DE3789010T2

DE3789010T2 - Entwicklungsvorrichtung für photoempfindliches Material.

Info

Publication number: DE3789010T2
Application number: DE87311345T
Authority: DE
Inventors: Kenjifuji Photo Film Kunichika; Hisao Fuji Photo Film Co Ohba; Tomoaki Fuji Photo F Takekoshi
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1986-12-23
Filing date: 1987-12-23
Publication date: 1994-05-11
Anticipated expiration: 2007-12-24
Also published as: EP0273699B1; JPS63158547A; EP0273699A3; DE3789010D1; JPH067257B2; EP0273699A2; US4841320A

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Entwickeln eines belichteten, photoempfindlichen Materials unter Verwendung einer Entwicklungslösung. Im einzelnen betrifft die Erfindung eine Entwicklungsvorrichtung für photoempfindliches Material, die für die Herstellung von Flachdruckplatten geeignet ist.
Bei einer herkömmlichen Serienentwicklungsvorrichtung zur Herstellung von Flachdruckplatten wird das photoempfindliche Material durch eine Vielzahl von Walzenpaaren transportiert. Während dieses Transports wird eine Entwicklungslösung auf die belichtete Oberfläche des photoempfindlichen Materials aufgetragen, wobei eine Sprühvorrichtung oder ähnliches zur Entwicklung des photoempfindlichen Materials verwendet wird. Nachdem der entwickelte (oder möglicherweise nichtentwickelte) Abschnitt der photoempfindlichen Schicht des photoempfindlichen Materials durch die Entwicklungslösung gelöst oder aufgequollen ist, wird dieser Abschnitt des photoempfindlichen Materials mit einer Bürste abgerieben.
Der Wirkungsgrad des Entwicklungsvorgangs kann durch Erwärmen der Entwicklungslösung erhöht werden. In diesem Fall jedoch neigt die Entwicklungslösung, wenn sie basisch ist, dazu, mit hoher Geschwindigkeit Kohlendioxid aus der umgebenden Luft zu absorbieren. Dies führt zu einer schnellen Ermüdung der Entwicklungslösung aufgrund der dadurch entstehenden Abnahme des Basizitätsgrades der Lösung als Ergebnis einer neutralisierenden Reaktion mit dem Kohlendioxid.
Um dieses Problem zu lösen, ist ein Verfahren vorgeschlagen worden, bei dem nur die Mindestmenge Entwicklungslösung aufgetragen und von den gelösten Abschnitten des photoempfindlichen Materials abgewischt wird, wie beispielsweise im US-Patent Nr. 4,22,656. Es hat sich jedoch bedauerlicherweise herausgestellt, daß die Wahrscheinlichkeit unvollständiger Entwicklung und der Verunreinigung beim Drucken besteht.
GB 1336584 offenbart eine Vorrichtung zur Bearbeitung von Druckplatten, die mittels Walzen durch einen Tank mit Entwicklungsflüssigkeit geleitet werden, die sowohl an der Eingangs- als auch an der Ausgangsseite des Tanks angeordnet sind. Der Tank umfaßt eine konkave Führung, die die Platte durch den Tank leitet. Der unterste Teil der konkaven Führung befindet sich unterhalb der Ebene, die die Eingangs- und Ausgangswalzen schneidet, wodurch ein verringertes Volumen an Entwicklungsflüssigkeit eingesetzt werden kann. Die Vorrichtung enthält des weiteren vorzugsweise eine Einrichtung zum Ableiten der Entwicklungsflüssigkeit aus dem Tank, so daß sie wiederverwendet werden kann. Da die Entwicklungsflüssigkeit nach der Entwicklung der Platte wiedergewonnen wird und wiederverwendet wird, kann es zu unvollständiger Entwicklung und Verunreinigung weiterer Druckplatten kommen.
US 4222656 offenbart eine Vorrichtung zur Bearbeitung belichteter lithographischer Platten, bei der Entwickler auf Platten gesprüht wird, die die Vorrichtung durchlaufen, wobei weder zuwenig noch zuviel Entwickler aufgetragen werden soll. Der Entwickler wird von sich hin und her bewegenden Schwämmen gleichmäßig auf der Platte verteilt.

Zusammenfassung der Erfindung

Die vorliegende Erfindung zielt darauf ab, eine Entwicklungsvorrichtung für photoempfindliches Material zu schaffen, bei der die Entwicklungslösung weniger schnell ermüdet wird, auch wenn die Lösung erwärmt wird, und so der Entwicklungswirkungsgrad erhöht wird, und bei der somit die Verbrauchsgeschwindigkeit der Entwicklungslösung erheblich verringert wird.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Entwickeln eines photoempfindlichen Materials, die hintereinander umfaßt: eine Einrichtung zur Erhöhung der Temperatur des photoempfindlichen Materials; eine Einrichtung zum Auftragen einer Entwicklungslösung auf eine belichtete Oberfläche des photoempfindlichen Materials; eine Einrichtung zum Entfernen überschüssiger Teile der Entwicklungslösung von dem photoempfindlichen Material; einen Entwicklungsabschnitt zum Entwickeln des photoempfindlichen Materials mit der von der Entfernungseinrichtung zurückgelassenen Entwicklungslösung; und eine Einrichtung zum Transport des photoempfindlichen Materials durch die Vorrichtung; wobei die Transporteinrichtung so angeordnet ist, daß die Transportzeit des photoempfindlichen Materials zwischen der Auftrageeinrichtung und der Entfernungseinrichtung so ist, daß die Temperatur des photoempfindlichen Materials nicht wesentlich absinkt und die Temperatur der Entwicklungslösung nicht wesentlich ansteigt, bevor sie die Entfernungseinrichtung erreichen.
Die vorliegende Erfindung schafft des weiteren ein Entwicklungsverfahren, das die obenerwähnte Abfolge von Vorgängen beinhaltet.
Das heißt, erfindungsgemäß wird zunächst die Temperatur des photoempfindlichen Materials durch die Erwärmungseinrichtung erhöht. Die Entwicklungslösung wird dann so auf das photoempfindliche Material aufgetragen, daß genau eine vorgeschriebene Menge der Lösung auf dem photoempfindlichen Material verbleibt, wohingegen überschüssige Mengen entfernt werden. Der Abschnitt des photoempfindlichen Materials, dessen Temperatur erhöht wird, und die vorgeschriebene Menge der Entwicklungslösung, die aufgetragen wird, werden so festgelegt, daß die Temperatur des photoempfindlichen Materials durch das Vorhandensein der Entwicklungslösung nicht erheblich absinkt, das photoempfindliche Material in dem erwärmten Abschnitt durch die Entwicklungslösung nicht entwickelt wird, und die aufgetragene Entwicklungslösung gleichmäßig auf dem photoempfindlichen Material verteilt wird. Durch diese Anordnung wird die von dem erwärmten Abschnitt entfernte Entwicklungslösung nicht aufgrund der Entwicklung des photoempfindlichen Materials ermüdet, wodurch die Entwicklungslösung dem Kreislauf wieder zugeführt werden kann.
Die Entwicklung des photoempfindlichen Materials findet in dem Entwicklungsabschnitt statt. Da die Temperatur der Entwicklungslösung, die in dem Entwicklungsabschnitt verwendet wird, durch die Wärme des photoempfindlichen Materials erhöht wird, ist der Entwicklungswirkungsgrad hoch. Da die in dem Entwicklungsabschnitt verwendete Entwicklungslösung aufgrund der Entwicklungsreaktion mit dem photoempfindlichen Material und des Kontaktes der Lösung mit der Umgebungsluft relativ schnell ermüdet wird, sollte die Entwicklungslösung aus dem Entwicklungsabschnitt im allgemeinen abgeschieden werden.
Da die zurückgeführte Entwicklungslösung nicht ermüdet ist, und die in dem Entwicklungsabschnitt verwendete Entwicklungslösung abgeschieden wird, wird dem photoempfindlichen Material stets vollständig unermüdete Entwicklungslösung zugeführt, wodurch der Entwicklungsvorgang sehr stabil wird. Da darüber hinaus die Menge der nach dem Entwickeln abgeschiedenen Entwicklungslösung sehr gering ist, ist die Gesamtverbrauchsgeschwindigkeit der Entwicklungslösung niedrig.
Die Erwärmungseinrichtung kann aus einem Heizkörper bestehen, der mit der Unterseite des photoempfindlichen Materials in Kontakt ist, oder sie kann sich oberhalb oder unterhalb des photoempfindlichen Materials befinden und nicht mit dem photoempfindlichen Material in Kontakt sein.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

Die einzelne Zeichnungsfigur ist eine Schnittansicht einer Entwicklungsvorrichtung für photoempfindliches Material, die erfindungsgemäß aufgebaut ist.

Beschreibung der bevorzugten Ausführungen

Bevorzugte Ausführungen der Erfindung werden im folgenden unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung beschrieben.
In der einzelnen Zeichnungsfigur ist eine Entwicklungsvorrichtung für photoempfindliches Material dargestellt, die die vorliegende Erfindung verkörpert. Eine Platte aus photoempfindlichem Material 10, die ein belichtetes Bild enthält, wird in einer Richtung A befördert. Die Temperatur des photoempfindlichen Materials 10 wird erhöht, während das Material durch eine Heizwalze 11 und eine Führungswalze 12 eingeklemmt transportiert wird.
Wenn das photoempfindliche Material 10 beispielsweise eine vorsensibilisierte Platte ist, deren Unterseite aus einer Aluminiumplatte besteht, ist die spezifische Wärme des Materials ausreichend niedrig, so daß die Temperatur des Materials leicht erhöht werden kann.
Es ist jedoch anzumerken, daß es nicht notwendig ist, einen Heizkörper zur direkten Erhöhung der Temperatur der Entwicklungslösung oder eine Vorrichtung zur Steuerung der Temperatur des photoempfindlichen Materials 10 vor der Zufuhr der Entwicklungslösung zu selbigem einzusetzen, wodurch kein Heizkörper oder eine ähnliche Vorrichtung vorhanden ist, die mit der Entwicklungslösung verunreinigt werden könnte.
Anstelle der erwärmten Walze 11 ist es möglich, einen gitterförmigen Heizkörper, einen Flächenheizkörper, einen Infrarotheizkörper, einen Hochfrequenzheizkörper, einen elektromagnetischen Induktionsheizkörper, einen Keramikheizkörper oder eine derartige Heizvorrichtung einzusetzen. Die Heizvorrichtung kann in Kontakt mit der Unterseite des photoempfindlichen Materials angeordnet sein oder sich mit einem kleinen Spalt dazwischen oberhalb oder unterhalb des photoempfindlichen Materials befinden.
Das photoempfindliche Material 10 wird in einem zweiten Abschnitt 14, einem dritten Abschnitt 16 und einem vierten Abschnitt 18 automatisch entwickelt.
Im zweiten Abschnitt 14 wird das photoempfindliche Material 10 durch ein Paar Führungswalzen 20 eingepreßt transportiert, so daß das photoempfindliche Material 10 zwischen einem Drahtstab (wire bar) 22 und einer Führungwalze 24 eingeklemmt wird, die mit dem Drahtstab 22 in Kontakt ist. Eine Sprühvorrichtung 26, durch die Entwicklungslösung auf die belichtete Oberfläche des photoempfindlichen Materials 10 aufgebracht wird, ist unmittelbar stromab von den Führungswalzen 20 angeordnet. Entwicklungslösung wird der Sprühvorrichtung 26 aus einem Tank 28 über ein Rohr 32 und eine Pumpe 34 zugeführt.
Eine Wanne 36 befindet sich unter dem zweiten Abschnitt 14 und fängt die überschüssige Entwicklungslösung auf. Die in der Wanne 36 aufgefangene Entwicklungslösung wird der Sprühvorrichtung 26 über ein Rohr 38, eine Pumpe 40 und das Rohr 32 wieder zugeführt. Ein Rohr 44, das mit einem Ventil 42 versehen ist, ist mit dem Rohr 38 verbunden und führt Entwicklungslösung aus der Wanne 36 zum Vorratstank 28 zurück, wenn die Entwicklung aller photoempfindlichen Materialien 10 abgeschlossen ist. Ein Heizkörper 46 kann, falls erforderlich, im Vorratstank 28 vorhanden sein, um die Entwicklungslösung 30 auf einer vorgeschriebenen Temperatur zu halten.
Der Drahtstab 22 besteht aus einer Welle 48 und einem Draht 50 mit einem vorgeschriebenen Durchmesser. Der Draht 50 ist spiralförmig und fest auf die Welle 48 gewickelt. Die Geschwindigkeit, mit der die Entwicklungslösung der Oberfläche des photoempfindlichen Materials 10 zugeführt wird, wird durch den Spalt bestimmt, der zwischen der Umfangsfläche des Drahtes und der Führungswalze 24 gebildet wird. Das heißt, der Drahtstab 22 und die Führungwalze 24 bilden eine Entwicklungslösungsdosiervorrichtung. Die Maße des Spaltes zwischen der Drahtoberfläche und der Führungswalze 24 werden vorzugsweise so festgelegt, daß die Dicke des auf der Oberfläche des photoempfindlichen Materials verbleibenden Entwicklungslösungsfilms 300 um oder weniger beträgt.
Das photoempfindliche Material 10, auf das auf die oben beschriebene Art und Weise Entwicklungslösung aufgetragen worden ist, wird durch die Drahtstange 22 und Führungswalze 24 zum dritten Abschnitt 16 weiterbefördert, wobei überschüssige Mengen Entwicklungslösung entfernt werden und in die Wanne 36 tropfen.
Der zweite Abschnitt 14 ist so lang, daß die Temperatur des photoempfindlichen Materials 10, die durch die Heizwalze 11 um vorzugsweise 15ºC, noch vorteilhafterweise um 25ºC oder mehr, erhöht worden ist, sich nicht erheblich verringert. Dadurch entwickelt die Temperatur der von der Oberfläche des photoempfindlichen Materials getragenen Entwicklungslösung das photoempfindliche Material nicht erheblich, bevor es den Drahtstab 22 erreicht und dort über die gesamte Breite der Oberfläche des photoempfindlichen Materials verteilt wird. Die Abnahme der Menge der photoempfindlichen Lösung im Vorratstank 28 wird durch die Zufuhr von Sekundärwasser zum Vorratstank 28 aus einem Zusatzwassertank 100 durch eine Pumpe 98 und von zusätzlicher Entwicklungslösung aus einem Zusatzentwicklungslösungszufuhrtank 112 über ein Rohr 110 ausgeglichen, wobei die relativen Mengen von zusätzlichem Wasser und zusätzlicher Entwicklungslösung so eingestellt werden, daß eine vorgegebene Konzentration der Entwicklungslösung im Vorratstank 28 aufrechterhalten wird.
Im dritten Abschnitt 16 wird das aus dem zweiten Abschnitt 14 zugeführte photoempfindliche Material 10 durch eine Führungswalze 52 auf eine Führungsplatte 54 geleitet, von einer Führungswalze 56 auf eine Führungsplatte 58 geleitet und anschließend zu einem Paar Quetschwalzen 60 weitergeleitet. Die vorgeschriebene Menge der Entwicklungslösung, die auf dem photoempfindlichen Material 10 verbleibt, wird durch die Wärme des photoempfindlichen Materials im dritten Abschnitt 16 erwärmt, um somit den Grad an Entwicklungsaktivität der Entwicklungslösung zu erhöhen und dadurch das photoempfindliche Material wirkungsvoller zu entwickeln. Eine Wanne 62 befindet sich unter den Quetschwalzen 60. Mit den Böden der Wannen 62 und 64 sind Rohre 66 bzw. 68 verbunden, durch die die in den beiden Wannen aufgefangene Entwicklungslösung abgegeben wird, wenn die Ventile 70 und 72 geöffnet werden.
Bürstenwalzen 74 und 76, die nach oben und unten bewegt werden können, befinden sich über den Führungsplatten 54 und 58. Die Bürstenwalzen 74 und 76 werden auf die Führungsplatten zu bewegt und an der Oberfläche des entwickelten photoempfindlichen Materials gedreht, um so verbleibendes entwickeltes photoempfindliches Material zu entfernen. Es ist jedoch nicht immer erforderlich, daß die Bürstenwalzen 74 und 76 vorhanden sind. Es kann bei einigen Ausführungen auch vorteilhaft sein, daß stromauf der Bürstenwalzen 74 und 76 Sprühvorrichtungen 78 und 80 vorhanden sind, die die Bürstenwalzen waschen. Darüber hinaus kann in Erwägung gezogen werden, eine Sprühvorrichtung 82 stromauf der Quetschwalzen 60 einzusetzen, um letztere zu waschen.
Im vierten Abschnitt 18 wird das photoempfindliche Material 10 nach der Entwicklung einer Endbehandlung unterzogen. Das photoempfindliche Material 10 wird zwischen Paaren von Führungswalzen 84 und 86 transportiert. Eine Sprühdüse 88 ist vorhanden, die eine Endbehandlung des photoempfindlichen Materials 10 ausführt, das zwischen dem Paar Führungswalzen 84 und 86 transportiert wird.
Wannen 90 und 92 sind unter dem vierten Abschnitt 18 vorhanden. Die Wanne 92 ist über ein Rohr 106, ein Ventil 104 und eine Pumpe 118 mit einem Vorratstank 116 verbunden, wobei letztere der Sprühdüse 88 über ein Ventil 113 und ein Rohr 111 ein Endbehandlungsmittel aus dem Vorratstank 116 zuführt.
Der Vorratstank 28 ist mit einem Rohr 114 verbunden, das sich vom Zusatzentwicklungslösungstank 112 aus erstreckt und im Mittelabschnitt des Rohrs 114 mit einer Pumpe 110 versehen ist.
Die verschiedenen Führungswalzen und die Quetschwalzen, die entlang des Transportweges des phototempfindlichen Materials angeordnet sind, werden durch eine externe Antriebsquelle (nicht dargestellt) gedreht.
Die Funktion der oben beschriebenen Ausführung der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung wird im folgenden ausführlich beschrieben.
Nachdem das photoempfindliche Material 10 mit dem Bildlicht belichtet worden ist, wird das photoempfindliche Material 10 in der Richtung A transportiert, zwischen der erwärmten Walze 11 und der Führungswalze 12 gepreßt und die Temperatur des photoempfindlichen Materials erhöht. Anschließend wird das photoempfindliche Material 10 über die Führungswalzen 20 zum zweiten Abschnitt 14 befördert. Im zweiten Abschnitt wird die Entwicklungslösung 30 durch die Sprühvorrichtung 26 auf das photoempfindliche Material 10 aufgetragen. Der zweite Abschnitt ist ausreichend kurz, so daß die Entwicklungslösung beim Durchlauf des photoempfindlichen Materials durch den zweiten Abschnitt nicht genug Wärme vom photoempfindlichen Material absorbiert, um die Temperatur des photoempfindlichen Materials erheblich zu senken oder die Temperatur der Entwicklungslösung erheblich zu erhöhen. Dementsprechend ist die überschüssige Entwicklungslösung, die von dem Drahtstab 22 entfernt wird und über die Sprühvorrichtung 26 durch Rohr 38, die Pumpe 40 und das Rohr 32 zurückgeführt wird, nicht ermüdet, da das photoempfindliche Material nicht stark entwickelt wird. Darüber hinaus wird, da die Kontaktfläche zwischen der Entwicklungslösung und der Atmosphäre gering ist, die Ermüdung aufgrund der Absorption von Kohlendioxid auf ein Minimum verringert.
Die vorgeschriebene Menge der Entwicklungslösung wird durch den Drahtstab 22 gleichmäßig auf der Oberfläche des photoempfindlichen Materials verteilt. Zu diesem Zweck kann der Drahtstab 22 entweder gedreht werden oder stationär gehalten werden. Wenn der Durchlauf des hinteren Endes des photoempfindlichen Materials 10 von einem Sensor (nicht dargestellt) erfaßt wird, wird das Auftragen der Entwicklungslösung 30 aus der Sprühvorrichtung 26 unterbrochen.
Im dritten Abschnitt 16 wird das photoempfindliche Material 10 allmählich entwickelt, während es zu den Quetschwalzen 60 transportiert wird. Die Zeit, die das photoempfindliche Material 10 benötigt, um sich durch den dritten Abschnitt 16 zu bewegen, kann durch Steuerung der Geschwindigkeit der Führungswalzen gesteuert werden. Im dritten Abschnitt wird ausreichend Wärme vom photoempfindlichen Material 10 auf die Entwicklungslösung übertragen, um ihre Temperatur ausreichend zu erhöhen und den Wirkungsgrad des Entwicklungsvorgangs zu verbessern. Obwohl dadurch natürlich die Entwicklungslösung ermüdet wird, stellt dies kein Problem dar, da die ermüdete Entwicklungslösung aus dem dritten Abschnitt über das Rohr 68 und das Ventil 72 lediglich abgeleitet und abgeschieden wird.
Das entwickelte photoempfindliche Material wird durch die Wirkung der Quetschwalzen 60 von der Entwicklungslösung getrennt, und die verbrauchte Entwicklungslösung tropft in die Wanne 64 und wird durch das Rohr 68 und das Ventil 72 abgeleitet.
Da die Quetschwalzen 60 durch Wasser von der Sprühvorrichtung 82 ständig sauber gehalten werden, wird die Entwicklungslösung durch die Wirkung der Quetschwalzen formschlüssig vom photoempfindlichen Material 10 entfernt, so daß das photoempfindliche Material, von dem die Entwicklungslösung entfernt ist, zum vierten Abschnitt 18 weitergeleitet wird.
Die ermüdete Entwicklungslösung wird über die Rohre 66 und 68 abgeleitet und abgeschieden. Daher wird keine ermüdete Entwicklungslösung über die Sprühvorrichtung 26 zurückgeführt. Da das photoempfindliche Material 10 im dritten Abschnitt 16 durch die nichtermüdete Entwicklungslösung stabil entwickelt wird, die im zweiten Abschnitt 14 durch die Drahtstange 22 dosiert auf das photoempfindliche Material aufgetragen wird, ist der Wirkungsgrad des durch die erfindungsgemäße Vorrichtung ausgeführten Entwicklungsvorgangs recht hoch.
Das durch die Quetschwalzen in den vierten Abschnitt geleitete photoempfindliche Material wird mit dem Endbehandlungsmittel, das mit der Sprühvorrichtung 88 aufgetragen wird, behandelt, und anschließend wird das Endbehandlungsmittel entfernt und das entwickelte photoempfindliche Material durch die Führungswalzen 86 aus dem vierten Abschnitt geleitet. Der gesamte Entwicklungsprozeß des photoempfindlichen Materials ist damit abgeschlossen.
Es ist jedoch anzumerken, daß im vierten Abschnitt 18, wenn gewünscht, weitere Behandlungen ausgeführt werden können, so beispielsweise eine Desensibilisierungsbehandlung oder eine Wasserwaschbehandlung.
Eine Entwicklungsvorrichtung für photoempfindliches Material, die gemäß einer bevorzugten Ausführung der vorliegenden Erfindung gebaut ist, enthält, wie oben beschrieben, eine Erwärmungsvorrichtung, die die Temperatur des photoempfindlichen Materials erhöht, bevor die Entwicklungslösung darauf aufgetragen wird, eine Vorrichtung zum Dosieren und Auftragen lediglich einer erforderlichen Mindestmenge der Entwicklungslösung auf die belichtete Oberfläche des photoempfindlichen Materials, sowie einen Entwicklungsabschnitt zum Entwickeln des photoempfindlichen Materials mit der durch die Entwicklungslösungsdosier- und auftragsvorrichtung aufgetragenen Entwicklungslösung. Bei der erfindungsgemäßen Anordnung wird nur die Temperatur der Mindestmenge der Entwicklungslösung erhöht, um den Wirkungsgrad des Entwicklungsvorgangs zu erhöhen, wodurch sich die Geschwindigkeit, mit der die Entwicklungslösung ermüdet wird, verringert. Es ist ebenfalls gewährleistet, daß das photoempfindliche Material stets mit nichtermüdeter Entwicklungslösung entwickelt wird, wodurch ein stabiler Entwicklungsvorgang möglich ist.

Claims

1. Vorrichtung zum Entwickeln eines photoempfindlichen Materials, die hintereinander umfaßt: eine Einrichtung (11) zur Erhöhung der Temperatur des photoempfindlichen Materials; eine Einrichtung (26) zum Auftragen einer Entwicklungslösung auf eine belichtete Oberfläche des photoempfindlichen Materials; eine Einrichtung (22) zum Entfernen überschüssiger Teile der Entwicklungslösung von dem photoempfindlichen Material; einen Entwicklungsabschnitt (16) zum Entwickeln des photoempfindlichen Materials mit der von der Entfernungseinrichtung (22) zurückgelassenen Entwicklungslösung; und eine Einrichtung zum Transport des photoempfindlichen Materials durch die Vorrichtung; wobei die Transporteinrichtung so angeordnet ist, daß die Transportzeit des photoempfindlichen Materials zwischen der Auftrageeinrichtung (26) und der Entfernungseinrichtung (22) so ist, daß die Temperatur des photoempfindlichen Materials nicht wesentlich absinkt und die Temperatur der Entwicklungslösung nicht wesentlich ansteigt, bevor sie die Entfernungseinrichtung erreichen.

2. Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Erwärmungseinrichtung (11) einen Heizkörper umfaßt, der in Kontakt mit einer Unterseite des photoempfindlichen Materials angeordnet ist.

3. Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Erwärmungseinrichtung (11) einen Heizkörper umfaßt, der an das photoempfindliche Material angrenzend ohne Kontakt damit angeordnet ist.

4. Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1, 2 oder 3, die des weiteren eine Einrichtung (36) zum Auffangen durch die Entfernungseinrichtung entfernter überschüssiger Entwicklungslösung umfaßt, sowie eine Einrichtung zum Rückführen der aufgefangenen überschüssigen Entwicklungslösung zu der Entwicklungslösungsauftrageeinrichtung (26).

5. Entwicklungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, die des weiteren eine Einrichtung (60) zum Entfernen sämtlicher Entwicklungslösung von dem photoempfindlichen Material in dem Entwicklungsabschnitt nach der Entwicklung der belichteten Oberfläche des photoempfindlichen Materials umfaßt; sowie eine Einrichtung (62) zum Auffangen und Abscheiden der entfernten Entwicklungslösung.

6. Entwicklungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, die des weiteren eine Einrichtung (88) zum Ausführen wenigstens einer Endbehandlung des photoempfindlichen Materials nach dem Entwicklungsabschnitt umfaßt.

7. Entwicklungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Einrichtung (22) zum Entfernen der überschüssigen Teile der Entwicklungslösungen eine Führungswalze (24) und einen Drahtstab (22) umfaßt, die parallel zueinander angeordnet sind.

8. Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 7, wobei der Spalt zwischen der Führungswalze (24) und dem Drahtstab (22) so ist, daß ein Film der Entwicklungslösung auf der belichteten Oberfläche des photoempfindlichen Materials mit einer Dicke von nicht mehr als 300 um verbleibt.

9. Verfahren zum Entwickeln eines photoempfindlichen Materials, das aufeinanderfolgend umfaßt: Erhöhen der Temperatur des photoempfindlichen Materials; Auftragen einer Entwicklungslösung auf eine belichtete Oberfläche des photoempfindlichen Materials; Entfernen überschüssiger Teile der Entwicklungslösung von dem photoempfindlichen Material; Entwickeln des photoempfindlichen Materials mit der nach der Entfernung überschüssiger Teile verbliebenen Entwicklungslösung; wobei die Zeit des Transports des photoempfindlichen Materials zwischen dem Auftragen der Entwicklungslösung und dem Entfernen der überschüssigen Teile an Entwicklungslösung so ist, daß die Temperatur des photoempfindlichen Materials nicht wesentlich absinkt und die Temperatur der Entwicklungslösung nicht wesentlich ansteigt, bevor sie die Entfernungseinrichtung erreichen.