schicht Nr. 1 und der Schicht Nr. 2 wird erhöht. Die Schicht Nr. 2 erhöht die Stärke der Haftung sowohl an der Schicht Nr. 1 als auch der Schicht Nr. 3. Alternativ dazu kann es sich, wenn die Schicht Nr. 1 und die Schicht Nr. 2 als ein einzelner Film konstruiert sind, der zu einem Film äquivalent ist, der durch die getrennten Schichten Nr. 1 und Nr. 2 bereitgestellt wird, bei dem äquivalenten Film um einen Film mit mittlerem Brechungsindex handeln, d. h. einem Brechungsindex zwischen jenem der Schicht Nr. 3 mit hohem Brechungsindex und der Schicht Nr. 4 mit geringem Brechungsindex. Die Schicht Nr. 3 ist an der Oberfläche der Schicht Nr. 2 vorgesehen, und der Hauptbestandteil der Schicht Nr. 3 ist Titanoxid. Die Schicht Nr. 4 ist an der Oberfläche der Schicht Nr. 3 vorgesehen, und der Hauptbestandteil der Schicht Nr. 4 ist Siliziumdioxid. Der Film, der Schicht Nr. 1 und Schicht Nr. 2 äquivalent ist und den mittleren Brechungsindex aufweist, die Schicht Nr. 3 mit dem hohen Index und die Schicht Nr. 4 mit dem niedrigen Index stellen insgesamt den nichtspiegelnden Film dar, wobei der Film die hervorragende Funktion aufweist, die Reflexion zu verhindern.
Der obige nichtspiegelnde Film kann durch Vakuumverdampfung oder Sputtern beschichtet werden. Vakuumverdampfung ist besser als Sputtern. Die Hilfe eines Ionenstrahls kann zum Bilden des Films in Anspruch genommen werden. Titanoxid kann der Zirkoniumoxid enthaltenden Schicht Nr. 1 beigegeben werden, solange die Wirkung, die für eine lichtdurchlässige Platte gemäß vorliegender Erfindung erwünscht wird, nicht verringert wird. Auf die gleiche Art kann der Titanoxid enthaltenden Schicht Nr. 3 Ta&sub2;O&sub5; beigegeben wurden.
Die Dicke des nichtspiegelnden Films kann beliebig groß sein, solange der Film die Reflexion sichtbarer Strahlen verhindern kann. Vorzugsweise sind die optischen Filmdicken folgende, wenn die Konstruktionswellenlänge λ&sub0; im Bereich 450 - 550 nm liegt.
Schicht Nr. 1: 0,05 bis 0,15 λ&sub0;,
Schicht Nr. 2: 0,05 bis 0,15 λ&sub0;,
Schicht Nr. 3: 0,36 bis 0,49 λ&sub0;, und
Schicht Nr. 4: 0,15 bis 0,35 &sub0;.
Insbesondere beträgt die Dicke der Schicht Nr. 4 wünschenswert 0,25 λ&sub0;.
Somit ist der aus einer Vielzahl von Schichten konstruierte nichtspiegelnde Film auf einer Oberfläche der Kunststoffbasisplatte vorgesehen, während die Indiumoxid- Zinnoxid-Schicht ("ITO"-Schicht) und die Siliziumdioxid enthaltende Schicht an der gegenüberliegenden Oberfläche vorgesehen sind. Bei einer solchen lichtdurchlässigen Platte ist eine Schicht, die die Funktion hat, Reflexion zu verhindern, auf einer Oberfläche ausgebildet, und eine Schicht, die die Funktion hat, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, ist auf der gegenüberliegenden Oberfläche ausgebildet. Bei einer solchen Anordnung, bei der die Siliziumdioxid enthaltende Schicht auf der "ITO"- Schicht vorgesehen ist, ist die Filmdicke der "ITO"-Schicht relativ zur Größe ausgebildet, beispielsweise 500-1000 A (50-100 nm).
Bei der lichtdurchlässigen Platte gemäß vorliegender Erfindung kann eine Erdungseinrichtung daran angeschlossen sein, um statische Elektrizität zu eliminieren. In dem Fall, daß eine "ITO"-Schicht vorgesehen ist, kann ein Erdungsdraht an die "ITO"- Schicht direkt angeschlossen sein, oder es kann Kontinuität über eine spezielle elektrisch leitende Komponente zwischen der "ITO"-Schicht und dem Erdungsdraht gewährleistet werden. Als weitere Einrichtung kann um die Platte ein aus Metall konstruierter Außenrahmen vorgesehen sein, und die statische Elektrizität kann über den Rahmen entladen werden. Auch kann der Metallrahmen in diesem Fall vorzugsweise direkt mit der "ITO"-Schicht in Berührung kommen, oder es kann über eine spezielle elektrisch leitende Komponente zwischen dem Metallrahmen und der "ITO"-Schicht Kontinuität aufrechterhalten werden.
Wie oben beschrieben, kann das Vorsehen der harten Überzugsschicht auf der transparenten Kunststoffbasisplatte die Härte der lichtdurchlässigen Platte erhöhen, wodurch die Platte die Eigenschaften der Verschleißfestigkeit und Haltbarkeit verliehen bekommt, auch wenn die Basisplatte aus einem Kunststoff mit geringer Härte besteht. Das Vorsehen der auf der harten Überzugsschicht vorgesehenen elektrisch leitenden Schicht und der auf der elektrisch leitenden Schicht vorgesehenen Schicht mit geringem Brechungsindex kann elektromagnetische Wellen abschirmen und gleichzeitig Reflexion verhindern.
Weiters kann, da an der Oberfläche gegenüber der Oberfläche, auf der die elektrisch leitenden Schicht vorgesehen ist, ein nichtspiegelnder Film mit hervorragender Beständigkeit gegen statische Ladung vorgesehen ist, eine lichtdurchlässige Platte, die elektromagnetische Wellen abschirmt, auch statische Elektrizität eliminieren und Reflexion verhindern. Weiters können, da der aus einer Vielzahl von Schichten konstruierte nichtspiegelnde Film auch hervorragende Haftungsstärke, Beständigkeit, Verschleißfestigkeit, Haltbarkeit, Stoßfestigkeit, chemische Beständigkeit, Flexibilität, Wärmebeständigkeit, Lichtbeständigkeit und Witterungsbeständigkeit aufweist, insgesamt hervorragende optische Produkte erhalten werden.
Eine repräsentative Analyse der Bestandteile der elektrisch leitenden Schicht oder des nichtspiegelnden Films gemäß vorliegender Erfindung kann durch die Anwendung der Auger-Elektronenspektrophotometrie durchgeführt werden. Bei diesem Verfahren wird die Oberfläche einer in einem hohem Vakuum angeordneten Probe mit einem Elektronenstrahl bestrahlt, und das von der Oberfläche freigesetzte Auger-Elektron wird von einem Analysator mit einer Energieteilung gemessen. Die Bedingungen der Messung sind die folgenden:
Analysator: "JAMP-IOS" hergestellt von Nippon Denshi Kabushiki Kaisha (einer japanischen Firma)
Vakuumgrad (beim Messen einer äußersten Oberfläche): 1·10&supmin;&sup7;Pa
Vakuumgrad (beim Messen in einer Tiefenrichtung): 6·10&supmin;&sup6;Pa (Argonatmosphäre)
Probenentnahme: Fixieren einer Probe auf einem Probengestell, wobei eine Kante der Probe mit einer Kupferplatte niedergehalten wird
Beschleunigungsspannung: 3,0 kV
Stromfluß durch eine Probe: 1·10&supmin;&sup8; A
Durchmesser des Elektronenstrahls: 1 um
für die Messung verwendeter Schlitz: Nr. 5
Neigungswinkel einer Probe: 40-70 Grad
Ätzbedingung des Ar-Ions: Beschleunigungsspannung: 3,0 kV
Stromfluß durch eine Probe: 3·10&supmin;&sup7;A
Ätzgeschwindigkeit: 200A/min (2onm/min) (bei SiO&sub2;)
Die elektromagnetische Wellen abschirmende lichtdurchlässige Platte gemäß vorliegender Erfindung ist wirksam, besonders wenn sie als ein Filter für ein TV-Gerät oder ein Display verwendet wird. Als andere Anwendungen ist es möglich, die Platte als eine Linse anzuwenden, und es ist auch möglich, sie in verschiedene Gestalten zu bringen, beispielsweise die eines Films, eines Blocks usw.

BEISPIELE

Ausführungsformen der Erfindung werden aufgrund der folgenden detaillierten Beschreibung der Beispiele besser verstanden werden.

BEISPIEL 1

Eine im Handel erhältliche Polymethacrylatplate wird als eine transparente Kunststoffbasisplatte verwendet. (Bei der Platte handelt es sich um "Acrylite" (Markenname) LN-084, hergestellt von Mitsubishi Rayon Kabushiki Kaisha, grau gefärbt, Dicke: 2 mm). Eine Mischung aus zwei Verbindungen (eine erhalten durch das Hydrolysieren von Vinyltriäthoxysilan mit Eisessig und die andere erhalten durch das Hydrolysieren von Methyltriäthoxysilan mit Eisessig) wird als Filmbildungsbestandteil eines Anstrichs zur Schaffung eines harten Überzugs verwendet, wie in Beispiel 1 der japanischen Patentveröffentlichung Nr. SHO 59-114501 gezeigt. Der Anstrich wird hergestellt, indem zu der Mischung Natriumacetat, ein Härtungsmittel, zugefügt wird, und dann ein Silizium enthaltendes Schmiermittel zur Mischung zugefügt wird. Der Anstrich wird auf die Oberfläche der Basisplatte bis zu einer Dicke von 2 um aufgetragen und wird durch Erwärmung ausgehärtet. So wird die harte Überzugsschicht gebildet.
Als nächstes wird als eine elektrisch leitende Schicht eine Mischung aus In&sub2;O&sub3; und SnO&sub2; auf die harte Überzugsschicht aufgetragen, und die Mischung wird durch Sputtern mit einer Filmdicke von 700A/ (70 nm) aufgetragen. Die Sputterbedingungen sind die gleichen wie die in Beispiel 7-9 der japanischen Patentveröffentlichung Nr. SHO 60- 3205 3 gezeigten. Das heißt, das eingesetzte Target ist eine Indium-Zinn-Legierung, es wird eine Magnetronsputtervorrichtung verwendet, die Atmosphäre ist eine Gasmischung aus Argon und Sauerstoff (Sauerstoff: 30 Vol.-%), und der Vakuumdruck der Atmosphäre beträgt 1·10&supmin;³ Torr.
Als nächstes wird als Schicht mit geringem Brechungsindex ein aus Siliziumdioxid konstruierter Film auf der elektrisch leitenden Schicht ausgebildet. Der Film wird nach dem Elektronenstrahlverfahren unter Verwendung eines Vakuumverdampfungsbeschichtungsgerätes (BMC-800T, hergestellt von Shinku Kikai Kogyo Kabushiki Kaisha) gebildet. Die Filmdicke beträgt 940A (94 nm).
Auf der anderen Oberfläche der Basisplatte wird die gleiche harte Überzugsschicht wie oben vorgesehen. Dann werden auf der harten Überzugsschicht der Reihe nach ein Film aus Aluminiumoxid und ein Film aus Siliziumdioxid gebildet, wodurch sich die Funktion der Härtung der Oberfläche und Verhinderung der Reflexion auf die Platte ergibt.
Die oben erhaltene lichtdurchlässige Platte hat die folgenden Funktionen. Das Übertragungsvolumen elektromagnetischer Wellen in der Frequenz von 10 GHz wird im Vergleich zu einer transparenten Kunststoffbasisplatte allein auf etwa 1/10 des Volumens verringert. Wenn die Platte als ein optisches Filter für ein Textverarbeitungsgerät verwendet wird, ist es hervorragend, was die Verhinderung von Reflexion betrifft, und eine Ermüdung der Augen der Bedienungsperson wird wirksam verringert. Die Härte der Oberfläche wird erhöht, so daß die Platte gegen Abnutzung beständig gemacht wird.

BEISPIEL 2

Eine harte Überzugsschicht auf der Basisplatte wird auf die gleiche Art wie in Beispiel 1 ausgebildet. Als nächstes wird durch Sputtern ein Film aus Siliziumdioxid mit einer Dicke von 100 A/(10 nm) als eine Unterbeschichtung auf der harten Überzugsschicht ausgebildet. Dann werden auf der Unterbeschichtung eine durch Sputtern aufgetragene "ITO"-Schicht, Filmdicke 1400 A (140 nm), und in durch Vakuumverdampfungsbeschichtung gebildeter Film aus Siliziumdioxid auf die gleiche Art wie in Beispiel 1 ausgebildet. Auf der gegenüberliegenden Oberfläche der Basisplatte wird auf die gleiche Art wie in Beispiel 1 eine harte Überzugsschicht ausgebildet. Dann werden auf der harten Überzugsschicht der Reihe nach Schichten aus Y&sub2;O&sub3; (λ/4) TiO&sub2; (λ/2), SlO&sub2; (λ/4) vorgesehen. λ ist eine Konstruktionswellenlänge.
Die wie oben erhaltene lichtdurchlässige Platte hat die folgenden Funktionen. Das Übertragungsvolumen der elektromagnetischen Wellen bei einer Frequenz von 10 GHz wird verglichen mit einer transparenten Kunststoffbasisplatte allein auf etwa 1/22 des Volumens verringert. Wenn die Platte als optisches Filter für ein Textverarbeitungsgerät verwendet wird, ist sie wirksamer, was die Verhinderung der Reflexion und die Verhinderung der Abnutzung betrifft, als jene von Beispiel 1.

BEISPIEL 3

In diesem Beispiel wird eine im Handel erhältliche Polymethacrylatplatte mit einer harten Überzugsschicht darauf als eine Basisplatte verwendet. (Bei der Platte handelt es sich um "Acrylite" (Markenname) LN-084, hergestellt von Mitsubishi Rayon Kabushiki Kaisha, grau gefärbt, Dicke: 2 mm). Andere Schichten, d. h. die "ITO"-Schicht und die Schicht mit einem geringen Brechungsindex werden auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 ausgebildet. Die Platte von Beispiel 3 hat ebenso hervorragende Eigenschaften wie die von Beispiel 1.

BEISPIEL 4

Eine Polymethacrylatplatte ("Acrylite" (Markenname) LN-084, grau gefärbt, Dicke: 2 mm) wird als eine Basisplatte verwendet. Ein Anstrich zur Schaffung eines harten Überzugs, der als filmbildenden Bestandteil eine Mischung aus zwei Verbindungen enthält (eine wird durch Hydrolysieren von Vinyltriäthoxysilan mit Eisessig erhalten, und die andere wird durch Hydrolysieren von Methyltriäthoxysilan mit Eisessig erhalten), wird verwendet, wie in Beispiel 1 der japanischen Patentveröffentlichung Nr. SHO 59-114501 gezeigt. Der Anstrich wird hergestellt, indem Natriumacetat, ein Härtungsmittel, zur Mischung zugegeben wird und dann ein Silizium enthaltendes Oberflächenschmiermittel zu der Mischung zugegeben wird.
Der Anstrich wird auf beide Oberflächen der Basisplatte bis zu einer Dicke von 2 um aufgetragen und wird dann 3 Stunden lang bei 90ºC ausgehärtet. So werden harte Überzugsschichten gebildet.
Als nächstes wird auf die harte Überzugsschicht auf einer Oberfläche der Basisplatte eine "ITO"-Schicht aufgetragen, und dann wird auf der "ITO"-Schicht durch Vakuumverdampfungsbeschichtung eine SiO&sub2;-Schicht vorgesehen. Nun auf die andere harte Überzugsschicht auf der anderen Oberfläche der Basisplatte bezugnehmend, wird die Oberfläche in einen Vakuumverdampfungsbeschichtungstank gegeben. Nachdem der Tank auf 60ºC erwärmt wurde und auf ein Vakuum von 133·10&supmin;&sup5; Pa (1·10&supmin;&sup5; Torr) gebracht wurde, wird die Oberfläche mit einem Argonionenstrahl gereinigt, der von der Kaufman-Ionenstrahlerzeugungsvorrichtung bei einer Beschleunigung von 500V erzeugt wurde. Dann werden nach dem Elektronenstrahlverfahren der Reihe nach von der Oberfläche der Basisplatte die folgenden vier Schichten gebildet.
(1) Schicht Nr. 1: der Hauptbestandteil der Schicht ist Zirkonoxid, die optische Filmdicke beträgt etwa 42 nm, und die Vakuumbedingung beim Bilden der Schicht ist 4·10&supmin;³ Pa (3·10&supmin;&sup5; Torr).
(2) Schicht Nr. 2: der Hauptbestandteil der Schicht ist Siliziumdioxid, die optische Filmdicke beträgt etwa 42 nm, und die Vakuumbedingung beim Bilden der Schicht ist 133·10&supmin;&sup5; Pa (1·10&supmin;&sup5; Torr).
(3) Schicht Nr. 3: der Hauptbestandteil der Schicht ist Titanoxid, die optische Filmdicke beträgt etwa 133 nm, und die Vakuumbedingung beim Bilden der Schicht ist 533·10&supmin;&sup5; Pa (4·10&supmin;&sup5; Torr).
(4) Schicht Nr. 4: der Hauptbestandteil der Schicht ist Siliziumdioxid, die optische Filmdicke beträgt etwa 120 nm, und die Vakuumbedingung beim Bilden der Schicht ist 133·10&supmin;&sup5; Pa (1·10&supmin;&sup5; Torr).
In den obigen Absätzen (1)-(4) beträgt eine Konstruktionswellenlänge, die den optischen Filmdicken entspricht, 480 nm.
Die auf die obige Art erhaltene Platte hat die Reflexionsinterferenzfarbe Königspurpur, und weist eine überragende Funktion auf, die Reflexion zu verhindern, wodurch der Oberflächenreflexionsfaktor bei 550 nm etwa 0,2% beträgt. Die Platte hat auch eine hervorragende Härte an der Oberfläche. Eine Polyesterfaserbahn, aus der ein Quadrat mit 2 cm Seitenlänge gebildet ist, das ins Wasser getaucht wird, wird an der Oberfläche der Platte angeordnet, eine Last von 2 kg wird auf die Bahn ausgeübt, und die Bahn wird dann hin- und herbewegt, während der obige Belastungszustand aufrechterhalten wird. Es trat keine Abnutzung auf.
Ein Test des Aussetzens an die Atmosphäre wird durchgeführt, indem die Platte 1 Monat lang im Freien gelassen wird. Das Ergebnis besteht darin, daß kein Wegbrechen des Antireflexionsfilmes und keine Beschädigung der Oberfläche auftritt. Wenn die Platte als ein optisches Filter für ein Textverarbeitungsgerät verwendet wird, hat sie unübertroffene Eigenschaften, was die Verhinderung der Reflexion betrifft, und die Ermüdung der Augen einer Bedienungsperson wird stark verringert. Auch die Beständigkeit der Platte ist hervorragend.
In Hinblick auf die Eigenschaft der Beständigkeit gegen statische Ladung wird auch die folgende Messung durchgeführt. Ein elektrostatisches Voltmeter ("Statiron M", hergestellt von der japanischen Firma Shishido Seidenki Kabushiki Kaisha) wird 53 mm von der Vorderfläche eines Kathodenstrahlbildschirms entfernt angeordnet. Der Kathodenstrahlbildschirm (NEC-KDSSIK) wird an einen Personalcomputer (PC-9801E, hergestellt von Nihon Denki Kabushiki Kaisha) angeschlossen. Wenn der Personalcomputer eingeschaltet ist, beträgt die vom "Statiron M" gemessene Spannung mehr als 9 kV. Als nächstes wird eine Platte gemäß vorliegender Erfindung zwischen dem Kathodenstrahlbildschirm und "Statiron M" in einer Position 30 mm vom "Statiron M" entfernt angeordnet. Die Platte wird geerdet. Dann wird der Personalcomputer eingeschaltet, aber das vom "Statiron M" gemessene elektrostatische Potential bleibt bei 0. Die Wirkung der statischen Widerstandsfähigkeit aufgrund der Platte war besonders gut.

Claims

1. Lichtdurchlassige Platte (100), die dazu fähig ist, sichtbares Licht von einer Quelle dafür durchzulassen und dennoch von elektronischen Geräten erzeugte elektromagnetische hellen abzuschirmen, und die aufweist:

eine transparente Kunststoffbasisplatte (1);

auf einer Oberfläche der transparenten Kunststoffbasisplatte (1) eine erste harte Überzugsschicht (2), die Kratzfestigkeit aufweist;

auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte (1) entfernten Oberfläche der harten Überzugsschicht (2) eine elektrisch leitende Schicht (3), die Indiumoxid und Zinnoxid enthält; und

auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte (1) entfernten Oberfläche der elektrisch leitenden Schicht (3) eine Schicht (4) mit einem Brechungsindex im sichtbaren Lichtbereich, der geringer ist als jener der elektrisch leitenden Schicht (3);

dadurch gekennzeichnet, daß

a) die Platte weiters auf einer Oberfläche der transparenten Kunststoffbasisplatte (1), die einem Betrachter zugewandt sein soll, eine zweite harte Oberzugsschicht (2') und

auf einer von der transparenten Kunststoffbasislatte (1) entfernten Oberfläche der zweiten harten Überzugsschicht (2') einen nichtspiegelnden Überzug (4', 20) umfaßt, der aus einer Vielzahl von Schichten (21-24) besteht; und

b) die erste harte Überzugsschicht (2), auf der die elektrisch leitende Schicht (3) angebracht ist, auf einer Oberfläche der transparenten Basisplatte (1) angebracht ist, die der Quelle für sichtbares Licht zugewandt sein soll, welche Oberfläche der Oberfläche der transparenten Basisplatte gegenüberliegt, auf der die zweite harte Überzugsschicht (2') angebracht ist.

2. Lichtdurchlässige Platte nach Anspruch 1, worin die Filmdicke der elektrisch leitenden Schicht (3) im Bereich von 10 bis 300 nm liegt.

3. Lichtdurchlässige Platte nach Anspruch 1 oder 2, worin die harten Überzugsschichten (2, 2') Schichten sind, die Organopolysiloxan enthalten.

4. Lichtdurchlässige Platte nach Anspruch 1, 2 oder 3, worin die harten Überzugsschichten (2, 2') durch Beschichtung mit einem Härtungsanstrich gebildet werden.

5. Lichtdurchlässige Platte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, worin die transparente Kunststoffbasisplatte (1) eine farbige Platte ist.

6. Lichtdurchlässige Platte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, worin die Schicht (4) mit einem niedrigen Brechungsindex eine aus anorganischer Silika konstruierte Schicht ist.

7. Lichtdurchlässige Platte nach Anspruch 6, worin die aus anorganischer Silika konstruierte Schicht durch Vakuumverdampfungsbeschichtung gebildet ist.

8. Lichtdurchlässige Platte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, worin ein Erdungsdraht (6, 15) an die elektrisch leitende Schicht (3) angeschlossen ist.

9. Lichtdurchlässige Platte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, worin ein Außenrahmen um die lichtdurchlässige Platte vorgesehen ist, wobei der Außenrahmen sich entlang der Kante der lichtdurchlässigen Platte erstreckt und die elektrisch leitende Schicht berührt.

10. Lichtdurchlässige Platte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, worin der nichtspiegelnde Überzug aus den folgenden Schichten besteht:

einer auf einer Oberfläche der zweiten harten Überzugsschicht (2') vorgesehenen ersten Schicht (21), wobei der Hauptbestandteil der ersten Schicht (21) Zirkonoxid ist;

einer auf einer Oberfläche der ersten Schicht (21) vorgesehenen zweiten Schicht (22), wobei der Hauptbestandteil der zweiten Schicht (22) Siliziumdioxid ist;

einer auf einer Oberfläche der zweiten Schicht (22) vorgesehenen dritten Schicht (23), wobei der Hauptbestandteil der dritten Schicht (23) Titanoxid ist; und

einer auf einer Oberfläche der dritten Schicht (23) vorgesehenen vierten Schicht (24), wobei der Hauptbestandteil der vierten Schicht (24) Siliziumdioxid ist.

11. Lichtdurchlässige Platte nach Anspruch 10, worin die optischen Filmdicken der ersten bis vierten Schicht (21,22,23,24) die folgenden Dicken bezogen auf eine Konstruktionswellenlänge πo im Bereich 450-550 nm sind:

erste Schicht: 0,05-0,15 πo

zweite Schicht: 0,05-0,15% πo

dritte Schicht: 0,36-0,49 πo und

vierte Schicht: 0,15-0,35 πo

12. Lichtdurchlässige Platte nach einem der Ansprüche 1 bis 9, worin der nichtspiegelnde Oberzug aus den folgenden Schichten besteht:

einer auf einer Oberfläche der genannten zweiten harten Überzugsschicht (2') vorgesehenen einzelnen Klebeschicht;

einer auf der Oberfläche der einzelnen Klebeschicht vorgesehenen Schicht mit hohem Brechungsindex; und

einer auf der Oberfläche der Schicht mit hohem Brechungsindex vorgesehenen Schicht mit niedrigem Brechungsindex;

wobei die genannte einzelne Klebeschicht einen Brechungsindex aufweist, der zwischen dem der genannten jeweiligen Schichten mit hohem und niedrigem Brechungsindex liegt.

13. Lichtdurchlässige Platte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, worin die lichtdurchlässige Platte ein optisches Filter für eine Kathodenstrahlröhre ist.

14. Verfahren zur Herstellung einer Platte nach Anspruch 1, welches Verfahren folgende Schritte umfaßt:

i) das Ausbilden einer ersten harten kratzfesten Überzugsschicht (2) auf einer ersten Oberfläche einer transparenten Kunststoffbasisplatte (1);

ii) das Ausbilden einer Indiumoxid und Zinnoxid enthaltenden elektrisch leitenden Schicht (3) auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte (1) entfernten Oberfläche der harten Überzugsschicht (2), welcher Schritt durch Verdampfungsbeschichtung unter Verwendung von Plasma aufgrund elektrischer Hochfrequenzentladung in einer Sauerstoffatmosphäre und bei einer Temperatur von weniger als 15000 mit Hilfe einer Ionenkanone durchgeführt wird;

iii) das Ausbilden einer Schicht (4) mit einem geringeren Brechungsindex im Bereich sichtbaren Lichtes als jenem der elektrisch leitenden Schicht (3) auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte (1) entfernten Oberfläche der elektrisch leitenden Schicht (3);

iv) das Ausbilden der zweiten harten Oberzugsschicht (2') auf einer zweiten Oberfläche der transparenten Kunststoffbasisplatte (1) gegenüber deren erster Oberfläche; und

v) das Ausbilden eines aus einer Vielzahl von Schichten (21-24) bestehenden nichtspiegelnden Überzugs (4') auf einer von der transparenten Kunststoffbasisplatte (1) entfernten Oberfläche der zweiten harten Überzugsschicht (2').

15. Verfahren nach Anspruch 14, worin die Filmdicke der elektrisch leitenden Schicht (3) im Bereich von 10 bis 300 nm liegt.

16. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15, worin die harten Überzugsschichten (2, 2') Schichten sind, die Organopolysiloxan enthalten.

17. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15, worin die harten Überzugsschichten (2, 2') durch Beschichtung mit einem Härtungsanstrich gebildet sind.

18. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 17, worin die transparente Kunststoffbasisplatte (1) eine farbige Platte ist.

19. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 18, worin die Schicht (4) mit einem niedrigen Brechungsindex eine aus anorganischer Silika konstruierte Schicht ist.

20. Verfahren nach Anspruch 19, worin die aus anorganischer Silika konstruierte Schicht durch Vakuumverdampfungsbeschichtung gebildet wird.

21. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 20, das zusätzlich das Anschließen eines Erdungsdrahtes (6, 15) an die elektrisch leitende Schicht (3) umfaßt.

22. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 21, das zusätzlich das Vorsehen eines Außenrahmens um die lichtdurchlässige Platte umfaßt, wobei sich der Außenrahmen entlang der Kante der lichtdurchlässigen Platte erstreckt und die elektrisch leitende Schicht berührt.

23. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 22, worin der nichtspiegelnde Überzug aus den folgenden Schichten besteht:

24. Verfahren nach Anspruch 23, worin die optischen Filmdicken der ersten bis vierten Schicht (21, 22, 23, 24) die folgenden Dicken bezogen auf eine Konstruktionswellenlänge πo im Bereich 450-550 nm sind:

erste Schicht: 0,05-0,15 πo,

zweite Schicht: 0,05-0,15 πo,

dritte Schicht: 0,36-0,49 πo und

vierte Schicht: 0,15-0,35 πo

25. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 22, worin der nichtspiegelnde Überzug aus den folgenden Schichten besteht:

einer auf einer Oberfläche der zweiten harten Überzugsschicht (2') vorgesehenen einzelnen Klebeschicht;

wobei die einzelne Klebeschicht einen Brechungsindex aufweist, der zwischen jenen der jeweiligen Schichten mit hohem und niedrigem Brechungsindex liegt.

26. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 25, worin die Schichten des nichtspiegelnden Überzugs durch Verdampfungsbeschichtung gebildete Filme sind.

27. Verfahren nach Anspruch 26, worin die Verdampfungsbeschichtung durch Vakuumbeschichtung unter Verwendung eines Elektronenstrahls durchgeführt wird.

28. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 25, worin der nichtspiegelnde Überzug zumindest eine, durch Sputtern gebildete, Filmschicht ist.

29. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 28, worin die genannte lichtdurchlässige Platte ein optisches Filter für eine Kathodenstrahlrohre ist.

30. Elektronische Vorrichtung mit einer Quelle für sichtbares Licht, wobei die genannte Vorrichtung eine lichtdurchlässige Platte (100) nach einem der Ansprüche 1 bis 13 enthält.

31. Verwendung einer lichtdurchlässigen Platte (100) nach einem der Ansprüche 1 bis 16 in einer elektronischen Vorrichtung, um das Übertragen von Licht von einer Lichtquelle der genannten elektronischen Vorrichtung zuzulassen, während gleichzeitig elektromagnetische Wellen von der genannten elektronischen Vorrichtung abgeschirmt werden.