DE69425833T2 - Sputter-targets aus magneto-optischer legierung - Google Patents

Sputter-targets aus magneto-optischer legierung

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Description

    Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein legiertes Target, das verwendet wird, um ein magnetooptisches Aufzeichnungsmedium herzustellen, und ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Targets.
    • Hintergrund der Erfindung
  • Magnetooptische (MO) Aufzeichnungsmedien. werden gebildet, indem eine dünne Schicht oder ein Film, der aus seltenen Erdelementen und Übergangsmetallen zusammengesetzt ist, in einer gewünschten Zusammensetzung auf ein Substrat, wie einem Glas- oder Kunststoff-Wafer oder einer Scheibe gesputtert werden. Solche MO-Aufzeichnungsmedien sind zur Datenspeicherung und bei Audiowiedergabeanwendungen verwendet worden, um aufnehmbare Compact-Disks (CDs) herzustellen. Es ist bekannt, daß Targets, die im Sputterprozeß verwendet werden, aus einer Vielfalt von Materialien hergestellt werden und durch eine Vielfalt von Verfahren erzeugt werden. Verschiedene Targetmaterialien und Herstellungsverfahren können in den US-Patenten Nr. 4.957.549, 4.620.872, 4.946.501, 4.915.738 und 4.992.095 gefunden werden.
  • Die Erwünschtheit eines solchen Sputter-Targetmaterials oder Herstellungsverfahrens gegenüber anderen hängt von den Leistungskennwerten des Targets bei der Herstellung (d. h..beim Sputtern) der Schicht eines magnetooptischen Aufzeichnungsmediums ab. Die Leistung jedes. Target wird typischerweise durch die sich ergebenden Eigenschaften des gesputterten MO-Films gemessen, der hergestellt wird: Diese Eigenschaften können die Koerzitivität (Hc), die Gleichmäßigkeit der Koerzitivität, die Schreib-Vormagnetisierungsempfindlichkeit (gegen ein äußeres Feld), den Träger- (Signal-) Rausch-Abstand (C/N-Abstand) und die Blockfehlerrate umfassen. Es ist wahrscheinlich, daß sich die gewünschten Eigenschaften des MO-Films von einer Anwendung zu einer anderen ändern. Zum Beispiel kann ein MO-Film ein Koerzitivitätsniveau (Hc) aufweisen, das für einige Anwendungen zu hoch oder zu niedrig ist und genau passend für andere Anwendungen ist. Während die gewünschte Koerzitivität für einen gegebenen MO-Film variieren kann, ist es im allgemeinen wünschenswert, daß die Koerzitivität hoch gehalten wird und die Gleichmäßigkeit der Koerzitivität niedrig gehalten wird. Zusätzlich ist es im allgemeinen wünschenswert, daß ein gegebener MO-Film einen hohen C/N-Abstand aufweist und eine gewünschte Blockfehlerrate bei einem Laserleistungspegel beibehält, der so niedrig wie möglich ist. Es ist ebenfalls für solche Sputter-Targets wünschenswert, daß sie niedrige Sauerstoffgehalte aufweisen. Für die Effektivität der Herstellungskosten kann es für die Targets auch wichtig sein, daß sie mit hohen Abscheidungsraten bei niedrigen Plasmaimpedanzen sputtern.
  • Die Industrie für magnetooptische Aufzeichnungsmedien steht im starken Wettbewerb. Umfassende Mengen an Forschungs- und Entwicklungsressourcen sind aufgewendet worden und werden aufgewendet in einer fortdauernden Anstrengung, die Beziehung zwischen Sputter-Targetmaterialien und Herstellungsverfahren auf der einen Seite und den erwünschten Eigenschaften des sich ergebenden magnetooptischen Aufzeichnungsmediums auf der anderen Seite zu verstehen. Trotzdem gibt es immer noch einen Bedarf nach alternativen Materialien und Herstellungsverfahren, um Sputter-Targets herzustellen, die es ermöglichen, daß MO-Filme mit höherer Qualität beständig hergestellt werden. Die vorliegende Erfindung trägt beträchtlich zu dieser Anstrengung bei.
  • Die vorliegende Erfindung ist auf ein Sputter-Target mit verbesserten Leistungskennwerten gerichtet. Insbesondere ist die vorliegende Erfindung auf ein Target gerichtet, das fähig ist, beständig eine Schicht eines magnetooptischen Aufzeichnungsmediums zu sputtern, das verbesserte Eigenschaften aufweist. Die vorliegende Erfindung ist auch auf ein Verfahren zur Herstellung solcher MO-Sputter-Targets gerichtet, bei dem die Struktur des sich ergebenden Targets besser gesteuert werden kann und es dadurch ermöglicht wird, daß daraus gesputterte MO-Filme beständig mit den erwünschten verbesserten Eigenschaften hergestellt werden.
  • Die deutsche Patentanmeldung Nr. 3738738 beschreibt ein Target-Herstellungsverfahren, daß dazu bestimmt ist, einen hohen Gehalt und eine ungünstige Verteilung von spröden intermetallischen Phasen zu vermeiden. Das Verfahren weist auf: zuerst Bilden einer Vorlegierung eines seltenen Erd- und eines Übergangsmetalls. Die Vorlegierung wird dann pulverisiert und mit Pulvern von elementaren Übergangsmetallen gemischt, wobei die Mischung dann verdichtet wird, um ein Target zu bilden.
  • Legiertes Target zur Herstellung eines magnetooptischen Aufzeichnungsmediums, wobei das Target eine Zusammensetzung aufweist, die mindestens ein seltenes Erdelement und mindestens ein Übergangsmetall aufweist, und eine Struktur mit einem Übergangsmetallbestandteil und einem fein gemischten Legierungsbestandteil einer seltenen Erdphase und einer intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß das Target bis zu einem Maximum von 15 Gew.-% der intermetallischen Verbindung enthält, daß der Übergangsmetallbestandteil eine Legierung aus mindestens zwei unterschiedlichen Übergangsmetallen und/oder eine Legierung eines Übergangsmetalls mit mindestens einem die Korrosionsbeständigkeit verbessernden Element ist, und daß die Struktur kein unlegiertes Übergangsmetall enthält.
  • Legiertes Target zur Herstellung eines magnetooptischen Aufzeichnungsmediums, wobei das Target eine Zusammensetzung aufweist, die mindestens ein seltenes Erdelement und mindestens ein Übergangsmetall aufweist, und eine Struktur mit mehreren Bestandteilen aufweist, die eine Übergangsmetallegierung und eine fein gemischte Legierung aus einer seltenen Erdphase und einer intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die Struktur kein unlegiertes Übergangsmetall enthält und daß die Bestandteile der Struktur längs einer Diffusionsgrenzfläche aneinander gebunden sind, die frei von einem Diffusionsprodukt der intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung ist.
  • Verfahren zur Herstellung eines legierten Targets zUm Bilden eines maghetooptischen Aufzeichnungsmediums, wobei das Verfahren die Schritte aufweist: Bereitstellen mindestens eines fein gemischten Legierungsbestandteils einer seltenen Erdphase und einer intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung und mindestens eines Übergangsmetallbestandteils in Teilchenform, Mischen der Teilchen, um eine Pulvermischung herzustellen, und Unterziehen der Pulvermischung einem Preßvorgang in einer oxidationshemmenden Umgebung, dadurch gekennzeichnet, daß der mindestens eine Übergangsmetallbestandteil eine Legierung aus mindestens zwei unterschiedlichen Übergangsmetallen und/oder eine Legierung eines Übergangsmetalls mit mindestens einem die Korrosionsbeständigkeit verbessernden Element ist, die Pulvermischung keine Teilchen eines unlegierten Übergangsmetalls enthält, und daß der Preßvorgang für eine Zeit und bei einer Temperatur und einem Druck durchgeführt wird, die ein Target erzeugt, das einen maximalen Gehalt einer intermetallischen seltene Erd-/ Übergangsmetall-Verbindung von bis zu 15 Gew.-% aufweist.
  • Die Sputter-Targets der vorliegenden Erfindung weisen eine Zusammensetzung auf, die mindestens ein seltenes Erdelement und mindestens ein Übergangsmetall ausweist. Jedes der vorliegenden Targets weist eine Struktur mit mehreren Bestandteilen auf, die ein Übergangsmetallbestandteil und einen fein gemischten Legierungsbestandteil einer seltene Erdphase und einer intermetallischen seltene Erd-/Übergangsmetall- (RE/- TM-) Verbindung aufweisen. Während tatsächliche Probetargets mit der eutektischen Terbium-Eisen-Legierung (TbFe12) hergestellt wurden, wird erwartet, daß befriedigende Ergebnisse auch hergestellt werden können, indem andere fein gemischte Legierungen verwendet werden, wie z. B. jene, die durch peritektische oder peritektisch-eutektische Reaktionen usw. gebildet werden. Es wird erwartet, daß optimale Ergebnisse erhalten werden können, wenn der seltene Erdgehalt der fein gemischten Legierung hoch gehalten wird, zum Beispiel indem eher eine hypereutektische Tb-Fe-Legierung verwendet wird (d. h. die eine seltene Erdmatrix aufweist) als eine hypoeutektische Tb-Fe-Legierung (d. h. die eine Matrix aus einer intermetallischen Verbindung aufweist)·. Daher sind nachfolgende Bezugnahmen auf die Targetstruktur, die eine eutektische Legierung aufweist, so zu verstehen, daß sie keine anderen solcher fein gemischter Legierungen ausschließen, die als akzeptabel befunden worden sind.
  • Der Übergangsmetallbestandteil ist eine Übergangsmetalllegierung. Es kann für die vorliegende Targetstruktur wünschenswert sein, daß sie mehr als eine Übergangsmetallegierung aufweist, um die gewünschte Target- und MO-Film-Zusammensetzung zu erreichen. Die Targetstruktur kann verschiedene Übergangsmetall/Übergangsmetallegierungen, Legierungen eines Übergangsmetalls und eines die Korrosionsbeständigkeit ver bessernden Elements oder eine Kombination von beiden aufweisen.
  • Es ist entdeckt worden, daß durch Begrenzen der Menge einer intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung, die in seiner Struktur vorhanden ist, es wahrscheinlicher ist, daß das Target beständig MO-Filme mit verbesserter Eigenschaften sputtert. Die Struktur des vorliegenden Targets ist frei von irgendeinem unlegierten oder elementaren Übergangsmetall, um die Bildung solcher intermetallischen Verbindungen während des Target-Herstellungsprozesses zu begrenzen. Unlegierte Übergangsmetalle, wie Fe, sind sehr reaktionsfähig und neigen dazu, während der Herstellung des Targets intermetallische Verbindungen mit seltenen Erdelementen, wie Tb, zu bilden. Während eine Reduzierung der Menge der vorhandenen intermetallischen RE/TM-Verbindung wünschenswert ist, ist es auch wünschenswert, daß eine bestimmte Menge der intermetallischen Verbindung während des Target-Herstellungsprozesses vorhanden ist, um dabei zu helfen, den Sauerstoffgehalt des Targets zu steuern. Zuviel Sauerstoff im Target beeinflußt die Targetleistung nachteilig.
  • In einem Verfahren zur Herstellung der vorliegenden Targets werden die verschiedenen Bestandteile der gewünschten Targetstruktur in Teilchenform bereitgestellt und in einer Pulvermischung zusammengemischt. Diese Pulvermischung wird dann einer Verdichtungsoperation in einer oxidationshemmenden Umgebung unterzogen, zum Beispiel isostatischem Warmpressen, Vakuum-Warmpressen, Inertgas-Warmpressen und dergleichen. Während des Verdichtungsprozesses werden die Teilchen, die die Targetstruktur ausmachen, längs einer Bindungs- oder Diffusionsgrenzfläche z. B. durch Drucksintern aneinander gebunden. Um den Gehalt der intermetallischen RE/TM-Verbindung des Targets weiter zu begrenzen und dadurch die Targetleistung und die Eigenschaften des sich ergebenden MO-Films zu verbessern, kann auch die Bildung solcher intermetallischen Verbindungen als Diffusionsprodukt in der Diffusionsgrenzfläche vermieden werden. Targetstrukturen, die frei oder mindestens im wesentlichen frei von solchen Diffusionsprodukten aus einer intermetallischen Verbindung sind, können hergestellt werden, indem die Verwendung von unlegierten Übergangsmetall-Pulvern in der Pulvermischung vermieden wird, die Verdichtungstemperatur und/oder die Zeit bei der Temperatur während der Verdichtung des Targets variiert wird. Folglich können der Endgehalt der intermetallischen RE/TM-Verbindung des Targets und daher die Eigenschaften des sich ergebenden MO-Films gesteuert werden, indem der Gehalt der intermetallischen Verbindung der Pulvermischung minimiert wird und/oder der Prozeß variiert wird, der zur Verdichtung der Pulvermischung im Target verwendet wird. MO-Filme mit beständig höheren Koerzitivitätswerten sind aus beispielhaften Targets gesputtert worden, die unter der Verwendung von Pulvermischungen hergestellt wurden, die im wesentlichen frei von irgendwelchen unlegierten Übergangsmetallteilchen waren, wobei die Pulvermischungen bei einer Vielfalt von Temperaturen und/oder Zeiten bei der Temperatur verdichtet wurden.
  • Der Gehalt der intermetallischen RE/TM-Verbindung der Targetstruktur kann variiert und eine zusätzliche Verbesserung der Targetleistung durch, eine Anreicherung seltene Erde enthaltender Bereiche in der Targetstruktur erhalten werden. Diese Anreicherung mit seltene Erde des Targets kann erreicht werden, indem Zusätze aus Teilchen aus im wesentlichen elementarer seltenen Erde (RE) zur Grundpulvermischung der vorliegenden Erfindung gemacht werden, wodurch der seltene Erdgehalt der Targetstruktur erhöht wird, der Gehalt der intermetallischen RE/TM-Verbindung des Targets vermindert wird und die seltene Erdausbeute im sich ergebenden MO-Film erhöht wird. Es wird erwartet, daß seltene Erd-/seltene Erde- (RE/RE-) Legierungsteilchen (d. h. Legierungen, die im wesentlichennur seltene Erdelemente enthalten) anstelle oder zusammen mit den elementaren RE-Teilchen verwendet werden können, um einen solchen Effekt zu erzeugen. Zusätzlich begrenzt eine Verminderung der Temperatur und/oder der Zeit bei der Temperatur während der Verdichtungsoperation nicht nur die Bildung der Diffusionsprodukte aus der intermetallischen RE/TM-Verbindung, sondern sie vermindert auch das Legieren der elementaren RE- oder RE/RE-Legierungsteilchen mit nicht-seltenen Erdelementen infolge von Diffusion, wodurch die Menge an unverdünnten seltenen Erdmetall (d. h. das sich nicht in einer festen Lösung mit einem nicht-seltenen Erdelement befindet), die im Target vorhanden ist, erhöht wird und zur damit verbundenen Verbesserung der Targetleistung und der Eigenschaften des MO-Films beigetragen wird.
  • Folglich ist herausgefunden worden, daß die Eigenschaften einer gesputterten Schicht eines magnetooptischen Aufzeichnungsmediums, insbesondere seine Koerzitivität, beständig gesteuert und angepaßt werden kann, indem die Target-Zusammensetzung und/oder der Herstellungsprozeß gemäß den Prinzipien der vorliegenden Erfindung variiert werden, wie sie hierin beschrieben wird. Die Prinzipien der vorliegenden Erfindung, ihre Aufgaben und Vorteile werden unter Bezugnahme auf die folgende detaillierte Beschreibung weitergehend verstanden werden.
    • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Fig. 1 ist eine graphische Darstellung der Koerzitivität quer zu MO-Legierungsfilmen, die aus den Beispielen 1, 2 und 3 gesputtert wurden;
  • Fig. 2 ist eine graphische Darstellung des Tb-Gehalts quer zu MO-Legierungsfilmen, die aus den Targets der Beispiele 1, 2 und 3 gesputtert wurden, gemessen durch Rutherford-Rückstreuspektroskopie (RBS);
  • Fig. 3 ist eine graphische Darstellung der Koerzitivität quer zu Abschnitten von MO-Legierungsfilmen, die aus den Targets der Beispiele 4 und 5 gesputtert wurden;
  • Fig. 4 ist eine graphische Darstellung der Koerzitivität quer zu MO-Legierungsfilmen, die aus den Targets der Beispiele 6 und 7 gesputtert wurden;
  • Fig. 5 ist eine graphische Darstellung des Tb-Gehalts quer zu MO-Legierungsfilmen, die aus den Targets der Beispiele 6 und 7 gesputtert wurden, gemessen durch RBS;
  • Fig. 6 ist eine graphische Darstellung der Koerzitivität quer zu MO-Legierungsfilmen, die aus den Targets der Beispiele 8, 9, 10 und 11 gesputtert wurden; und
  • Fig. 7 ist eine graphische Darstellung des Tb-Gehalts quer zu MO-Legierungsfilmen, die aus den Targets der Beispiele 8, 9, 10 und 11 gesputtert wurden, gemessen durch RBS.
    • Detaillierte Beschreibung der Erfindung
  • Filme oder Schichten eines magnetooptischen Aufzeichnungsmediums, das verbesserte Eigenschaften aufweist, können beständiger auf ein Substrat aus Targets sputterbeschichtet werden, das die Prinzipien der vorliegenden Erfindung einschließt. Die vorliegenden Sputter-Targets weisen jeweils eine Zusammensetzung auf, die mindestens ein seltenes Erdelement aufweist, das sich zwischen etwa 10 bis etwa 50 Atomprozent bewegt, und sich vorzugsweise etwa zwischen 15 und etwa 25 Atomprozent bewegt. Die Zusammensetzung weist ferner mindestens ein Übergangsmetall, typischerweise einen wesentlichen Anteil des Restes auf. Während beispielhafte Sputter-Targets mit der seltenen Erde Terbium (Tb) und den Übergangsmetallen Eisen (Fe) und Cobalt (Co) hergestellt worden sind, wird erwartet, daß Hochleistungs-Sputter-Targets, die die Prinzipien der vorliegenden Erfindung einschließen, auch aus anderen seltene Erdelementen, einschließlich Samarium, (Sm), Neodym (Nd), Gadolinium (Gd), Dysprosium (Dy), Holmium (Ho), Thulium (Tm) und Erbium (Er), usw. als auch anderen Übergangsmetallen, einschließlich Nickel (Ni), usw. hergestellt werden können. Vorzugsweise weist die Zusammensetzung der vorliegenden Targets auch mindestens ein die Korrosionsbeständigkeit verbesserndes Element auf. Während wiederum beispielhafte Targets erfolgreich mit dem korrosionshemmenden Element Chrom (Cr) hergestellt worden sind, wird erwartet, daß andere korrosionshemmende Elemente akzeptabel sein können, einschließlich Titan (Ti), Hafnium (Hf), Zirconium (Zr), Aluminium (Al), Kupfer (Cu), Niob (Nb), Tantal (Ta), Palladium (Pd), Molybdän (Mo), Vanadium (V) und Platin (Pt).
  • Jedes Target weist eine Struktur mit mehreren Bestandteilen auf, die eine Übergangsmetallegierung und eine fein gemischte Legierung einer seltenen Erdphase und einer intermetallischen seltene Erd-/Übergangsmetall- (RE/TM-) Verbindung, wie einer eutektischen Legierung aus seltener Erde und Übergangsmetall aufweisen. Die Übergangsmetallegierung kann zum Beispiel eine Übergangsmetall/Übergangsmetallegierung oder eine Legierung aus einem Übergangsmetall und einem korrosionsbeständigen Element sein. Die Targetstruktur weist auch einen Bestandteil aus elementarer seltener Erde und kein unlegiertes Übergangsmetall auf. Es kann für die Targetstruktur auch wünschenswert sein, daß sie einen RE/RE-Legierungsbestandteil zusätzlich zu oder anstelle des elementaren RE- Bestandteils enthält.
  • Targets, die verwendet werden, um MO-Filme sputterzube schichten, werden typischerweise unter Verwendung von Pulvermetallurgietechniken hergestellt. Im allgemeinen umfassen solche Techniken das Bereitstellen jedes Targetstruktur- Bestandteils in Pulverform. Einer guten Pulvermetallurgiepraxis folgend, sind die Teilchen jedes Pulverbestandteils vorzugsweise in ihrer Form metallurgisch ähnlich. Kugelförmig geformte Teilchen sind erfolgreich verwendet worden; jedoch können auch andere Teilchenformen annehmbar sein. Kugelförmig geformte Pulver können durch Verwendung von Standard-Inertgas- Zerstäubungstechniken erhalten werden, wie z. B. eine der Schnellabschreckbehandlungen, die im US-Patent Nr. 5.098.649. offenbart werden. Pulvergrößen von weniger als etwa 500 um (Mikrometer) sind als annehmbar befunden worden. Teilchengrößen unter etwa 250 um (Mikrometer) mit einer mittleren Größe innerhalb des Bereichs von etwa 80 bis etwa 130 um (Mikrometer) sind zur Herstellung von Targets, die bessere ästhetische Qualitäten aufweisen, als zu bevorzugen befunden worden.
  • Die verschiedenen Pulverbestandteile werden gemischt, um eine Pulvermischung zu bilden, indem die verschiedenen Pulverbestandteile in einem zylindrischen Behälter abgemessen werden, der eine trockene und sauerstofffreie Argonatmosphäre aufweist, und indem der Behälter um seine Mittelachse gemäß wohlbekannten Pulvermischtechniken gedreht wird. Um eine gleichmäßige Mischung des Pulvers zu unterstützen, wird vorzugsweise tropfenweise vor dem Mischen Hexan zu den Pulverbestandteilen hinzugegeben. Zufriedenstellende Ergebnisse sind erhalten worden, indem zwei Milliliter Hexan für jedes Kilogramm Gesamtpulver verwendet wurden. Es wird erwartet, daß andere Alkane mit einem hohen Molekulargewicht, wie Heptan und möglicherweise Oktan, ebenfalls verwendet werden können, um beim Mischprozeß zu helfen. Es ist am besten, die Zusammensetzung jedes Pulverbestandteils zu wählen, um die Mischung ver schiedener Mengen der Bestandteile in einen Bereich der Targetzusammensetzungen zu ermöglichen (siehe Tabelle 1).
  • Die Pulvermischung wird dann zu der gewünschten Targetform verdichtet, indem die Pulverteilchen zusammengesintert werden, vorzugsweise im Vakuum oder einer Inertgas-Atmosphäre: Die Verdichtung der Pulvermischung zu einem fertigen Sputter- Target kann durch verschiedene wohlbekannte Preßtechniken, wie z. B. uniaxialen Inertgas-Warmpressen, Vakuum-Wärmpressen und isostatischen Warmpressen, mit einem Graphit-Druckplattensatz erreicht werden. Fertige Sputter-Targets weisen eine Dichte von mehr als etwa 90% und vorzugsweise mindestens etwa 95% der theoretischen Dichte auf. Eine Erhöhung der Targetdichte führt typischerweise zu einer höheren mechanischen Integrität des Targets, einer kürzeren Zeit zum Evakuieren der Sputter-Kammer, einer kürzeren Einbrennzeit, und einer geringeren Teilchenerzeugung vom Target während des Sputterns.
  • Das Vorhandensein von intermetallischen seltene Erd-/ Übergangsmetall-Verbindungen im Sputter-Target wird so gut wie möglich vermieden. Es wird erwartet, daß für einige Anwendungen die Targets bis zu einem Maximum von etwa 15 Gew.-% solcher intermetallischen RE/TM-Verbindungen enthalten können und immer noch MO-Filme erzeugen, die verglichen mit Filmen, die aus früheren MO-Targets gesputtert wurden, verbesserte Eigenschäften aufweisen. Es wird auch erwartet, daß für andere Anwendungen ein Gehalt der intermetallischen RE/TM-Verbindung von bis zu etwa 10 Gew.-% geeignet sein kann. Für optimale Ergebnisse wird erwartet, daß der Gehalt der intermetallischen RE/TM-Verbindung der vorliegenden Targets bis zu etwa 5 Gew.-% reichen kann. Es ist herausgefunden worden, daß durch Minimieren der Menge solcher intermetallischen RE/TM-Verbindungen, die im Sputter-Target enthalten sind, die Ausbeute von elementarem seltenen Erdmetall, das auf dem Substrat während des Sputter-Beschichtungsprozesses abgeschieden wird, und dadurch die Eigenschaften des sich ergebenden MO-Films verbessert werden. Folglich werden Pulvern legierter, nicht elementarer Übergangsmetalle in der Pulvermischung verwendet. Das heißt, es gibt nicht genug vorliegendes unlegiertes Übergangsmetall, um zu reagieren und eine bedeutende Menge eines Diffusionsproduktes aus einer intermetallischen RE/TM-Verbindung während des Target-Verdichtungsprozesses zu bilden. Stattdessen werden die Übergangsmetalle mit einem anderen Element legiert, das zur Anbindung und dazu fähig ist, das Übergangsmetall am Reagieren (d. h. eine intermetallische Verbindung zu bilden) mit irgendeinem seltenen Erdmetall während der Verdichtungsoperation zu hindern. Die Bildung dieser intermetallischen Verbindungen kann verhindert werden oder mindestens im wesentlichen eingeschränkt werden, indem der Target-Verdichtungsprozeß selbst gesteuert wird, als auch dadurch, daß unlegierte Übergangsmetall-Pulver in der Pulvermischung beseitigt werden.
  • Wenn die Pulvermischung verdichtet wird, um das Target zu bilden, werden die Pulverteilchen längs einer Diffusions- oder Bindungsgrenzfläche miteinander verbunden und vereinigt. Durch Minimieren der Verdichtungstemperatur und/oder der Zeit bei der Temperatur während der Preßvorgangs, kann die Bildung eines Diffusionsproduktes einer intermetallischen RE/TM-Verbindung innerhalb der Bindungsgrenzfläche vermieden oder mindestens beträchtlich eingeschränkt, werden. Däs heißt, dieses Diffusionsprodukt ist auf die Stelle beschränkt, an der die Pulverteilchen durch die Bindung einer metallischen festen Lösung zusammengehalten werden (durch das Verschmelzen der Atomgitter), nicht durch intermetallische Bindung (durch die · Bildung einer inkohärenten Ausfällungsschicht). Wenn irgendeine intermetallische RE/TM-Verbindung ein Diffusionsprodukt bildet, weist es ein zufälliges Auftreten auf, typischerweise eine Dispersion von nicht zusammenhängenden Ausfällungen der intermetallischen Verbindung längs der Bindungsgrenzfläche und nicht eine Schicht (d. h. keinen durchgehenden oder teildurchgehenden Film). Zusätzlich kann durch Minimieren der Verdichtungstemperatur und/oder der Zeit bei der Temperatur, eine Verdünnung irgendeines elementaren RE- oder RE/RE-Legierungsbestandteils, der im Target vorhanden ist, eingeschränkt werden. Auf diese Weise kann die Endstruktur des Targets und dadurch die Eigenschaften des gesputt·erten MO-Films beständig gesteuert werden. Die gesteigerte Leistung des vorliegenden Targets kann deutlich als eine Funktion der Koerzitivität des gesputterten MO-Films erkannt werden (siehe Fig. 1, 3, 4 und 6).
  • Für eine gegebene Target-Zusammensetzung wird erwartet, daß bei niedrigen Spiegeln (weniger als etwa 2000 ppm) der Sauerstoffgehalt des Targets nicht so eine bedeutende Rolle beim Bestimmen der Targetleistung wie der Gehalt der intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung des Targets spielt. Trotzdem ist der Sauerstoffgehalt des Targets noch wichtig. Es scheint, daß der optimale Sauerstoffspiegel im vorliegenden Target innerhalb eines Bereichs von etwa 500 ppm bis etwa 2000 ppm liegt. Es wird erwartet, daß eine Verwendung von Pulvermischungen, die einen berechneten Sauerstoffgehalt innerhalb des Bereichs von etwa 300 ppm bis 1200 ppm aufweisen, einen solchen optimalen Target-Sauerstoffspiegel erzeugen wird. Um einen solchen Pulvermischung-Sauerstoffspiegel zu erhalten, wird vorgeschlagen, daß der Sauerstoffgehalt jedes elementaren seltenen Erdpulvers weniger als etwa 2000 ppm beträgt und vorzugsweise weniger als etwa 1000 ppm. Es wird erwartet, daß jedes verwendete RE/RE-Legierungspulver etwa denselben Sauerstoffgehalt aufweisen soll. Es wird auch vor geschlagen, daß der Gehalt des eutektischen Pülvers kleiner als etwa 1000 ppm und vorzugsweise kleiner als etwa 800 ppm ist, und der Gehalt des Übergangsmetallegierungspulvers kleiner als etwa 800 ppm und vorzugsweise kleiner als etwa 500 ppm ist.
  • Die Prinzipien der vorliegenden Erfindung werden durch die folgenden Beispiele von Targetproben und Sputter-Ergebnissen veranschaulicht, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein. Drei Grundrichtungen wurden mit diesen Beispielen eingeschlagen, um die Wirkung der Zusammensetzung und des Herstellungsprozesses auf die Target-Mikrostruktur und Sputter-Leistung, und schließlich die Eigenschaften des MO-Films zu veranschaulichen. Die Beispiele 1-5 veranschaulichen den Einfluß der Verdichtungstemperatur auf die Leistungskennwerte des Targets: Die Beispiele 6 und 7 veranschaulichen die Wirkung, die die Zeit bei der Temperatur auf die Targetleistung hat. Und die Beispiele 8-11 veranschaulichen, wie die richtige Auswahl der Zusammensetzung der Pulverphasen die Targetleistung beeinflußt. Da sie eine verhältnismäßig einfach zu messende Eigenschaft ist, wurde die Koerzitivität (Hc) der aus diesen beispielhaften Targets gesputterten MO-Filme verwendet, um die Leistung der verschiedenen Targets zu vergleichen. Jedoch wird erwartet, daß andere Eigenschaften (siehe die vorhergehende Diskussion) der MO-Filme, die aus Targets gesputtert werden, die gemäß den Prinzipien der vorliegenden Erfindung hergestellt werden, ebenfalls Verbesserungen aufweisen.
    • Beispiele 1, 2 und 3
  • Bezugnehmend auf die Tabellen I-III und die Fig. 1 und 2, veranschaulichen die Beispiele 1-3 den Einfluß, den die Verdichtungstemperatur auf die Sputter-Targetleistung hat. Insbesondere wurden Fe/Tb19/Cr6/Co6- (in Atomprozent) MO- Legierungs-Sputter-Targets mit elementarem Tb und dem eutek tischen TbFc12 als die Quelle der seltenen Erde verwendet, um die Wirkung der Preßtemperatur auf die Film-Tb-Ausbeute und Filmkoerzitivität (Hc) zu veranschaulichen. Die Pulverbestandteile, die in diesen Beispielen verwendet wurden, können zusammen mit der Pulvermischung-Beladungsverhältnis von jedem in Tabelle I gefunden werden. Die Pulvermischung für jedes Beispiel wurde zum jeweiligen Target unter Verwendung einer uniaxialen Inertgas-Warmpresse gepreßt, deren Struktur und Arbeitsweise keinen Teil dieser Erfindung bildet und daher hierin nicht im Detail erläutert wird. Die Warmpreßbedingungen für jedes Beispiel können in Tabelle II gefunden werden. Die Preßtemperatur und die Zeit bei der Temperatur werden wahrscheinlich von dem besonderen Typ der Presse abhängen, die verwendet wird. MO-Filme, die aus diesen beispielhaften Targets gesputtert wurden, wurden auf oxidbeschichteten Silicium- Wafern mit 150 mm Durchmesser bei 3 kW und 0,4 N/m² (3 mTorr) unter Verwendung eines statischen Abscheidungs-Sputter-System abgeschieden, dessen Struktur und Arbeitsweise keinen Teil dieser Erfindung bildet und daher hierin nicht im Detail erläutert wird. Es wird erwartet, daß zufriedenstellende Ergebnisse unter der Verwendung irgendeines solchen Sputter- Systems erhalten werden könnten, indem wohlbekannte Sputter- Techniken zur Optimierung der Targetleistung und der Eigenschaften des sich ergebenden MO-Films befolgt werden. Jeder der sich ergebenden MO-Wafer wies eine reflektierende Al- Schicht und zwei Schichten Si&sub3;N&sub4; auf, zwischen denen die MO- Legierungsschicht eingeschlossen war, wie es üblicherweise der Fall ist. Für die in diesen Beispielen und all den anderen Beispielen verwendeten MO-Wafer wurden die Dicken der Al- und Si&sub3;N&sub4;-Schichten konstant gehalten. Es ist bekannt, daß Variationen dieser Dicken die Endeigenschaften des MO-Films beeinflussen können. Jedoch bildet dieser Aspekt der MO-Film-Her stellung keinen Teil dieser Erfindung und wird daher hierin nicht im Detail erläutert. Wie aus den Fig. 1 und 2 zu entnehmen ist, gibt es eine Zunahme der MO-Film-Koerzitivität und eine entsprechende Zunahme des Film-Tb-Gehaltes, wenn die Preßtemperatur abnimmt. Der Film-Tb-Gehalt wurde an fünf gleich beabstandeten Positionen quer zu einem Wafer mit 150 mm Durchmesser gemessen, indem 2000 A dicke MO-Legierungsschichten unter Verwendung von Rutherford-Rückstreuspektroskopie (RBS) bewertet wurden.
  • Die Beispiele 1-3 zeigen, daß die Koerzitivität zunimmt und die Tb-Ausbeute in den MO-Filmen zunimmt, wenn die Preßtemperatur vermindert wird (siehe die Fig. 1 bzw. 2). Eine metallographische Analyse der beispielhaften MO-Target-Mikrostrukturen zeigte, daß die Menge einer intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung, die als Diffusionsprodukt in der Bindungsschicht zwischen den Teilchen gebildet wird, abnimmt, wenn die Preßtemperatur vermindert wird. Eine optische Untersuchung der MO-Target-Mikrostrukturen zeigte auch, daß die Menge der intermetallischen Verbindung, die als ein Diffusionsprodukt vorhanden ist, bei der niedrigen Temperatur des Beispiels 3 praktisch beseitigt wird, wobei nur Spurenmengen von sich nicht berührenden intermetallischen Verbindungsausfällungen vorhanden waren. Ein zweites Ergebnis dieser Entdeckung ist es, daß wenn die Preßtemperatur gesenkt wird, mehr der ursprünglich elementaren Tb Teilchen, die in der Pulvermischung vorhanden waren, im Target ungelöst bleiben (d. h. sich nicht in der Form einer festen Lösung befinden). Es ist das Vorhandensein des ungelösten elementaren Tb, von dem erwartet wird, daß es die Tb-Sputter-Ausbeute aus dem Target weiter verbessert.
  • Wie in Fig. 2 zu sehen ist, kehrt sich das Tb-Konzentrationsprofil tatsächlich um, wenn der MO-Film aus dem Target des Beispiels 3 (d. h. bei der niedrigsten Preßtemperatur) gesputtert wird. Folglich kann das seltene Erd-Konzentrationsprofil im MO-Film gesteuert werden, indem der Pulvermischung- Verdichtungsprozeß variiert wird (siehe Tabelle II).
    • Beispiele 4 und 5
  • Auf die Tabellen I, II und IVa und Fig. 3 bezugnehmend, veranschaulichen die Beispiele 4 und 5 nicht nur den Einfluß, den die Preßtemperatur auf die Targetleistung hat, sondern zeigen auch, daß durch eine Erhöhung des Drucks, der beim Bilden des Targets verwendet wird, noch niedrigere Verdichtungstemperaturen möglich sind, während akzeptable Targetdichten aufrechterhalten werden. In diesen Beispielen wurden Fe/Tb20/ Cr6/Co6 (Atom-%) MO-Legierungstargets verwendet. Die Pulverphasen, die in diesen Beispielen verwendet wurden, können zusammen mit dem Pulvermischung-Beladungsverhältnis von jedem in Tabelle 1 gefunden werden. Die Pulvermischung für jedes Beispiel wurde zum jeweiligen Target unter Verwendung einer uniaxialen Inertgas-Warmpresse gepreßt. Die Warmpreßbedingungen für jedes Beispiel können in Tabelle II gefunden werden. Während beide Pressen uniaxiale Inertgas-Warmpressen waren, wurde das Heizverfahren von einer Induktionsheizung für die Beispiele 1-3 auf eine Widerstandsheizung für die Targets der Beispiele 4 und 5 geändert, ohne eine deutliche Wirkung auf die Testergebnisse. MO-Filme wurden aus den Targets der Beispiele 4 und 5 auf entgaste Polycarbonat-Scheiben mit 5,25 Inch (133,35 mm) Durchmesser mit einem Sputter-System gesputtert, wobei vielmehr eine Abtastpälette als eine statische Palette genutzt wurde. Die Größe der Koerzitivität des MO- Films kann fallen, wenn ein abtastendes im Gegensatz zu einem statischen System verwendet wird. Jedoch wird erwartet, daß die Grundtendenz, die durch die vorliegenden Testergebnisse bewiesen wird, dieselbe bleiben wird. Wie in den vorhergehen den Beispielen, wurden diese Filme bei 3 kW und 0,4 N/m² (3 mTorr) abgeschieden. Unter den anwendbaren Preßbedingungen, die in Tabelle II gezeigt werden, ist deutlich, daß eine Verminderung der Preßtemperatur von 745ºC auf 735ºC eine Zunahme der Filmkoerzitivität von mehr als ein kOe erzeugt.
    • Beispiele 6 und 7
  • Auf die Tabellen I-III und die Fig. 4 und 5 bezugnehmend, wurden in den Beispielen 6 und 7 Fe/Tb19,5/Cr6/Co6 (Atom-%) MO-Legierungstargets verglichen, um die Wirkung zu veranschaulichen, die die Dauer des Preßvorgangs bei der Temperatur auf die Targetleistung hat. Jedes Target wurde unter Verwendung einer uniaxialen Inertgas-Warmpresse mit Induktionsheizung gebildet. Für diese Beispiele wurde vielmehr als daß die Zeit auf Temperatur über 600ºC konstant auf 110 Minuten gahlten wurde, wie in den vorhergehenden Beispielen, die Zeit bei Temperaturen von über 600ºC überwacht. Die Grundlinie von 600ºC wurde als eine Temperatur gewählt, von der erwartet wird, daß darüber Volumendiffusion und Bildungsraten einer intermetallischen Verbindung bedeutend werden. Die MO-Filme wurden auf oxidbeschichteten Siliciumwafern mit 150 mm Durchmesser bei 3 kW und 0,4 N/m² (3 mTorr) unter Verwendung eines statischen Abscheidungs-Sputter-Systems abgeschieden. Wie aus den Fig. 4 & 5 und Tabelle III zu entnehmen ist, gibt es einen Zunahme der Filmkoerzitivität und eine entsprechende Zunahme des Film-Tb-Gehaltes, wenn die Zeit bei der Preßtemperatur abnimmt. Der Tb-Gehalt dieser beispielhaften MO-Filme wurde an fünf gleich beabstandeten Positionen quer zum Wafer- Durchmesser gemessen, indem 2000 nm (A) dicke MO-Legierungsschichten unter Verwendung von RBS bewertet wurden.
  • Die Ergebnisse aus den Beispielen 6 und 7 zeigen, daß für eine gegebene Pulvermischung, Verdichtungstemperatur und ausgeübte Last (d. h. Druck), die Filmkoerzitivität und der Tb- Gehalt zunehmen, wenn die Zeit bei der Temperatur über 600ºC vermindert wird. Eine metallographische Untersuchung jedes MO- Targets zeigte, daß die Menge einer intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung, die in der Diffusionsbindungsschicht zwischen Phasenteilchen gebildet wurde, abnahm, wenn die Zeit bei der Temperatur abnahm. Zusätzlich blieb der elementare Tb-Bestandteil des Targets des Beispiels 6 verglichen zu jenem des Targets des Beispiels 7 verhältnismäßig ungelöst, das eine längere Zeit bei der Temperatur hatte.
    • Beispiele 8, 9, 10 und 11.
  • Auf die Tabellen I, II und IVa & b und die Fig. 6 und 7 bezugnehmend, demonstrieren die Beispiele 8-11 den Wert, die Pulverphasen auszuwählen, um die Targetleistung und die MO- Filmeigenschaften zu optimieren. Die Beispiele 8 & 9 sind Vergleichsbeispiele, die Targets betreffen, die unlegierte Übergangsmetalle enthalten. Eine solche optimale Targetleistung wurde durch Beseitigen von elementarem und nur Verwenden von legiertem Übergangsmetallpulver in der Pulvermischung erhalten (siehe Beispiele 10 und 11). Dies geschah aufgrund der Annahme, daß die Reaktionsfähigkeit zwischen dem elementaren Tb und den Übergangsmetallen, insbesondere elementarem Fe, zur Bildung von intermetallischen Verbindungen während des Verdichtungszyklus führt. Im Target des Beispiels 10 wurde kein elementares Tb-Pulver verwendet. Der Tb-Gehalt dieses Targets rührte von seinem eutektischen TbFe12-Bestandteil her. Der Gehalt der intermetallischen Verbindung des Targets kann ferner gesteuert werden, indem eine zusätzliche Menge des elementaren Tb-Pulvers anstelle des eutektischen TbFe12-Pulvers äls Quelle der seltenen Erde für den MO-Film genutzt werden. Ein etwa 2 : 1-Verhältnis des Tb zum TbFe12 wurde mit zufriedenstellenden Ergebnissen verwendet (siehe die Ergebnisse des Beispiels 11). Der Gehalt der intermetallischen Verbindung des Targets des Beispiels 10 war kleiner als etwa 15 Gew.-% (annährend 12,8 Gew.-%). Der intermetallische Verbindungsgehalt des Targets des Beispiels 11 war kleiner als etwa 5 Gew.-% (annährend 3,9 Gew.-%). Man beachtet, daß das eutektische TbFe12 ein zweiphasiges Material ist, wobei annährend 29 Gew.-% des eutektischen die intermetallischen Fe2Tb-Verbindung ist.
  • Vier Fe/Tb18,2/Cr6/Co6 (Atom-%) MO-Legierungstargets wurden unter Verwendung einer uniaxialen Inertgas-Warmpresse mit Induktionsheizung gebildet (alle vier Targets wiesen etwa dieselbe Zusammensetzung, jedoch unterschiedliche Strukturen auf). Die sich ergebenden MO-Filme wurden jeweils auf eine entgaste Polycarbonat-Scheibe mit 5,25 Inch (133,35 mm) Durchmesser bei 2 kM und 0,4 N/m² (3 mTorr) unter Verwendung eines Abtastpaletten-Sputter-Systems gesputtert. Eine Beseitigung des elementaren Fe-Pulvers aus der Pulvermischung führte zu einer Zunahme der Filmkoerzitivität und einer entsprechenden Zunahme des Film-Tb-Gehaltes (siehe Tabellen IVa und b, Targetbeispiele 9 und 10). Einbringen von elementarem Tb-Pulver in die Pulvermischung führte zu einer noch höheren Filmkoerzitivität und einem höheren Tb-Gehalt (vergleiche Targetbeispiele 10 und 11). Der Film-Tb-Gehalt wurde an fünf gleich beabstandeten Positionen quer zu jedem Wafer-Durchmesser gemessen, indem 2000 nm (10 dicke MO Legierungsschichten unter Verwendung von RBS bewertet wurden (siehe Fig. 7). Die Beispiele 8-11 zeigen, daß die Koerzitivität und der Film-Tb- Gehalt für das Target des Beispiels 11 am höchsten ist, das elementares Tb, eutektisches TbFe12 und legierte Übergangsmetall-Pulver in seiner Pulvermischung und den niedrigste intermetallischen Verbindungsgehalt aller Targets aufwies. Der schlechteste Fall war das Target des Beispiels 8, in dem elementares Tb und elementare Fe-Pulver verwendet wurden. Eine metallographische Analyse des Targets des Beispiels 8 zeigte, daß beträchtliche Mengen der intermetallischen Verbindung in der Diffusionsbindungsschicht während dem Pressen des Targets des Beispiels 8 gebildet wurden. Eine Röntgenanalyse zeigte, daß alle der elementaren Tb-Bestandteile reagierten, um ein Diffusionsprodukt einer intermetallischen Verbindung zu bilden. Obwohl nicht so schlimm, wurde die Bildung solcher intermetallischen Verbindungen auch im Target des Beispiels 9 gefunden. Es wird erwartet, daß dies auf eine Wechselwirkung zwischen der Tb-Phase in der eutektischen TbFe12-Legierung und den elementaren Fe-Bestandteilen zurückzuführen ist. Die verhältnismäßig starke Bildung von Diffusionsprodukten einer intermetallischen Verbindung, die in den Targets der Beispiele 8 und 9 gefunden wurde, wurde in den Targets der Beispiele 10 und 11 beseitigt oder mindestens beträchtlich vermindert, indem die Pulvermischung so eingestellt wurde, daß sie nur · legierte, keine elementaren Übergangsmetall-Pulver enthält. Tabelle I
  • * Während die anderen Legierungszusammensetzungen in Gew.-% angegeben werden, wird die Zusammensetzung der CoCr-Legierung in Atom-% angegeben. Tabelle II Warmpreßbedingungen Tabelle III Tabelle IVa Tabelle IV b Tb-Gehalt (Atom-%) quer zum Wafer
  • Die vorhergehenden Beispiele zeigen, daß die Leistung des Targets und die Eigenschaften des gesputterten MO-Films, wie durch die Ausbeute von elementarer seltener Erde angezeigt wird, die das Substrat während des Sputterprozesses erreicht, verbessert werden, indem die Menge einer intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung minimiert wird, die im Target vorhanden ist. Diese Verminderung des intermetallischen Verbindungsgehaltes kann erzielt werden, indem die Reaktionsfähigkeit irgendeines Übergangsmetalls in der Pulvermischung vermindert wird, wie z. B. durch Legieren mit einem anderen Übergangsmetall oder anderem Element (z. B. die Korrosionsbeständigkeit verbessernden Elementen). Der intermetallische Verbindungsgehalt kann auch vermindert werden, indem eine Pulvermischung mit einem elementaren RE- und/oder einem RE/RE- Legierungspulver ausgewählt wird, das anstelle von etwas des fein gemischten Legierungspulver hinzugegeben wird» und das fehlende Übergangsmetall ausgeglichen wird, indem mehr vom Übergangsmetallegierungspulver hinzugegeben wird. Zusätzlich kann eine Begrenzung der Warmpreßtemperatur und/oder der Zeit bei der Temperatur ebenfalls verwendet werden, um den intermetallischen Verbindungsgehalt des Targets zu vermindern. Durch Optimieren dieser Faktoren kann ein Target mit ausgezeichneten Leistungskennwerten hergestellt werden. Bei einem Versuch, ein solches Target herzustellen, weist die Pulvermischung vorzugsweise mehr als etwa 50 Gewichtsprozent seines seltene Erdelementgehaltes als ein hinzugefügtes elementares Pulver auf, wobei der Rest als ein eutektisches oder vergleichbares fein gemischtes Legierungspulver hinzugegeben wird, und die Übergangsmetall--Lösungsprodukte als ein Legierungspulver hinzugegeben werden. Es wird erwartet, daß für die besonderen Materialien, die in den vorhergehenden Beispielen verwendet werden, und für ähnliche Materialien akzeptable Targets mit einer verbesserten Leistung erhalten werden können, indem eine Zeit, eine Temperatur und ein Druck verwendet werden, die zwischen etwa 5 Stunden bei etwa 400ºC, unter einem Druck von mindestens etwa 30 Kpsi (2110 kg/cm²), und etwa 1 Stunde bei etwa 800ºC, unter einem Druck, der so niedrig wie etwa 2 Kpsi (141 kg/cm²) ist, liegen.

Claims (13)

1. Legiertes Target zur Herstellung eines magnetooptischen Aufzeichnungsmediums, wobei das Target eine Zusammensetzung aufweist, die mindestens ein seltenes Erdelement und mindestens ein Übergangsmetall aufweist, und eine Struktur mit einem Übergangsmetallbestandteil und einem fein gemischten Legierungsbestandteil einer seltenen Erdphase und einer intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß das Target bis zu einem Maximum von 15 Gew.-% der intermetallischen Verbindung enthält, daß der Übergangsmetallbestandteil eine Legierung aus mindestens zwei unterschiedlichen Übergangsmetallen und/oder eine Legierung eines Übergangsmetalls mit mindestens einem die Korrosionsbeständigkeit verbessernden Element ist, und daß die Struktur kein unlegiertes Übergangsmetall enthält.
2. Target nach Anspruch 1, wobei die Bestandteile der Struktur längs einer Bindungsgrenzfläche aneinander gebunden sind, die frei von einem Diffusionsprodukt aus einer intermetallischen seltene Erd-/Übergangsmetall-Verbindung ist.
3 Legiertes Target zur Herstellung eines magnetooptischen Aufzeichnungsmediums, wobei das Target eine Zusammensetzung aufweist, die mindestens ein seltenes Erdelement und mindestens ein Übergangsmetall aufweist, und eine Struktur mit mehreren Bestandteilen aufweist, die eine Übergangsmetallegierung und eine fein gemischte Legierung aus einer seltenen Erdphase und einer intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung aufweist, dadurch gekenn zeichnet, daß die Struktur kein unlegiertes Übergangsmetall enthält und daß die Bestandteile der Struktur längs einer Diffusionsgrenzfläche aneinander gebunden sind, die frei von einem Diffusionsprodukt der intermetallischen seltene Erd-/Übergangsmetall-Verbindung ist.
4. Target nach Anspruch 3, das bis zu einem Maximum von 15 Gew.-% der intermetallischen Verbindung enthält.
5. Target nach einem der vorhergehenden Ansprüche, das bis zu einem Maximum von 10 Gew.-% der intermetallischen Verbindung enthält.
6. Target nach einem der vorhergehenden Ansprüche, das bis zu einem Maximum von 5 Gew.-% der intermetallischen Verbindung enthält.
7. Target nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der seltene Erdbestandteil im wesentlichen elementar ist.
8. Target nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Legierungsbestandteil mindestens zwei unterschiedliche seltene Erdelemente aufweist.
9. Target nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die fein gemischte Legierung eine eutektische seltene Erd-/ Übergangsmetall-Legierung aufweist.
10. Target nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die fein gemischte Legierung eine seltene Erdmatrix aufweist.
11. Verfahren zur Herstellung eines legierten Targets zum Bil den eines magnetooptischen Aufzeichnungsmediums, wobei das Verfahren die Schritte aufweist: Bereitstellen mindestens eines fein gemischten Legierungsbestandteils einer seltenen Erdphase und einer intermetallischen seltenen Erd-/Übergangsmetall-Verbindung und mindestens eines Übergangsmetallbestandteils in Teilchenform,- Mischen der Teilchen, um eine Pulvermischung herzustellen, und Unterziehen der Pulvermischung einem Preßvorgang in einer oxidationshemmenden Umgebung, dadurch gekennzeichnet, daß der mindestens eine Übergangsmetallbestandteil eine Legierung aus mindestens zwei unterschiedlichen Übergangsmetallen und/oder eine Legierung eines Übergangsmetalls mit mindestens einem die Korrosionsbeständigkeit verbessernden Element ist, die Pulvermischung keine Teilchen eines unlegierten Übergangsmetalls enthält, und daß der Preßvorgang für eine Zeit und bei einer Temperatur und einem Druck durchgeführt wird, die ein Target erzeugt, das einen maximalen Gehalt einer intermetallischen seltene Erd-/Übergangsmetall-Verbindung von bis zu 15 Gew.-% aufweist.
12. Verfahren nach Anspruch 11, das aufweist: Bereitstellen von Teilchen von mindestens einem im wesentlichen elementaren seltenen Erdmetall und Mischen der elementaren seltenen Erdteilchen mit den Teilchen der mindestens einen fein gemischten Legierung und der mindestens einen Übergangsmetallegierung, um die Pulvermischung herzustellen.
13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, das aufweist: Bereitstellen von Teilchen mindestens einer seltenen Erd-/seltenen Erd-Legierung und Mischen der seltenen Erd-/seltenen Erd-Legierungsteilchen mit den Teilchen der mindestens einen fein gemischten Legierung und der mindestens einen Übergangsmetallegierung, um die Pulvermischung herzustellen.
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