ES2203608T3 - Proceso para la preparacion de alfa-halo-cetonas. - Google Patents
Proceso para la preparacion de alfa-halo-cetonas.Info
- Publication number
- ES2203608T3 ES2203608T3 ES02019099T ES02019099T ES2203608T3 ES 2203608 T3 ES2203608 T3 ES 2203608T3 ES 02019099 T ES02019099 T ES 02019099T ES 02019099 T ES02019099 T ES 02019099T ES 2203608 T3 ES2203608 T3 ES 2203608T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- radical
- general formula
- preparation
- alkyl
- aryl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 32
- -1 silyl ester Chemical class 0.000 claims abstract description 90
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 23
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims abstract description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 27
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 13
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 8
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 claims description 7
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 7
- 150000005840 aryl radicals Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 4
- 150000003862 amino acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims description 3
- PKMBLJNMKINMSK-UHFFFAOYSA-N magnesium;azanide Chemical group [NH2-].[NH2-].[Mg+2] PKMBLJNMKINMSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000002435 L-phenylalanyl group Chemical class O=C([*])[C@](N([H])[H])([H])C([H])([H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract description 5
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract description 2
- MDFFNEOEWAXZRQ-UHFFFAOYSA-N aminyl Chemical group [NH2] MDFFNEOEWAXZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000000911 decarboxylating effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 abstract 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 abstract 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 19
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002585 base Substances 0.000 description 13
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 229940024606 amino acid Drugs 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 6
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 6
- UUEVFMOUBSLVJW-UHFFFAOYSA-N oxo-[[1-[2-[2-[2-[4-(oxoazaniumylmethylidene)pyridin-1-yl]ethoxy]ethoxy]ethyl]pyridin-4-ylidene]methyl]azanium;dibromide Chemical compound [Br-].[Br-].C1=CC(=C[NH+]=O)C=CN1CCOCCOCCN1C=CC(=C[NH+]=O)C=C1 UUEVFMOUBSLVJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GNLJBJNONOOOQC-UHFFFAOYSA-N $l^{3}-carbane;magnesium Chemical compound [Mg]C GNLJBJNONOOOQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 4
- RMHOGFJEHWOPLT-UHFFFAOYSA-M magnesium;di(propan-2-yl)azanide;chloride Chemical compound Cl[Mg+].CC(C)[N-]C(C)C RMHOGFJEHWOPLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 4
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CFOSBOAKCMDLGT-UHFFFAOYSA-N [(2-chloroacetyl)oxy-dimethylsilyl] 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)O[Si](C)(C)OC(=O)CCl CFOSBOAKCMDLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N phenylmethyl ester of formic acid Natural products O=COCC1=CC=CC=C1 UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- OLRJXMHANKMLTD-UHFFFAOYSA-N silyl Chemical compound [SiH3] OLRJXMHANKMLTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004066 1-hydroxyethyl group Chemical group [H]OC([H])([*])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FOSCDBCOYQJHPN-UHFFFAOYSA-M Cl[Mg] Chemical compound Cl[Mg] FOSCDBCOYQJHPN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical compound C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- COLNVLDHVKWLRT-QMMMGPOBSA-N L-phenylalanine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CC=CC=C1 COLNVLDHVKWLRT-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007832 Na2SO4 Substances 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical compound BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWDJLDTYWNBUKE-UHFFFAOYSA-L magnesium bicarbonate Chemical compound [Mg+2].OC([O-])=O.OC([O-])=O QWDJLDTYWNBUKE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- FDRCDNZGSXJAFP-UHFFFAOYSA-M sodium chloroacetate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)CCl FDRCDNZGSXJAFP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- XYUBQWNJDIAEES-QMMMGPOBSA-N (2r)-2-amino-3-phenylsulfanylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CSC1=CC=CC=C1 XYUBQWNJDIAEES-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- 125000003088 (fluoren-9-ylmethoxy)carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydrostilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1CCC1=CC=CC=C1 QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULSAJQMHTGKPIY-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3,3-dimethylbutan-2-one Chemical compound CC(C)(C)C(=O)CCl ULSAJQMHTGKPIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPKOJSMGLIKFLO-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,5-tetramethyl-1,2,5-azadisilolidine Chemical compound C[Si]1(C)CC[Si](C)(C)N1 IPKOJSMGLIKFLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKDKBRKTKXITLP-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,5-tetramethyl-3,4-dihydro-1h-silino[3,4-d]azasilole Chemical class C1=C[Si](C)(C)CC2=C1N[Si](C)(C)C2 LKDKBRKTKXITLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUAXHMVRKOTJKP-UHFFFAOYSA-M 2,2-dimethylbutanoate Chemical compound CCC(C)(C)C([O-])=O VUAXHMVRKOTJKP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ULOIAOPTGWSNHU-UHFFFAOYSA-N 2-butyl radical Chemical compound C[CH]CC ULOIAOPTGWSNHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SLRMQYXOBQWXCR-UHFFFAOYSA-N 2154-56-5 Chemical compound [CH2]C1=CC=CC=C1 SLRMQYXOBQWXCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003143 4-hydroxybenzyl group Chemical group [H]C([*])([H])C1=C([H])C([H])=C(O[H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPVATDCOZDHQNL-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)[Mg]C(C)(C)C Chemical compound CC(C)(C)[Mg]C(C)(C)C XPVATDCOZDHQNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCERHCFNWRGHLK-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)C Chemical compound C[Si](C)C DCERHCFNWRGHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008574 D-amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 201000005569 Gout Diseases 0.000 description 1
- 150000008547 L-phenylalanines Chemical class 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000315 carcinogenic Toxicity 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical class OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N chlorocarbonic acid Chemical compound OC(Cl)=O AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PBGGNZZGJIKBMJ-UHFFFAOYSA-N di(propan-2-yl)azanide Chemical compound CC(C)[N-]C(C)C PBGGNZZGJIKBMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXTZHYXQVWRADW-UHFFFAOYSA-N diazomethanone Chemical compound [N]N=C=O XXTZHYXQVWRADW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N dichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)Cl UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010931 ester hydrolysis Methods 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004030 hiv protease inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N lithium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound [Li+].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- XIXLMWVSQHVRBW-UHFFFAOYSA-N lithium cyclopentylazanide Chemical compound [Li+].[NH-]C1CCCC1 XIXLMWVSQHVRBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPLJNJGKLNJWNZ-UHFFFAOYSA-N lithium;cyclohexylazanide Chemical compound [Li+].[NH-]C1CCCCC1 XPLJNJGKLNJWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFIJANVQJMJRRW-UHFFFAOYSA-M magnesium bis(trimethylsilyl)azanide bromide Chemical compound Br[Mg+].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C HFIJANVQJMJRRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- FKKWHMOEKFXMPU-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylbutane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CC[C-](C)C FKKWHMOEKFXMPU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[C-](C)C CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WYPTZCBYSQFOQS-UHFFFAOYSA-N magnesium;bis(trimethylsilyl)azanide Chemical compound [Mg+2].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C.C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C WYPTZCBYSQFOQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPDWPLVFOQOYEA-UHFFFAOYSA-M magnesium;bis(trimethylsilyl)azanide;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C JPDWPLVFOQOYEA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;chloride Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Cl-] CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UODMSBYDFUPQHC-UHFFFAOYSA-M magnesium;di(propan-2-yl)azanide;bromide Chemical compound CC(C)N([Mg]Br)C(C)C UODMSBYDFUPQHC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DQZLQYHGCKLKGU-UHFFFAOYSA-N magnesium;propane Chemical compound [Mg+2].C[CH-]C.C[CH-]C DQZLQYHGCKLKGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- VSDUZFOSJDMAFZ-VIFPVBQESA-N methyl L-phenylalaninate Chemical compound COC(=O)[C@@H](N)CC1=CC=CC=C1 VSDUZFOSJDMAFZ-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N methyloxidanyl Chemical compound [O]C GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004372 methylthioethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004092 methylthiomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])* 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229960005190 phenylalanine Drugs 0.000 description 1
- 125000005544 phthalimido group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003388 sodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N vinyl radical Chemical compound C=[CH] ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C269/00—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
- C07C269/06—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups by reactions not involving the formation of carbamate groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
- C07C319/20—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by reactions not involving the formation of sulfide groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/45—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation
- C07C45/48—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation involving decarboxylation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B2200/00—Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
- C07B2200/07—Optical isomers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Proceso para la preparación de una a-halogenocetona de la fórmula general (1) en la cual R1 es un resto alquilo, aralquilo o arilo, en el cual las unidades CH2 pueden estar sustituidas eventualmente por heteroátomos tales como NH, NCH3, S, O, y opcionalmente las unidades CH pueden estar sustituidas por N y los radicales R1 pueden estar sustituidos adicionalmente con grupos funcionales como p.ej. un radical halógeno, un radical amino, un radical alcoxi o un radical tioalquilo y R2 es un radical hidrógeno, alquilo, aralquilo o arilo y X es un radical halógeno en el cual un derivado de ácido carboxílico de la fórmula general (2) en la cual R1 tiene el significado mencionado anteriormente y A es un grupo de partida, se hace reaccionar con un mono- o dienolato de un sililéster de la fórmula general (3) en la cual X y R2 tienen el significado ya mencionado y R3 y R4 son iguales o diferentes y significan radical alquilo, arilo, alquenilo o aralquilo; y el producto de reacción se hidroliza inmediatamente después por adición de un ácido y se descarboxila para dar (1)
Description
Proceso para la preparación de
\alpha-halo-cetonas.
La invención se refiere a un proceso para la
preparación de \alpha-halogenocetonas.
La preparación de
\alpha-clorocetonas por conversión de un
aminoácido protegido en N con alquilésteres de ácido clorofórmico
para dar el anhídrido mixto, conversión del anhídrido mixto con
diazometano para dar diazocetona y reacción subsiguiente con HCl
para dar la clorocetona es conocida p.ej. por el artículo de S.W.
Kaldor et al., J. Med. Chem. 1997, 40, 3979-3985.
El proceso emplea diazometano, un gas explosivo y cancerígeno, que
en escala industrial sólo puede ser empleado con altos riesgos. La
preparación de \alpha-clorocetonas por conversión
de un éster de aminoácido protegido en N con un CH_{2}
C1-anión a bajas temperaturas es conocida p.ej. por
el artículo de P. Chen et al., Tetrahedron Lett. 1997,
38(18), 3175-3178 o por los documentos US
5.481.011; US 5.523.463, y US 5.591.885. El proceso tiene que
realizarse a temperaturas muy bajas (T < -80°C) lo que limita la
aplicabilidad técnica general y lleva consigo inconvenientes
económicos evidentes.
La preparación de
\alpha-clorocetonas por conversión de un éster de
aminoácido protegido en N con sales del ácido cloroacético y
descarboxilación subsiguiente es conocida p.ej. por el artículo de
X. Wang et al., Synlett. 2000, 902-904 o por el
documento US 5.929.284. Para las sales de Li es necesario
nuevamente un equipo industrial de temperaturas bajas. En el caso de
las sales de magnesio, la reacción puede realizarse a la
temperatura ambiente (TA) y superior, pero la reacción proporciona
entonces, por cromatografía, solamente rendimientos de 52%.
La preparación de
\alpha-clorocetonas por conversión de un
aminoácido activado protegido en N con enolatos de acetatos de metal
alcalino para dar derivados de \beta-cetoésteres
que se someten después selectivamente a cloración en un segundo
paso y se descarboxilan en un tercer paso subsiguiente es conocida
por los documentos EP 774 453, US 5.767.316 o US 5.902.887. El
proceso requiere tres etapas y es por consiguiente más complicado
que los procesos descritos hasta ahora.
La preparación de
\alpha-clorocetonas por conversión de un
aminoácido activado protegido en N con enolatos de acetatos
monohalogenados de metal alcalino para dar derivados de
\beta-cetoésteres halogenados, que se hidrolizan y
descarboxilan luego en pasos subsiguientes, se describe en los
documentos US 5.767.316 y US 5.902.887. El proceso tiene que
realizarse, de acuerdo con los datos de los inventores (EP 774 453
Al, pág. 5, líneas 46-47) a -60°C o temperaturas
inferiores, lo que exige nuevamente una instalación industrial de
baja temperatura.
El objeto de la presente invención es
proporcionar un proceso favorable en costes para la preparación de
una
\alpha-halogenocetona a partir de un derivado de aminoácido protegido en N, que puede realizarse en escala industrial sin riesgo alguno y que proporciona mejores rendimientos y purezas que los procesos conocidos.
\alpha-halogenocetona a partir de un derivado de aminoácido protegido en N, que puede realizarse en escala industrial sin riesgo alguno y que proporciona mejores rendimientos y purezas que los procesos conocidos.
El objeto se resuelve por un proceso para la
preparación de una \alpha-halogenocetona de la
fórmula general (1)
en la cual R^{1} es un resto alquilo,
aralquilo, o arilo, en el cual las unidades CH_{2} pueden estar
sustituidas eventualmente por heteroátomos tales como NH,
NCH_{3}, S, O, y opcionalmente las unidades CH pueden estar
sustituidas por N y los radicales R^{1} pueden estar sustituidos
adicionalmente con grupos funcionales como p.ej. un radical
halógeno, un radical amino, un radical alcoxi o un radical
tioalquilo y R^{2} es un radical hidrógeno, alquilo, aralquilo o
arilo
y
X es un radical halógeno
en el cual un derivado de ácido carboxílico de la
fórmula general (2)
en la cual R^{1} tiene el significado
mencionado anteriormente
y
A es un grupo de partida
se hace reaccionar con un mono- o dienolato de un
sililéster de la fórmula general (3)
en la cual X y R^{2} tienen el significado ya
mencionado y R^{3} y R^{4} son iguales o diferentes y
significan hidrógeno o un radical alquilo, arilo, alquenilo o
aralquilo;
y, después de efectuada la conversión, el
producto de reacción se hidroliza sin aislamiento inmediatamente
después por adición de un ácido y se descarboxila para dar (1).
Bajo un grupo de partida debe entenderse
preferiblemente un radical tal, que en un derivado de ácido
carboxílico promueve una reactividad incrementada frente a los
nucleófilos en comparación con el ácido carboxílico libre y
favorece una sustitución por estos nucleófilos en el radical
carbonilo del derivado de ácido carboxílico.
Preferiblemente, R^{1} se selecciona del grupo
de radical alquilo lineal o ramificado con 1 a 25 átomos de
carbono, radical arilo con 6 a 30 átomos de carbono, radical
aralquilo con 7 a 31 átomos de carbono, en los cuales opcionalmente
las unidades CH_{2} pueden estar sustituidas por heteroátomos
tales como NH, NCH_{3}, S o O, y las unidades CH pueden estar
sustituidas por N, pudiendo estar sustituidos los radicales R^{1}
con grupos funcionales tales como v.g. radical halógeno, radical
amino, radical alcoxi o radical tioalquilo.
Ejemplos de R^{1} son los radicales metilo,
etilo, propilo, butilo, pentilo, hexilo, heptilo, octilo, nonilo,
isopropilo, isobutilo, t-butilo,
2,2-dimetilpropilo, 3-metilbutilo,
fenilo, naftilo y bencilo.
El grupo de partida A se selecciona
preferiblemente del grupo radical alcoxi con 1 a 10 átomos de
carbono, radical fenoxi o benciloxi sustituido opcionalmente en el
anillo, radical halógeno tal como radical bromo o cloro, radical
imidazolilo, 1-oxibenzotriazol, y grupos
alcoxicarboniloxi tales como metoxicarboniloxi, etilcarboniloxi o
isobutoxicarboniloxi (denominados anhídridos mixtos).
Preferiblemente, en el caso del grupo de partida
A se trata de un radical alcoxi lineal con 1 a 4 átomos C.
Como grupo de partida A es particularmente
preferido el radical metoxi.
X significa Cl, Br, F o I, de modo
particularmente preferible Cl y Br, y de modo especialmente
preferible Cl.
En el caso del radical R^{2} se trata
preferiblemente, con independencia unos de otros, de un radical
hidrógeno, radical alquilo con 1 a 10 átomos de carbono, radical
arilo con 6 a 10 átomos de carbono, radical aralquilo de 7 a 11
átomos de carbono o un radical alquenilo con 2 a 10 átomos de
carbono.
El radical R^{2} preferido es el radical
hidrógeno.
En el caso de los radicales R^{3} y R^{4} se
trata preferiblemente, con independencia unos de otros, de un
radical hidrógeno, radical alquilo con 1 a 10 átomos de carbono,
radical arilo con 6 a 10 átomos de carbono, o de un radical
alquenilo con 2 a 10 átomos de carbono. Ejemplos de radicales sililo
SiR^{3}R^{4} son los radicales dimetilsililo, dietilsililo,
diisopropilsililo, di-(t-butil)sililo,
dibutilsililo, t-butilmetilsililo,
fenilmetilsililo, difenilsililo y divenilsililo.
En este caso se prefieren los radicales
dimetilsililo y difenilsililo.
Como radical sililo es particularmente preferido
el radical dimetilsililo.
El proceso correspondiente a la invención se
lleva a cabo preferiblemente a una temperatura en el intervalo de
-10°C a 110°C, preferiblemente a 0°C hasta 70°C.
El proceso correspondiente a la invención
comprende solamente un paso de proceso, no requiere instalación
alguna de baja temperatura ni producto químico peligroso alguno,
emplea radicales sililo económicos y proporciona mejores
rendimientos que los procesos conocidos.
\newpage
El proceso correspondiente a la invención se
realiza preferiblemente en presencia de un disolvente. Como
disolvente encuentran aplicación, además de hidrocarburos
aromáticos tales como benceno, tolueno o xileno, también hexano,
heptano y preferiblemente éteres tales como
t-butil-metil-éter,
tetrahidrofurano, dioxano, dietiléter, diisopropiléter, dibutiléter
y 1,2-dimetoxietano.
De modo totalmente sorprendente se ha encontrado
que un sililéster de ácido carboxílico
bis-(\alpha-halogenado) a la temperatura ambiente
o incluso a temperatura más alta puede formar enolatos estables con
bases específicas, los cuales se adicionan de la manera deseada a
derivados de (amino)-ácidos activados y mediante tratamiento ácido
por hidrólisis inmediata y descarboxilación in situ dan las
\alpha-halogenocetonas deseadas. De acuerdo con la
técnica anterior, podía contarse con que los enolatos de
sililésteres de ácidos haloacéticos solamente son apropiados para
la preparación de clorocetonas a temperaturas muy bajas (T <
-60°C) y aun así sólo con conversiones bajas hasta aproximadamente
50%.
La presente invención se refiere particularmente
a un proceso para la preparación de una
\alpha-halogenocetona de la fórmula general
(5)
en la cual R^{2} es como se define
anteriormente, y R^{5} significa radical hidrógeno, alquilo,
aralquilo o arilo, en el cual uno o varios grupos CH_{2} pueden
estar sustituidos por O, S, NH o NCH_{3}, y X es un radical
halógeno
y
P^{1} y P^{2}, independientemente uno de
otro, son radical hidrógeno o un grupo protector de amino o,
considerados juntos, son un grupo cíclico protector de amino,
en el cual un derivado de aminoácido de la
fórmula general (6)
en la cual R^{5}, P^{1} y P^{2} tienen el
significado ya mencionado y A es un grupo de partida que se define
como
anteriormente,
se hace reaccionar con un enolato metálico de un
sililéster de la fórmula general (3) y el producto de reacción se
hidroliza inmediatamente después por adición de un ácido y se
descarboxila para dar (5).
R^{5} se selecciona preferiblemente del grupo
de radical hidrógeno, radical alquilo lineal o ramificado con 1 a
20 átomos C, en el cual uno o varios grupos CH_{2} pueden estar
sustituidos por O, S, NH o NHC_{3}, radical arilo con 6 a 25
átomos de carbono, radical aralquilo con 7 a 26 átomos de carbono,
radical vinilo y radical alquinilo opcionalmente sustituido y la
cadena lateral de un aminoácido o de un derivado de aminoácido, que
puede obtenerse por modificación química de la cadena lateral
R^{1} de un aminoácido natural o no.
Ejemplos de R^{5} son hidrógeno, radical
metilo, etilo, isopropilo, t-butilo, hidroximetilo,
clorometilo, 1-hidroxietilo, mercaptometilo,
metiltiometilo, metiltio-etilo,
2-metilpropilo, l-metilpropilo,
1-hidroxietilo, feniltiometilo, fenilo, bencilo,
2-feniletilo, p-hidroxibencilo,
p-hidroxifenilo, p-clorofenilo,
m-hidroxifenilo, histidinilo, imidazolilo,
tiazolilo, tetrazolilo, 2-tiazoliltio, alquinilo y
vinilo. Los grupos hidroxi, tiol o amino libres en los radicales
R^{5} pueden estar provistos también de un grupo protector de
acuerdo con los métodos conocidos por los expertos (v.g. en P.J.
Kocienski, Protecting Groups, Thieme Verlag, 1994, Stutt) gart,
Nueva York, páginas 185-243). En el caso de R^{5}
se trata de modo particularmente preferido de un radical
feniltiometilo o un radical bencilo.
P^{1} y P^{2} son iguales o diferentes y
significan preferiblemente radical hidrógeno o grupo protector de
amino.
\newpage
Bajo un grupo protector de amino debe entenderse
cualquier grupo protector que pueda emplearse para la protección de
una función amino. Tales grupos protectores son conocidos (v.g. en
P.J. Kocienski, Protecting Groups, Thieme Verlag, 1994, Stuttgart,
Nueva York, páginas 185-243). Ejemplos de tales
grupos protectores son los grupos metoxicarbonilo, etoxicarbonilo,
t-butoxicarbonilo (BOC), benciloxicarbonilo (Z),
fluoreniloxicarbonilo (FMOC), acetilo, bencilo, dibencilo,
ftalimido, tosilo, benzoílo o sililo tales como trimetilsililo,
Stabase (derivados de
2,2,5,5-tetrametil-l-aza-2,5-disilaciclopentano),
y Benzostabase (derivados de
2,2,5,5-tetrametil-1-aza-2,5-disila-benzociclopentano).
Preferiblemente, se trata de un grupo
t-butoxi-carbonilo (BOC) o un grupo
benciloxicarbonilo (Z).
Preferiblemente, en el caso del derivado de ácido
carboxílico (6) se trata de un éster de L- o
D-aminoácido ópticamente activo enantioméricamente
puro. Preferiblemente, el éster de L- o D-aminoácido
ópticamente activo enantioméricamente puro es un compuesto del
grupo de los ésteres de L-fenilalanina o ésteres de
L-S-fenilcisteína protegidos con
terc-butoxicarbonilo o benciloxicarbonilo.
Los enolatos metálicos de los silanos (3) se
obtienen por conversión de los silanos con dos o más equivalentes
molares de bases específicas en éteres (p.ej. tetrahidrofurano,
metil-terc-butil-éter).
Como bases específicas para la obtención del
enolato, en el cual no sólo una sino las dos unidades de
ácido
\alpha-halogenocarboxílico, sustituidas opcionalmente con R^{2} pueden estar desprotonizadas, son apropiadas todas las bases fuertes como bases de metal alcalino o bases de metal alcalinotérreo. Son apropiados compuestos orgánicos de litio (p.ej. n-butil-litio, sec-butil-litio, terc-butil-litio, metil-litio, diisopropilamiduro de litio, hexametildisilazida de litio, ciclohexilamiduro de litio y ciclopentilamiduro de litio); terc-butóxido de potasio, compuestos de sodio tales como hidruro de sodio y metóxido o etóxido de sodio, así como compuestos análogos de potasio; amiduros de magnesio (p.ej. diisopropilamiduro de cloromagnesio, diisopropilamiduro de bromomagnesio, hexametildisilazida de cloromagnesio, hexametildisilazida de bromomagnesio, bis(diisopropilamiduro) de magnesio, bis(hexametildisilazida) de magnesio, ciclohexilamiduro de cloromagnesio, ciclohexilamiduro de bromomagnesio) y compuestos orgánicos de magnesio (p.ej. cloruro de terc-butilmagnesio, cloruro de n-butilmagnesio, cloruro de metilmagnesio, cloruro de t-amilmagnesio y los bromuros respectivos; di-terc-butilmagnesio y diisopropilmagnesio). Si se emplean compuestos organometálicos, entonces puede añadirse además una amina tal como diisopropilamina, hexametildisilazano, trietilamina, diisopropiletilamina antes o durante la reacción.
\alpha-halogenocarboxílico, sustituidas opcionalmente con R^{2} pueden estar desprotonizadas, son apropiadas todas las bases fuertes como bases de metal alcalino o bases de metal alcalinotérreo. Son apropiados compuestos orgánicos de litio (p.ej. n-butil-litio, sec-butil-litio, terc-butil-litio, metil-litio, diisopropilamiduro de litio, hexametildisilazida de litio, ciclohexilamiduro de litio y ciclopentilamiduro de litio); terc-butóxido de potasio, compuestos de sodio tales como hidruro de sodio y metóxido o etóxido de sodio, así como compuestos análogos de potasio; amiduros de magnesio (p.ej. diisopropilamiduro de cloromagnesio, diisopropilamiduro de bromomagnesio, hexametildisilazida de cloromagnesio, hexametildisilazida de bromomagnesio, bis(diisopropilamiduro) de magnesio, bis(hexametildisilazida) de magnesio, ciclohexilamiduro de cloromagnesio, ciclohexilamiduro de bromomagnesio) y compuestos orgánicos de magnesio (p.ej. cloruro de terc-butilmagnesio, cloruro de n-butilmagnesio, cloruro de metilmagnesio, cloruro de t-amilmagnesio y los bromuros respectivos; di-terc-butilmagnesio y diisopropilmagnesio). Si se emplean compuestos organometálicos, entonces puede añadirse además una amina tal como diisopropilamina, hexametildisilazano, trietilamina, diisopropiletilamina antes o durante la reacción.
La relación molar entre el compuesto
organometálico y la amina está comprendida entre 0,1 y 10.
Bases preferidas son compuestos de magnesio.
Bases especialmente preferidas son amiduros de
magnesio o una combinación de un compuesto de alquilmagnesio con
una amina.
Las mismas se preparan preferiblemente de tal
manera que un amiduro de magnesio de la fórmula general (8)
en la
cual
R^{6} y R^{7}, independientemente uno de
otro, significa radical alquilo, aralquilo, arilo o sililo, o
R^{6} y R^{7}, considerados juntos, forman un anillo de
cicloalquilo con 4 a 6 átomos C, e
Y significa -NR^{6}R^{7} o radical halógeno o
un compuesto organomagnésico de la fórmula (9)
R^{8}MgZ (9)
en la cual
R^{8} significa radical alquilo, arilo o
aralquilo y
Z significa radical halógeno o R^{3}, o mezclas
de los compuestos (9), como se encuentran las mismas
particularmente en las soluciones de Grignard (el denominado
equilibrio de Schlenck),
se hace reaccionar con un sililéster de la
fórmula general
(3).
En el contexto de esta invención, se designa en
general con el término enolato metálico la especie activa que se
forma por la reacción entre el sililéster (3) y una base fuerte
(catión metálico, p.ej. Li o Mg) en un disolvente apropiado.
La designación "enolato de magnesio" designa
la especie activa que se forma por la reacción entre el sililéster
(3) y una base que contiene magnesio tal como diisopropilamiduro de
cloromagnesio, en un disolvente apropiado. En este caso pueden
estar desprotonizadas no sólo una, sino las dos unidades de ácido
\alpha-halogenocarboxílico opcionalmente
sustituidas. Preferiblemente, R^{6} y R^{7} significan,
independientemente uno de otro, radical alquilo lineal o ramificado
con 1 a 10 átomos de carbono, radical arilo con 6 a 10 átomos de
carbono, aralquilo con 7 a 15 átomos de carbono, o radical sililo
con 3 a 10 átomos de carbono. Ejemplos de los radicales R^{6} y
R^{7} son los radicales metilo, etilo, propilo, isopropilo,
terc-butilo, fenilo, bencilo y trimetilsililo, o
R^{6} y R^{7} considerados juntos son -(CH_{2})_{4}-
o -(CH_{2})_{5}-.
De modo particularmente preferido R^{6} =
R^{7} = radical isopropilo o trimetilsililo.
R^{8} es preferiblemente un radical alquilo
lineal o ramificado con 1 a 10 átomos de carbono, un radical arilo
con 6 a 10 átomos de carbono o un radical aralquilo con 7 a 15
átomos de carbono. Ejemplos de R^{8} son los radicales metilo,
etilo, propilo, isopropilo, t-butilo, isobutilo,
n-butilo, fenilo o bencilo. De modo particularmente
preferido R^{8} es un radical secundario o terciario tal como
p.ej. un radical isopropilo, sec-butilo o
t-butilo.
El proceso correspondiente a la invención se
realiza preferiblemente de tal manera que un sililéster (3) y una
base de acuerdo con la fórmula (8) o (9) y un derivado de ácido
carboxílico de acuerdo con la fórmula (2) o preferiblemente un
derivado de (amino)-ácido activado de acuerdo con la fórmula (6) se
unen en uno de los disolventes mencionados anteriormente
preferiblemente a 0° hasta la temperatura ambiente y la solución se
agita a la temperatura ambiente hasta conversión completa, o se
calienta durante 10-180 min a
40-110°C y, después de la conversión completa, la
solución que contiene el producto de adición de la reacción se
trata con un ácido diluido, con lo cual el producto (1) o (5) se
libera in situ y esta mezcla se extrae con un disolvente
orgánico inmiscible con el agua y se separa una fase orgánica que
contiene la halogenocetona, y la fase orgánica que contiene la
halogenocetona se lava preferiblemente con una solución saturada de
NaHCO_{3} o NaCl y se seca preferiblemente sobre Na_{2}SO_{4}
o MgSO_{4}, se elimina el disolvente, se separa un disiloxano
formado y la se recupera \alpha-halogenocetona
como residuo cristalino.
La relación molar de la base empleada al
sililéster empleado está comprendida preferiblemente entre 1 y 8,
de modo particularmente preferible entre 2 y 6.
La relación molar del sililéster al derivado de
ácido carboxílico está comprendida preferiblemente entre 0,5 y 2,
de modo particularmente preferible entre 0,5 y 1,5.
El tiempo de reacción es, a la temperatura
ambiente, entre 1 h y 16 h, y en el caso de calentamiento entre 10
min y 3 h. El calentamiento a preferiblemente 40 hasta 110°C, de
modo particularmente preferible 40 hasta 70°C es la variante de
realización preferida, debido a la aceleración de la reacción. Bajo
temperatura ambiente debe entenderse preferiblemente una
temperatura de 20 a 25°C.
En el caso del empleo de diisopropilato de
cloromagnesio como base, la conversión total puede reconocerse
fácilmente por la clarificación de la suspensión para dar una
solución.
El procedimiento de acabado que sigue
inmediatamente a la reacción propiamente dicha puede describirse en
líneas generales como sigue: la mezcla de reacción se vierte gota
a gota en ácido diluido. En principio debe alcanzarse solamente un
intervalo de pH de ácido a neutro. Ejemplos de los ácidos que
pueden emplearse son ácido clorhídrico (de 2 a 30%) y ácido
sulfúrico (de 2 a 20%) y ácidos por el estilo tales como solución
saturada de cloruro de amonio o ácido acético diluido. Durante la
acidificación se libera in situ el producto (1) o (5), 5 dado que
por contacto con el agua tienen lugar de modo inmediatamente
sucesivo la hidrólisis del sililéster y la descarboxilación
subsiguiente para dar la halogenocetona. Después que se ha
alcanzado un valor de pH ácido a neutro menor que 7,
preferiblemente 1 a 4, y una vez terminado D el desprendimiento de
gas, la mezcla obtenida se extrae con un disolvente orgánico
inmiscible con el agua. En el caso del disolvente orgánico
inmiscible con el agua, se trata preferiblemente de ésteres de ácido
acético tales como acetato de etilo, acetato de propilo o acetato
de butilo, éteres tales como
t-butil-metil-éter,
tetrahidrofurano, dioxano, dietiléter, diisopropiléter, dibutiléter
o 1,2-dimetoxietano o hidrocarburos aromáticos tales
como tolueno, xileno o benceno. En principio, son asimismo
posibles hidrocarburos halogenados tales como diclorometano o
cloroformo. Sin embargo, debido a la mayor densidad se presentan en
este caso problemas complicados en la sepas ración de fases y es
necesario trabajar con mayor cantidad de medio de extracción. La
fase orgánica que contiene halogenocetona se lava luego con
solución saturada de NaHCO_{3} y/o NaCl, y se seca sobre
Na_{2}SO_{4} o MgSO_{4}. Después de separación del agente de
secado por filtración y eliminación del disolvente, el oligo- o
polisiloxano formado se separa por agitación intensa con bencina de
petróleo. El residuo sólido de
\alpha-halogenocetona puede llevarse a la
reducción para dar el alcohol \alpha-halogenado
directamente, o después de recristalización. Disolventes
particularmente apropiados para la recristalización son alcoholes
tales como etanol, 2-propanol,
2-butanol, hexanol y
2-etil-hexanol. Éstos se pueden
emplear también como mezclas con bencina de petróleo. En la
recristalización se separa también el siloxano
-[Si(CH_{3})_{2}O]- que se produce como producto
de copulación, de tal modo que puede omitirse la agitación intensa
con bencina de petróleo.
La reducción para dar el alcohol
\alpha-halogenado puede tener lugar por reducción
de la \alpha-halogenocetona con NaBH_{4} en las
condiciones descritas en el artículo de S.W. J Kaldor et al., J.
Med. Chem. 1997, 40, 3979-3985, o realizarse de modo
particularmente ventajoso debido a la diastereoselectividad acusada
por la reducción
Meerwein-Ponndorf-Verley- (MPV) como
se describe por ejemplo en el documento EP 963972, p. 13, línea 42
hasta p. 14, línea 11.
Como ejemplo ilustrativo de las posibilidades de
combinación de sustratos y reactivos de la presente invención puede
servir el esquema siguiente:
La presente invención abarca también, por
consiguiente, la preparación de un alcohol
\alpha-halogenado de la fórmula general (4)
en la cual R^{1}, R^{2} y X son como se
define anteriormente por preparación de una
\alpha-halogenocetona (1) de acuerdo con el
proceso correspondiente a la invención y reducción del grupo
carbonilo para dar el alcohol \alpha-halogenado
(4).
La invención comprende también particularmente la
preparación de un alcohol \alpha-halogenado de la
fórmula general (7)
en la cual R^{2}, R^{5}, P^{1}, P^{2} y X
tienen el significado ya
mencionado,
por preparación de una
\alpha-halogenocetona (5) de acuerdo I con el
proceso correspondiente a la invención y reducción del grupo
carbonilo para dar el alcohol \alpha-halogenado
(7).
El proceso correspondiente a la invención
facilita un acceso económico ventajoso a
\alpha-halogenocetonas a partir de derivados de
(amino)-ácidos (protegidos en su caso en N). Partiendo de
L-fenilalanina y L-fenilcisteína se
obtienen de este modo por reducción del grupo ceto los
halogenoalcoholes respectivos, que pueden convertirse después en
inhibidores de la HIV-proteasa (S.W. Kaldor et al.,
J. Med. Chem. 1997, 40, 3979-3985; K.-J. Schleifer,
Pharmazie in unserer Zeit 2000, 29, 341-349).
Adicionalmente, la purificación puede realizarse
por recristalización simple, no siendo necesaria una cromatografía
en columna, técnicamente inviable.
Los ejemplos siguientes sirven para la
ilustración adicional de la invención.
Se suspende cloroacetato de sodio (233 g, 2,00
mol) en dietil-éter absoluto (400 ml). Con agitación se vierte gota
a gota diclorodimetilsilano (122 ml, 1,00 mol). La mezcla de
reacción se calienta a reflujo para la culminación de la reacción
durante 60 min. Después de enfriar, el NaCl formado se separa por
filtración en atmósfera de gas de protección. El producto bruto que
se produce cuantitativamente se aísla por eliminación del éter y es
suficientemente puro para la conversión descrita seguidamente. Para
una purificación adicional con fines analíticos, el producto bruto
puede someterse a destilación fraccionada. Líquido incoloro (164 g,
67%), p.eb. 90°C/1 mbar. ^{1}H-NMR (CDCl_{3}:
0,50 (s, 6H), 4,08 (s, 4H). ^{29}Si-NMR: 8,88
ppm.
Se vierte gota a gota diisopropilamina (21 ml,
150 mmol) a la temperatura ambiente con agitación a cloruro de
metilmagnesio (58 ml, 20% en tetrahidrofurano (THF), 150 mmol); se
diluye la suspensión con THF abs. (30 ml) y se calienta a reflujo
durante 60 min (matraz 1). En un segundo matraz, se disuelven éster
metílico de
N-Z-L-S-fenilcisteína
(8,6 g, 25 mmol) y bis-(cloroacetoxi)-dimetilsilano
(6,1 g, 25 mmol) con agitación a la temperatura ambiente en THF
abs. (40 ml) (matraz 2). Se vierte luego gota a gota la suspensión
del primer matraz en el espacio de 5 minutos para su disolución en
el matraz 2.5 Se produce entonces una reacción fuertemente
exotérmica y se forma una suspensión amarilla. La mezcla se
mantiene a reflujo durante 45 min más. Durante este tiempo se forma
una solución clara a partir de la suspensión. La mezcla de
reacción se diluye con THF (100 ml), se vierte gota a gota en ácido
sulfúrico diluido (10%), y se lava con agua totalmente
desmineralizada o destilada y solución saturada de NaCl. La fase
orgánica se concentra en el evaporada dor rotativo. El residuo
cristaliza por completo rápidamente y se agita intensamente con
éter de petróleo. Los cristales de color beige claro se filtran con
succión y se secan en el armario secador. Rendimiento 6,8 g (74%).
Se recristaliza en 2-propanol. P.f.
90-91°C. ^{1} H-NMR (CDCl_{3}:
3,22-3,45 (m, 2H), 4,10-4,25 (m,
2H), 4,63-4,75 (m, 2H), 5,10 (s, 2H),
5,50-5,65 (m, 1H), 7,15-7,45 (m,
10H).
Acabado alternativo: Por concentración de la
solución y adición directa de iso-propanol, el
producto puede obtenerse también en forma cristalina directamente a
partir de la mezcla de reacción, en cuyo caso el rendimiento no
optimizado es 5,1 g (56%).
Se cargó inicialmente una solución de cloruro de
metilmagnesio (20% en THF, 300 mmol, 116 ml), se calentó a
ebullición y se trató gota a gota con diisopropilamina (300 mmol,
42,0 ml). Después de la adición, se calentó a reflujo durante 1 h
más, y se enfrió posteriormente.
Se disolvieron éster metílico de
L-fenilalanina (37,5 mmol, 11,7 g) y
bis(cloroacetoxi)-dimetilsilano (50 mmol,
15,7 g) en THF (40 ml) y se enfrió a 0°C. La suspensión preparada
del diisopropilamiduro de cloromagnesio se añadió luego gota a
gota de tal manera que la temperatura no sobrepasara 30°C. La
suspensión amarilla obtenida se calentó a reflujo durante 30 min.
Se enfrió luego y se vertió gota a gota la solución parda en ácido
clorhídrico al 20% (85 ml). Se separaron las fases y se concentró
la fase orgánica. El residuo se recristalizó en isopropanol. Se
obtuvieron 9,56 g (78%) de cristales de color amarillento claro
(pureza por HPLC 99,7%), p.f. 91-94°C, ^{1}
H-NMR (CDCl_{3}: \delta
2,95-3,15 (m, 2 H, PhCH_{2}CH (NHZ)
CO), 3,95 (d, 1 H, CHHCl), 4,15 (d, 1 H, CHHCl),
4,70-4,80 (m, 1 H, CH_{2}CH(NHZ) CO),
5,05 (s, 2 H, PhCH_{2}O), 5,20-5,35 (bs, 1
H, NHZ), 7,10-7,20 (m, 2 H, aromát),
7,25-7,40 (m, 8 H, aromát.).
Se cargó inicialmente una solución de cloruro de
metilmagnesio (20% en THF, 100 mmol, 39 ml), se calentó a
ebullición y se trató gota a gota con diisopropilamina (100 mmol,
14,0 ml). Después de la adición se calentó durante 1 hora más a
reflujo, y se enfrió luego.
Se disolvieron benzoato de metilo (17 mmol, 2,30
g) y bis(cloroacetoxi)dimetilsilano (17 mmol, 5,33 g)
en THF (20 ml) y se enfrió a +5°C. Se añadió luego gota a gota la
suspensión obtenida del diisopropilamiduro de
cloro-magnesio luego de tal manera que la
temperatura no sobrepasara 30°C. La suspensión obtenida se calentó
durante 60 min a reflujo. Se enfrió luego y la solución parda se
vertió gota a gota en ácido clorhídrico al 20% (40 ml). Se
separaron las fases y se concentró la fase orgánica. El residuo se
analizó por HPLC. Se determinaron por comparación de los tiempos de
retención con cloruro de fenacilo comercial 89,4% de producto y
6,3% de material de partida, siendo el resto desconocido.
Se cargó inicialmente una solución de cloruro de
metilmagnesio (20% en THF, 300 mmol, 116 ml), se calentó a
ebullición y se trató gota a gota con diisopropilamina (300 mmol,
42,0 m1). Después de la adición se mantuvo a reflujo durante 1 hora
más, y se enfrió luego.
\newpage
Se calentaron cloroacetato de sodio (100 mmol,
11,6 g) y diclorometilsilano (50 mmol, 6,1 ml) en THF absoluto (50
ml) durante 2 h a 40°C. Se añadió pivalato de metilo (50 mmol, 6,70
ml) y la mezcla de reacción se enfrió a +5°C. Se añadió luego gota
a gota la suspensión obtenida del diisopropilamiduro de
cloromagnesio de tal manera que la temperatura no sobrepasara 30°C.
La suspensión obtenida se calentó a reflujo durante 60 min. Se
enfrió luego y se vertió gota a gota la solución parda en ácido
clorhídrico al 12% (100 ml). Se separaron las fases. La fase
orgánica se analizó por GC. Contenido de
1-cloro-3,
3-dimetil-2-butanona,
91,2%, material de partida 4,3%. Se separó el disolvente por
destilación en una columna y el residuo se sometió a destilación
fraccionada. Se obtuvieron 5,10 g (76%) de fracción principal (GC
> 95%), p.eb. 75-80°C/18 mbar,
^{1}H-NMR (CDCl_{3}: \delta 1,20 (s, 9 H,
tBu), 4,40 (s, 2 H, COCH_{2}Cl).
Claims (10)
1. Proceso para la preparación de una
\alpha-halogenocetona de la fórmula general
(1)
en la cual R^{1} es un resto alquilo, aralquilo
o arilo, en el cual las unidades CH_{2} pueden estar sustituidas
eventualmente por heteroátomos tales como NH, NCH_{3}, S, O, y
opcionalmente las unidades CH pueden estar sustituidas por N y los
radicales R^{1} pueden estar sustituidos adicionalmente con
grupos funcionales como p.ej. un radical halógeno, un radical
amino, un radical alcoxi o un radical tioalquilo y R^{2} es un
radical hidrógeno, alquilo, aralquilo o arilo
y
X es un radical halógeno
en el cual un derivado de ácido carboxílico de la
fórmula general (2)
en la cual R^{1} tiene el significado
mencionado anteriormente
y
A es un grupo de partida,
se hace reaccionar con un mono- o dienolato de un
sililéster de la fórmula general (3)
en la cual X y R^{2} tienen el significado ya
mencionado y R^{3} y R^{4} son iguales o diferentes y
significan radical alquilo, arilo, alquenilo o aralquilo; y el
producto de reacción se hidroliza inmediatamente después por
adición de un ácido y se descarboxila para dar
(1)
2. Proceso de acuerdo con la reivindicación 1
para la preparación de una \alpha-halogenocetona
de la fórmula general (5)
\newpage
en la cual R^{2} es como se define
anteriormente, y R^{5} significa radical hidrógeno, alquilo,
aralquilo o arilo, en el cual uno o varios grupos CH_{2} pueden
estar sustituidos por O, S, NH o NCH_{3}, y
X es un radical halógeno y
P^{1} y P^{2}, independientemente uno de
otro, son radical hidrógeno o un grupo protector de amino o,
considerados juntos, son un grupo cíclico protector de amino,
en el cual un derivado de aminoácido de la
fórmula general
(6)
en la cual R^{5}, P^{1} y P^{2} tienen el
significado ya mencionado y A es un grupo de
partida,
se hace reaccionar con un mono- o dienolato
metálico de un sililéster de la fórmula general (3) y el producto
de reacción se hidroliza inmediatamente después por adición de un
ácido y se descarboxila para dar (5).
3. Proceso de acuerdo con la reivindicación 1 ó
2, caracterizado porque se lleva a cabo a una temperatura
comprendida en el intervalo de -10°C a 110°C, preferiblemente a 0°C
hasta 70°C.
4. Proceso de acuerdo con una cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque, en el caso de
la base utilizada para la obtención del enolato del sililéster se
trata de un amiduro de magnesio o una combinación de un compuesto
de alquilmagnesio con una amina.
5. Proceso de acuerdo con una cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque la relación
molar de la base empleada al bis-sililéster
utilizado está comprendida entre 2 y 8, de modo particularmente
preferible entre 2 y 6.
6. Proceso de acuerdo con una cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 5, caracterizado porque la relación
molar del bis-sililéster al derivado de ácido
carboxílico está comprendida preferiblemente entre 0,5 y 2, de modo
particularmente preferible entre 0,5 y 1,5.
7. Proceso de acuerdo con una cualquiera de las
reivindicaciones 2 a 6, caracterizado porque el derivado de
ácido carboxílico (6) es un éster de L- o
D-aminoácido ópticamente activo enantioméricamente
puro.
8. Proceso de acuerdo con la reivindicación 7,
caracterizado porque el éster de L- o
D-aminoácido ópticamente activo enantioméricamente
puro es un compuesto del grupo de ésteres de
L-fenilalanina o ésteres de
L-S-fenilcisteína protegidos con
terc-butoxicarbonilo o
ben-ciloxicarbonilo.
9. Proceso para la preparación de un alcohol
\alpha-halogenado de la fórmula general (4)
en la cual R^{1}, R^{2} y X son como se
define anteriormente, por preparación de una
\alpha-halogenocetona (1) según un proceso de
acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8 y reducción
subsiguiente de la función carbonilo para dar el alcohol
\alpha-halogenado
(4).
10. Proceso para la preparación de un alcohol
\alpha-halogenado de la fórmula general (7)
en la cual R^{2}, R^{5}, P^{1}, P^{2} y
X tienen el significado ya mencionado, por preparación de una
\alpha-halogenocetona (5) según un proceso de
acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 2 a 8 y
reducción subsiguiente del grupo carbonilo para dar el alcohol
secundario (7).
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10143742 | 2001-09-06 | ||
| DE10143742A DE10143742A1 (de) | 2001-09-06 | 2001-09-06 | Verfahren zur Herstellung von alpha-Halogenketonen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2203608T3 true ES2203608T3 (es) | 2004-04-16 |
Family
ID=7697952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES02019099T Expired - Lifetime ES2203608T3 (es) | 2001-09-06 | 2002-08-29 | Proceso para la preparacion de alfa-halo-cetonas. |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6667422B2 (es) |
| EP (1) | EP1293494B1 (es) |
| AT (1) | ATE248796T1 (es) |
| DE (2) | DE10143742A1 (es) |
| ES (1) | ES2203608T3 (es) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110120914A1 (en) * | 2009-11-24 | 2011-05-26 | Chevron U.S.A. Inc. | Hydrogenation of solid carbonaceous materials using mixed catalysts |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5523463A (en) | 1994-09-23 | 1996-06-04 | Hoffmann-La Roche Inc. | Method of producing halogenated and alpha-aminoalchohols |
| US5591885A (en) | 1994-09-23 | 1997-01-07 | Hoffman-La Roche Inc. | Process for the preparation of halogenated α-aminoketone compounds |
| US5481011A (en) | 1994-12-13 | 1996-01-02 | Bristol-Myers Squibb Company | Process for preparing N-protected amino acid α-halomethyl ketones and alcohols from N-protected amino acid esters |
| DE69616446T2 (de) * | 1995-02-03 | 2002-05-16 | Kaneka Corp., Osaka | Verfahren zur herstellung von alpha-haloketonen, alpha-halohydrinen und epoxiden |
| US5767316A (en) * | 1995-11-17 | 1998-06-16 | Ajinomoto Co., Inc. | Process for producing 3-amino-2-oxo-1-halogenopropane derivatives |
| CA2273643A1 (en) | 1998-06-09 | 1999-12-09 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Stereoselective reduction of carbonyl compounds |
-
2001
- 2001-09-06 DE DE10143742A patent/DE10143742A1/de not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-08-29 EP EP02019099A patent/EP1293494B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-29 AT AT02019099T patent/ATE248796T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-08-29 DE DE50200040T patent/DE50200040D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-08-29 ES ES02019099T patent/ES2203608T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-03 US US10/233,925 patent/US6667422B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE248796T1 (de) | 2003-09-15 |
| US6667422B2 (en) | 2003-12-23 |
| DE10143742A1 (de) | 2003-03-27 |
| US20030060666A1 (en) | 2003-03-27 |
| DE50200040D1 (de) | 2003-10-09 |
| EP1293494A1 (de) | 2003-03-19 |
| EP1293494B1 (de) | 2003-09-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100572687B1 (ko) | 광학적으로 순수한 4-하이드록시-2-옥소-1-피롤리딘아세트아미드의 제조방법 | |
| CN111491941B (zh) | 新型烷基二苯甲烷保护剂 | |
| JPWO1996023756A1 (ja) | α−ハロケトン、α−ハロヒドリン及びエポキシドの製造法 | |
| AU2003299042A1 (en) | Process for the synthesis of intermediates useful for the synthesis of tubulin inhibitors | |
| ES2203608T3 (es) | Proceso para la preparacion de alfa-halo-cetonas. | |
| JP3655629B2 (ja) | 光学活性アミノアルコール誘導体及びその製法 | |
| TW202229229A (zh) | 4-硼-l-苯基丙胺酸及其中間體之製造方法 | |
| US6639094B2 (en) | Process for producing α-aminoketone derivatives | |
| US6500985B2 (en) | Process for producing alpha-aminoketones | |
| US6573399B1 (en) | Synthesis of α-amino-α′, α′-dihaloketones and process for the preparation of β-amino acid derivatives by the use of the same | |
| JP2001039940A (ja) | α−アミノハロメチルケトン誘導体の製造方法 | |
| JP3233632B2 (ja) | (2R,3S)−β−フェニルイソセリン、その塩、その製造及びその利用 | |
| JP4323032B2 (ja) | 3−ニトロ−2−(N−t−ブトキシカルボニル)アミノ安息香酸エステル類の製造法およびその製造中間体 | |
| JP3285440B2 (ja) | N−アルコキシカルボニルアミノ酸エステルの製造方法 | |
| JP3855323B2 (ja) | 3−アミノ−2−オキソ−1−ハロゲノプロパン誘導体の製造方法 | |
| CN101321720B (zh) | 制备四氟对苯二甲酸二氟化物的方法 | |
| JPH0859576A (ja) | 光学活性アミノケトン及びアミノアルコールの製造方法 | |
| KR100363824B1 (ko) | 에틸 (r)-2-브로모-4-페닐부티레이트의 제조방법 및 그중간 체 | |
| JP2953553B2 (ja) | N−アルコキシカルボニルアミノ酸エステルの製造方法 | |
| JP4157175B2 (ja) | 2′−ピロリジンプロパン酸誘導体の製造方法 | |
| JP2002047256A (ja) | α−アミノ−α´,α´,α´−トリハロケトン誘導体、α−アミノ−α´,α´,α´−トリハロアルコ−ル誘導体、及び、α−ヒドロキシ−β−アミノカルボン酸誘導体の製造法 | |
| JPH08231477A (ja) | 光学活性β−アミノエステル類の製造方法 | |
| JPWO2000055113A1 (ja) | α−アミノケトン誘導体の製造方法 | |
| JPH06192207A (ja) | ウレタン化合物の製造方法 | |
| JPH08325281A (ja) | 光学活性α−アミノホスホン酸誘導体の製造方法および不斉合成用触媒の製造方法並びに新規なホスホネート系化合物 |