DK200300095A - Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af en énkrystal af halvledermateriale - Google Patents

Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af en énkrystal af halvledermateriale Download PDF

Info

Publication number
DK200300095A
DK200300095A DK200300095A DKPA200300095A DK200300095A DK 200300095 A DK200300095 A DK 200300095A DK 200300095 A DK200300095 A DK 200300095A DK PA200300095 A DKPA200300095 A DK PA200300095A DK 200300095 A DK200300095 A DK 200300095A
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
single crystal
container
melting
mass
semi
Prior art date
Application number
DK200300095A
Other languages
English (en)
Inventor
Ammon Wilfried Von
Original Assignee
Wacker Siltronic Halbleitermat
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wacker Siltronic Halbleitermat filed Critical Wacker Siltronic Halbleitermat
Publication of DK200300095A publication Critical patent/DK200300095A/da
Priority to DKPA201100216A priority Critical patent/DK177587B1/da

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

PATENTKRAV: 1. Fremgangsmåde til fremstilling af en énkrystal af halvledermateriale, ved hvilken andele af en smeltemasse, der holdes flydende af en trækspole, størkner på en podekrystal under dannelse af den voksende énkrystal, og granulat smeltes for at vedligeholde énkrystallens vækst, kendetegnet ved, at det smeltende granulat ledes forsinket til smeltemassen. 2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det smeltende granulat ledes til smeltemassen gennem et kanalsystem. 3. Fremgangsmåde ifølge krav 2, kendetegnet ved, at det smeltende granulat ledes til smeltemassen gennem et mæanderformigt kanalystem. 4. Fremgangsmåde ifølge et af kravene 1 til 3, kendetegnet ved, at det smeltende granulat må overvinde mindst én barriere på vejen til smeltemassen. 5. Fremgangsmåde ifølge et af kravene 1 til 4, kendetegnet ved, at det smeltende granulat må tilbagelægge en vejstrækning på mindst 25 mm, inden det når smeltemassen. 6. Fremgangsmåde ifølge et af kravene 1 til 5, kendetegnet ved, at granulatet tilføres smeltemassen fuldstændig smeltet. 7. Fremgangsmåde ifølge et af kravene 1 til 6, kendetegnet ved, at smeltningen af granulatet og opretholdelsen af smeltemassen i flydende tilstand sker ved induktiv energitilførsel, idet de to processer er induktivt afkoblet. 8. Fremgangsmåde ifølge et af kravene 1 til 7, kendetegnet ved, at granulatet smeltes i et ydre område afen beholder, som er anbragt over den voksende énkrystal, og ledes til en central åbning i beholderen og derfra til smeltemassen. 9. Apparat til fremstilling af en énkrystal med en over den voksende énkrystal anbragt beholder og en transportindretning til tilførsel af granulat til beholderen og en opsmeltningsspole til smeltning af granulatet og en trækspole til at holde en smeltemasse på den voksende énkrystal, idet det smeltende granulat gennem åbninger i beholderen og trækspolen kommer til smeltemassen under dannelse af en smeltehals, og størknende andele af smeltemassen vedligeholder énkrystallens vækst, kendetegnet ved, at beholderen har en indretning, som forhaler blanding af det smeltede granulat og smeltemassen. 10. Apparat ifølge krav 9, kendetegnet ved et beskyttelsesskjold, der støvtæt adskiller et rum omkring beholderen fra et rum omkring den voksende énkrystal. 11. Fremgangsmåde ifølge krav 9 eller krav 10, kendetegnet ved afdækninger, der er anbragt over opsmeltespolen, og som granulatet rammer ved tilførsel til beholderen. 12. Apparat ifølge et af kravene 9 til 11, kendetegnet ved en indretning til afkøling af beholderen. 13. Apparat ifølge krav 12, kendetegnet ved en vandkølet metalplade, der er adskilt fra beholderen af en snæver spalte og derved bevirker en strålings- og konvektionskøling. 14. Apparat ifølge krav 9, kendetegnet ved, at beholderen er lejret drejeligt om en omdrejningsakse og består af kvarts og har vægge af kvarts, som deler beholderens indre rum i koncentriske områder, idet disse områder står i forbindelse med hinanden og danner et kanalystem, som det smeltende granulat må overvinde, inden det kan nå til smeltemassen mellem åbningen i beholderen og en stav af halvledermateriale, der stikker gennem åbningen. 15. Apparat ifølge krav 14, kendetegnet ved, at beholderens omdrejningsakse er vippet en vinkei a. 16. Apparat ifølge krav 9, kendetegnet ved, at beholderen består af en plade af halvledermateriale, der kan afkøles, og vægge af kvarts, som opdeler beholderens indre rum i koncentriske områder, idet disse områder står i forbindelse med hinanden og danner et kanalsystem, som det smeltende granulat må overvinde, inden det kan nå til smeltemassen gennem åbningen i beholderen, der er udformet som rørstykke, og at der findes en strålingsopvarmning til opvarmning af en overflade af smeltehalsen og af gennem rørstykket strømmende halvledermateriale. 17. Apparat ifølge krav 9, kendetegnet ved, at beholderen består afen plade af halvledermateriale, der kan afkøles og er begrænset af en ydre rand, og beholderens åbning er udformet som et nedad rettet rørstykke, som er forbundet med pladens forhøjede indre rand, idet pladens indre rand danner en barriere, som det smeltede granulat må overvinde, inden det kan nå til smeltemassen gennem åbningen i beholderen, og en strålingsopvarmning er til stede til opvarmning af en overflade af smeltehalsen og af det gennem rørstykket strømmende halvledermateriale. 18. Apparat ifølge krav 9, kendetegnet ved, at beholderen er lejret drejeligt om en omdrejningsakse og består af en plade af halvledermateriale, der kan afkøles og har mellemstykker, der stadig omsmeltes under indvirkning af opvarmningsspolen og beholderens drejning og deler beholderens indre rum i koncentriske områder, idet disse områder står i forbindelse med hinanden og danner et kanalsystem, som det smeltende granulat må overvinde, inden det kan nå til smeltemassen gennem åbningen i beholderen, der er udformet som rørstykke, og en strålingsopvarmning er til stede til opvarmning af en overflade af smeltehalsen og af det gennem rørstykket strømmende halvledermateriale. 19. Énkrystal af silicium, kendetegnet ved en oxygenkoncentration på 3-9*1017 cm'3 og indgroede defekter med en størrelse mindre end 60 nm. 20. Énkrystal ifølge krav 19, kendetegnet ved en nitrogenkoncentration på 1 *1013-6*1015.
DK200300095A 2002-02-01 2003-01-24 Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af en énkrystal af halvledermateriale DK200300095A (da)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DKPA201100216A DK177587B1 (da) 2003-01-24 2011-03-23 Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af en énkrystal af halvledermateriale

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10204017 2002-02-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DK200300095A true DK200300095A (da) 2003-08-02

Family

ID=27674546

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK200300095A DK200300095A (da) 2002-02-01 2003-01-24 Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af en énkrystal af halvledermateriale

Country Status (1)

Country Link
DK (1) DK200300095A (da)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5279727B2 (ja) 浮遊帯域溶融装置
US8152921B2 (en) Crystal manufacturing
TWI424102B (zh) 從熔體中生長矽單晶的方法和裝置
CN101302646B (zh) 硅半导体晶片及其制造方法
US9702056B2 (en) Production apparatus of SiC single crystal by solution growth method, method for producing SiC single crystal using the production apparatus, and crucible used in the production apparatus
CN104195640A (zh) 一种用于蓝宝石单晶生长的热场系统
US20100320638A1 (en) Device and method for producing crystalline bodies by directional solidification
JP2020063163A (ja) 単結晶製造装置
JP4555677B2 (ja) 連続的な結晶化により、所定の横断面及び柱状の多結晶構造を有する結晶ロッドを製造するための装置
DK200300095A (da) Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af en énkrystal af halvledermateriale
US8445364B2 (en) Methods of treating semiconducting materials including melting and cooling
Lee et al. Directional solidification behaviors of polycrystalline silicon by electron-beam melting
DK201100216A (da) Fremgangsmåde og apparat til fremstilling af en énkrystal af halvledermateriale
TWI761454B (zh) 單晶矽的製造方法
KR102069984B1 (ko) 실리콘으로 구성되는 입자형 재료의 열처리를 위한 방법, 실리콘으로 구성되는 입자형 재료, 및 실리콘으로 구성되는 단결정을 제조하는 방법
JP3566866B2 (ja) 結晶成長炉
JP2000234108A (ja) 球状の金属チタン及びチタン化合物の製造方法
JP6627737B2 (ja) 単結晶引上げ装置
JPS6136192A (ja) 単結晶製造用るつぼ
KR20200118024A (ko) 카본전극 및 석영유리도가니의 제조방법
Čabrić et al. Crystallization in a laboratory chamber furnace
JPH0259485A (ja) 結晶成長方法
UA21853U (en) Method for dislocationless silicon single crystals growing from the melt
JP2014118317A (ja) サファイア単結晶製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
ARF Application refused