EP1688964A3 - Elektrostatisches Ablenksystem für Korpuskularstrahlung - Google Patents

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EP1688964A3
EP1688964A3 EP06002118A EP06002118A EP1688964A3 EP 1688964 A3 EP1688964 A3 EP 1688964A3 EP 06002118 A EP06002118 A EP 06002118A EP 06002118 A EP06002118 A EP 06002118A EP 1688964 A3 EP1688964 A3 EP 1688964A3
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Thomas Dr. Peschel
Christoph Damm
Andreas Gebhardt
Mathias Rohde
Christoph Schenk
Thomas Dr. Elster
Hans-Joachim Döring
Gerhard Schubert
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Vistec Electron Beam GmbH
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    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
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Abstract

Die Erfindung betrifft elektrostatische Ablenksysteme für Korpuskularstrahlen, die insbesondere für mikro- und nanostrukturierte Anwendungen in Lithographieanlagen oder Messgeräten einsetzbar sind. Gemäß der gestellten Aufgabe sollen die einzelnen Elektroden eines solchen Ablenksystems dauerhaft eine sehr genaue axialsymmetrische Anordnung zueinander aufweisen und beibehalten. Bei dem erfindungsgemäßen elektrostatischen Ablenksystem sind stabförmige Elektroden in axialsymmetrischer Anordnung in einem innen hohlen Träger gehalten, durch den ein Korpuskularstrahl gerichtet werden kann. Der Träger ist dabei aus mindestens zwei und maximal vier miteinander verbindbaren Trägerelementen gebildet.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7741610B2 (en) * 2007-11-01 2010-06-22 Oy Ajat Ltd. CdTe/CdZnTe radiation imaging detector and high/biasing voltage means

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3497744A (en) * 1966-08-11 1970-02-24 Philips Corp Cathode-ray tube using a quadrupolar electrostatic lens to correct orthogonality errors
JPS57206172A (en) * 1981-06-15 1982-12-17 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Electrostatic deflecting device for charged particle beam
DE3138898A1 (de) * 1981-09-30 1983-04-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Elektrostatisches ablenksystem
JPS59180943A (ja) * 1983-03-30 1984-10-15 Hitachi Ltd 荷電粒子線用静電偏向器
JPH02247966A (ja) * 1989-03-20 1990-10-03 Fujitsu Ltd 静電偏向装置
JPH05129193A (ja) * 1991-11-01 1993-05-25 Fujitsu Ltd 荷電ビーム露光装置
US5929452A (en) * 1997-03-18 1999-07-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Electrostatic deflecting electrode unit for use in charged beam lithography apparatus and method of manufacture the same
EP0999572A2 (de) * 1998-11-02 2000-05-10 Advantest Corporation Elektrostatische Ablenkeinheit für Elektronstrahl-Belichtungsapparat

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2882412B2 (ja) * 1989-01-20 1999-04-12 富士通株式会社 電子ビーム露光装置
JP2900283B2 (ja) * 1990-08-28 1999-06-02 千代田化工建設株式会社 排煙脱硫装置の排ガス通風機の制御方法
JPH086317Y2 (ja) * 1991-04-11 1996-02-21 東芝機械株式会社 多極対向型静電偏向器
JPH04328236A (ja) * 1991-04-26 1992-11-17 Fujitsu Ltd 電子ビーム露光装置
JPH09139184A (ja) * 1995-11-15 1997-05-27 Nikon Corp 静電偏向器の製造方法
JPH09293472A (ja) * 1996-04-26 1997-11-11 Fujitsu Ltd 荷電粒子ビーム露光装置、その露光方法及びその製造方法
FR2778180B3 (fr) * 1998-04-29 2000-05-19 Saint Gobain Vitrage Fibre de verre entaillee et son procede de fabrication
JP2000011937A (ja) * 1998-06-26 2000-01-14 Advantest Corp 電子ビーム露光装置の静電偏向器
JP2000138036A (ja) * 1998-11-02 2000-05-16 Advantest Corp 電子ビーム照射装置の静電偏向器
DE19907858C1 (de) * 1999-02-24 2000-10-05 Leica Microsys Lithography Ltd Vorrichtung zur elektrostatischen Ablenkung eines Korpuskularstrahles

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3497744A (en) * 1966-08-11 1970-02-24 Philips Corp Cathode-ray tube using a quadrupolar electrostatic lens to correct orthogonality errors
JPS57206172A (en) * 1981-06-15 1982-12-17 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Electrostatic deflecting device for charged particle beam
DE3138898A1 (de) * 1981-09-30 1983-04-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Elektrostatisches ablenksystem
JPS59180943A (ja) * 1983-03-30 1984-10-15 Hitachi Ltd 荷電粒子線用静電偏向器
JPH02247966A (ja) * 1989-03-20 1990-10-03 Fujitsu Ltd 静電偏向装置
JPH05129193A (ja) * 1991-11-01 1993-05-25 Fujitsu Ltd 荷電ビーム露光装置
US5929452A (en) * 1997-03-18 1999-07-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Electrostatic deflecting electrode unit for use in charged beam lithography apparatus and method of manufacture the same
EP0999572A2 (de) * 1998-11-02 2000-05-10 Advantest Corporation Elektrostatische Ablenkeinheit für Elektronstrahl-Belichtungsapparat

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Publication number Publication date
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