JPH0637361Y2 - 除電性を有する多層反射防止光透過板 - Google Patents
除電性を有する多層反射防止光透過板Info
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- JPH0637361Y2 JPH0637361Y2 JP1987030286U JP3028687U JPH0637361Y2 JP H0637361 Y2 JPH0637361 Y2 JP H0637361Y2 JP 1987030286 U JP1987030286 U JP 1987030286U JP 3028687 U JP3028687 U JP 3028687U JP H0637361 Y2 JPH0637361 Y2 JP H0637361Y2
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Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は除電性を有するプラスチック光透過板に関す
る。さらに詳しくはディスプレイやテレビのブラウン管
（CRT）などから発生する静電気を効果的にシールドす
ることが可能な光透過板に関する。
る。さらに詳しくはディスプレイやテレビのブラウン管
（CRT）などから発生する静電気を効果的にシールドす
ることが可能な光透過板に関する。
［従来技術］ オフィスオートメーション機器、例えばワードプロセッ
サーや各種のコンピュータなどのディスプレイや、ゲー
ム器、テレビのブラウン管などは陰極線を用いているた
め、画像表示装置の上に静電気が発生し易く、ほこりな
どが付着し易い。そしてほこりが付着すると画像が極め
て見にくくなるという問題点がある。またCRTと反対電
位に帯電したオペレーターへのほこり等の付着により、
オペレーターに肌アレや眼の充血をひきおこすとの指摘
もある。
サーや各種のコンピュータなどのディスプレイや、ゲー
ム器、テレビのブラウン管などは陰極線を用いているた
め、画像表示装置の上に静電気が発生し易く、ほこりな
どが付着し易い。そしてほこりが付着すると画像が極め
て見にくくなるという問題点がある。またCRTと反対電
位に帯電したオペレーターへのほこり等の付着により、
オペレーターに肌アレや眼の充血をひきおこすとの指摘
もある。
さらにCRTなどから発生する静電気のため、時として電
気ショックによる不快感を受けることもある。
気ショックによる不快感を受けることもある。
そこで従来よりかかる静電気やを取り除くため種々の改
良がなされてきた。その有効な手段は金属などの導電物
で覆うことである。例えば細い繊維の表面にカーボンを
粘着させてメッシュ構造にしたものを貼りつけるとか、
蝶理株式会社の商品名“アイセーバー”のように、合わ
せガラスの内部に金属細線を導入させたものがある。し
かしこれらの方法ではディスプレーから発生する光を透
過しない部分を生ずるので、ワードプロセッサーなどの
使用者にとっては見にくいという欠点を有していた。ま
た他の公知例としては、ガラス基材に対して導電物質を
高温蒸着した技術が提案されているが（特公昭49−1844
7号公報）、この方法ではプラスチック基材は軟化ある
いは溶融するものが多く、また表面に傷がつき易いとい
う欠点を改良できず利用できないものであった。
良がなされてきた。その有効な手段は金属などの導電物
で覆うことである。例えば細い繊維の表面にカーボンを
粘着させてメッシュ構造にしたものを貼りつけるとか、
蝶理株式会社の商品名“アイセーバー”のように、合わ
せガラスの内部に金属細線を導入させたものがある。し
かしこれらの方法ではディスプレーから発生する光を透
過しない部分を生ずるので、ワードプロセッサーなどの
使用者にとっては見にくいという欠点を有していた。ま
た他の公知例としては、ガラス基材に対して導電物質を
高温蒸着した技術が提案されているが（特公昭49−1844
7号公報）、この方法ではプラスチック基材は軟化ある
いは溶融するものが多く、また表面に傷がつき易いとい
う欠点を改良できず利用できないものであった。
従ってプラスチックの透明板に対しては、その有効な技
術がなく、現在のところ全く改善がなされていないのが
現状である。
術がなく、現在のところ全く改善がなされていないのが
現状である。
本発明者らは既に電磁波シールド性タイプの光透過板を
提案しているが（特開昭61−245449号公報）、この技術
は電磁波シールド性という制電性から見るとオーバース
ペックの厚さであるため、コストが高いという問題点が
あった。
提案しているが（特開昭61−245449号公報）、この技術
は電磁波シールド性という制電性から見るとオーバース
ペックの厚さであるため、コストが高いという問題点が
あった。
本考案はかかる技術をさらに改良したものである。
［考案が解決しようとする問題点］ 本考案は上記従来技術の欠点を改善する技術を提供す
る。すなわちプラスチックの透明板を用いて、表層に多
層反射防止層を設けるとともに、その一部に導電層を設
けることにより、効果的に反射防止と制電性（帯電防止
性）が発揮できる技術を提供する。
る。すなわちプラスチックの透明板を用いて、表層に多
層反射防止層を設けるとともに、その一部に導電層を設
けることにより、効果的に反射防止と制電性（帯電防止
性）が発揮できる技術を提供する。
［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するため本考案は下記の構成を有する。
「プラスチック透明基材の上に耐擦禍性を有するハード
コート層を設け、その表層に多層反射防止層を設けた光
透過板において、前記多層反射防止層の最外層は低屈折
率の層からなり、かつ内層に前記低屈折率層より相対的
に高い屈折率層を設け、該相対的に高い屈折率層のハー
ドコート層と接しない部分に膜厚が２〜50nmの範囲の透
明導電膜を配置したことを特徴とする除電性を有する多
層反射防止光過板。」 本考案においては、まずプラスチック透明基材の上に耐
擦禍性を有するハードコート層を設けることが必要であ
る。ここでプラスチックとは、公知のいかなるものであ
ってもよい。また透明基材とは、光が通過し得るもので
あればいかなるものであってもよい。
コート層を設け、その表層に多層反射防止層を設けた光
透過板において、前記多層反射防止層の最外層は低屈折
率の層からなり、かつ内層に前記低屈折率層より相対的
に高い屈折率層を設け、該相対的に高い屈折率層のハー
ドコート層と接しない部分に膜厚が２〜50nmの範囲の透
明導電膜を配置したことを特徴とする除電性を有する多
層反射防止光過板。」 本考案においては、まずプラスチック透明基材の上に耐
擦禍性を有するハードコート層を設けることが必要であ
る。ここでプラスチックとは、公知のいかなるものであ
ってもよい。また透明基材とは、光が通過し得るもので
あればいかなるものであってもよい。
ワードプロセッサーなどのディスプレーの前面に使用す
るものにあっては、原着、または染色により可視光線透
過率を25〜70％としたものが好ましい。目の疲労を減少
するためである。
るものにあっては、原着、または染色により可視光線透
過率を25〜70％としたものが好ましい。目の疲労を減少
するためである。
また耐擦禍性を有するハードコート層とは、ポリオルガ
ノシロキサン、シリカ、アルミナなどの硬度の高いコー
ティング層、またはアクリル成分を含む層をいう。プラ
スチック製品の表面は一般に傷がつき易いので、これを
改良するため、及び表層にコートする多層反射防止層の
アンダーコートして密着性を高めるためである。そして
特に好ましくは、ハードコート層はメチルトリメトキシ
シラン、およびビニルトリエトキシシランなどのシラン
化合物、またはこれらの加水分解物をコーティングした
後に加熱縮合させたポリオルガノシロキサンである。
ノシロキサン、シリカ、アルミナなどの硬度の高いコー
ティング層、またはアクリル成分を含む層をいう。プラ
スチック製品の表面は一般に傷がつき易いので、これを
改良するため、及び表層にコートする多層反射防止層の
アンダーコートして密着性を高めるためである。そして
特に好ましくは、ハードコート層はメチルトリメトキシ
シラン、およびビニルトリエトキシシランなどのシラン
化合物、またはこれらの加水分解物をコーティングした
後に加熱縮合させたポリオルガノシロキサンである。
そしてハードコート層の好ましい膜厚は、１〜10ミクロ
ン程度である。
ン程度である。
またアクリル系ハードコート層とは、メタクリル酸など
のアクリル化合物と、ペンタエリストリール、グリセリ
ンなどの多官能グリコールとのエステル化合物を架橋さ
せたものなどをいう。
のアクリル化合物と、ペンタエリストリール、グリセリ
ンなどの多官能グリコールとのエステル化合物を架橋さ
せたものなどをいう。
次に本考案においては、前記のハードコート層の表層に
多層反射防止層を設ける。反射防止を有効になすためで
ある。
多層反射防止層を設ける。反射防止を有効になすためで
ある。
そして本考案において特徴的なことは、かかる反射防止
層の一部のハードコート層と接しない層に透明導電膜を
設けた点にある。すなわち、本考案の多層反射防止膜
は、少なくとも高屈折率層とその上の低屈折率層からな
るが、かかる多層反射防止層の高屈折率層のハードコー
ト層と接しない一部分に透明導電膜を配置したことであ
る。このようにすることにより、高屈折率層を構成する
層の一部を透明導電膜で置換するので、光学特性を損な
わないようにすることができる。なお導電層は一般に屈
折率が高く、例えば前記ITO層の屈折率は約2.0である。
層の一部のハードコート層と接しない層に透明導電膜を
設けた点にある。すなわち、本考案の多層反射防止膜
は、少なくとも高屈折率層とその上の低屈折率層からな
るが、かかる多層反射防止層の高屈折率層のハードコー
ト層と接しない一部分に透明導電膜を配置したことであ
る。このようにすることにより、高屈折率層を構成する
層の一部を透明導電膜で置換するので、光学特性を損な
わないようにすることができる。なお導電層は一般に屈
折率が高く、例えば前記ITO層の屈折率は約2.0である。
透明導電層としては、可視光線を透過し得るものであれ
ば、In2O3（酸化インジウム）、SnO2（酸化スズ）など
いかなるものであってもよいが、好ましくは、In2O
3（酸化インジウム）とSnO2（酸化スズ）との混合物
（以下ITOという。）である。導電性能が高く、静電気
を有効にシールドでき、さらに可視光線透過率が高いか
らである。すなわちITO膜は明るくて着色せず、透明性
に優れるとともに、電気電導度が高く、総合的にバラン
スが優れているからである。ITO層の膜厚は、２〜50nm
（20〜500Å）であることが好ましい。膜厚が2nm未満で
は効果的な静電気シールドができにくく、また50nmを越
える範囲では光学特性上の調節がしにくくなり、また経
済的メリットも失われる。
ば、In2O3（酸化インジウム）、SnO2（酸化スズ）など
いかなるものであってもよいが、好ましくは、In2O
3（酸化インジウム）とSnO2（酸化スズ）との混合物
（以下ITOという。）である。導電性能が高く、静電気
を有効にシールドでき、さらに可視光線透過率が高いか
らである。すなわちITO膜は明るくて着色せず、透明性
に優れるとともに、電気電導度が高く、総合的にバラン
スが優れているからである。ITO層の膜厚は、２〜50nm
（20〜500Å）であることが好ましい。膜厚が2nm未満で
は効果的な静電気シールドができにくく、また50nmを越
える範囲では光学特性上の調節がしにくくなり、また経
済的メリットも失われる。
上記の厚さの透明導電膜は、独立の層として設けるので
はなく、例えば高屈折率層とするためにはTiO2層と等価
膜で合計λ/2の厚さに設けたり、あるいは中屈折率層と
するために、SiO2層と等価膜で合計λ/4の厚さに設ける
ことなどが推奨される。
はなく、例えば高屈折率層とするためにはTiO2層と等価
膜で合計λ/2の厚さに設けたり、あるいは中屈折率層と
するために、SiO2層と等価膜で合計λ/4の厚さに設ける
ことなどが推奨される。
透明導電膜の形成は、いわゆる低温スパッタリング法、
高周波プラズマ法を応用した真空蒸着法によって150℃
以下の温度条件で行うことができ、性能的に満足のでき
る薄膜を得ることができる。一般的には蒸着法の方が多
層反射膜を形成させるうえで経済的に有利である。
高周波プラズマ法を応用した真空蒸着法によって150℃
以下の温度条件で行うことができ、性能的に満足のでき
る薄膜を得ることができる。一般的には蒸着法の方が多
層反射膜を形成させるうえで経済的に有利である。
次に本考案においては、前記導電層を含む高屈折率層の
表層に、低屈折率の層を設けることが必要である。反射
防止効果を発揮させるためである。
表層に、低屈折率の層を設けることが必要である。反射
防止効果を発揮させるためである。
かかる低屈折率の層としては、SiO2、弗化マグネシウム
などの公知のいかなる層であってもよいが、好ましくは
無機のシリカを含む層である。かかる無機シリカ層は、
シリカをスパッタリング、あるいは真空蒸着することに
より得ることができる。膜厚は可視光線を反射防止でき
る程度の厚さであればいかなる厚さでもよい。
などの公知のいかなる層であってもよいが、好ましくは
無機のシリカを含む層である。かかる無機シリカ層は、
シリカをスパッタリング、あるいは真空蒸着することに
より得ることができる。膜厚は可視光線を反射防止でき
る程度の厚さであればいかなる厚さでもよい。
本考案においては低屈折率とは、可視光線を用いて通常
の条件で測定して1.5未満の屈折率をいう。
の条件で測定して1.5未満の屈折率をいう。
本考案においては、上記の積層をプラスチック基材の１
面または２面に設ける。１面に設けた場合は、反対面の
傷付防止をするため、少くとも上記で説明した第１層の
ハードコートを設けることが好ましく、さらにはハード
コート層の表面に反射防止層を設けることである。
面または２面に設ける。１面に設けた場合は、反対面の
傷付防止をするため、少くとも上記で説明した第１層の
ハードコートを設けることが好ましく、さらにはハード
コート層の表面に反射防止層を設けることである。
さらに最外層として、防汚性を付与するため、シリコー
ン系樹脂による被膜やフッ系樹脂により被膜を設けても
よい。
ン系樹脂による被膜やフッ系樹脂により被膜を設けても
よい。
本考案においては、アース線を取りつけることにより、
より効果的に静電気シールドができる。この場合アース
線は透明導電膜から取り出してもよいが、反射防止膜層
等の最外層を介して取り出すことにより、十分目的を達
成することができる。
より効果的に静電気シールドができる。この場合アース
線は透明導電膜から取り出してもよいが、反射防止膜層
等の最外層を介して取り出すことにより、十分目的を達
成することができる。
以下図面により説明する。
第１〜４図は本考案の好ましい制電性と反射防止性を有
する光透過板として好ましく用いられる光透過板の１実
施態様の断面を示す。
する光透過板として好ましく用いられる光透過板の１実
施態様の断面を示す。
すなわち第１〜２図はプラスチック基板１の上にハード
コート層２を設け、その上に中屈折率層（ここで、中屈
折率層とは、低屈折率層Ａよりも屈折率が高く、高屈折
率層Ｂよりも屈折率が低い層を指す。）Ｃ、高屈折率層
（一部に透明導電膜10を含む）Ｂ、低屈折率層Ａをこの
順序で設けたものである。
コート層２を設け、その上に中屈折率層（ここで、中屈
折率層とは、低屈折率層Ａよりも屈折率が高く、高屈折
率層Ｂよりも屈折率が低い層を指す。）Ｃ、高屈折率層
（一部に透明導電膜10を含む）Ｂ、低屈折率層Ａをこの
順序で設けたものである。
第３図は本考案の基本的技術思想の一部を示す図であ
り、ハードコート層２の上に、高屈折率層（一部に透明
導電膜10を含む）Ｂ、低屈折率層Ａをこの順序で設けた
ものである。
り、ハードコート層２の上に、高屈折率層（一部に透明
導電膜10を含む）Ｂ、低屈折率層Ａをこの順序で設けた
ものである。
第１図において、中屈折率層Ｃは、酸化ジコニウム層３
と二酸化ケイ素層４からなる、膜厚がλ/4のものが好ま
しい。高屈折率層Ｂは、TiO2層５とITO膜10からなる、
膜厚λ/2のものが好ましい。低屈折率層Ａは、SiO2層７
からなる膜厚がλ/4のものが好ましい。
と二酸化ケイ素層４からなる、膜厚がλ/4のものが好ま
しい。高屈折率層Ｂは、TiO2層５とITO膜10からなる、
膜厚λ/2のものが好ましい。低屈折率層Ａは、SiO2層７
からなる膜厚がλ/4のものが好ましい。
第２図は第１図の高屈折率層ＢのTiO2層５とITO膜10の
順序を置き替えたものである。第２〜３図において番号
は第１図と同じ層を示す。
順序を置き替えたものである。第２〜３図において番号
は第１図と同じ層を示す。
本考案の静電気シールド性を有する光透過板の用途は、
テレビやディスプレーの画面のフィルター（いわゆる光
学フィルター）に特に有効である。その他眼鏡などのレ
ンズや、フィルム、ショーウィンドー用成形物としての
用途も期待できる。
テレビやディスプレーの画面のフィルター（いわゆる光
学フィルター）に特に有効である。その他眼鏡などのレ
ンズや、フィルム、ショーウィンドー用成形物としての
用途も期待できる。
［実施例］ 以下実施例により説明する。
実施例１ 基材として市販のポリメチルメタクリレートキャスト板
（三菱レイヨン株式会社製“アクリライト”（登録商
標）LN−084,グレー原着品、厚さ約2mm）を使用した。
ハードコート用塗料としては特開昭59−114501号公報の
実施例１の記載の通り、ビニルトリエトキシシランを氷
酢酸水溶液で加水分解したものと、メチルトリエトキシ
シランを氷酢酸水溶液で加水分解したものを混合して用
いた。この混合溶解物に硬化剤として酢酸ナトリウムを
加え、さらにシリコーン系界面活性剤を加えて最終塗料
とした。
（三菱レイヨン株式会社製“アクリライト”（登録商
標）LN−084,グレー原着品、厚さ約2mm）を使用した。
ハードコート用塗料としては特開昭59−114501号公報の
実施例１の記載の通り、ビニルトリエトキシシランを氷
酢酸水溶液で加水分解したものと、メチルトリエトキシ
シランを氷酢酸水溶液で加水分解したものを混合して用
いた。この混合溶解物に硬化剤として酢酸ナトリウムを
加え、さらにシリコーン系界面活性剤を加えて最終塗料
とした。
この塗料を基材表面に塗布し、加熱キュアして約２ミク
ロン厚さの硬化膜を形成させた。上記で得たハードコー
ト加工した基板を真空蒸着装置（真空器械工業株式会社
製HMC−2200型，カウフマン型イオン銃と高周波コイル
を設置してある）にセットし、先ず、ハードコート面の
処理として真空度約２×10-5Torrの雰囲気下で加速電圧
600V条件で、アルゴンのイオンビームを９分間照射し
た。次に多層蒸着膜第１層として酸化ジルコニウムを真
空度約４×10-5Torrの条件下で（酸素導入）蒸着し、第
２層として二酸化ケイ素を約２×10-5Torrの条件下で蒸
着し、第３層といて二酸化チタンを約５×10-5Torr（酸
素導入）条件下で、加速電圧600V条件でのアルゴンイオ
ンビームを照射しながら蒸着した。さらに第４層として
ITO（酸化インジウムと酸化錫の混合物）を約1.5×10-4
Torr（酸素導入）の条件下で高周波（13.56MHz）200Wを
かけて発生させたプラスマ雰囲気下で蒸着し、次いで最
外層の第５層として二酸化ケイ素を約２×10-5Torrの条
件下で蒸着した。蒸着時の設定温度は、すべて60℃と
し、各層の光学的膜厚は下地側から順にλ/4×0.35、λ
/4×0.35、λ/4×1.67、λ/4×0.15、λ/4×1.00と（た
だしλ＝480nm）なるよう光学モニターを使用して制御
した。上記ITO膜の厚さは約10nmであった。
ロン厚さの硬化膜を形成させた。上記で得たハードコー
ト加工した基板を真空蒸着装置（真空器械工業株式会社
製HMC−2200型，カウフマン型イオン銃と高周波コイル
を設置してある）にセットし、先ず、ハードコート面の
処理として真空度約２×10-5Torrの雰囲気下で加速電圧
600V条件で、アルゴンのイオンビームを９分間照射し
た。次に多層蒸着膜第１層として酸化ジルコニウムを真
空度約４×10-5Torrの条件下で（酸素導入）蒸着し、第
２層として二酸化ケイ素を約２×10-5Torrの条件下で蒸
着し、第３層といて二酸化チタンを約５×10-5Torr（酸
素導入）条件下で、加速電圧600V条件でのアルゴンイオ
ンビームを照射しながら蒸着した。さらに第４層として
ITO（酸化インジウムと酸化錫の混合物）を約1.5×10-4
Torr（酸素導入）の条件下で高周波（13.56MHz）200Wを
かけて発生させたプラスマ雰囲気下で蒸着し、次いで最
外層の第５層として二酸化ケイ素を約２×10-5Torrの条
件下で蒸着した。蒸着時の設定温度は、すべて60℃と
し、各層の光学的膜厚は下地側から順にλ/4×0.35、λ
/4×0.35、λ/4×1.67、λ/4×0.15、λ/4×1.00と（た
だしλ＝480nm）なるよう光学モニターを使用して制御
した。上記ITO膜の厚さは約10nmであった。
以上の加工を施して得られた本考案品は、その表面が極
めて硬く（♯0000のスチールウールで約1kg/cm2の荷重
をかけながら５往復表面擦過してもほとんどキズの発生
は認められなかった）、蒸着多層膜の反射防止硬化も優
れ、波長550nmにおける反射率は約2.0％、又ティッシュ
ペーパーで表面擦過したときの静電気帯電性を箔検電器
で評価したが、帯電いている様子は認められなかった。
さらに、上記で得られた基材の、上記でハードコート層
等を設けた面の反対側の面に、第４層のITO層を設けな
い以外は、同様にして、ハードコート層と反対防止層と
を設けた。
めて硬く（♯0000のスチールウールで約1kg/cm2の荷重
をかけながら５往復表面擦過してもほとんどキズの発生
は認められなかった）、蒸着多層膜の反射防止硬化も優
れ、波長550nmにおける反射率は約2.0％、又ティッシュ
ペーパーで表面擦過したときの静電気帯電性を箔検電器
で評価したが、帯電いている様子は認められなかった。
さらに、上記で得られた基材の、上記でハードコート層
等を設けた面の反対側の面に、第４層のITO層を設けな
い以外は、同様にして、ハードコート層と反対防止層と
を設けた。
得られた光透過板は、上記で得られた光透過板よりも、
反射防止性能に優れるものであった。
反射防止性能に優れるものであった。
本考案品はVDT用前面フィルターアースを取りつけて使
用したところ、反射防止に優れ、かつ静電気が除去でき
て好適であった。
用したところ、反射防止に優れ、かつ静電気が除去でき
て好適であった。
本実施例によって得られた光透過板の模式的断面図を第
１図に示す。
１図に示す。
実施例２ 実施例１に示した各種加工条件のうち真空蒸着の第３層
と第４層を次のように変更した多層反射防止性光透過板
を作成した。すなわち、第３層としてITOを約1.5×10-4
Torr（酸素導入）の条件下で高周波（13.56MHz）200Wを
かけて発生させたプラズマ雰囲気下で蒸着し、第４層を
約５×10-5Torr（酸素導入）の条件下で加速電圧600Vで
アルゴンイオンビームを照射しながら二酸化チタンを蒸
着した。蒸着時の設定温度は、第１層から最終第５層ま
で70℃とし、各層の光学的膜厚は下地側第１層から順に
λ/4×0.35、λ/4×0.35、λ/4×0.25、λ/4×1.58、λ
/4×1.00となるように光学モニターで制御した（ただし
λ＝480nm）。さらに、上記で得られた基材の、上記で
ハードコート層等を設けた面の反対側の面に、ITO層を
設けない以外は、同様にして、ハードコート層と反射防
止層とを設けた。
と第４層を次のように変更した多層反射防止性光透過板
を作成した。すなわち、第３層としてITOを約1.5×10-4
Torr（酸素導入）の条件下で高周波（13.56MHz）200Wを
かけて発生させたプラズマ雰囲気下で蒸着し、第４層を
約５×10-5Torr（酸素導入）の条件下で加速電圧600Vで
アルゴンイオンビームを照射しながら二酸化チタンを蒸
着した。蒸着時の設定温度は、第１層から最終第５層ま
で70℃とし、各層の光学的膜厚は下地側第１層から順に
λ/4×0.35、λ/4×0.35、λ/4×0.25、λ/4×1.58、λ
/4×1.00となるように光学モニターで制御した（ただし
λ＝480nm）。さらに、上記で得られた基材の、上記で
ハードコート層等を設けた面の反対側の面に、ITO層を
設けない以外は、同様にして、ハードコート層と反射防
止層とを設けた。
上記の加工を施して得られた本考案品の表面硬さ、反射
防止効果及び静電防止効果は実施例１で作成したものと
同等であり、VDT用前面フィルターとして好適であっ
た。
防止効果及び静電防止効果は実施例１で作成したものと
同等であり、VDT用前面フィルターとして好適であっ
た。
本実施例によって得られた光透過板の模式的断面図を第
２図に示す。
２図に示す。
比較例１ 実施例１に示した各種加工条件のうち、反射防止層以外
の条件、すなわち基板、ハードコート、蒸着前処置まで
全く同じ条件で加工した。これ以下、真空蒸着の条件
は、多層蒸着膜第１層としてITOを約1.5×10-4Torr（酸
素導入）の条件下で高周波（13.56MHz）200Wをかけて発
生させたプラズマ雰囲気下で蒸着し、第２層として酸化
ジルコニウムを真空度約４×10-5Torrの条件下で（酸素
導入）蒸着し、第３層として二酸化ケイ素を約２×10-5
Torrの条件下で蒸着し、第４層として二酸化チタンを約
５×10-5Torr（酸素導入）の条件下で、加速電圧600V条
件でアルゴンイオンビームを照射しながら蒸着した。次
いで、最外層の第５層として二酸化ケイ素を約２×10-5
Torrの条件下で蒸着した。蒸着時の設定温度は、すべて
60℃とし、各層の光学的膜厚は下地側から順にλ/4×0.
15、λ/4×0.15、λ/4×0.40、λ/4×1.80、λ/4×1.00
（但しλ＝480nm）となるよう光学モニターを使用して
制御した。
の条件、すなわち基板、ハードコート、蒸着前処置まで
全く同じ条件で加工した。これ以下、真空蒸着の条件
は、多層蒸着膜第１層としてITOを約1.5×10-4Torr（酸
素導入）の条件下で高周波（13.56MHz）200Wをかけて発
生させたプラズマ雰囲気下で蒸着し、第２層として酸化
ジルコニウムを真空度約４×10-5Torrの条件下で（酸素
導入）蒸着し、第３層として二酸化ケイ素を約２×10-5
Torrの条件下で蒸着し、第４層として二酸化チタンを約
５×10-5Torr（酸素導入）の条件下で、加速電圧600V条
件でアルゴンイオンビームを照射しながら蒸着した。次
いで、最外層の第５層として二酸化ケイ素を約２×10-5
Torrの条件下で蒸着した。蒸着時の設定温度は、すべて
60℃とし、各層の光学的膜厚は下地側から順にλ/4×0.
15、λ/4×0.15、λ/4×0.40、λ/4×1.80、λ/4×1.00
（但しλ＝480nm）となるよう光学モニターを使用して
制御した。
この光透過板と本考案の実施例1,2の光透過板の反射防
止層の膜物性比較評価として、屋外暴露試験を実施し
た。
止層の膜物性比較評価として、屋外暴露試験を実施し
た。
太陽光が効率良く光透過板に照射するよう、光透過板を
南面でしかも地面から45度の角度にして、導電膜を有す
る反射防止層面を太陽側に向け取り付けた。１か月暴露
の後、密着性試験を実施した。その結果、本考案の光透
過板の反射防止層の剥離はなかったが、比較例１の場合
は剥離した。
南面でしかも地面から45度の角度にして、導電膜を有す
る反射防止層面を太陽側に向け取り付けた。１か月暴露
の後、密着性試験を実施した。その結果、本考案の光透
過板の反射防止層の剥離はなかったが、比較例１の場合
は剥離した。
ここで、密着性試験としては、次に示すとおりに行っ
た。
た。
密着性試験 セロハンテープ（ニチバン製）を、評価する膜面に張り
つけ、膜面から45度の方向に引張り剥離した。これを３
回くり返し、膜がセロハンテープについて剥離するかを
観察した。
つけ、膜面から45度の方向に引張り剥離した。これを３
回くり返し、膜がセロハンテープについて剥離するかを
観察した。
［考案の効果］ 本考案は、プラスチックの透明板を用いて、表層に多層
反射防止層を設けるとともに、その一部に導電層を設け
ることにより、効果的に反射防止と制電性（帯電防止
性、静電気シールド性）が発揮できるという顕著な効果
を奏する。
反射防止層を設けるとともに、その一部に導電層を設け
ることにより、効果的に反射防止と制電性（帯電防止
性、静電気シールド性）が発揮できるという顕著な効果
を奏する。
第１〜３図は本考案の好ましい制電性と反射防止性を有
する光透過板といて好ましく用いられる光透過板の１実
施態様の断面を示す。 すなわち第１〜２図はプラスチック基板１の上にハード
コート層２を設け、その上に中屈折率層Ｃ、高屈折率層
（一部に透明導電膜10を含む）Ｂ、低屈折率層Ａをこの
順序で設けたものである。 第３図は本考案の基本的技術思想を示す図でり、ハード
コート層２の上に、高屈折率層（一部に透明導電膜10を
含む）Ｂ、低屈折率層Ａをこの順序で設けたものであ
る。
する光透過板といて好ましく用いられる光透過板の１実
施態様の断面を示す。 すなわち第１〜２図はプラスチック基板１の上にハード
コート層２を設け、その上に中屈折率層Ｃ、高屈折率層
（一部に透明導電膜10を含む）Ｂ、低屈折率層Ａをこの
順序で設けたものである。 第３図は本考案の基本的技術思想を示す図でり、ハード
コート層２の上に、高屈折率層（一部に透明導電膜10を
含む）Ｂ、低屈折率層Ａをこの順序で設けたものであ
る。
Claims (8)
- 【請求項１】プラスチック透明基材の上に耐擦禍性を有
するハードコート層を設け、その表層に多層反射防止層
を設けた光透過板において、前記多層反射防止層の最外
層は低屈折率の層からなり、かつ内層に前記低屈折率層
より相対的に高い屈折率層を設け、該相対的に高い屈折
率層のハードコート層と接しない部分に膜厚が２〜50nm
の範囲の透明導電膜を配置したことを特徴とする除電性
を有する多層反射防止光透過板。 - 【請求項２】実用新案登録請求の範囲第（１）項におい
て、導電膜層が酸化インジウムと酸化スズを含む層であ
ることを特徴とする除電性を有する多層反射防止光透過
板。 - 【請求項３】実用新案登録請求の範囲第（１）項におい
て、ハードコート層が有機ポリシロキサンを含む層であ
ることを特徴とする除電性を有する多層反射防止光透過
板。 - 【請求項４】実用新案登録請求の範囲第（１）項におい
て、透明基材が着色されたものであることを特徴とする
除電性を有する多層反射防止光透過板。 - 【請求項５】実用新案登録請求の範囲第（１）項におい
て、該相対的に高い屈折率の層が、酸化チタン層または
酸化ジルコニウム層と、透明導電膜層で構成される層を
含むことを特徴とする除電性を有する多層反射防止光透
過板。 - 【請求項６】実用新案登録請求の範囲第（１）項におい
て、該相対的に高い屈折率層が、無機シリカ層または弗
化マグネシウムの層と、透明導電膜で構成される層を含
むことを特徴とする除電性を有する多層反射防止光透過
板。 - 【請求項７】実用新案登録請求の範囲第（１）項におい
て、最外層の低い屈折率の層が無機シリカ層または弗化
マグネシウム層であることを特徴とする除電性を有する
多層反射防止光透過板。 - 【請求項８】実用新案登録請求の範囲第（１）項におい
て、多層反射防止層の最外層を介してアース線が引き出
された構造であることを特徴とする除電性を有する多層
反射防止光透過板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987030286U JPH0637361Y2 (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 除電性を有する多層反射防止光透過板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987030286U JPH0637361Y2 (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 除電性を有する多層反射防止光透過板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63137301U JPS63137301U (ja) | 1988-09-09 |
| JPH0637361Y2 true JPH0637361Y2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=30834953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987030286U Expired - Lifetime JPH0637361Y2 (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 除電性を有する多層反射防止光透過板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0637361Y2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0913712A1 (en) * | 1997-10-29 | 1999-05-06 | N.V. Bekaert S.A. | Multilayer electrically conductive anti-reflective coating |
| JP3751922B2 (ja) * | 2001-08-28 | 2006-03-08 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止フィルム、およびこれを用いたディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置 |
| JP4462197B2 (ja) | 2006-01-23 | 2010-05-12 | ソニー株式会社 | 光学ローパスフィルタ |
| JP2012108204A (ja) * | 2010-11-15 | 2012-06-07 | Seiko Epson Corp | 光学素子、光学素子の製造方法、及び電子機器 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0145201A1 (en) * | 1983-11-10 | 1985-06-19 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Antireflection optical coating with antistatic properties |
| JPH0719551B2 (ja) * | 1985-04-22 | 1995-03-06 | 東レ株式会社 | 電磁波シールド性を有する光学フィルター |
| JP2501220B2 (ja) * | 1987-12-25 | 1996-05-29 | 川崎製鉄株式会社 | ヒ―ト・スクラッチのないステンレス冷延鋼板の製造方法 |
-
1987
- 1987-03-02 JP JP1987030286U patent/JPH0637361Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63137301U (ja) | 1988-09-09 |
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