ES2312563T3 - Valvula de inyeccion de gas, y soporte de inyeccion para inyeccion de gas. - Google Patents
Valvula de inyeccion de gas, y soporte de inyeccion para inyeccion de gas. Download PDFInfo
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- 238000002347 injection Methods 0.000 title claims description 30
- 239000007924 injection Substances 0.000 title claims description 30
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 83
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 73
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 16
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 8
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 251
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003380 propellant Substances 0.000 description 8
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 210000005036 nerve Anatomy 0.000 description 2
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052704 radon Inorganic materials 0.000 description 1
- SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N radon atom Chemical compound [Rn] SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D83/00—Containers or packages with special means for dispensing contents
- B65D83/14—Containers for dispensing liquid or semi-liquid contents by internal gaseous pressure, i.e. aerosol containers comprising propellant
- B65D83/42—Filling or charging means
- B65D83/425—Delivery valves permitting filling or charging
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D83/00—Containers or packages with special means for dispensing contents
- B65D83/14—Containers for dispensing liquid or semi-liquid contents by internal gaseous pressure, i.e. aerosol containers comprising propellant
- B65D83/44—Valves specially adapted for the discharge of contents; Regulating devices
- B65D83/52—Metering valves; Metering devices
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- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Containers And Packaging Bodies Having A Special Means To Remove Contents (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
- Supply Devices, Intensifiers, Converters, And Telemotors (AREA)
- Percussion Or Vibration Massage (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Fluid-Damping Devices (AREA)
- Vacuum Packaging (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Una válvula (101) de pulverización del gas, que incluye: una caja (103) de válvula asegurada a una porción (102a) de abertura de un recipiente (102) de gas; un vástago (104) de válvula recibido de manera deslizable en la caja (103) de válvula; un primer anillo de obturación (106) y un segundo anillo de obturación (108) dispuestos en el interior de la caja (103) de válvula, entrando en contacto estrecho el primer anillo de obturación (106) con una periferia exterior de una porción de diámetro mayor del vástago (104) de válvula en una primera posición que está relativamente próxima al centro del recipiente (102) de gas, entrando en contacto estrecho el segundo anillo de obturación (108) con la periferia exterior de una porción de diámetro menor del vástago (104) de válvula en una segunda posición que está relativamente alejada del centro del recipiente (102) de gas; una cámara de medición (110) formada entre el primer anillo de obturación (106) y el segundo anillo de obturación (108) para capturar una cantidad predeterminada de gas antes de la pulverización; y una diferencia de diámetros entre la porción de diámetro mayor y la porción de diámetro menor del vástago de válvula se utiliza como una cara de tope para restringir la posición elevada del vástago (104) de válvula, en la que, el vástago (104) de válvula incluye un conducto (111) de gas que se extiende a través del mismo desde un extremo superior del mismo que está situado fuera del recipiente (102) de gas hasta un orificio (111b) en una periferia exterior del mismo que está separada axialmente del extremo superior, estando caracterizada la válvula de pulverización de gas porque, el vástago (104) de válvula se puede disponer en las tres posiciones siguientes: i) posición elevada, en la cual el orificio (111b) está dispuesto por encima del segundo anillo de obturación (108) y el fondo del vástago de válvula se encuentra en el interior de la cámara de medición (110) por encima del primer anillo de obturación (106), de manera que la comunicación entre el interior del recipiente (102) de gas y la cámara de medición (110) esté abierta; ii) primera posición de tope, en la cual el orificio (111b) se encuentra en la cámara de medición por debajo del segundo anillo de obturación (108) y la porción de diámetro grande permanece en contacto con el primer anillo de obturación (106), en la que la comunicación entre la cámara de medición (110) y el orificio (111b) está abierta y la comunicación entre el interior del recipiente (102) de gas y la cámara de medición (110) está cerrada; iii) segunda posición de tope, en la cual el vástago (104) de válvula es empujado adicionalmente más allá de la primera posición de tope de manera que el orificio (111b) permanezca en la cámara de medición por debajo del segundo anillo de obturación (108) y la porción de diámetro grande (104b) es empujada completamente por debajo del primer anillo de obturación (106), con lo cual la comunicación entre la cámara de medición (110) y el orificio (111b) y entre el recipiente (102) de gas y la cámara de medición (110) están ambas abiertas.
Description
Válvula de inyección de gas, y soporte de
inyección para inyección de gas.
La presente invención se refiere a una válvula
de pulverización de gas de acuerdo con el preámbulo de la
reivindicación 1, para pulverizar el contenido existente en un
recipiente de gas con la ayuda de un gas a alta presión como
propulsante, tal como dióxido de carbono líquido, y más en
particular, a una válvula de pulverización de gas mejorada que
permite la reutilización de los recipientes de gas.
El documento WO 9954230 muestra una válvula de
pulverización de gas que se corresponde con las características del
preámbulo de la reivindicación 1.
Un tipo de aparato de pulverización que se ha
estado utilizando tradicionalmente funciona pulverizando el
contenido existente en un recipiente de gas, tal como un agente
sanitario, con la ayuda de un gas a alta presión que se encuentra
cargado en el recipiente junto con el contenido. En tales aparatos
de pulverización, el gas es pulverizado a través de una válvula de
pulverización de gas asegurada a una porción de abertura del
recipiente de gas. Estos aparatos de pulverización utilizan
ciertos tipos de cloroflúorcarbonos como propulsantes. Sin embargo,
considerando las preocupaciones actuales respecto a la protección
ambiental, nuevos aparatos de pulverización que utilizan
HFC-134a, que es una alternativa al
cloroflúorcarbono, están siendo crecientemente comunes en el
mercado.
Aunque el HFC-134a no presenta
sustancialmente ningún efecto en la capa de ozono, tiene un impacto
significativo en el calentamiento global, 1000 veces más
significativo que el impacto del CO_{2}, o incluso peor. Por lo
tanto, se espera que un incremento futuro en la utilización del
HFC-134a produzca un nuevo problema. Por está
razón, se propone utilizar otros propulsantes para los aparatos de
pulverización que produzcan menores efectos en la destrucción de la
capa de ozono o en el calentamiento global, incluyendo dióxido de
carbono, nitrógeno gaseoso, y gases inertes tales como el helio,
neón, criptón, xenón y radón.
Se desea que estos gases, como los
hidroflúorcarbonos actualmente en utilización, estén licuados cuando
se utilizan como propulsante para su uso en los aparatos de
pulverización, con el fin de hacer que el recipiente de gas sea
pequeño. Por ejemplo, el dióxido que de carbono líquido tiene una
presión de vapor de 60 kgf/cm^{2} a 20ºC. También es preferible
en términos de eficiencia de volumen que los gases inertes se
encuentran altamente presurizados o licuados y de esta manera se
encuentren sometidos a una presión de 50 kgf/cm^{2} o
superior.
El manejo de tales gases a alta presión requiere
una válvula de pulverización de gas especialmente diseñada, tal
como la que se describe en la Publicación de Patente Japonesa
abierta a consulta por el público número Hei
8-141450.
Como se muestra en la figura 7, está válvula de
pulverización de gas incluye una caja 2 de válvula que está
asegurada a una porción 1a de abertura de un recipiente 1 de gas, y
un vástago 3 de válvula que se recibe deslizantemente en la caja 2
de válvula. Un primer anillo de obturación 4 y un segundo anillo de
obturación 5 se encuentran dispuestos en el interior de la caja 2
de válvula y están separados axialmente uno del otro. Una cámara de
medición 6 está formada entre los anillos de obturación 4 y 5 para
capturar una cantidad predeterminada de gas antes de la
pulverización. El vástago 3 de válvula incluye en su extremo
inferior una primera porción 7 de válvula que entra en contacto
estrecho con el primer anillo de obturación 4 cuando el vástago 3 de
válvula es empujado desde el exterior. El vástago 3 de válvula
también incluye en su extremo superior una segunda porción 8 de
válvula. La segunda porción 8 de válvula consiste en una porción con
un diámetro 8a mayor que entra en contacto estrecho con el segundo
anillo de obturación 5 cuando el vástago 3 de válvula se encuentra
en su posición superior y una porción con un diámetro 8b menor que
define una diferencia junto con el segundo anillo de obturación 5
cuando el vástago 3 de válvula ha sido empujado dentro desde el
exterior. La cámara de medición acomoda un resorte 9 que siempre
fuerza al pasador 3 de válvula hacia arriba.
Cuando la válvula de pulverización de gas
construida de la manera que se ha descrito más arriba se encuentra
en el estado estacionario sin que el vástago 3 de válvula haya sido
empujado desde el exterior, la primera porción 7 de válvula está
separada del primer anillo de obturación 4, permaneciendo en
contacto estrecho la porción grande 8a de la segunda porción de
válvula 8 con el segundo anillo de obturación 5, de manera que el
interior del recipiente 1 de gas permanezca en comunicación con la
cámara de medición 6. Cuando el vástago 3 de válvula es empujado
desde el exterior, la primera porción 7 de válvula entra en contacto
estrecho con el primer anillo de obturación 4, seguido por la
formación de una diferencia entre la porción pequeña 8b de la
segunda porción 8 de válvula y el segundo anillo de obturación 5. La
diferencia permite que el contenido existente en el recipiente 1 de
gas pase a su través junto con el gas. El contenido y el gas a
continuación son pulverizados saliendo del recipiente 1 de gas.
Puesto que la formación de la diferencia entre la segunda porción 8
de válvula y del segundo anillo de obturación 5 está inmediatamente
precedida por la primera porción 7 de válvula que entra en contacto
estrecho con el primer anillo de obturación 4 para cerrar la
comunicación entre la cámara de medición 6 y el interior de la
cámara 1 de gas, una cantidad predeterminada de la mezcla de gas y
contenido capturada en la cámara 6 de medición es pulverizada desde
la válvula de pulverización de gas.
Una construcción de la válvula de pulverización
de gas que permite la reutilización del recipiente de gas y de la
válvula de pulverización de gas se describe en la Publicación de
Patente Japonesa abierta a consulta por el público número Hei
11-301759. Como se muestra en la figura 8, la
válvula 10 de pulverización de gas incluye una caja 12 de válvula
asegurada a una porción de abertura 11a de un recipiente 11 de gas,
y un vástago 13 de válvula que está recibido deslizantemente en la
caja 12 de válvula. Dispuesto en el interior de la caja 12 de
válvula hay un primer anillo de obturación 18 que entra en contacto
estrecho con la superficie exterior del vástago 13 de válvula en
una primera posición relativamente cercana al centro del recipiente
11 de gas, y un segundo anillo de obturación 19 que entra en
contacto estrecho con la superficie exterior del vástago 13 de
válvula en una segunda posición relativamente alejada del centro del
recipiente 11 de gas. Una cámara de medición 21 está definida en el
interior de la caja 12 de válvula entre el primer anillo de
obturación 18 y el segundo anillo de obturación 19 para capturar
una cantidad predeterminada de gas antes de la pulverización. El
vástago 13 de válvula incluye un conducto 22 de gas, que se extiende
a través del vástago 13 de válvula desde el extremo superior del
mismo situado fuera del recipiente 11 de gas, y se abre a la
periferia exterior del vástago 13 de válvula en una posición
separada axialmente del extremo superior. La abertura del conducto
22 de gas en la periferia exterior del vástago 13 de válvula está
dispuesta de manera que esté situada por encima del segundo anillo
de obturación 19 cuando el vástago 13 de válvula se encuentra en
posición elevada y que esté situada por debajo del segundo anillo
de obturación 19 en el interior de la cámara de medición 21 cuando
el vástago 13 de válvula es empujado hacia abajo a una primera
posición de tope, o adicionalmente a una segunda posición de tope
en la cual el vástago de válvula se interrumpe durante su acción de
dos etapas. El vástago 13 de válvula incluye además una primera
porción de derivación y una segunda porción de derivación que,
junto con la superficie interior del primer anillo de obturación 18,
forman una diferencia cuando el vástago 13 de válvula se encuentra
en su posición elevada y en la segunda posición de tope,
respectivamente, de manera que el interior del recipiente 11 de gas
comunique con la cámara 21 de medición a través de esta
diferencia.
Cuando el vástago 13 de válvula se encuentra en
la posición elevada en la válvula de pulverización de gas de la
construcción que se ha descrito más arriba, la abertura del conducto
22 de gas en la periferia exterior del vástago 13 de válvula se
encuentra situada por encima del segundo anillo de obturación 19.
Como resultado, la comunicación entre el conducto 22 de gas y la
cámara 21 de medición se cierra, mientras que la cámara 21 de
medición permanece en comunicación con el interior del recipiente 11
de gas a través de la primera porción de derivación del vástago 13
de válvula. Cuando el vástago 13 de válvula es empujado a la primera
posición de tope, el primer anillo de obturación 18 cierra la
comunicación entre el recipiente 11 de gas y la cámara de medición
21, y la abertura del conducto 22 de gas en la periferia exterior
del vástago 13 de válvula se sitúa en el interior de la cámara de
medición 21. Como resultado, la cantidad predeterminada de gas
atrapada en la cámara de medición 21 es pulverizada saliendo del
recipiente 11 de gas a través del conducto 22 de gas. Cuando se
desea inyectar o rellenar el gas en el recipiente 11 de gas, un
inyector de gas es conectado al vástago 13 de válvula y el vástago
13 de válvula se empuja a la segunda posición de tope. Esto hace que
la abertura del conducto 22 de gas en la periferia exterior del
vástago 13 de válvula se mueva entrando en la cámara de medición 21
y ponga la cámara de medición 21 en comunicación con el interior del
recipiente 11 de gas a través de la segunda porción de derivación
del vástago 13 de válvula. Como resultado, el gas es inyectado
desde el inyector de gas, a través de la cámara de medición 21 y de
la segunda porción de derivación, al interior del recipiente 11 de
gas.
Cuando se utiliza un gas a alta presión tal como
dióxido de carbono líquido como propulsante para el aparato de
pulverización, el recipiente de gas y la válvula de pulverización de
gas deben tener una resistencia considerable para garantizar la
seguridad. Como consecuencia de esto, se necesita utilizar más
material para construir el recipiente de gas y la válvula de
pulverización de gas en comparación con el aparato de pulverización
convencional que utiliza propulsante de cloroflúorcarbono. Como
consecuencia, no es deseable tomando en cuenta el uso eficiente de
los recursos, hacer que el aparato de pulverización sea desechable,
como es el caso de los aparatos de pulverización convencionales.
Sin embargo, el aparato de pulverización de gas que se ha mencionado
más arriba descrito en la Publicación de Patente Japonesa abierta a
consulta por el público número Hei 8-141450 no
incorpora ninguna estructura que permita la recarga del recipiente
de gas con gas y contenido, y por lo tanto el recipiente de gas y
las válvulas de pulverización de gas de estos aparatos de
pulverización de gas deben ser desechados después de su
utilización.
Como consecuencia, es un objetivo de la presente
invención proporcionar una válvula de pulverización de gas novedosa
que no solamente sea más simple, más robusta y más duradera que las
válvulas de pulverización convencionales, sino que también tenga
una estructura adecuada para la producción industrial al mismo
tiempo que permita la recarga del recipiente de gas después de su
utilización, y por lo tanto, el uso eficiente de los recursos
naturales sin que conduzca a unos costes de producción
incrementados. Es otro objetivo de la presente invención
proporcionar un adaptador de inyección para utilizarse con la
válvula de pulverización de gas que facilita la recarga de gas.
En general, la boquilla de la válvula de
pulverización de gas debe ser empujada cuando es accionada con una
fuerza de 3 kgf o menos, para que la válvula de pulverización de gas
pueda ser manipulada con las manos y los dedos. Cuando se utiliza
un gas a alta presión tal como dióxido de carbono líquido como
propulsante para el aparato de pulverización, la magnitud de la
fuerza requerida para empujar la boquilla es proporcional al área
de la sección transversal del vástago de válvula sobre la cual se
ejerce la presión del gas a alta presión. Por está razón, el
diámetro del vástago de válvula preferiblemente es \diameter2,5 o
menor cuando se utiliza propulsante de dióxido de carbono líquido.
Aunque se pueden utilizar vástagos de válvula con un diámetro mayor
cuando se emplea un resorte o similar para reducir la fuerza
requerida para empujar la boquilla, el uso de un resorte hace que
la estructura de la válvula de pulverización sea compleja y conduce
a unos costos de producción incrementados.
Siendo el diámetro \diameter2,5 o menor, el
vástago de válvula, como se desvela en la Publicación de Patente
Japonesa abierta a consulta por el público número Hei 11- 30 759,
puede ser susceptible de doblarse o romperse cuando se somete a una
fuerza mayor, debido a su resistencia y a su rigidez que son
reducidas, lo cual resulta de la ranura en forma de V formada para
servir como una derivación para permitir que el gas entre en la
cámara de medición o para permitir la recarga del recipiente de gas
con el gas y el contenido deseado. Esto puede conducir a una
operación defectuosa o a un mal funcionamiento del aparato de
pulverización.
Además del conducto de gas para permitir que el
gas y el contenido se pulvericen, el vástago de válvula incluye dos
ranuras en forma de V. Además, para impedir que el vástago de
válvula flote y salga del recipiente o restrinja la posición
elevada del vástago de válvula para permitir que el contenido
deseado, tal como el gas, circule al interior de la cámara de
medición desde el recipiente de gas, la brida tapón está configurada
en el fondo del vástago de válvula en una posición más cercana al
centro del recipiente de gas. Debido a que se requiere un proceso
de diferencia de este tipo que no es funcional, el proceso se
complica mucho y requiere un tiempo de proceso largo. Puesto que
también se requiere la brida tapón, también se requiere la
utilización de varias herramientas.
Además, la válvula de pulverización de gas
incluye dos ranuras en la porción para recibir el vástago de válvula
para recibir las juntas de obturación respectivas y otra ranura
para qué sirva como cámara de medición. Puesto que el vástago de
válvula tiene un diámetro de \diameter2,5 o menor, como se ha
descrito más arriba, el tamaño del orificio para recibir el vástago
de válvula es correspondientemente pequeño. En la práctica, es
difícil formar ranuras a través del orificio relativamente pequeño.
Por está razón, la estructura de la válvula de pulverización de gas
no es adecuada para producción industrial.
El objetivo de la invención se alcanza como se
muestra en la porción caracterizadora de la reivindicación.
De acuerdo con la invención, una válvula de
pulverización de gas incluye una caja de válvula asegurada a una
porción de abertura de un recipiente de gas; un vástago de válvula
cuya porción exterior es de diámetro menor que la porción interior
del mismo, que es recibido deslizantemente en la caja de válvula; un
primer anillo de obturación y un segundo anillo de obturación
dispuestos en el interior de la caja de válvula, entrando el primer
anillo de obturación en contacto estrecho con la periferia exterior
del vástago de válvula en una primera posición que está
relativamente próxima al centro del recipiente de gas, y un segundo
anillo de obturación que se encuentra en contacto estrecho con la
periferia exterior del vástago de válvula en una segunda posición
que está relativamente alejada del centro del recipiente de gas; y
una cámara de medición formada entre el primer anillo de obturación
y el segundo anillo de obturación para capturar una cantidad
predeterminada de gas antes de la pulverización. La válvula de
pulverización de gas está configurada de manera que el vástago de
válvula incluya un conducto de gas que se extiende a través suyo
desde un extremo superior del mismo que está situado fuera del
recipiente de gas, a un punto en una periferia exterior del mismo
que está separado axialmente del extremo superior, habiendo una
abertura del conducto de gas en la periferia exterior del vástago
de válvula que está dispuesta de manera que quede situada por encima
del segundo anillo de obturación cuando el vástago de válvula se
encuentra en su posición elevada, se encuentra situada por debajo
del segundo anillo de obturación en el interior de la cámara de
medición cuando el vástago de válvula es empujado a ambas posiciones
de tope primera y segunda. El vástago de válvula además está
situado de manera que el extremo inferior de la válvula de gas se
encuentre en el interior de la cámara de medición en un punto de la
periferia exterior por encima del primer anillo de obturación
solamente cuando el vástago de válvula se encuentra en la posición
elevada, de manera que la comunicación entre el interior del
recipiente de gas y la cámara de medición esté abierta. En la
segunda posición de tope, cuando la porción de diámetro menor del
vástago de válvula se empuja hacia abajo por debajo del primer
anillo de obturación, la obstrucción se interrumpe entre el vástago
de válvula y el primer anillo de obturación y se abre la
comunicación entre el interior del recipiente de gas y la cámara de
medición debido a la diferencia de diámetros.
La presente invención es tal que, cuando el
vástago de válvula se encuentra en su posición elevada, la abertura
del conducto de gas en la periferia exterior del vástago de válvula
se encuentra situada por encima del segundo anillo de obturación
para cerrar la comunicación entre el conducto de gas y la cámara de
medición, y la abertura del pasaje de suministro de gas en la
periferia exterior del vástago de válvula está situada por encima
del primer anillo de obturación en el interior de la cámara de
medición para mantener la comunicación entre la cámara de medición
y el interior del recipiente de gas. Cuando se empuja el vástago de
válvula al interior de la primera posición de tope, el primer
anillo de obturación cierra la comunicación entre el interior del
recipiente de gas y la cámara de medición, mientras que la abertura
de conducto de gas en la periferia exterior del vástago de válvula
se mueve dentro de la cámara de medición. Como resultado, la
cantidad predeterminada de gas capturada en la cámara de medición
es pulverizada saliendo del recipiente de gas a través del conducto
de gas.
Cuando se produce la inyección del gas dentro
del recipiente de gas, el vástago de válvula está conectado a un
inyector de gas y es empujado a la segunda posición de tope. Esto
hace que la abertura del conducto de gas en la periferia exterior
del vástago de válvula se mueva en el interior del recipiente de
gas, y la porción con diámetro menor del vástago de válvula es
empujada hacia abajo por debajo del primer anillo de obturación
debido a la diferencia de diámetros, la obstrucción se interrumpe
entre el vástago de válvula y el primer anillo de obturación y se
abre la comunicación entre el interior del recipiente de gas y la
cámara de medición, como resultado de lo cual se permite que el gas
circule desde el inyector del gas al interior del recipiente de
gas.
En el vástago de válvula de acuerdo con la
presente invención se pueden eliminar las dos ranuras en forma de
V. Como se ha descrito más arriba, las dos ranuras se desvelan en la
Publicación de Patente Japonesa abierta a consulta por el público
número Hei 11-301759, y cada una de ellas sirve como
un pasaje de derivación para permitir el flujo de gas cuando la
cámara de medición se carga con el gas o cuando se rellena el
recipiente de gas.
En la invención como se reivindica en la
reivindicación 1, la invención como se reivindica en la
reivindicación 2 es la válvula de pulverización de gas en la cual
las ranuras para sujetar los anillos de obturación de obturación
primero y segundo en su posición y para que sirvan como cámara de
medición están formadas simplemente aumentando parcialmente un
orificio de guía de la caja de válvula para recibir el vástago de
válvula, insertarlo en las porciones agrandadas de los componentes
de orificio con una construcción simple que está formada por
separado de la caja de válvula, y sellando la caja de válvula en el
extremo superior así como en el extremo inferior de la misma, en
lugar de formar ranuras en una superficie interior del orificio de
guía de la caja de válvula.
En la invención como se reivindica en la
reivindicación 1 y en la 2, la invención como se reivindica en la
reivindicación 3 es una que tiene un cabezal de boquilla fijado al
extremo superior del vástago de válvula. El cabezal de boquilla
incluye una cara de tope para restringir el desplazamiento del
vástago de válvula a la primera posición de tope.
De esta manera, el gas es pulverizado saliendo
del recipiente de gas en cantidades constantes cuando se empuja el
cabezal de boquilla hasta que es parado por la cara de tope.
La presente invención como se reivindica en la
reivindicación 4 proporciona un adaptador de inyección fijado al
extremo superior del vástago de válvula cuando el gas es inyectado
dentro del recipiente de gas a través de la válvula de
pulverización de gas como se reivindica en una de las
reivindicaciones 1 a 3. El adaptador de inyección incluye una cara
de tope para restringir el desplazamiento del vástago de válvula a
la segunda posición de tope.
De esta manera, el gas puede ser inyectado
dentro del recipiente de gas empujando el adaptador de inyección
hasta que sea parado por la cara de tope.
La figura 1 es una vista en sección transversal
que muestra una primera realización de una válvula de pulverización
de gas de acuerdo con la presente invención.
La figura 2 es una vista en sección transversal
que muestra la misma válvula de pulverización de gas en la que el
cabezal de boquilla ha sido empujado.
La figura 3 es una vista en sección transversal
que muestra la misma válvula de pulverización de gas que tiene un
adaptador de inyección fijado a la misma. El adaptador de inyección
se muestra empujado para permitir el suministro del contenido
deseado y de gas a alta presión desde un inyector de gas.
La figura 4 es una vista en sección transversal
que muestra una segunda realización de la válvula de pulverización
de gas de acuerdo con la presente invención.
La figura 5 es una vista en sección transversal
que muestra la misma válvula de pulverización de gas en la que el
cabezal de boquilla ha sido empujado.
La figura 6 es una vista en sección transversal
que muestra la misma válvula de pulverización de gas que tiene un
adaptador de inyección fijado a la misma. El adaptador de inyección
se muestra empujado para permitir el suministro del contenido
deseado y del gas a alta presión desde un inyector de gas.
La figura 7 es una vista en sección transversal
que muestra una válvula de pulverización de gas convencional como
técnica anterior.
La figura 8 es una vista en sección transversal
que muestra otro tipo de válvula de pulverización de gas
convencional como técnica anterior.
A continuación se describirán varias
realizaciones de la presente invención con referencia a las figuras
1 a 8.
En primer lugar, una primera realización de la
presente invención es descrita con referencia a las figuras 1, 2 y
3.
Las figuras 1, 2 y 3 muestran un aparato de
pulverización que utiliza una válvula 101 de pulverización de gas
de acuerdo con la presente invención. El aparato de pulverización
consiste esencialmente en un recipiente 102 de gas, que contiene un
gas a alta presión tal como dióxido de carbono líquido junto con el
contenido deseado, tal como un agente sanitario, y la válvula 101
de pulverización de gas asegurada herméticamente a una porción de
abertura 102a del recipiente 102 de gas.
La válvula 101 de pulverización de gas incluye
una caja 103 de válvula asegurada por sellado a la porción abierta
102a del recipiente 102 de gas, y un vástago 104 de válvula retenido
deslizantemente en la caja 103 de válvula. Un cabezal 112 de
boquilla está asegurado al vástago 104 de válvula en el extremo
superior del mismo que se proyecta por encima de la caja 103 de
válvula. El cabezal de boquilla sirve como una boquilla así como un
botón de
empuje.
empuje.
La caja 103 de válvula incluye un orificio 113
de guía que se extiende axialmente a través del centro de la misma.
El vástago 104 de válvula se inserta a través del orificio 113 de
guía. Una pareja de ranuras anulares 114 y 115 están formadas en la
superficie interior del orificio 113 de guía en una primera posición
relativamente cercana al centro del recipiente 102 de gas y en una
segunda posición relativamente alejada del centro del recipiente
102 de gas, respectivamente. Las ranuras anulares 114 y 115 reciben
un primer anillo de obturación 106 y un segundo anillo de
obturación 108, respectivamente. El primer anillo de obturación 106
y el segundo anillo de obturación 108 están hechos de un material
elástico. Un rebaje anular 116 está formado en el orificio 113 de
guía sustancialmente en el centro del mismo. El rebaje anular 116
forma parte de un espacio formado entre los anillos de obturación
106 y 108 que sirven como cámara 110 de medición para capturar un
volumen predeterminado de gas antes de que se salga
pulverizado.
El vástago 104 de válvula incluye un conducto
111 de gas que se extiende a través de una porción del mismo que se
puede proyectar por encima de la caja 103 de válvula. El conducto
111 de gas abre a una superficie extrema del vástago 104 de válvula
y en la periferia exterior del vástago 104 de válvula en una
posición separada axialmente de la superficie extrema.
Específicamente, el conducto 111 de gas consiste en un orificio
axial 111a que se extiende verticalmente desde la superficie
extrema del vástago 104 de válvula y un orificio 111b de gas que se
extiende radialmente desde la porción inferior del orificio axial
111a a la periferia exterior del vástago 104 de válvula. El
orificio axial 111a tiene un diámetro relativamente grande y el
orificio 111b tiene un diámetro que es menor que el del orificio
axial 111a. El orificio 111b determina la cantidad de gas
pulverizado que sale de la válvula 101 de pulverización de gas en la
unidad de tiempo. Por lo tanto, el tamaño del orificio debe ser
determinado adecuadamente dependiendo de la cantidad deseada de gas
pulverizado por unidad de tiempo. De esta manera, el orificio 111b
está dispuesto en la posición predeterminada en la periferia del
vástago 104 de válvula de forma que esté situado por encima del
segundo anillo de obturación 108 cuando el vástago 104 de válvula
se encuentra en su posición elevada y está situado por debajo del
segundo anillo de obturación 108 dentro de la cámara de medición
110 cuando el vástago 104 de válvula es empujado a una posición de
tope primera y segunda, que se describirán más adelante.
Además, el vástago 104 de válvula que es la
porción exterior de diámetro menor que la porción interior de la
misma dispuesta dentro del recipiente 102 de gas, tiene una brida
117 de tope de vástago de válvula en su posición cuando se inicia
la diferencia de diámetros, lo cual restringe la parte hacia arriba
del vástago 104 de válvula. Además, el vástago 104 de válvula es
activado por la presión del gas en el interior del recipiente 102
de gas sobre el área de la sección transversal de la porción
exterior que es de diámetro menor, de manera que siempre está
forzado hacia arriba.
El vástago 104 de válvula está situado además de
manera que el extremo inferior de la válvula de gas se encuentre
dentro de una cámara de medición hasta un punto en la periferia
exterior por encima del primer anillo de obturación 106 solamente
cuando el vástago 104 de válvula se encuentra en posición elevada,
de manera que la comunicación entre el interior del recipiente 102
de gas y la cámara de medición esté abierta. En la segunda posición
de tope, cuando la porción con el diámetro menor 104a del vástago
104 de válvula es empujada hacia abajo por debajo del primer anillo
de obturación 106, se interrumpe la obstrucción entre el vástago de
válvula y el primer anillo de obturación 106 y la comunicación
entre el interior del recipiente 102 de gas y la cámara 110 de
medición se abre debido a la diferencia de diámetros.
La primera posición de tope del vástago 104 de
válvula es una posición relativamente superficial en la cual el
vástago 104 de válvula se para cuando el cabezal 112 de boquilla es
empujado para pulverizar el gas. Una vez que el vástago 104 de
válvula ha sido empujado a la primera posición de tope, el
desplazamiento adicional del vástago 104 de válvula es restringido
por medio de una cara de tope 120, o la superficie inferior de
cabezal 112 de boquilla se apoya contra una superficie superior
103a de la caja 103 de válvula. La segunda posición de tope del
vástago 104 de válvula es una posición relativamente profunda en la
cual el vástago 104 de válvula se para cuando el gas es inyectado
desde el extremo superior del vástago 104 de válvula dentro del
recipiente 102 de gas. Como se muestra en la figura 3, con la
inyección del gas, el cabezal 112 de boquilla es reemplazado por un
adaptador 121 de inyección de un inyector de gas, lo cual restringe
adicionalmente el desplazamiento del vástago 104 de válvula una vez
que el vástago 104 de válvula haya sido empujado a la segunda
posición de tope. El adaptador 121 de inyección incluye un anillo
de obturación 122 que entra en contacto próximo con la periferia
exterior del vástago 104 de válvula y una superficie interior que
sirve como cara de tope 123. La cara de tope 123 se apoya contra la
superficie superior 103a de la caja 103 de válvula para restringir
el desplazamiento adicional del vástago 104 de válvula una vez que
el vástago 104 de válvula haya sido empujado a la segunda posición
de tope, estando fijado el adaptador 121 de inyección al extremo
superior del tope del vástago 104 de válvula.
Cuando la válvula 101 de pulverización de gas
construida de la manera que se ha descrito más arriba se encuentra
en estado estacionario sin que se empuje el cabezal 112 de la
boquilla, el vástago 104 de válvula, que es accionado por la
presión del gas en el interior del recipiente 102 de gas, se
mantiene en la posición elevada como se muestra en la figura 1. En
este estado, el orificio 111b del vástago 104 de válvula se
encuentra situado por encima del segundo anillo de obturación 108
para cerrar la comunicación entre el conducto 111 de gas y la
cámara de medición 110. Además, el extremo inferior del vástago 104
de válvula situado en el interior del recipiente de gas está
dispuesto por encima del primer anillo de obturación 106, de manera
que la cámara de medición 110 comunica con el interior del
recipiente 102 de gas.
Cuando se empuja el cabezal 112 de boquilla, el
extremo inferior del vástago 104 de válvula es desplazado hacia
abajo por debajo del primer anillo de obturación 106, como se
muestra en la figura 2, de manera que el primer anillo de
obturación 106 cierra la comunicación entre el interior del
recipiente 102 de gas y la cámara de medición 110. Posteriormente,
el orificio 111b del vástago 104 de válvula se mueve por debajo del
segundo anillo de obturación 108 dentro de la cámara de medición 110
de manera que la cantidad predeterminada de gas y el contenido
existente en el interior de la cámara de medición 110 son
pulverizados saliendo del recipiente 102 de gas a través del
conducto 111 de gas del vástago 104 de válvula. El desplazamiento
hacia abajo del vástago 104 de válvula es restringido a la primera
posición de tope por la cara de tope 120 del cabezal 112 de
boquilla que se apoya contra la superficie superior 103a de la caja
103 de válvula.
Cuando se ha vaciado el recipiente 102 de gas y
de contenido debido al uso que se ha descrito más arriba, el
cabezal 112 de boquilla es retirado del extremo superior del vástago
104 de válvula y en su lugar se instala el adaptador 121 de
inyección del inyector de gas. El adaptador 121 de inyección a
continuación es empujado hasta que la cara de tope 123 entra en
contacto con la superficie superior 103a de la caja 103 de válvula
como se muestra en la figura 3, para suministrar el contenido
deseado que debe ser suministrado al inyector de gas junto con el
gas a alta presión. El movimiento de empuje del adaptador 121 de
inyección hacen que el vástago 104 de válvula se desplace hacia
abajo a la segunda posición de tope de manera que el orificio 111b
esté situado por debajo del segundo anillo de obturación 108 y se
abra al interior de la cámara de medición 110. Al mismo tiempo, la
porción de diámetro menor 104a del vástago 104 de válvula está
situada por debajo del primer anillo de obturación 106 y se abre al
interior del recipiente 102 de gas, de manera que la obstrucción
del primer anillo de obturación 106 se interrumpe. De esta manera,
la comunicación entre el conducto 111 de gas del vástago 104 de
válvula y el interior del recipiente 102 de gas se abre a través de
la cámara de medición 110, y como resultado, el contenido y el gas
suministrado desde el inyector de gas se inyectan en el recipiente
102 de gas.
Una vez que la inyección de gas y del contenido
en el recipiente de gas ha sido completada y el adaptador 121 de
inyección es liberado de la posición de inyección, el vástago 104 de
válvula, actuado por la presión de gas en el interior del
recipiente 102 de gas, vuelve a la posición elevada de manera que el
orificio 111b se encuentre situado por encima del segundo anillo de
obturación 108 para cerrar la comunicación entre el conducto 111 de
gas y la cámara de medición 110. El adaptador 121 de gas a
continuación es retirado del extremo superior del vástago 104 de
válvula y el cabezal 112 de boquilla se vuelve a montar. Esto
completa el rellenado del recipiente con el gas y con el
contenido.
En resumen, la válvula 101 de pulverización de
gas de acuerdo con la presente invención, a pesar de su estructura
inusualmente simple, permite el rellenado del recipiente 102 de gas
con el gas y con el contenido, y por lo tanto permite la
reutilización del recipiente 102 de gas y de la válvula 101 de
pulverización de gas. De esta manera, la válvula de pulverización
de gas puede hacer un uso eficiente de los recursos naturales sin un
incremento considerable en los costes de producción. Además, la
válvula 101 de pulverización de gas de acuerdo con la presente
invención no precisa la ranura en forma de V en el vástago 104 de
válvula como se desvela en la Publicación de Patente Japonesa
abierta a consulta por el público número Hei
11-301759. La ranura en forma de V formada en el
vástago de válvula para permitir la carga de la cámara de medición
con el gas o similar o para servir como un pasaje de derivación
para rellenar el recipiente de gas con el gas y con el contenido,
hace necesario que el vástago del válvula tenga el diámetro
preferente de \diameter2,5 o menor para facilitar la operación de
la válvula. Como resultado, la resistencia del vástago de válvula se
reduce así como su rigidez, haciendo que el vástago de válvula sea
susceptible a operaciones defectuosas o fallos producidos por
doblado y por rotura del vástago de válvula por las fuerzas
cooperativas. Sin tales ranuras en forma de V, la resistencia y
rigidez del vástago 104 de válvula se aseguran en la válvula 101 de
pulverización de gas de la presente invención, como lo es la
operación fiable y segura del vástago 104 de válvula.
La válvula de pulverización de gas desvelada en
la Publicación de Patente Japonesa abierta a consulta por el
público número Hei 11-301759 proporciona
adicionalmente una brida de tope en el extremo inferior del vástago
de válvula para impedir que el vástago de válvula se empuje fuera
del recipiente de gas y para restringir la posición elevada del
vástago de válvula cuando se inyecta el contenido tal como gas en el
recipiente de gas dentro de la cámara de medición. A diferencia de
lo anterior, la válvula 101 de pulverización de gas de la presente
invención no requiere la provisión de una brida de tope y de la
ranura en forma de V. El vástago de válvula puede ser fabricado con
menor número de procesos utilizando menor número de herramientas, lo
cual hace que la válvula de pulverización de gas sea menos
cara.
A continuación, se describe una segunda
realización de la presente invención con referencia a las figuras
4, 5 y 6. La construcción de esta realización es esencialmente la
misma que la de la primera realización que se ha descrito más
arriba con referencia a las figuras 1, 2 y 3, excepto por la ranura
anular 114 (porción del primer anillo de obturación) y por la
ranura anular 115 (porción del segundo anillo de obturación),
estando formada cada una de ellas en la caja 103 de válvula, y el
rebaje anular 116 que sirve como cámara de medición 110.
En la descripción que sigue, las partes
idénticas a aquellas de la primera realización están indicadas por
los mismos números, y la descripción de estas partes no se
repetirá.
En la segunda realización de la presente
invención que se muestra en cada una de las figuras 4, 5 y 6, una
ranura anular 114 (una porción del primer anillo de obturación) para
recibir un primer anillo de obturación 106 está definida por una
primera guía A 105 de anillo de obturación situada por debajo del
primer anillo de obturación 106 y una primera guía B 107de anillo
de obturación situada por encima del primer anillo de obturación
106. Una caja 103 de válvula está sellada en un extremo inferior
103b para asegurar la primera guía A 105 del primer anillo de
obturación. De manera similar, una ranura anular 115 (una porción
del segundo anillo de obturación) para recibir un segundo anillo de
obturación 108 está definida por un nervio anular 119 situado por
debajo del segundo anillo de obturación 108 y formado como parte de
la caja 103 de válvula, y una segunda guía 109 del segundo anillo
de obturación está situada por encima del segundo anillo de
obturación 108. La caja 103 de válvula está sellada en un extremo
superior 103a para asegurar la guía 109 del segundo anillo de
obturación. Un rebaje anular 116 que sirve como cámara de medición
también está definido por el nervio anular 119 de la caja 103 de
válvula y la primera guía B 107 de anillo de obturación.
A diferencia de la válvula de pulverización de
gas de la primera realización en la cual las ranuras deben ser
formadas dentro del orificio de guía de la caja 103 de válvula para
recibir el vástago 104 de válvula de manera que sirvan como ranuras
anulares 114 y 115 y como rebaje anular 116, o cámara de medición
110, la válvula de pulverización de gas en esta realización no
requiere la formación de características de ranuras técnicamente
exigentes y puede ser construida simplemente taladrando la caja 103
de válvula desde cualquier lado de la misma, insertando en el
orificio la guía A 105 del primer anillo de obturación u otros
componentes simples que se forman por separado, y a continuación
sellando la caja 103 de válvula en el extremo superior 103a así
como en el extremo inferior 103b de la misma. Una construcción
simple de este tipo de la válvula de pulverización de gas de la
segunda realización no solamente contribuye a la productividad
durante la producción, sino que también permite una reducción de
costos significativa.
Como se ha establecido, la invención como se
reivindica en la reivindicación 1 proporciona una válvula de gas de
pulverización novedosa que incluye un vástago de válvula que tiene
un conducto de gas que se extiende a través del mismo desde un
extremo superior del mismo que está situado fuera del recipiente de
gas, hasta un punto en la periferia exterior del mismo que está
separado axialmente del extremo superior. Una abertura del conducto
de gas en la periferia exterior del vástago de válvula está
dispuesta de manera que se encuentre situada por encima del segundo
anillo de obturación cuando el vástago de válvula se encuentra en su
posición elevada, y está situada por debajo del segundo anillo de
obturación en el interior de la cámara de medición cuando el
vástago de válvula es empujado a ambas posiciones de tope primera y
segunda. El vástago de válvula está situado además de manera que el
extremo inferior de la válvula de gas se encuentre en el interior de
la cámara de medición hasta un punto en la periferia exterior por
encima del primer anillo de obturación solamente cuando el vástago
de válvula se encuentra en la posición elevada, de manera que abra
la comunicación entre el interior del recipiente de gas y la cámara
de medición. Además, la porción con diámetro mayor del vástago de
válvula, que se encuentra en contacto estrecho con el primer anillo
de obturación, está situada por debajo del primer anillo cuando el
vástago de válvula es empujado a la segunda posición de tope. Puesto
que la porción de diámetro menor del vástago de válvula es empujada
al interior del recipiente de gas por debajo del primer anillo, la
obturación del primer anillo de obturación se interrumpe y el
interior de la comunicación entre el recipiente de gas y la cámara
de medición se abre. De esta manera, la cantidad predeterminada de
gas capturada en la cámara de medición es pulverizada saliendo del
recipiente de gas a través del conducto de gas del vástago de
válvula empujando el vástago de válvula a la primera posición de
tope. Además, empujando el vástago de válvula adicionalmente a la
segunda posición de tope, estando el inyector de gas conectado al
extremo superior del vástago de válvula, el conducto de gas se
lleva a comunicación con el interior del recipiente de gas y la
cámara de medición, de manera que se pueda inyectar dentro del
recipiente de gas de una manera fiable.
De esta manera, a pesar de su estructura
desacostumbradamente simple, la presente invención permite la
recarga del recipiente de gas del aparato de pulverización a través
de la válvula de pulverización de gas y por lo tanto permite la
reutilización del recipiente de gas y de la válvula de pulverización
de gas. Por último, la válvula de pulverización de gas de acuerdo
con la presente invención facilita el uso eficiente de recursos
naturales sin un incremento considerable en los costes de
producción.
Como se desvela en la Publicación de Patente
Japonesa abierta a consulta por el público número Hei
11-301759, la ranura en forma de V que está formada
en el vástago de válvula para permitir la carga de la cámara de
medición con el gas o similar o para servir como un paso de
derivación para rellenar el recipiente de gas con el gas y con el
contenido, hace necesario que el vástago de válvula tenga el
diámetro preferente de \diameter2,5 o menor para facilitar la
operación de la válvula. Como resultado, se reduce la resistencia
del vástago de válvula, así como su rigidez, haciendo que el
vástago de válvula sea susceptible a una operación defectuosa o a un
fallo de funcionamiento producido por el doblado o por la rotura
del vástago de válvula por las fuerzas operativas. Sin embargo, la
válvula de pulverización de gas de acuerdo con la presente
invención, en la que se ha omitido la ranura en forma de V en el
vástago de válvula, puede asegurar la resistencia y la rigidez del
vástago de válvula, con lo cual asegura el uso fiable y seguro del
vástago de válvula.
La válvula de pulverización de gas desvelada en
la Publicación de Patente Japonesa abierta a consulta por el
público número Hei 11-301759 facilita además una
guía de tope en el extremo inferior del vástago de válvula para
impedir que el vástago de válvula se empuje fuera del recipiente de
gas y para restringir la posición elevada del vástago de válvula
cuando se inyecta el contenido tal como gas en el recipiente de gas
dentro de la cámara de medición. A diferencia de lo anterior, la
presente invención no requiere la provisión de una guía de tope ni
de la ranura en forma de V, el vástago de válvula puede ser
fabricado con menor número de procesos utilizando menor número de
herramientas, lo cual hace que la válvula de pulverización de gas
sea menos cara.
En la invención como se reivindica en la
reivindicación 1, la invención como se reivindica en la
reivindicación 2 proporciona las ranuras para sujetar los anillos
de obturación primero y segundo en su lugar y para servir como
cámara de medición, formadas simplemente agrandando parcialmente un
orificio de guía de la caja de válvula para recibir el vástago de
válvula, insertarlo dentro de las porciones agrandadas de los
componentes de orificio con una construcción simple que está
formada por separado de la caja de válvula, y sellando la caja de
válvula en el extremo superior así como en el extremo inferior de
la misma, en lugar de formar ranuras exigentes técnicamente dentro
de la superficie interior del orificio de guía de la caja de válvula
para recibir el vástago de válvula. Una construcción simple de este
tipo es de resistencia suficiente y puede ser fácilmente fabricada.
Esto conduce a una productividad incrementada y por lo tanto a una
reducción de costos significativa.
En la invención como se reivindica en la
reivindicación 1 ó 2, la invención como se reivindica en la
reivindicación 3 proporciona un cabezal de boquilla para fijarse al
extremo superior del vástago de válvula, que incluye una cara de
tope para restringir el desplazamiento del vástago de válvula a la
primera posición de tope. De esta manera, durante el uso normal, el
gas siempre es pulverizado saliendo del recipiente de gas en
cantidades constantes simplemente empujando el cabezal de boquilla
hasta que sea parado por la cara de tope.
La invención como se reivindica en la
reivindicación 4 es un adaptador de inyección fijado al extremo
superior del vástago de válvula cuando el gas es inyectado dentro
del recipiente de gas a través de la válvula de pulverización de
gas que se ha descrito más arriba, de acuerdo con una invención como
se reivindica en una de las reivindicaciones 1 a 3. El adaptador de
inyección incluye una cara de tope para restringir el desplazamiento
del vástago de válvula a la segunda posición de tope. De esta
manera, el gas puede ser inyectado dentro del recipiente de gas de
una forma fiable uniendo simplemente el adaptador de inyección al
extremo superior del vástago de válvula y empujando el adaptador de
inyección hasta que sea parado por la cara de tope.
Claims (4)
1. Una válvula (101) de pulverización del gas,
que incluye: una caja (103) de válvula asegurada a una porción
(102a) de abertura de un recipiente (102) de gas; un vástago (104)
de válvula recibido de manera deslizable en la caja (103) de
válvula; un primer anillo de obturación (106) y un segundo anillo de
obturación (108) dispuestos en el interior de la caja (103) de
válvula, entrando en contacto estrecho el primer anillo de
obturación (106) con una periferia exterior de una porción de
diámetro mayor del vástago (104) de válvula en una primera posición
que está relativamente próxima al centro del recipiente (102) de
gas, entrando en contacto estrecho el segundo anillo de obturación
(108) con la periferia exterior de una porción de diámetro menor del
vástago (104) de válvula en una segunda posición que está
relativamente alejada del centro del recipiente (102) de gas; una
cámara de medición (110) formada entre el primer anillo de
obturación (106) y el segundo anillo de obturación (108) para
capturar una cantidad predeterminada de gas antes de la
pulverización; y una diferencia de diámetros entre la porción de
diámetro mayor y la porción de diámetro menor del vástago de válvula
se utiliza como una cara de tope para restringir la posición
elevada del vástago (104) de válvula, en la que,
el vástago (104) de válvula incluye un conducto
(111) de gas que se extiende a través del mismo desde un extremo
superior del mismo que está situado fuera del recipiente (102) de
gas hasta un orificio (111b) en una periferia exterior del mismo
que está separada axialmente del extremo superior, estando
caracterizada la válvula de pulverización de gas porque,
el vástago (104) de válvula se puede disponer en
las tres posiciones siguientes:
- i)
- posición elevada, en la cual el orificio (111b) está dispuesto por encima del segundo anillo de obturación (108) y el fondo del vástago de válvula se encuentra en el interior de la cámara de medición (110) por encima del primer anillo de obturación (106), de manera que la comunicación entre el interior del recipiente (102) de gas y la cámara de medición (110) esté abierta;
- ii)
- primera posición de tope, en la cual el orificio (111b) se encuentra en la cámara de medición por debajo del segundo anillo de obturación (108) y la porción de diámetro grande permanece en contacto con el primer anillo de obturación (106), en la que la comunicación entre la cámara de medición (110) y el orificio (111b) está abierta y la comunicación entre el interior del recipiente (102) de gas y la cámara de medición (110) está cerrada;
- iii)
- segunda posición de tope, en la cual el vástago (104) de válvula es empujado adicionalmente más allá de la primera posición de tope de manera que el orificio (111b) permanezca en la cámara de medición por debajo del segundo anillo de obturación (108) y la porción de diámetro grande (104b) es empujada completamente por debajo del primer anillo de obturación (106), con lo cual la comunicación entre la cámara de medición (110) y el orificio (111b) y entre el recipiente (102) de gas y la cámara de medición (110) están ambas abiertas.
2. La válvula de pulverización de gas como se ha
reivindicado en la reivindicación 1, que se caracteriza
porque las ranuras (114-116) para sujetar el primer
anillo de obturación (106) y el segundo anillo de obturación (108)
en su lugar y para servir como cámara de medición (110) están
formadas simplemente agrandando parcialmente un orificio (113) de
guía de la caja (103) de válvula para recibir el vástago (104) de
válvula, insertar dentro de las porciones agrandadas del orificio
(113) de guía componentes con construcción simple que están formados
por separado de la caja (103) de válvula, y sellar la caja (103) de
válvula en el extremo superior así como en el extremo inferior de
la misma, en lugar de formar ranuras en una superficie interior del
orificio (113) de guía de la caja (103) de válvula.
3. La válvula de pulverización de gas como se ha
reivindicado en la reivindicación 1 ó en la 2, que se
caracteriza porque la válvula (101) de pulverización del gas
comprende además un cabezal (112) de boquilla fijado al extremo
superior del vástago (104) de válvula, y el cabezal (112) de
boquilla incluye una cara de tope (120) para restringir el
desplazamiento del vástago (104) de válvula a la primera posición de
tope.
4. Un adaptador (121) de inyección fijado al
extremo superior del vástago (104) de válvula cuando el gas es
inyectado en el recipiente (102) de gas a través de la válvula
(101) de pulverización de gas como se ha reivindicado en cualquiera
de las reivindicaciones 1 a 3, que se caracteriza porque el
adaptador (121) de inyección incluye una cara (123) de tope para
restringir el desplazamiento del vástago (104) de válvula a la
segunda posición de tope.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001139519A JP2002333098A (ja) | 2001-05-10 | 2001-05-10 | ガス噴射弁及びガス注入に用いられる注入治具 |
| JP2001-139519 | 2001-05-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2312563T3 true ES2312563T3 (es) | 2009-03-01 |
Family
ID=18986282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES02722927T Expired - Lifetime ES2312563T3 (es) | 2001-05-10 | 2002-05-02 | Valvula de inyeccion de gas, y soporte de inyeccion para inyeccion de gas. |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6820778B2 (es) |
| EP (1) | EP1386856B1 (es) |
| JP (1) | JP2002333098A (es) |
| AT (1) | ATE407897T1 (es) |
| DE (1) | DE60228826D1 (es) |
| DK (1) | DK1386856T3 (es) |
| ES (1) | ES2312563T3 (es) |
| WO (1) | WO2002092468A1 (es) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100595470C (zh) * | 2006-09-04 | 2010-03-24 | 林槐泰 | 瓦斯工具的充填的改进结构 |
| DE202008004615U1 (de) * | 2007-11-26 | 2008-07-10 | Dentaco Dentalindustrie Und -Marketing Gmbh | Vorrichtung zum Applizieren eines pulverförmigen oder flüssigen Stoffes |
| CN117170349B (zh) * | 2023-11-02 | 2024-02-27 | 博纯材料股份有限公司 | 应用于氪气充装控制系统的故障诊断方法及系统 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2998168A (en) * | 1957-07-04 | 1961-08-29 | Waldherr Wilhelm | Fluid dispenser |
| JPS3818747Y1 (es) * | 1960-05-20 | 1963-09-05 | ||
| GB1115926A (en) * | 1964-06-03 | 1968-06-06 | Honorio Sanjuan Nadal | Improvements in aerosol valves |
| JPS4822488B1 (es) * | 1965-01-28 | 1973-07-06 | ||
| JPS5131686B1 (es) * | 1965-06-15 | 1976-09-08 | ||
| JPS5338886Y2 (es) * | 1973-04-25 | 1978-09-20 | ||
| JPS5338886A (en) | 1976-09-22 | 1978-04-10 | Yokogawa Hokushin Electric Corp | Pneumatic apparatus |
| GB8624670D0 (en) * | 1986-10-15 | 1986-11-19 | Glaxo Group Ltd | Valve for aerosol container |
| FR2633915B1 (fr) * | 1988-07-05 | 1990-12-14 | Valois Sa | Dispositif pour introduire dans un recipient au travers d'une valve sertie sur ce recipient un tres petit volume de fluide avec une tres grande precision |
| FR2670139B1 (fr) * | 1992-01-15 | 1993-12-24 | Valois | Valve doseuse utilisable en position inversee. |
| JP2509521B2 (ja) * | 1993-06-02 | 1996-06-19 | 誠一 北林 | 圧力充填可能な倒立使用専用定量取り出しバルブと圧力充填可能な倒立使用専用定量取り出しバルブへの定量バルブ用パッキングの取付方法 |
| JP2509520B2 (ja) * | 1993-06-02 | 1996-06-19 | 誠一 北林 | 圧力充填可能な定量取り出しバルブと圧力充填可能な定量取り出しバルブへの定量バルブ用パッキングの取付方法 |
| JP2992609B2 (ja) * | 1994-03-14 | 1999-12-20 | 誠一 北林 | 圧力充填可能な多量定量バルブ |
| JPH0940048A (ja) * | 1995-07-31 | 1997-02-10 | Seiichi Kitabayashi | 加圧充填可能な定量噴射バルブと定量噴射バルブの加圧 充填方法 |
| GB2324121A (en) * | 1997-04-07 | 1998-10-14 | Bespak Plc | Seal arrangements for pressurised dispensing containers |
| JPH11301759A (ja) * | 1998-04-21 | 1999-11-02 | Unisia Jecs Corp | ガス噴射弁及びガス注入に用いられる注入治具 |
| FR2798367B1 (fr) * | 1999-09-15 | 2001-11-23 | Valois Sa | Joint de soupape pour valve doseuse |
| JP2001328689A (ja) | 2000-05-19 | 2001-11-27 | Shiseido Co Ltd | エアゾール容器 |
-
2001
- 2001-05-10 JP JP2001139519A patent/JP2002333098A/ja not_active Ceased
-
2002
- 2002-05-02 DE DE60228826T patent/DE60228826D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-05-02 US US10/415,975 patent/US6820778B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-05-02 ES ES02722927T patent/ES2312563T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-05-02 DK DK02722927T patent/DK1386856T3/da active
- 2002-05-02 AT AT02722927T patent/ATE407897T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-05-02 EP EP02722927A patent/EP1386856B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-05-02 WO PCT/JP2002/004396 patent/WO2002092468A1/ja not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1386856A4 (en) | 2006-05-24 |
| WO2002092468A1 (fr) | 2002-11-21 |
| JP2002333098A (ja) | 2002-11-22 |
| DK1386856T3 (da) | 2008-11-03 |
| DE60228826D1 (de) | 2008-10-23 |
| US6820778B2 (en) | 2004-11-23 |
| EP1386856A1 (en) | 2004-02-04 |
| US20040094579A1 (en) | 2004-05-20 |
| EP1386856B1 (en) | 2008-09-10 |
| ATE407897T1 (de) | 2008-09-15 |
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