ES2338608T3 - Dispositivo y procedimiento para la determinacion de las propiedades electricas de una muestra de un material excitable. - Google Patents
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Abstract
Dispositivo para la determinación de las propiedades eléctricas de una nuestra de un material excitable, en particular de una plaquita de silicio, comprendiendo: a. una fuente de microondas (6) para generar un campo de microondas, b. un sistema de resonancia (2) acoplado a la fuente de microondas (6) de una forma que transmita las microondas, que comprende i.un resonador de microondas, ii.la muestra que se trata de investigar, c. por lo menos una fuente de excitación (3) situada en el entorno de la muestra para la excitación eléctrica controlada de la muestra, y d. un dispositivo de medición (5) para medir por lo menos un parámetro físico del sistema de resonancia (2).
Description
Dispositivo y procedimiento para la
determinación de las propiedades eléctricas de una muestra de un
material excitable.
La invención se refiere a un dispositivo para la
determinación de las propiedades eléctricas de una muestra de un
material excitable. La invención se refiere además a un
procedimiento para la determinación de las propiedades eléctricas de
un material excitable.
La fotoconductividad de los semiconductores se
conoce aproximadamente desde hace medio siglo. En este efecto se
generan en un semiconductor portadores de cargas libres por
irradiación de luz. Los detalles exactos de este proceso dependen
del material. Además, unas mínimas irregularidades en la estructura
cristalina de un semiconductor ya pueden dar lugar a unas
diferencias importantes en la cantidad y en las propiedades
eléctricas, tales como la movilidad y la vida útil, de los
portadores de cargas que se generen. Esta clase de faltas de
homogeneidad repercuten negativamente en la calidad de los
componentes semiconductores, por ejemplo en las plaquitas. Por este
motivo es de suma importancia establecer una topografía detallada de
las propiedades eléctricas de una plaquita para detectar defectos
del cristal, en particular incluso ya durante la fabricación de la
plaquita. Para ello se puede aprovechar la interacción de los
portadores de cargas generados ópticamente, con un campo de
microondas exterior.
En el documento DE 44 00 097 A1 se describe un
procedimiento en el que se irradia luz sobre la superficie de un
material semiconductor que se trata de medir, y que de este modo
excita en la capa delgada superficial del material semiconductor
unos portadores de carga. Una onda electromagnética proyectada sobre
la superficie del material semiconductor es reflejada por la
superficie en una medida que varía en función de la densidad
momentánea del portador de cargas. La onda reflejada se detecta y se
evalúa mediante un circuito de tratamiento de la señal.
Los procedimientos conformes al estado de la
técnica adolecen del inconveniente de una sensibilidad de
determinación relativamente reducida, y requieren por lo tanto para
el uso de los componentes semiconductores unas tasas de inyección
de un valor irrealistamente alto, y requieren mucho tiempo para
determinar la topografía detallada de una plaquita completa.
La invención tiene como objetivo crear un
procedimiento y un dispositivo mediante el cual se pueda determinar
la topografía detallada de una plaquita con unas tasas de inyección
reducidas y en tiempo corto.
Este objetivo se resuelve por las
características de la reivindicación 1. La esencia de la invención
consiste en que por lo menos una zona parcial de la muestra que se
trata de investigar actúa ella misma como elemento parcial de un
sistema de resonancia, y porque se mide con resolución en el tiempo
la variación de impedancia del sistema de resonancia causada por
una excitación controlada de la muestra. Esto da lugar a una
sensibilidad de determinación considerablemente más alta y a un
considerable ahorro de tiempo en comparación con el estado de la
técnica.
Otras realizaciones ventajosas de la invención
se deducen de las reivindicaciones subordinadas.
Otras características y detalles adicionales de
la invención se deducen de la descripción de un ejemplo de
realización sirviéndose de los dibujos. Éstos muestran:
Fig. 1 una vista esquemática de un dispositivo
conforme a un ejemplo de realización,
Fig. 2 una vista esquemática de un puente de
microondas que lleva acoplado un sistema de resonancia y un sistema
de medición, y
Fig. 3 una vista detallada del sistema de
resonancia.
A continuación se describe la estructura del
dispositivo haciendo referencia a la Fig. 1. Un dispositivo para la
determinación de las propiedades eléctricas de una muestra de un
material excitable comprende un puente de microondas 1, un sistema
de resonancia 2, por lo menos una fuente de excitación 3, un
dispositivo de posicionamiento 4 y una instalación de medida 5.
Además puede estar prevista una regulación de temperatura para
enfriar o calentar el sistema de resonancia 2, que no está
representada en la Fig. 1. Además puede estar previsto un
dispositivo tampoco representado en la Fig. 1 para hacer el vacío en
el sistema de resonancia 2.
En primer lugar se describirá con mayor detalle
el puente de microondas 1, de por sí conocido, haciendo para ello
referencia a la Fig. 2. El puente de microondas 1 comprende una
fuente de microondas 6, que puede ser por ejemplo un diodo Gunn.
Este genera microondas en un campo de 0,1 a 300 GHz, en particular
en un campo de 1 a 100 GHz, en particular en el campo de 6 a 11
GHz, es decir en la banda X. La frecuencia de las microondas
generadas por la fuente de microondas 6 se puede sintonizar. Las
microondas se reparten por medio de un distribuidor que no está
representado, en un brazo principal 7 y un brazo de referencia 8. En
el brazo principal 7 está previsto un primer amortiguador. Entre el
primer amortiguador y el sistema de resonancia 2 que está acoplado
al puente de microondas está previsto un circulador 10. Para ello un
primer brazo 11 del circulador 10 está unido al primer amortiguador
9. Un segundo brazo 12 del circulador 10 está unido al sistema de
resonancia 2. Por último, un tercer brazo 13 del circulador está
unido a un mezclador 14. El brazo de referencia 8 lleva un segundo
amortiguador 15 y un modificador de fase 16. El brazo de referencia
8 también está unido al mezclador 14. Las uniones en el puente de
microondas 1 están realizadas como guías de ondas 17, es decir en
forma de transmisión de microondas. Pueden estar realizados por
ejemplo como conductores huecos o cables coaxiales. El puente de
microondas 1 también puede presentar un solo amortiguador o incluso
ninguno.
A continuación y haciendo referencia a la Fig. 3
se describe el sistema de resonancia 2. El sistema de resonancia 2
comprende un resonador de microondas, una muestra que se trata de
investigar, un dieléctrico 18 que absorbe las microondas y un
reflector de microondas 19. El dieléctrico 18 puede ser por ejemplo
de vidrio, teflón o aire. El reflector de microondas 19 consiste en
un material de alta conductividad eléctrica, por ejemplo un metal,
en particular Cu, Au, Al, latón, etc. o un material semiconductor
altamente dotado. Existe la posibilidad de prever para una muestra
más de un resonador de microondas El resonador de microondas está
realizado como resonador de cavidad 20, en particular como
resonador de cavidad cilíndrica 20. Caben también otras formas
geométricas del resonador de cavidad 20. El resonador de cavidad 20
también puede estar realizado en forma de cubo. El resonador de
cavidad 20 tiene una calidad Q siendo Q > 100, en particular Q
> 1000.
El resonador cilíndrico de cavidad 20 presenta
una cavidad 21 de forma cilíndrica con un eje longitudinal central
22 así como una pared lateral 23 que rodea el perímetro de la
cavidad 21, y por lo menos una primera pared frontal 24 que cubre
por lo menos la cara frontal de la cavidad 21. Sobre el lado de la
cavidad 21 opuesto a la primera pared frontal 24 y a lo largo del
eje longitudinal central 22 está prevista una segunda pared frontal
25. La segunda pared frontal 25 presenta un orificio 26. El orificio
26 tiene preferentemente una sección circular con un diámetro D, y
está dispuesta concéntricamente con respecto al eje longitudinal
central 22. Se tiene: 1 mm < D < 30 cm, en particular 1 cm
< D < 10 cm. Las paredes 23, 24, 25 que limitan la cavidad 21
son de un material de alta conductividad eléctrica, por ejemplo
metal, y en particular Cu, Au, latón, etc. A lo largo del eje
longitudinal central 22 y fuera de la cavidad 21 y a una distancia a
delante del orifico 26 se encuentra una muestra que se trata de
investigar. En este caso rige: a < 5 cm, en particular a < 1
cm, muy particularmente a < 1 mm. Al ir aumentando la distancia
a, disminuye la calidad Q. La muestra se compone de un material
excitable, en particular de un material semiconductor. La probeta
puede ser por ejemplo una plaquita 27, en particular de silicio.
Por el lado de la plaquita 27 situada frente al resonador de
cavidad 20 están situados el dieléctrico 18 que absorbe las
microondas y el reflector de microondas 19. Tanto el dieléctrico 18
como también el reflector de microondas 19 tienen unas medidas en
dirección perpendicular al eje longitudinal central 22 que son como
mínimo tan grandes como el orificio 26 representado, de modo que
recubran completamente no sólo el dieléctrico 18 como también el
reflector de microondas 19 al realizar la proyección en la
dirección del eje longitudinal central 22. Tanto el dieléctrico 18
como también el reflector de microondas 19 están realizados
esencialmente de forma laminar. El dieléctrico 18 presenta un
espesor del orden de 0 cm hasta 5 cm. El reflector de microondas 19
lleva una capa que es mayor que la profundidad de la piel de
microondas, en particular es mayor que 10 \mum. El reflector de
microondas 19 también puede ser parte de la misma plaquita 27, en
particular cuando se miden materiales altamente dotados o células
solares terminadas. Alternativamente, el sistema de resonancia 2 no
lleva ningún dieléctrico 18.
El resonador de cavidad 20 presenta en la pared
lateral 23 un diafragma 28. En el orifico libre del diafragma 28
está previsto además un tornillo de sintonización enroscable 29. El
resonador de cavidad 20 está acoplado al puente de microondas a
través del diafragma 28 mediante una de las guías de ondas 17.
Alternativamente el diafragma 28 también puede estar previsto en la
primera pared frontal 24. En lugar del acoplamiento a través del
diafragma 28 las microondas procedentes del puente de microondas 1
también pueden estar acopladas al resonador de cavidad 20 por medio
de un sistema de antenas.
El sistema de resonancia 2 presenta en conjunto
una impedancia Z que depende no sólo de la impedancia del resonador
de impedancia 20 sino también de la de la plaquita 27. De acuerdo
con el ejemplo de realización está previsto situar varias fuentes
de excitación 3 en el entorno de la plaquita 27. Deben entenderse
como tales todas las disposiciones en las que las fuentes de
excitación 3 pueden generar en la plaquita 20 unos portadores de
carga libres. Las fuentes de excitación 13 son en particular fuentes
de excitación 3 ópticas, por ejemplo láser o LEDs. La longitud de
ondas de la luz de la fuente de excitación 3 está dentro de una gama
de 200 nm a 10.000 nm, en particular en una gama de 400 nm a 1200
nm. Cada una de las fuentes de excitación 3 presenta eventualmente
un sistema óptico, no representado en las figuras, necesario para el
enfoque, para regular la intensidad y para orientar la excitación.
El número de fuentes de excitación 3 está dentro de un campo de 1 a
1000.
Las fuentes de excitación 3 están dispuestas y
alineadas ventajosamente de tal modo que la disposición de todas
ellas no solamente cubre sin ningún hueco las zonas de la plaquita
27 que se pueden excitar sobre la plaquita 27 sino que también se
transforma en sí misma mediante un giro de un ángulo de 60º ó 90º
alrededor del eje longitudinal central 22.
Igualmente está previsto apoyar la plaquita 27
de forma desplazable en el plano perpendicular al eje longitudinal
central 22 mediante el dispositivo de posicionamiento 4. Como
alternativa, la plaquita puede estar apoyada fija siendo el
resonador de cavidad 20 el que esté dispuesto de modo desplazable en
el plano perpendicular al eje longitudinal central 22. En ambos
casos, el dieléctrico 18 y el reflector de microondas 19 cubren el
orificio 26 completamente también después de efectuado un
desplazamiento del resonador de cavidad 20. El dispositivo de
posicionamiento 4 puede estar realizado como un robot, un
manipulador de plaquitas, cintas transportadoras, etc. En principio
se pueden mover también el reflector de microondas y el dieléctrico
junto con el resonador.
El puente de microondas 1, la por lo menos una
fuente de excitación 3 y el dispositivo de posicionamiento 4 están
unidos a un sistema de control programable 30.
A continuación se describe el funcionamiento del
dispositivo conforme a la invención. Para determinar las
propiedades eléctricas de la plaquita 27 que se trata de ensayar se
acoplan microondas procedentes de la fuente de microondas 6 a
través de la guía de ondas 17 en el brazo principal 7 del puente de
microondas y continúan después de atravesar el circulador 10 a
través del diafragma 28 al sistema de resonancia 2. En el resonador
de cavidad 20 las microondas son reflejadas prácticamente sin
pérdidas por la pared lateral 23 así como por la primera y segunda
pared frontal 24, 25. En la zona del orificio 26 en la segunda pared
frontal 25 del resonador de cavidad 20, las microondas inciden
sobre la plaquita 27, y si la plaquita 27 no tapa completamente el
orificio 26, inciden sobre el dieléctrico 18 y el reflector de
microondas 19. Las microondas que inciden sobre la plaquita 27 son
reflejadas por ésta en función de la conductividad de la plaquita
27. Si la plaquita 27 presenta sólo una conductividad eléctrica
reducida y/o no recubre completamente el orificio 26, las microondas
que salen de la cavidad 27 a través del orificio 26 son reflejadas
por el reflector de microondas. La cavidad 21 está por lo tanto
rodeada totalmente de paredes de alto nivel de conductividad, con
independencia de la conductividad de la plaquita 27, es decir que
está eléctricamente cerrada. La disposición de la plaquita 27, del
dieléctrico 18 que absorbe las microondas y del reflector de
microondas 19 con relación al resonador de cavidad 20, en
particular con relación al orificio 26, resulta sumamente universal
en cuanto a los materiales que se pueden investigar. Permite
efectuar investigaciones de plaquitas 27 tanto de escasa
conductividad eléctrica como también de alta conductividad
eléctrica, y funciona también si la plaquita 27 cubre sólo una parte
del orificio 26.
Si las microondas acopladas al sistema de
resonancia 2 tienen una frecuencia adecuada se produce el caso de
resonancia en el que en la cavidad 21 se forman unas microondas
estacionarias. La longitud de onda o frecuencia de estas microondas
estacionarias depende entre otras cosas de la geometría de la
cavidad 21 y especialmente de la conductividad de las paredes que
rodean la cavidad 21 o de la conductividad de la plaquita 27.
El tornillo de sintonización 29 en el diafragma
28 en el que se acoplan las microondas procedentes de la fuente de
microondas 6 a través del brazo principal 7 mediante la guía de
ondas 17 al resonador de cavidad 20 actúa como condensador variable
mediante el cual se puede regular la impedancia del resonador de
cavidad 20 y por lo tanto la impedancia del sistema resonador 2. De
este modo se tiene la posibilidad de sintonizar la resistencia del
sistema de resonancia 2 con la de la guía de ondas 17 que comunica
el brazo principal 7 del puente de microondas 1 con el resonador de
cavidad 20, es decir acoplar de forma crítica el sistema de
resonancia 2 al puente de microondas 1. En el caso de acoplamiento
crítico del sistema de resonancia 2 al puente de microondas 1 toda
la potencia de las microondas en la guía de ondas 17 se acopla en el
sistema de resonancia 2, y no se refleja ninguna potencia por el
sistema de resonancia 2.
Para sintonizar tanto la frecuencia de las
microondas generadas por la fuente de microondas 65 por una parte
como también la posición del tornillo de sintonización 29 en el
diafragma 28 por otra, de acuerdo con la impedancia del sistema de
resonancia 2, se procede en la forma siguiente:
En primer lugar se sintoniza la frecuencia de
las microondas generadas por la fuente de microondas 6 de tal modo
de acuerdo con el sistema de resonancia 2, en particular de acuerdo
con la geometría del resonador de cavidad 20, que en el resonador
de cavidad 20 se forma una microonda estacionaria. A continuación se
ajusta el tornillo de sintonización 29 del diafragma 28 de tal modo
que el sistema de resonancia quede acoplado en gran medida de forma
crítica, es decir sin reflejos, a la guía de ondas 17 que comunica
el circulador 10 con el sistema de resonancia 2. El acoplamiento de
alto grado crítico se puede conseguir alternativamente mediante un
posicionamiento exacto de una antena en el interior del resonador de
cavidad 20. En caso de necesidad se puede repetir la sintonización
de la frecuencia de las microondas generadas por la fuente de
microondas 6 y el ajuste del tornillo de sintonización 29.
En un caso normal es casi imposible acoplar el
sistema de resonancia 2 al puente de microondas 1 de modo totalmente
exento de reflejos. Para tener esto en cuenta se ajustan la
amplitud y la fase de las microondas en el brazo de referencia 8
del puente de microondas 1 mediante el segundo amortiguador 15 y/o
el modificador de fase 16, de tal modo que al producirse la
superposición en el mezclador 14 se anulen precisamente contra las
microondas reflejadas por el sistema de resonancia 2 que son
conducidas a través del tercer brazo 13 desde el circulador 10 al
mezclador 14. En este estado no llega ninguna señal del mezclador 14
al sistema de medición 5.
El encendido de por lo menos una fuente de
excitación 3 da lugar a la excitación eléctrica en una parte
localmente limitada de la plaquita 27. Las dimensiones de la zona
parcial excitada de la plaquita 27 en dirección perpendicular al
eje longitudinal central 22 vienen dadas por la extensión del rayo
de luz en esta dirección. La zona parcial excitada es en particular
una zona de diámetro esencialmente circular, perpendicular al eje
longitudinal central 22, en una gama de 1 \mum a 4 cm, en
particular en la gama de 10 \mum a 5 mm. En la dirección del eje
longitudinal central 22, la extensión de la parte excitada de la
plaquita 27 depende de la profundidad de penetración de la luz
procedente de la fuente de excitación 3 en la plaquita 27.
Las fuentes de excitación 3 se activan de modo
pulsante por el dispositivo de control 30, estando el período de
tiempo de un impulso en una gama de 0,1 \mus hasta 1 s, en
particular en una gama de 10 a 100 \mus. Las fuentes de
excitación 3 son además activadas por el sistema de control 30 de
modo secuencial con una frecuencia en la gama de 1 Hz a 100 MHz, en
particular de 1 Hz a 1 MGz, en particular de 1 kHz a 100 kHz.
Mediante la excitación se generan en la plaquita
27 portadores de carga libres. De este modo varía la conductividad
en por lo menos una zona parcial de una de las superficies que
limitan la cavidad 21, con lo cual se modifican las propiedades de
reflexión en cuanto a las microondas en esta zona parcial. De este
modo también se modifica la impedancia del sistema de resonancia 2,
que de este modo deja de estar acoplado al puente de microondas 1
de forma crítica, es decir exenta de reflejos. Dado que los
parámetros del puente de microondas 1 y del sistema de resonancia 2
se ajustaron entre sí precisamente de modo que el sistema de
resonancia 2 se encuentre en resonancia en el estado no excitado de
la plaquita, y dado que la calidad del resonador de cavidad 20 es
muy alta, se pueden determinar con gran sensibilidad incluso las más
pequeñas variaciones de conductividad de la plaquita 27 producidas
por la excitación de la plaquita 27 y las modificaciones de
impedancia de la plaquita 27 debidas a ello, y por lo tanto del
conjunto del sistema de resonancia 2. La potencia reflejada por el
sistema de resonancia 2 da lugar a una señal de microondas que entra
en el circulador 10 a través del segundo brazo 12, y que a través
del tercer brazo 13 llega del circulador 10 al mezclador 14. En el
mezclador 14 se superpone la señal reflejada con la señal de
microondas del brazo de referencia 8 del puente de microondas 1,
ajustada en la forma antes descrita antes de encender una de las
fuentes de excitación 3. Desde el mezclador 14, la señal pasa al
dispositivo de medición 5 donde se memoriza descompuesta en el
tiempo, se sigue tratando y se evalúa. Mediante esta disposición se
pueden determinar incluso las más pequeñas variaciones de las
propiedades de resonancia del sistema de resonancia 2. Esto permite
reducir la potencia de excitación de la fuente de excitación 3
hasta 0,001 mW/cm^{2}. Una potencia de excitación tan baja es
ventajosa ya que se encuentra dentro del campo de la potencia de
excitación que efectivamente aparecerá durante el futuro uso de la
plaquita. Caben también potencias de excitación mayores hasta por
ejemplo 100 W/cm^{2}.
Las fuentes de excitación 3 se activan de forma
secuencial por el dispositivo de control 30. El intervalo de tiempo
que transcurre entre el apagado de la fuente de excitación anterior
3 y el encendido de la fuente de excitación 3 siguiente está entre
1 \mus hasta 1 s. Este intervalo está elegido en particular de tal
modo que más del 90%, en particular más del 99% de los portadores
de carga generados por el encendido de la fuente de excitación 3
anterior se hayan recombinado hasta que se encienda la fuente de
excitación 3 siguiente.
Con el fin de poder determinar las propiedades
eléctricas en todo el campo de la plaquita 27, la plaquita 27 se
puede desplazar con precisión en dirección perpendicular al eje
longitudinal central 22 respecto al orifico 26 del resonador de
cavidad 20, sirviéndose del dispositivo de posicionamiento 4.
Los portadores de carga libres generados al
encender la fuente de excitación 3 tienen sólo una vida útil
limitada, al cabo de la cual se vuelven a recombinar. Aquí se ha
comprobado que la recombinación de los portadores de carga libres
se ve influenciada por defectos del cristal tales como por ejemplo
puntos de interferencia, átomos extraños o Traps. En general, el
transitorio se puede describir muy bien después de apagar la fuente
de excitación 3 mediante una suma de varias funciones
exponenciales. La rápida caída del transitorio da una medida de la
vida útil de recombinación. En la segunda parte, más lenta, del
transitorio decadente se puede observar la influencia que tienen
los defectos del cristal en los portadores de carga. La evaluación
de las señales medidas por el dispositivo de medición 5, por
ejemplo sirviéndose de la técnica de las dos puertas, en la que la
amplitud de la señal se mide en dos intervalos, preferentemente de
igual longitud pero con distintos momentos de inicio después de
apagar la fuente de excitación 3, y se sigue evaluando permitiendo
por lo tanto de forma sencilla sacar conclusiones relativas a la
distribución y concentración de los defectos de cristal en la
plaquita 27, así como sobre la longitud de difusión, es decir la
movilidad de los portadores de carga libres.
El número de puntos de medición que se han de
medir para obtener una topografía del conjunto de la plaquita
depende de la resolución deseada, es decir del diámetro del rayo de
luz de las fuentes de excitación 3, de las dimensiones de la
plaquita 27 y de la calidad del material. Un factor importante fue
hasta ahora aquí además el tiempo disponible. Mediante el
dispositivo conforme a la invención o el procedimiento conforme a
la invención se reduce notablemente el tiempo requerido para la
determinación topográfica de las propiedades eléctricas de un
conjunto de plaquita. Para una plaquita típica, una determinación
topográfica de esta clase utilizando los medios aquí descritos,
tarda menos de 10 s, en particular menos de 1 s.
Para mejorar las relaciones
señal-ruido se pueden repetir las mediciones varias
veces.
Claims (10)
1. Dispositivo para la determinación de las
propiedades eléctricas de una nuestra de un material excitable, en
particular de una plaquita de silicio, comprendiendo:
- a.
- una fuente de microondas (6) para generar un campo de microondas,
- b.
- un sistema de resonancia (2) acoplado a la fuente de microondas (6) de una forma que transmita las microondas, que comprende
- i.
- un resonador de microondas,
- ii.
- la muestra que se trata de investigar,
- c.
- por lo menos una fuente de excitación (3) situada en el entorno de la muestra para la excitación eléctrica controlada de la muestra, y
- d.
- un dispositivo de medición (5) para medir por lo menos un parámetro físico del sistema de resonancia (2).
\vskip1.000000\baselineskip
2. Dispositivo conforme a una de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el
resonador de microondas es un resonador de cavidad (20) con una
cavidad (21).
3. Dispositivo según la reivindicación 2,
caracterizado porque el resonador de cavidad (20) presenta un
orificio (26) delante del cual está situada la muestra.
4. Dispositivo según una de las reivindicaciones
anteriores, caracterizado porque por el lado de la muestra
alejado del orificio (26) está dispuesto un dieléctrico (18) que
absorbe las microondas.
5. Dispositivo según una de las reivindicaciones
anteriores, caracterizado porque por el lado de la muestra
alejado del orificio (26) está dispuesto un reflector de microondas
(19).
6. Dispositivo conforme a una de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la por lo
menos una fuente de excitación (3) está controlada de modo
pulsante.
7. Dispositivo conforme a una de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado por estar
previstas varias fuentes de excitación (3).
8. Dispositivo según la reivindicación 7,
caracterizado porque las fuentes de excitación (3) están
controladas de forma secuencial.
9. Dispositivo conforme a una de las
reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la muestra
y el resonador de cavidad (20) se pueden desplazar relativamente la
una respecto al otro en un plano perpendicular al eje longitudinal
central (22).
10. Procedimiento para la determinación
topográfica de las propiedades eléctricas de una muestra de un
material excitable, en particular de una plaquita de silicio (27),
comprendiendo los pasos siguientes:
- a.
- Preparación
- i.
- de una fuente de microondas (6) sintonizable,
- ii.
- de un sistema de resonancia (2) acoplado de forma sintonizable a la fuente de microondas (6), comprendiendo un resonador de microondas y una muestra,
- iii.
- por lo menos una fuente de excitación (3) situada en el entorno de la muestra,
- así como
- iv.
- un sistema de medición (5).
- b.
- Generación de un campo de microondas en el sistema de resonancia (2) mediante la fuente de microondas (6),
- c.
- Sintonización de la frecuencia del campo de microondas de acuerdo con una frecuencia de resonancia del sistema resonador (2) en un estado no excitado de la muestra,
- d.
- Sintonización del acoplamiento del sistema de resonancia (2) a la fuente de microondas (6) de tal modo que el acoplamiento esté en gran medida exento de reflejos,
- e.
- Excitación local de la muestra, en particular generación de portadores de carga libres en la muestra mediante el encendido controlado de la por lo menos una fuente de excitación (3), y
- f.
- Determinación descompuesta en el tiempo de la variación provocada por la excitación de por lo menos un parámetro físico del sistema de resonancia (2) mediante el sistema de medición (5).
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102006051577A DE102006051577B4 (de) | 2006-11-03 | 2006-11-03 | Vorrichtung und Verfahren zur Erfassung elektrischer Eigenschaften einer Probe aus einem anregbaren Material |
| DE102006051577 | 2006-11-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2338608T3 true ES2338608T3 (es) | 2010-05-10 |
Family
ID=39111443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES07818978T Active ES2338608T3 (es) | 2006-11-03 | 2007-10-13 | Dispositivo y procedimiento para la determinacion de las propiedades electricas de una muestra de un material excitable. |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8330472B2 (es) |
| EP (1) | EP2097761B1 (es) |
| JP (1) | JP5150639B2 (es) |
| KR (1) | KR101059042B1 (es) |
| AT (1) | ATE459006T1 (es) |
| DE (2) | DE102006051577B4 (es) |
| ES (1) | ES2338608T3 (es) |
| WO (1) | WO2008052648A1 (es) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8400166B2 (en) * | 2009-04-29 | 2013-03-19 | The Boeing Company | Non-destructive determination of electromagnetic properties |
| US9601651B2 (en) * | 2013-06-21 | 2017-03-21 | Muehlbauer GmbH & Co. KG | Method and apparatus for manufacturing a solar module strand and a solar module strand of flexible solar cells |
| GB2528667A (en) * | 2014-07-25 | 2016-02-03 | Sec Dep For Business Innovation & Skills | Measurement technique for thin-film characterization |
| GB201618380D0 (en) * | 2016-10-31 | 2016-12-14 | Heriot-Watt Univ | Sensor system for detection of material properties |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2334266A1 (fr) * | 1975-12-05 | 1977-07-01 | Cgr Mev | Dispositif d'alimentation hyperfrequence a frequence controlee pour accelerateur lineaire utilisant des sections acceleratrices a ondes stationnaires |
| US4296215A (en) | 1978-07-27 | 1981-10-20 | Ici Americas Inc. | Method to thicken dissolved thermoset resins |
| US4286215A (en) | 1979-05-18 | 1981-08-25 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method and apparatus for the contactless monitoring carrier lifetime in semiconductor materials |
| DE3407850A1 (de) | 1984-02-29 | 1985-09-05 | Hahn-Meitner-Institut für Kernforschung Berlin GmbH, 1000 Berlin | Mikrowellen-messverfahren und -messapparatur zur kontaktlosen und zerstoerungsfreien untersuchung photoempfindlicher materialien |
| HU196262B (en) * | 1986-03-17 | 1988-10-28 | Mta Mueszaki Fiz Kutato Inteze | Method for testing electrically active impuritles in semiconductor materials and structures and measuring arrangement for implementing method |
| JPS63145951A (ja) * | 1986-12-09 | 1988-06-18 | Daipoole:Kk | 糸状材料の物性量測定装置 |
| US5138255A (en) * | 1989-03-20 | 1992-08-11 | Semitex Co., Ltd. | Method and apparatus for measuring lifetime of semiconductor material including waveguide tuning means |
| HUT63497A (en) * | 1990-12-17 | 1993-08-30 | Semilab Felvezetoe Fiz Lab Rt | Method and apparatus for measuring minority charge carrier in semiconductor material |
| JP3121938B2 (ja) * | 1992-05-14 | 2001-01-09 | 株式会社神戸製鋼所 | 半導体ウエハの少数キャリアのライフタイム測定装置 |
| JPH07105427B2 (ja) | 1992-10-19 | 1995-11-13 | 学校法人幾徳学園 | 半導体材料のライフタイム評価方法とその装置 |
| JP3124413B2 (ja) * | 1993-06-17 | 2001-01-15 | 株式会社神戸製鋼所 | 半導体ウエハの少数キャリアのライフタイム測定装置 |
| US7550963B1 (en) * | 1996-09-20 | 2009-06-23 | The Regents Of The University Of California | Analytical scanning evanescent microwave microscope and control stage |
| JPH11312719A (ja) * | 1997-10-10 | 1999-11-09 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | Czシリコンウェハ中の鉄汚染の検出方法 |
| US6100703A (en) * | 1998-07-08 | 2000-08-08 | Yissum Research Development Company Of The University Of Jerusalum | Polarization-sensitive near-field microwave microscope |
| JP4518680B2 (ja) | 2001-01-30 | 2010-08-04 | 京セラ株式会社 | 誘電定数測定法 |
| DE10297055T5 (de) * | 2001-07-25 | 2004-07-29 | MCW Research Foundation, Inc., Milwaukee | Hohlraum für EPR Spektroskopie, aufweisend ein axial gleichförmiges Feld |
| JP2007519000A (ja) * | 2004-01-26 | 2007-07-12 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | オンチップ磁気共鳴分光法のための方法及びデバイス |
| JP2006196621A (ja) * | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Sharp Corp | ライフタイム測定装置およびライフタイム測定方法 |
-
2006
- 2006-11-03 DE DE102006051577A patent/DE102006051577B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-10-13 DE DE502007002968T patent/DE502007002968D1/de active Active
- 2007-10-13 WO PCT/EP2007/008907 patent/WO2008052648A1/de not_active Ceased
- 2007-10-13 JP JP2009535004A patent/JP5150639B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-10-13 KR KR1020097011497A patent/KR101059042B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2007-10-13 EP EP07818978A patent/EP2097761B1/de not_active Not-in-force
- 2007-10-13 US US12/513,200 patent/US8330472B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-10-13 ES ES07818978T patent/ES2338608T3/es active Active
- 2007-10-13 AT AT07818978T patent/ATE459006T1/de active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2008052648A1 (de) | 2008-05-08 |
| DE102006051577A1 (de) | 2008-05-08 |
| DE502007002968D1 (de) | 2010-04-08 |
| EP2097761A1 (de) | 2009-09-09 |
| US8330472B2 (en) | 2012-12-11 |
| US20100141271A1 (en) | 2010-06-10 |
| ATE459006T1 (de) | 2010-03-15 |
| JP2010508526A (ja) | 2010-03-18 |
| EP2097761B1 (de) | 2010-02-24 |
| DE102006051577B4 (de) | 2011-07-21 |
| JP5150639B2 (ja) | 2013-02-20 |
| KR101059042B1 (ko) | 2011-08-24 |
| KR20090092791A (ko) | 2009-09-01 |
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