ES2643560T3 - Composiciones poliméricas a base de agua para tintas y revestimientos de impresión - Google Patents

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Description

DESCRIPCION
Composiciones polimericas a base de agua para tintas y revestimientos de impresion Campo de la invencion
La presente tecnolog^a se refiere en general a composiciones de revestimiento a base de agua para su uso en tintas 5 y revestimientos.
Sumario
En un aspecto, una composicion de revestimiento a base de agua incluye una fase continua que comprende agua y un sistema de reticulacion doble en el que: el sistema de reticulacion doble comprende un polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico; en el que el polfmero de soporte con funcionalidad acido carbox^lico es una resina 10 soluble en alcali; una policarbodiimida; un polfmero de latex con funcionalidad ceto y una dihidrazida y la composicion a base de agua experimenta menos del 25 % de aumento de la viscosidad despues de 5 dfas de almacenamiento en un recipiente cerrado en condiciones ambientales. En una realizacion, el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico es un copolfmero que incluye estireno, metacrilato de metilo, acrilato de butilo y acido acnlico. En algunas realizaciones, el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico tiene un peso 15 molecular promedio en numero de aproximadamente 500 a 100.000 g/mol, de 1.000 a 20.000 g/mol o de 500 a 6.000 g/mol. Cualquiera de las composiciones descritas en el presente documento puede ser un revestimiento transparente o un revestimiento pigmentado tal como una tinta. En algunas realizaciones, las composiciones son tintas.
En cualquiera de las realizaciones anteriores, el polfmero de latex con funcionalidad ceto incluye acrolema, 20 metacrolema, formilestireno, un compuesto que tiene un grupo (met)acrilono y un grupo ceto (por ejemplo, grupo acetilo) en la molecula o una vinil alquil cetona. Por ejemplo, el polfmero de latex con funcionalidad ceto puede incluir diacetona acrilamida, diacetona metacrilamida, acrilato de diacetona, metacrilato de diacetona, (met)acrilato de acetoacetoximetilo, (met)acrilato de 2-(acetoacetoxi)etilo, (met)acrilato de 2-acetoacetoxipropilo, butanodiol-1,4- acrilato-acetilacetato, vinil metil cetona, vinil etil cetona y vinil isobutil cetona, acetoacetato de alilo, acetoacetato de 25 vinilo o vinil acetoacetamida.
En cualquiera de las realizaciones anteriores, el polfmero de latex funcionalizado con ceto puede incluir diacetona acrilamida. En cualquiera de las realizaciones anteriores, la dihidrazida es un compuesto de Formula I:
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en la que R1 es alquileno, cicloalquileno, arileno, alquilenarileno, alquilenarilalquileno, heterociclileno, alquilenheterociclileno, alquilenheterociclilalquileno, heteroarileno, alquilenheteroarileno, o
alquilenheteroarilalquileno. En diversas realizaciones, R1 es alquilo. En tales realizaciones, R1 puede ser un alquilo C1-C20. En una realizacion, la dihidrazida es dihidrazida adfpica.
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en la que: R2 es alquilenilo, arilenilo, aralquilenilo, heteroarilenilo, heteroarilalquilenilo, heterociclilenilo, o heterocililalquilenilo. En algunas realizaciones, R2 es alquilenilo C1-C20, bencilenilo, fenilenilo, o perhalofenilenilo. En algunas realizaciones, R2 es un alquilenilo C1-C10 o cicloalquilalquilenilo C1-C20. En algunas realizaciones R2 es 2,2,4- trimetilhexametileno:
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En otro aspecto, un procedimiento para preparar una composicion de revestimiento a base de agua incluye mezclar una policarbodiimida con una emulsion soportada en el poffmero reticulable para formar una composicion de tinta, en la que la composicion de tinte comprende un sistema de reticulacion doble y la emulsion soportada en el poffmero reticulable se prepara mediante un segundo procedimiento que incluye cargar un poffmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico neutralizado disuelto en agua en un reactor; cargar un (met)acrilato y un monomero estirenico en el reactor; cargar un monomero funcionalizado con ceto disuelto en agua en el reactor; cargar una dihidrazida disuelta en agua en el reactor y cargar una base en el reactor; agitar el poffmero de soporte con funcionalidad acido carboxffico neutralizado, el (met)acrilato, el monomero estirenico, el monomero funcionalizado con ceto, la dihidrazida y la base a una temperatura y durante un periodo de tiempo suficientes para preparar la emulsion soportada en el poffmero reticulable. El procedimiento puede incluir ademas mezclar un pigmento con la emulsion soportada por el poffmero reticulable. De acuerdo con algunas realizaciones, el pigmento se mezcla como dispersion de pigmento. Cualquiera de los procedimientos anteriores puede incluir ademas aplicar la composicion de tinta a base de agua a un sustrato y eliminar el agua para formar un sustrato revestido de tinta.
En otro aspecto, se proporciona un sustrato revestido con un revestimiento formado a partir de una composicion de revestimiento. La composicion de revestimiento incluye un poffmero de latex funcionalizado con ceto reticulable y una resina de soporte soluble en agua reticulable como se ha descrito anteriormente, donde el sustrato revestido con el revestimiento exhibe una puntuacion en la prueba de frotamiento De Sutherland de 4 o mas; la prueba de frotamiento De Sutherland incluye frotar el sustrato revestido con el revestimiento con una tela con blanqueador de calidad 5 y un peso de 0,90 kg, durante 15 ciclos a una velocidad N.° 1, en la presencia de Windex® en el revestimiento y el sustrato incluye polietileno. En algunas realizaciones, el revestimiento es una tinta. En algunas realizaciones, el revestimiento exhibe una puntuacion en la prueba de frotamiento De Sutherland de 5.
Breve descripcion de las figuras
La Figura 1 es una serie de cinco fotograffas (A, 5 B, C, D y E) de tintas impresas que ilustran los diversos niveles de la prueba de frotamiento De Sutherland de 1 a 5, respectivamente.
La Figura 2 es una serie de tres fotograffas (A, B, y C) de tintas impresas preparadas usando una emulsion funcional de DAAM sin, con 4 % en peso y 6 % en peso de policarbodiimida anadida que ilustra la mejora de la resistencia al frotamiento de izquierda a derecha, de acuerdo con el Ejemplo 4.
La Figura 3A es una fotograffa de una peffcula de tinta curada de acuerdo con los ejemplos durante la prueba en prensa de Moser en el tiempo de 0 impresiones despues de la detencion de la impresion. La Figura 3b es una fotograffa de una peffcula de tinta curada de acuerdo con los ejemplos durante la prueba en prensa de Moser despues de 10 impresiones.
Descripcion detallada
Como se usa en el presente documento, las siguientes definiciones de terminos se aplicaran a menos que se indique lo contrario.
En general, “sustituido” se refiere a un grupo, como se definio anteriormente (por ejemplo, un grupo alquilo o arilo) en el cual uno o mas enlaces a un atomo de hidrogeno contenido en el mismo se remplazan por un enlace a atomos que no son hidrogeno ni carbono. Los grupos sustituidos tambien incluyen grupos en los cuales uno o mas enlaces a un atomo de carbono(s) o hidrogeno(s) se remplazan por uno o mas enlaces, incluyendo enlaces dobles o triples, a un heteroatomo. Por consiguiente, un grupo sustituido sera sustituido con uno o mas sustituyentes, a menos que se especifique lo contrario. En algunas realizaciones, un grupo sustituido se sustituye con 1, 2, 3, 4, 5, o 6 sustituyentes. Ejemplos de grupos sustituyentes incluyen: halogenos (es decir, F, Cl, Br, e I); hidroxilos; alcoxi, alquenoxi, alquinoxi, ariloxi, aralquiloxi, carbonilos(oxo), carboxilos, esteres, uretanos, tioles, sulfuros, sulfoxidos, sulfonas, sulfonilos, sulfonamidas, aminas, isocianatos, isotiocianatos, cianatos, tiocianatos, grupos nitro, nitrilos (es decir, CN) y similares.
Los grupos alquilo incluyen grupos alquilo de cadena lineal y ramificada que tienen de 1 a 20 atomos de carbono o, en algunas realizaciones, de 1 a 12, 1 a 8, 1 a 6 o 1 a 4 atomos de carbono. Los grupos alquilo ademas incluyen grupos cicloalquilo. Ejemplos de grupos alquilo de cadena lineal incluyen aquellos con 1 a 8 atomos de carbono tales como grupos metilo, etilo, n-propilo, n-butilo, n-pentilo, n-hexilo, n-heptilo y n-octilo. Los ejemplos de grupos alquilo ramificados incluyen, pero no se limitan a, grupos isopropilo, iso-butilo, sec-butilo, terc-butilo, neopentilo, isopentilo y
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2,2-dimetilpropilo. Los grupos alquilo sustituidos representativos, se pueden sustituir una o mas veces con sustituyentes tales como los enumerados anteriormente. Donde se usa el termino haloalquilo, el grupo alquilo esta sustituido con uno o mas atomos de halogeno.
Los grupos cicloalquilo son grupos alquilo dclicos tales como, pero sin limitarse a, grupos ciclopropilo, ciclobutilo, ciclopentilo, ciclohexilo, cicloheptilo y cicloctilo. En algunas realizaciones, el grupo cicloalquilo tiene de 3 a 8 miembros en el anillo, mientras que en otras realizaciones el numero de atomos de carbono en el anillo vana de 3 a 5, 3 a 6 o 3 a 7, Los grupos cicloalquilo ademas incluyen sistemas de anillo monodclico, bidclico y polidclico, tales como, por ejemplo grupos cicloalquilo puenteados como se describe posteriormente y anillos condensados, tales como, pero sin limitarse a, decalinilo y similares. En algunas realizaciones, los grupos cicloalquilo polidclicos tienen tres anillos. Los grupos cicloalquilo sustituidos se pueden sustituir una o mas veces con, grupos que no son ni hidrogeno ni carbono como se definieron anteriormente. Sin embargo, los grupos cicloalquilo sustituidos tambien incluyen anillos que se sustituyen con grupos alquilo de cadena lineal o ramificada como se definio anteriormente. Los grupos cicloalquilo sustituidos representativos pueden ser monosustituidos o sustituidos mas de una vez, tal como, pero sin limitarse a grupos ciclohexilo 2,2-, 2,3-, 2,4-, 2,5- o 2,6-disustituido, los cuales pueden estar sustituidos con sustituyentes tales como aquellos enumerados anteriormente.
Los grupos alquenilo incluyen grupos cicloalquilos de cadena lineal y ramificada como se definio anteriormente, excepto que al menos existe un enlace doble entre dos atomos de carbono. Por consiguiente, los grupos alquenilo tienen de 2 a aproximadamente 20 atomos de carbono, y generalmente de 2 a 12 carbonos o, en algunas realizaciones, de 2 a 8, 2 a 6, o 2 a 4 atomos de carbono. En algunas realizaciones, los grupos alquenilo incluyen grupos cicloalquenilo que tienen de 4 a 20 atomos de carbono, 5 a 20 atomos de carbono, 5 a 10 atomos de carbono, o incluso 5, 6, 7, u 8 atomos de carbono. Los ejemplos incluyen, pero no se limitan a vinilo, alilo, CH=CH(CH3), CH=C(CH3)2, -C(CH3)=CH2, -C(CH3)=CH(CH3), -C(CH2CH3)=CH2, ciclohexenilo, ciclopentenilo, ciclohexadienilo, butadienilo, pentadienilo y hexadienilo, entre otros. Los grupos alquenilo sustituidos representativos pueden ser monosustituidos o sustituidos mas de una vez, tal como, pero sin limitarse a, mono-, di- o tri-sustituidos con sustituyentes tales como aquellos enumerados anteriormente.
Los grupos alquinilo incluyen grupos alquilo de cadena lineal y ramificada, salvo que existe al menos un triple enlace entre dos atomos de carbono. Por consiguiente, los grupos alquinilo tienen de 2 a aproximadamente 20 atomos de carbono, y generalmente de 2 a 12 carbonos o, en algunas realizaciones, de 2 a 8, 2 a 6, o 2 a 4 atomos de carbono. Los ejemplos incluyen, pero no se limitan a -C=CH, -C=C(CH3), -C=C(CH2CH3), -CH2CECH, -CH2CeC(CH3) y -CH2CEC(CH2CH3), entre otros. Los grupos alquinilo sustituidos representativos pueden ser mono-sustituidos o sustituidos mas de una vez, tal como, pero sin limitarse a, mono-, di- o tri-sustituidos con sustituyentes tales como aquellos enumerados anteriormente.
Los grupos arilo, o areno, son hidrocarburos aromaticos dclicos que no contienen heteroatomos. Los grupos arilo incluyen sistemas de anillo monodclico, bidclico o polidclico. Por consiguiente, los grupos arilo incluyen, pero no se limitan a, grupos fenilo, azulenilo, heptalenilo, bifenilenilo, indacenilo, fluorenilo, fenantrenilo, trifenilenilo, pirenilo, naftacenilo, crisenilo, bifenilo, antracenilo, indenilo, indanilo, pentalenilo, y naftilo. En algunas realizaciones, los grupos arilo contienen 6-14 carbonos, y en otros de 6 a 12 o incluso 6-10 atomos de carbono en porciones del anillo de los grupos. Aunque la frase “grupos arilo” incluye grupos que contienen anillos condensados, tales como sistemas de anillo aromatico-alifatico fusionado (por ejemplo, indanilo, tetrahidronaftilo, y similares), no incluye grupos arilo que tienen otros grupos, tales como grupos alquilo o halo, unidos a uno de los miembros del anillo. Mas bien, se hace referencia a los grupos tales como tolilo como grupos arilo sustituido. Los grupos arilo sustituido representativos pueden ser monosustituidos o sustituidos mas de una vez. Por ejemplo, los grupos arilo monosustituidos incluyen, pero no se limitan a, grupos fenilo o naftilo 2-, 3-, 4-, 5-, o 6-sustituidos, los cuales pueden ser sustituidos con sustituyentes tales como aquellos enumerados anteriormente.
Como se utiliza en el presente documento, los grupos tales como alquilenilo, arilenilo, aralquilenilo, se refiere a grupos que tienen dos puntos de union. Un alquilenilo, se refiere a un grupo alquilo que tiene dos puntos de union. Por ejemplo, los grupos alquileno pueden incluir, pero no se limitan a metileno (-CH2-), butileno (-CH2CH2CH2CH2-; - CH2CH(CH3)CH2-; -CH(CH3CH2)CH2-) y similares para otros grupos a base de alquilo. Un arilenilo es un grupo arilo que tiene dos puntos de union. Por ejemplo, uno de tales grupos es un grupo -C6H4-. Un grupo aralquilenilo es un grupo arilo con un grupo alquileno. Por ejemplo, uno de tales grupos es -C6H4CH2- . El significado de los otros grupos se entiende que sera similar.
“Alcoxi” se refiere al grupo -O-alquilo en el que alquilo esta definido en el presente documento. Alcoxi incluye, a modo de ejemplo, metoxi, etoxi, n-propoxi, isopropoxi, n-butoxi, f-butoxi, sec-butoxi y n-pentoxi.
En general, una composicion de revestimiento a base de agua que comprende una fase continua que comprende agua y un sistema de reticulacion doble, en el que: el sistema de reticulacion doble comprende: un polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico, en el que el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico es una resina soluble en alcali; una policarbodiimida; un polfmero de latex funcionalizado con ceto y una dihidrazida y la composicion de revestimiento a base de agua experimenta un aumento de la viscosidad inferior al 25% despues de 5 dfas de almacenamiento en un recipiente cerrado en condiciones ambientales. El sistema se puede utilizar en tintas y revestimientos y proporciona propiedades de resistencia qmmica mejoradas sobre sistemas previos. En una
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realizacion preferida del sistema de reticulacion doble, un latex con funcionalidad diacetona acrilamida (DAAM) es reticulado mediante la adicion de dihidrazida ad^pica (ADH), en la presencia de una resina de soporte que tiene funcionalidad acida la cual es reticulada con policarbodiimida (PCDI). La resina de soporte puede ser un copotimero de estireno-(met)acrilato-acido (met)acnlico que es neutralizado con una base para formar una solucion de potimero soluble en agua. La solucion de potimero con funcionalidad acido carboxflico soluble en agua, se anade a continuacion durante el procedimiento de emulsion principalmente como un tensioactivo polimerico para proporcionar estabilidad al sistema. Por consiguiente, existen dos compuestos reticulantes que estan presentes en el sistema, el compuesto DAAM-ADH que reticula las particulas de latex y el compuesto PCDI-acido que reticula el tensioactivo polimerico con funcionalidad acida. El sistema permite la reticulacion inter- e intra-particula simultaneamente y es mas eficiente que cada uno de los sistemas de reticulacion individuales. Adicionalmente, la cinetica de cada sistema de reticulacion individual es diferente, conduciendo a periodos ajustables de curado y secado para tintas y revestimientos.
Como se utiliza en el presente documento, el termino monomero (met)acrilico se refiere a acido acnlico o metacnlico, esteres de acido acnlico o metacnlico, y sales, amidas y otros derivados adecuados de acido acnlico o metacnlico, y mezclas de los mismos. Los ejemplos de monomeros acnlicos adecuados incluyen, sin limitacion, los siguientes esteres de metacrilato: metacrilato de metilo, metacrilato de etilo, metacrilato de n-propilo, metacrilato de n-butilo (BMA), metacrilato de isopropilo, metacrilato de isobutilo, metacrilato de n-amilo, metacrilato de n-hexilo, metacrilato de isoamilo, metacrilato de 2-hidroxietilo, metacrilato de 2-hidroxipropilo, metacrilato de N,N- dimetilaminoetilo, metacrilato de N,N-dietilaminoetilo, metacrilato de t-butilaminoetilo, metacrilato de 2-sulfoetilo, metacrilato de trifluoroetilo, metacrilato de glicidilo (GMA), metacrilato de bencilo, metacrilato de alilo, metacrilato de 2-n-butoxietilo, metacrilato de 2-cloroetilo, metacrilato de sec-butilo, metacrilato de terc-butilo, metacrilato de 2- etilbutilo, metacrilato de cinamilo, metacrilato de crotilo, metacrilato de ciclohexilo, metacrilato de ciclopentilo, metacrilato de 2-etoxietilo, metacrilato de furfurilo, metacrilato de hexafluoroisopropilo, metacrilato de metalilo, metacrilato de 3-metoxibutilo, metacrilato de 2-metoxibutilo, metacrilato de 2-nitro-2-metilpropilo, metacrilato de n- octilo, metacrilato de 2-etilhexilo, metacrilato de 2-fenoxietilo, metacrilato de 2-feniletilo, metacrilato de fenilo, metacrilato de propargilo, metacrilato de tetrahidrofurfurilo y metacrilato de tetrahidropiranilo. Los ejemplos de esteres de acrilato adecuados incluyen, sin limitacion, acrilato de metilo, acrilato de etilo, acrilato n-propilo, acrilato de isopropilo, acrilato de n-butilo (BA), acrilato de n-decilo, acrilato de isobutilo, acrilato de n-amilo, acrilato de n- hexilo, acrilato de isoamilo, acrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de 2- hidroxipropilo, acrilato de N,N-dimetilaminoetilo, acrilato de N,N-dietilaminoetilo, acrilato de t-butilaminoetilo, acrilato de 2-sulfoetilo, acrilato de trifluoroetilo, acrilato de glicidilo, acrilato de bencilo, acrilato de alilo, acrilato de 2-n-butoxietilo, acrilato de 2-cloroetilo, acrilato de sec- butilo, acrilato de terc-butilo, acrilato de 2-etilbutilo, acrilato de cinamilo, acrilato de crotilo, acrilato de ciclohexilo, acrilato de ciclopentilo, acrilato de 2-etoxietilo, acrilato de furfurilo, acrilato de hexafluoroisopropilo, acrilato de metalilo, acrilato de 3- 5 metoxibutilo, acrilato de 2-metoxibutilo, acrilato de 2-nitro-2-metilpropilo, acrilato de n-octilo, acrilato de 2-etilhexilo, acrilato de 2-fenoxietilo, acrilato de 2-feniletilo, acrilato de fenilo, acrilato de propargilo, acrilato de tetrahidrofurfurilo y acrilato de tetrahidropiranilo.
Se proporciona un sistema de revestimiento de curado doble. El sistema de curado doble incluye una combinacion de una emulsion soportada en un potimero con funcionalidad ceto a base de agua y una dihidrazida; y un potimero de soporte con funcionalidad acido carboxflico y una solucion de policarbodiimida. En el sistema, el revestimiento se prepara mezclando el potimero con funcionalidad ceto a base de agua y el potimero de soporte con funcionalidad acido carboxtiico, seguido de la adicion de las soluciones de policarbodiimida y dihidrazida para preparar la composicion de revestimiento. Cuando el revestimiento es una tinta, se puede anadir una dispersion de pigmento a base de agua a la emulsion soportada en el potimero con funcionalidad ceto, o a la mezcla de potimero con funcionalidad ceto/policarbodiimida. El revestimiento se aplica a continuacion a un sustrato como una peticula y la peticula se deja curar a temperatura ambiente o temperaturas elevadas. Las tintas de curado doble y los revestimientos exhiben excelentes propiedades de resistencia a un coste economico, y exhiben buenas caractensticas de resolubilidad en la impresion. Los revestimientos y tintas descritos son utiles en las operaciones de impresion flexograficas y de huecograbado, y son particularmente adecuados para la impresion en envases flexibles.
Sin desear quedar ligado a teona alguna, se cree que la emulsion a base de agua, la cual incluye un latex funcionalizado con ceto y un coloide protector con funcionalidad acido, reacciona con un componente de dihidrazida para reticular los grupos ceto del latex, mientras que el coloide protector se reticula con la policarbodiimida. En una realizacion ilustrativa, una emulsion a base de agua, la cual incluye un latex con funcionalidad diacetona-acrilamida (DAAM) y un coloide protector con funcionalidad acido, reacciona con la dihidrazida adfpica (ADH) a temperatura ambiente para que ocurra la reticulacion de DAAM-ADH. Una policarbodiimida (PCDI) se anade a continuacion para reticular los grupos acidos del coloide protector. El sistema de reticulacion doble permite la reticulacion inter-particula e intra-particula simultanea, y por lo tanto funciona mas eficientemente que cada sistema de reticulacion individual. El sistema de reticulacion doble se puede utilizar para la reticulacion de revestimientos y tintas a base de agua de alto rendimiento qmmico, los cuales exhiben una excelente resistencia al frotamiento y resistencia a las manchas en soluciones acuosas y basicas tales como amomaco, solucion limpiadora Windex®, etanol, y similares. Las impresiones tambien tienen una excelente resistencia al arrugamiento por el fno y resistencia a alcalis.
Las dispersiones preparadas usando las emulsiones anteriores requieren cantidades relativamente bajas de reticulantes (policarbodiimidas) para formar tintas y revestimientos resistentes para diversos sustratos incluyendo
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pelmulas polimericas. Las tintas que contienen las emulsiones pueden ser metacrilato, esteres de vinilo, cloruro de vinilo o mezclas de dos o mas de tales monomeros. En algunas realizaciones, el polfmero de soporte con funcionalidad acido carbox^lico incluye monomeros polimerizados de metacrilato de etilo, metacrilato de metilo, acrilato de butilo, metacrilato de butilo, acrilato de 2-etilhexilo, acrilato de etilo, acetato de vinilo, acrilato de metilo, metacrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de glicidilo, metacrilato de glicidilo o mezclas de cualquiera de dos o mas de dichos monomeros. En una realizacion, el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico incluye monomeros polimerizados de acido acnlico, metacrilato de etilo, metacrilato de metilo, acrilato de butilo, metacrilato de butilo, acrilato de 2-etilhexilo, acrilato de etilo, acetato de vinilo, acrilato de metilo, metacrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de glicidilo, metacrilato de glicidilo, estireno, metilestireno, alfa- metilestireno o una mezcla de cualquiera de dos o mas de dichos monomeros. En una realizacion, el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico es un copolfmero que comprende estireno, metacrilato de metilo y acido acnlico.
El polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico tendra generalmente un peso molecular promedio en numero de 500 a 100.000 g/mol. En una realizacion, el peso molecular promedio en numero es de 2.000 a 10.000 g/mol. En una realizacion, el peso molecular promedio en numero es de 500 a 20.000 g/mol. En una realizacion, el peso molecular promedio en numero es de 500 a 5.000 g/mol. Ejemplos de polfmeros de soporte con funcionalidad acido carboxflico y su preparacion pueden encontrarse en, por ejemplo, la patente US-4.820.762.
El soporte con funcionalidad acido carboxflico puede tener un mdice de acidez superior a 20. En algunas realizaciones, el mdice de acidez es superior a 30. Aunque un lfmite superior no esta particularmente limitado, en algunas realizaciones, mdice de acidez puede ser de aproximadamente 20 a 150, o de 30 a 150.
El polfmero de latex funcionalizado con ceto descrito anteriormente puede prepararse a partir de diferentes monomeros con funcionalidad ceto. Por ejemplo, el latex funcionalizado con ceto puede incluir unidades monomericas tales como, pero sin limitarse a, acrolema, metacrolema, formilestireno, un compuesto que tiene un grupo (met)acriloMo y un grupo ceto (por ejemplo, un grupo acetilo) en la molecula o un vinilo alquil cetona. Por ejemplo, tales cetomonomeros incluyen diacetona acrilamida, diacetona metacrilamida, diacetona acrilato, diacetona metacrilato, acetoacetoximetilo (met)acrilato, 2-(acetoacetoxi)etilo
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Enamina
Imina
(CH2)4
(CH2)4
Reordenacion
Esquema 1
ch24
Base
Esquema 2
HO
N N
como coloides protectores para proporcionar una buena resolubilidad en la impresion. Las propiedades de resistencia de la tinta coinciden con las de los sistemas de reticulacion de poliaziridina dobles, pero sin el uso de
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poliaziridinas altamente toxicas.
En un aspecto, se proporcionan emulsiones como parte del sistema de reticulacion doble descrito anteriormente. Las emulsiones incluyen una fase continua que incluye agua y un polfmero de soporte con funcionalidad acido carbox^lico; que es una resina soluble en alcali, una policarbodiimida; y un poKmero de latex con funcionalidad ceto soluble. Las emulsiones se preparan cargando un polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico neutralizado disuelto en agua a un reactor (por ejemplo, el primer recipiente). Desde un segundo recipiente, una solucion de un monomero de (met)acrilato y un monomero estirenico tambien se cargan en el reactor. Desde un tercer recipiente, una solucion acuosa de acrilamida tambien se carga en el reactor. La mezcla de los reactantes se agita a continuacion a una temperatura y durante un tiempo suficiente para que los reactantes se combinen y formen una emulsion soportada en un polfmero. Como se utiliza en el presente documento, los recipientes pueden ser lmeas de alimentacion al reactor principal, donde los ingredientes en cada uno de los recipientes se mezclan en lmea antes de entrar en el reactor. Como alternativa, en lugar de anadir la solucion de acrilamida desde un tercer recipiente durante la reaccion, la acrilamida se puede anadir a la carga inicial del reactor con el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico neutralizado, o la acrilamida se puede anadir despues de preparar la emulsion. Despues de la preparacion de la emulsion soportada en el polfmero, ya sea a la temperatura de reaccion o despues del enfriamiento, se anaden una dihidrazida y una base a la emulsion antes de la aplicacion a un sustrato.
En la reaccion, los monomeros de (met)acrilato forman una emulsion de polfmero de latex con funcionalidad ceto con el monomero estirenico. La dihidrazida reacciona despues con los grupos ceto del polfmero de latex con funcionalidad ceto en una forma de reticulacion para curar la emulsion/revestimiento en un sustrato. En
consecuencia, esta es la primera de las reticulaciones dobles (vease el Esquema de reaccion 1 a continuacion, que
ilustra lo que se cree que es la trayectoria de reaccion a tal reaccion de reticulacion). La segunda reticulacion es la reaccion de la policarbodiimida con los grupos acidos residuales en el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico (vease el Esquema de reaccion 2 a continuacion, que ilustra lo que se cree que es la trayectoria de reaccion para la reticulacion de policarbodiimida). La adicion de la policarbodiimida se puede realizar en conjunto con o despues de la incorporacion de un pigmento en la emulsion para preparar una tinta, si se prepara una tinta. Por consiguiente, tanto con funcionalidad ceto (Esquema de reaccion 1) como con funcionalidad acido carboxflico (Esquema de reaccion 2) en los polfmeros, se puede lograr un sistema de reticulacion doble para proporcionar revestimientos y tintas con excelentes propiedades de resistencia y buenas caractensticas de resolubilidad, en particular con respecto a las aplicaciones de sustratos flexibles.
Cuando se preparan como un revestimiento o tinta, las emulsiones pueden incluir un iniciador para facilitar el curado de la emulsion en un revestimiento o tinta curados y secados. Tales iniciadores pueden incluir aquellos que son
solubles en agua para mezclar y combinar con las emulsiones. El iniciador puede ser un iniciador termico.
Iniciadores adecuados incluyen, pero no se limitan a, 2,2'-azodi-(2,4-dimetilvaleronitrilo); 2,2'-azobisisobutironitrilo (AIBN); 2,2'-azobis(2-metilbutironitrilo); 1,1'-azobis (ciclohexano-1-carbonitrilo); perbenzoato de butilo terciario; carbonato de terc-amilperoxi-2-etilhexilo; 1,1-bis(terc-amilperoxi)ciclohexano, terc-amilperoxi-2-etilhexanoato, terc- amilperoxiacetato, terc-butilperoxiacetato, terc-butilperoxibenzoato (TBPB), 2,5-di-(terc-butilperoxi)dimetilhexano, peroxido de di-terc-amilo (DTAP); di-terc-butilperoxido (DTBP); peroxido de laurilo; peroxido de dilaurilo (DLP), peroxido de acido succmico o peroxido de benzoflo. En algunas realizaciones, el iniciador de la polimerizacion incluye 2,2'-azodi-(2,4-dimetilvaleronitrilo); 2,2'-azobisisobutironitrilo (AIBN) o 2,2'-azobis(2-metilbutironitrilo). En otras realizaciones, el iniciador de polimerizacion incluye peroxido de di-terc-amilo (DTAP); di-terc-butilperoxido (DTBP); peroxido de laurilo; peroxido de acido succmico; o peroxido de benzoflo.
El polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico es una resina soluble en alcali. En otras palabras, el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico reacciona con materiales alcalinos para formar sales de iones en los grupos carboxilato del polfmero, mejorando asf las caractensticas de solubilidad en agua del polfmero. Los polfmeros de soporte de acido carboxflico adecuados incluyen, pero no se limitan a los preparados a partir de monomeros tales como acido acnlico, acido metacnlico, acido itaconico, acido maleico, acido fumarico, acido crotonico, antndrido acnlico, antndrido metacnlico, antndrido itaconico, antndrido maleico, antndrido fumarico, antndrido crotonico, estireno, metilestireno, alfa-metilestireno, etilestireno, isopropilestireno, terc-butilestireno, metacrilato de etilo, metacrilato de metilo, acrilato de butilo, metacrilato de butilo, acrilato de 2-etilhexilo, acrilato de etilo, acetato de vinilo, acrilato de metilo, dienos conjugados de cadena abierta, metacrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de metilol, acrilato de glicidilo, (met)acrilato de glicidilo, acrilato de 2-acetoacetoxipropilo, vinil metil cetona, vinil etil cetona y vinil isobutil cetona, acetoacetato de alilo, acetoacetato de vinilo o acetoacetamida de vinilo. En una realizacion, el polfmero de latex funcionalizado con ceto incluye diacetona acrilamida.
Las dihidrazidas ilustrativas que se pueden usar en la preparacion de las emulsiones para las tintas incluyen las representadas por la Formula I:
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En la Formula I, R1 es alquilenilo, cicloalquilenilo, arilenilo, alquilarilo, alquilarilalquilo, heterociclilenilo, alquilheterociclilo, alquilheterociclilalquilo, heteroarilenilo, alquilheteroarilo o alquilheteroarilalquilo. En algunas realizaciones, R1 es un alquilenilo sustituido o no sustituido. En alguna realizacion, R1 es un alquilo C1-C20. Una 5 dihidrazida ilustrativa es dihidrazida adfpica.
En las emulsiones anteriores, la policarbodiimida puede estar representada por la Formula II:
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En la Formula II, R2 es alquilenilo, cicloalquilenilo, arilenilo, aralquilenilo, heteroarilenilo, heteroarilalquilenilo, heterociclilenilo o heterociclilalquilenilo, o cualquiera de los anteriores que opcionalmente incluye uno o sustituyentes 10 tales como CN, NO2, F, Br, Cl, I, sulfuros, aminas, grupos alcoxi y grupos ariloxi. Por ejemplo, R2 puede ser un alquilenilo C1-C20, bencilenilo, fenilenilo o perhalofenilenilo, o en algunas realizaciones, R2 es alquilenilo C1-C10 o cicloalquilalquenilo C1-C20.
Algunos compuestos ilustrativos de Formula II incluyen donde R2 es 2,2,4-trimetilhexametileno:
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Las emulsiones luego se pueden aplicar a continuacion a un sustrato como un revestimiento. Por ejemplo, las emulsiones tambien pueden incluir pigmentos y/u otros aditivos para su uso como tintas. Los sustratos adecuados 20 incluyen, pero no se limitan a, papel, materiales cementosos, carton, tablero de fibra, madera, plasticos, metales, vidrio o ceramica.
En otro aspecto, se proporciona un procedimiento para preparar una composicion de revestimiento a base de agua. El procedimiento incluye mezclar una policarbodiimida con una emulsion soportada por un polfmero para formar una composicion de tinta. La emulsion soportada en polfmero es cualquiera de las descritas anteriormente y preparada 25 cargando un polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico neutralizado disuelto en agua a un reactor; cargar un (met)acrilato y un monomero estirenico al reactor; cargar un monomero con funcionalidad ceto disuelto en agua al reactor; cargar una dihidrazida disuelta en agua al reactor y cargar una base al reactor y agitar los componentes mediante agitacion, sacudidas u otro tipo de agitacion, a una temperatura y un penodo de tiempo suficientes para preparar la emulsion de polfmero de soporte reticulable. La dihidrazida se puede anadir como 30 solucion o como un solido.
Los monomeros de (met)acrilato son aquellos que se describen anteriormente. Por ejemplo, los monomeros de (met)acrilato adecuados pueden incluir, pero no se limitan a, acido acnlico o metacnlico, esteres de acido acnlico o metacnlico, y sales, amidas y otros derivados adecuados de acido acnlico o metacnlico, y mezclas de los mismos. Los ejemplos de monomeros acnlicos adecuados incluyen, sin limitacion, los siguientes esteres de metacrilato: 35 metacrilato de metilo, metacrilato de etilo, metacrilato de n-propilo, metacrilato de n-butilo (BMA), metacrilato de isopropilo, metacrilato de isobutilo, metacrilato de n-amilo, metacrilato de n-hexilo, metacrilato de isoamilo, metacrilato de 2-hidroxietilo, metacrilato de 2-hidroxipropilo, metacrilato de N,N-dimetilaminoetilo, metacrilato de N,N-
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Los monomeros estirenicos ilustrativos para su uso en cualquiera de los procedimientos descritos pueden incluir, pero no se limitan a, estireno y alfa-metilestireno. Las dihidrazidas ilustrativas tambien son como se describio anteriormente con referencia a la Formula I. La base puede ser cualquiera de una amplia variedad de bases, incluyendo, pero sin limitarse a, amomaco, una mono-, di-, o tri-alquil amina tal como, pero sin limitarse a, metilamina, etilamina, dimetilamina, dietilamina, trimetilamina, trietilamina, metildietilamina, etildimetilamina, piridina, piperidina, 4-metilpiperidina, diazabicicloundeceno, dimetiletanolamina, hidroxido de sodio e hidroxido de potasio.
En el procedimiento anterior, la preparacion de la emulsion soportada en el polfmero se puede realizar a temperatura ambiente o a temperatura elevada. Por ejemplo, la preparacion se puede realizar a una temperatura de aproximadamente 25 °C a aproximadamente 100 °C. En algunas realizaciones, la preparacion se realiza a una temperatura de aproximadamente 50 °C a aproximadamente 90 °C. El penodo de tiempo de la reaccion puede variar de unos pocos minutos a muchas horas. En algunas realizaciones, el penodo de tiempo es de aproximadamente 30 minutos a 4 horas. La reaccion se puede realizar en un reactor por lotes o en un reactor continuo.
El procedimiento anterior para preparar un revestimiento tambien puede incluir mezclar un pigmento con la policarbodiimida con la emulsion de polfmero de soporte reticulable. Esta etapa se puede realizar a una temperatura donde las cineticas de reaccion son favorables para la reaccion controlable eficiente. Por ejemplo, la temperatura puede estar por encima, a, o por debajo de la temperatura ambiente. En una realizacion, la temperatura esta a o por debajo de la temperatura ambiente. Las tintas, revestimientos, y emulsiones preparadas en el presente documento, exhiben estabilidad hacia el curado prematuro, de tal manera que se mantienen las buenas caractensticas de resolubilidad. Por ejemplo, las composiciones de revestimiento y tinta acuosas exhiben un aumento de menos de 25 % en la viscosidad despues de 5 dfas de almacenamiento en condiciones ambientales, cuando se almacena en un recipiente cerrado. Por lo tanto, incluso con el sistema de reticulacion doble, en condiciones ambientales, la reticulacion no progresa a una velocidad apreciable de modo que la viscosidad aumenta no aumenta en mas de 25 % durante 5 dfas. En algunas realizaciones, las composiciones de revestimiento o tinta exhiben un aumento de menos de 20 % en la viscosidad despues de 5 dfas de almacenamiento en condiciones ambientales, cuando se almacena en un recipiente cerrado. En algunas realizaciones, las composiciones de revestimiento o tinta exhiben un aumento de menos de 15 % en la viscosidad despues de 5 dfas de almacenamiento en condiciones ambientales, cuando se almacena en un recipiente cerrado. En algunas realizaciones, las composiciones de revestimiento o tinta exhiben un aumento de menos de 10 % en la viscosidad despues de 5 dfas de almacenamiento en condiciones ambientales, cuando se almacena en un recipiente cerrado. En algunas realizaciones, las composiciones de revestimiento o tinta exhiben un aumento de menos de 5 % en la viscosidad despues de 5 dfas de almacenamiento en condiciones ambientales, cuando se almacena en un recipiente cerrado. Cuanto menor sea el grado de aumento de la viscosidad, mas largo sera el penodo util de las emulsiones.
El procedimiento anterior para preparar un revestimiento tambien puede incluir aplicar la composicion de revestimiento a un sustrato y eliminar el agua para formar un sustrato revestido. El agua se puede eliminar de la composicion/emulsion a temperatura elevada tanto para facilitar el secado como para facilitar el curado del sistema de reticulacion doble. La temperatura elevada puede variar de 30 °C a 100 °C. En algunas realizaciones, la temperatura elevada es de aproximadamente 45 °C a 70 °C. En cualquiera de las realizaciones anteriores, la temperatura elevada puede ser 60 °C.
En otro aspecto, se proporciona un sustrato revestido con un revestimiento. El revestimiento es a base de cualquiera de los sistemas reticulables dobles descritos anteriormente que tienen un polfmero de latex con funcionalizado con ceto reticulable y una resina de soporte soluble en agua reticulable. El sustrato que se reviste con el revestimiento exhibe una puntuacion en la prueba de frotamiento de Sutherland de 4 o mayor para un frotamiento con Windex®. En algunas realizaciones, el revestimiento exhibe una puntuacion en la prueba de frotamiento de Sutherland de 5 para un frotamiento con Windex®. Las pruebas de frotamiento de Sutherland se describen mas adelante en los ejemplos, sin embargo, resumiendo, la prueba proporciona una medida de la integridad y adherencia del revestimiento al
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sustrato. Los sustratos adecuados incluyen, pero no se limitan a, papel, carton, madera, poKmeros, cemento, mortero, materiales cementosos, vidrio y ceramica. En una realizacion, el sustrato comprende polietileno.
Como se senalo anteriormente, las emulsiones reticulables dobles proporcionan tintas las cuales exhiben buena resolubilidad. La resolubilidad se refiere a una combinacion de las propiedades de transferencia, humectacion, adhesion y resolucion de imagen de una composicion, que se manifiesta en la capacidad de la cabeza de impresion para volver a la calidad de impresion original despues de una parada de la impresion, resolvatando la tinta de impresion seca. Las composiciones de emulsion proporcionadas en el presente documento permiten una resolubilidad mejorada respecto a otras composiciones polimericas disponibles en la actualidad para su uso en formulaciones de tinta. La resolubilidad se puede medir y cuantificar por una configuracion de impresion de huecograbado de laboratorio. Utilizando tal configuracion, la medicion de la resolubilidad es el numero de impresiones necesarias para recuperar la calidad de imagen de impresion original despues de una parada de impresion definida. Los valores de la resolubilidad pueden variar desde un mmimo teorico de 1 impresion hasta un centenar de impresiones o incluso mas. Para los fines de esta divulgacion y las reivindicaciones que siguen, la resolubilidad de una composicion se define en terminos de la siguiente “Prueba de resolubilidad”. La Prueba de resolubilidad utiliza una prensa flexografica o de huecograbado tipo Moser. Despues de alcanzar el equilibrio de impresion, la prensa se detiene durante 5 minutos, luego se reinicia y se cuenta el numero de impresiones necesarias para reproducir la calidad de impresion original. La prensa se hace funcionar a 20 metros por minuto. Se utiliza un sustrato de polietileno blanco con una tension superficial de 38-42 dinas. La tinta a base de agua se imprime utilizando una estacion de impresion de dos rodillos. El cilindro de huecograbado tiene 120 lmeas por cm. El rodillo de impresion tiene una dureza de 750, una presion de impresion shore de 1 bar y un area de contacto medida de 9 mm. Se utiliza un tratamiento corona en lmea de 500 W. La impresion se hace en una habitacion de clima controlado mantenida a una humedad relativa de 50 % y 22 °C. Despues de la estacion de impresion se utilizan hornos de secado controlados con termostato fijado a 60 °C.
Como medida de acuerdo con esta prueba de resolubilidad, las tintas de impresion hechas de las composiciones de emulsion anteriores, son capaces de restaurar al menos 95 % de la calidad de la imagen de impresion original en 100 impresiones o menos. Esto incluye realizaciones donde las tintas de impresion hechas de las composiciones de emulsion son capaces de restaurar al menos 95 % de la calidad de la imagen de la impresion original en 75 impresiones, o menos. Esto incluye realizaciones donde las tintas de impresion hechas de las composiciones de emulsion son capaces de restaurar al menos 95 % de la calidad de la imagen de impresion original en 50 impresiones, o menos. Esto incluye ademas realizaciones donde las tintas de impresion hechas de las composiciones de emulsion son capaces de restaurar completamente la calidad de la imagen de impresion original en menos de o igual a 100 impresiones. Esto incluye ademas realizaciones donde las tintas de impresion hechas de las composiciones de emulsion son capaces de restaurar por completo la calidad de la imagen de impresion original en 10 a 80 impresiones. Esto incluye ademas realizaciones donde las tintas de impresion hechas de las composiciones de emulsion son capaces de restaurar por completo la calidad de la imagen de impresion original en 5 a 35 impresiones. Esto incluye ademas realizaciones donde las tintas de impresion hechas de las composiciones de emulsion son capaces de restaurar por completo la calidad de la imagen de impresion original en 25 a 35 impresiones.
La presente tecnologfa, generalmente descrita asf, se entendera mas facilmente haciendo referencia al siguiente ejemplo, el cual se proporciona a modo de ilustracion y no se pretende que limite la presente tecnologfa.
Ejemplos
Ejemplo 1. Smtesis general de emulsiones con funcionalidad DAAM preparadas utilizando emulsiones de RC. Un oligomero de grado solido (SGO, el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico el cual es un polfmero soluble en agua) se anade a un reactor con agua. El SGO es generalmente alrededor de 30 % en peso de solidos polimericos SGO neutralizados por el amomaco en el agua. El mdice de acidez del SGO vana desde 20-150. La relacion entre los solidos de sGo y los solidos de lotes totales vana de entre 1 % en peso a 30 % en peso. La diacetona acrilamida (DAAM) se anade como una coalimentacion junto con monomeros tales como estireno y acrilatos/metacrilatos al reactor. La relacion de DAAM vana de 0,5 % a 5 % de solidos de lotes totales.
Ejemplos 2A y 2B. Preparacion de una solucion de SGO. Los ejemplos 2A y 2B son soluciones de un polfmero con funcionalidad acido con diferentes grados de neutralizacion (por ejemplo, se anaden diferentes niveles de amomaco).
Ejemplo 2A. Una resina de copolfmero (28,26 g; copolfmero de acrilato de n-butilo (14 %), estireno (27 %), metacrilato de metilo (49 %) y acido acnlico (10 %)) se disuelve en agua desionizada (70,10 g). La mezcla se calienta a 60 °C, con agitacion. A la mezcla calentada se anade una solucion al 30 % en peso de amomaco en agua (1,64 g), durante un penodo de 14 minutos, con agitacion. La mezcla se calienta a continuacion a 80 °C durante 2 horas, hasta que toda la resina se haya disuelto en el agua. La solucion de resina de SGO resultante se enfna a continuacion a temperatura ambiente. La solucion es un lfquido ligeramente turbio. La solucion de resina tiene un contenido de solidos de 28,0 % en peso; un pH de 7,80; una Tg de 65 °C y un mdice de acidez de 75.
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Ejemplo 2B. Una resina de copoKmero (30,00 g; copoKmero de acrilato de n-butilo (14 %), estireno (27 %), metacrilato de metilo (49 %) y acido acnlico (10 %)) se disuelve en agua desionizada (68,80 g). La mezcla se calienta a 60 °C, con agitacion. A la mezcla calentada se anade una solucion al 30 % en peso de amomaco en agua (1,40 g), durante un penodo de 14 minutos, con agitacion. La mezcla se calienta a continuacion a 80 °C durante 2 horas, hasta que toda la resina se haya disuelto en el agua. La solucion de resina de SGO resultante se enfna a continuacion a la temperatura ambiente. La solucion es un lfquido ligeramente turbio con un color rosado-azul claro. La solucion de resina tiene un contenido de solidos de 30,9 % en peso; un pH de 7,30; una Tg de 65 °C y un mdice de acidez de 75.
Ejemplos 3A-3F. Procedimientos para un sistema de emulsion reticulable doble. Los ejemplos 3A, 3B, y 3C son ejemplos de emulsiones que tienen diferentes niveles de polfmero con funcionalidad acido en el sistema utilizando la solucion de resina del Ejemplo 2A anterior, como una solucion de polfmero neutralizada. Los Ejemplos 3A, 3B, y 3C tienen 6,73 g, 13,45 g y 20,2 g de la resina del Ejemplo 2A, respectivamente. El Ejemplo 3D tiene un nivel diferente de DAAM y ADH, y se sintetizo utilizando 3,6 g de DaAM y 1,8 g de ADH. El Ejemplo 3E se preparo utilizando un tensioactivo copolimerizable ADEKA REASOAP SR-1025 (emulsionante reactivo, nombre comercial de Adeka Corp.) junto con 13,58 g de la resina del Ejemplo 2A. El Ejemplo 3F se preparo utilizando la resina del Ejemplo 2B.
Ejemplo 3A. Se cargo un reactor con agua desionizada (32,10 g), la solucion de resina del Ejemplo 2A (6,73 g), un tensioactivo [Softanol™ 120 (0,45 g)] y una solucion de NaHCO3 (10 % en peso; 0,09 g). El reactor y la mezcla se calentaron a 85 °C. En un recipiente de coalimentacion se mezclaron DAAM (1,80 g) y agua desionizada (9,46 g). Se mezclaron estireno (9,0 g) y acrilato de n-butilo (9,0 g) en un recipiente de alimentacion de monomero separado. Se anadio al reactor persulfato de amonio (0,18 g) diluido en agua desionizada (1,10 g) seguido por la adicion simultanea de la coalimentacion (alimentada durante mas de 55 minutos) y la alimentacion de monomero (alimentada durante mas de 60 minutos). Cuando finalizaron las alimentaciones, los recipientes se lavaron con agua desionizada (1,50 g para la coalimentacion, y 0,75 g para la alimentacion de monomero). A continuacion se anadio al reactor una segunda alimentacion de monomero de metacrilato de metilo (9,0 g), acrilato de n-butilo (9,0 g) y agua (0,19 g) durante 50 minutos. Se anadieron agua (13,56 g), amomaco (0,045 g) y dihidrazida de acido adfpico (0,90 g) y la mezcla se enfrio a temperatura ambiente. Se anadio a temperatura ambiente un conservante (0,15 g). La dispersion de polfmero se filtro a continuacion y se recolecto como un lfquido blanco que tiene un contenido de solidos de 39,40 % en peso, un pH de aproximadamente 8,10 y una viscosidad de aproximadamente 100 cps.
Ejemplo 3B. Se cargo un reactor con agua desionizada (25,38 g), la solucion de resina del Ejemplo 2A (13,45 g), un tensioactivo [Softanol™ 120 (0,45 g)] y una solucion de NaHCO3 (10 % en peso; 0,09 g). El reactor y la mezcla se calentaron a continuacion a 85 °C. DAAM (1,80 g) y agua desionizada (9,46 g) se mezclaron en un recipiente de coalimentacion. Se mezclaron estireno (9,0 g) y acrilato de n-butilo (9,0 g) en un recipiente de alimentacion de monomero. Se anadio al reactor persulfato de amonio (0,18 g) diluido en agua desionizada (1,10 g) seguido por la adicion simultanea de la coalimentacion (alimentada durante mas de 55 minutos) y la alimentacion de monomero (alimentada durante mas de 60 minutos). Cuando finalizaron las alimentaciones, los recipientes se lavaron con agua desionizada (1,50 g para la coalimentacion, y 0,75 g para la alimentacion de monomero). A continuacion se anadio al reactor una segunda alimentacion de monomero de metacrilato de metilo (9,0 g), acrilato de n-butilo (9,0 g) y agua (0,19 g) durante 50 minutos. Se anadieron agua (8,56 g), amomaco (0,045 g) y dihidrazida de acido adfpico (0,90 g) y la mezcla se enfrio a temperatura ambiente. Se anadio a temperatura ambiente un conservante (0,15 g). La dispersion de polfmero se filtro a continuacion y se recolecto como un lfquido blanco que tiene un contenido de solidos de 43,08 % en peso, un pH de aproximadamente 7,9, y una viscosidad de aproximadamente 300 cps.
Ejemplo 3C. Se cargo un reactor con agua desionizada (18,63 g), la solucion B-82 SGO del Ejemplo 2 (20,20 g), un tensioactivo [Softanol™ 120 (0,45 g)] y una solucion de NaHCO3 (10 % en peso; 0,09 g). El reactor y la mezcla se calentaron a 85 °C. En un recipiente de coalimentacion se mezclaron DAAM (1,80 g) y agua desionizada (9,46 g). Se mezclaron estireno (9,0 g) y acrilato de n-butilo (9,0 g) en un recipiente de alimentacion de monomero. Se anadio al reactor persulfato de amonio (0,18 g) diluido en agua desionizada (1,10 g) seguido por la adicion simultanea de la coalimentacion (alimentada durante mas de 55 minutos) y la alimentacion de monomero (alimentada durante mas de 60 minutos). Cuando finalizaron las alimentaciones, los recipientes se lavaron con agua desionizada (1,50 g para la coalimentacion, y 0,75 g para la alimentacion de monomero). A continuacion se anadio al reactor una segunda alimentacion de monomero de metacrilato de metilo (9,0 g), acrilato de n-butilo (9,0 g) y agua (0,19 g) durante 50 minutos. Se anadieron agua (13,56 g), amomaco (0,045 g) y dihidrazida de acido adfpico (0,90 g) y la mezcla se enfrio a temperatura ambiente. Se anadio a temperatura ambiente un conservante (0,15 g). La dispersion de polfmero se filtro a continuacion y se recolecto como un lfquido blanco que tiene un contenido de solidos de 42,05 % en peso, un pH de aproximadamente 8,10 y una viscosidad de aproximadamente 300 cps.
Ejemplo 3D. Se cargo un reactor con agua desionizada (22,03 g), la solucion B-82 SGO del Ejemplo 2 (14,11 g), un tensioactivo [Softanol™ 120 (0,45 g)] y una solucion de NaHCO3 (10 % en peso; 0,09 g). El reactor y la mezcla se calentaron a 85 °C. En un recipiente de coalimentacion se mezclaron DAAM (1,80 g) y agua desionizada (9,46 g). Se mezclaron estireno (9,0 g) y acrilato de n-butilo (9,0 g) en un recipiente de alimentacion de monomero. Se anadio al reactor persulfato de amonio (0,18 g) diluido en agua desionizada (1,10 g) seguido por la adicion simultanea de la coalimentacion (alimentada durante mas de 55 minutos) y la alimentacion de monomero (alimentada durante mas de 60 minutos). Cuando finalizaron las alimentaciones, los recipientes se lavaron con agua desionizada (1,50 g para la coalimentacion, y 0,75 g para la alimentacion de monomero). A continuacion se anadio al reactor una segunda
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alimentacion de monomero de metacrilato de metilo (9,0 g), acrilato de n-butilo (9,0 g) y agua (0,19 g) durante 50 minutes. Se anadieron agua (13,56 g), amomaco (0,045 g) y dihidrazida de acido ad^pteo (0,90 g) y la mezcla se enfrio a temperatura ambiente. Se anadio a temperatura ambiente un conservante (0,15 g). La dispersion de polfmero se filtro a continuacion y se recolecto como un Uquido blanco que tiene un contenido de solidos de 41,2 % en peso, un pH de aproximadamente 8,0 y una viscosidad de aproximadamente 300 cps.
Ejemplo 3E. Se cargo un reactor con agua desionizada (23,58 g), la solucion B-82 SGO del Ejemplo 2 (13,45 g), un tensioactivo copolimerizable Adeka Reasoap SR1025 (0,18 g), un tensioactivo [Softanol™ 120 (0,45 g)] y una solucion de NaHCO3 (10 % en peso; 0,09 g). El reactor y la mezcla se calentaron a 85 °C. En un recipiente de coalimentacion se mezclaron DAAM (1,80 g) y agua desionizada (9,46 g). Se mezclaron estireno (9,0 g) y acrilato de n-butilo (9,0 g) en un recipiente de alimentacion de monomero. Se anadio al reactor persulfato de amonio (0,18 g) diluido en agua desionizada (1,10 g) seguido por la adicion simultanea de la coalimentacion (alimentada durante mas de 55 minutos) y la alimentacion de monomero (alimentada durante mas de 60 minutos). Cuando finalizaron las alimentaciones, los recipientes se lavaron con agua desionizada (1,50 g para la coalimentacion, y 0,75 g para la alimentacion de monomero). A continuacion se anadio al reactor una segunda alimentacion de monomero de metacrilato de metilo (9,0 g), acrilato de n-butilo (9,0 g) y agua (0,19 g) durante 50 minutos. Se anadieron agua (13,56 g), amomaco (0,045 g) y dihidrazida de acido adfpico (0,90 g) y la mezcla se enfrio a temperatura ambiente. Se anadio a temperatura ambiente un conservante (0,15 g). La dispersion de polfmero se filtro a continuacion y se recolecto como un lfquido blanco que tiene un contenido de solidos de 41,26 % en peso, un pH de aproximadamente 7,6 y una viscosidad de aproximadamente 1000 cps.
Ejemplo 3F. Procedimiento para un sistema reticulable doble. Se cargo un reactor con agua desionizada (30,08 g), la solucion SGO del Ejemplo 2B (13,58 g), un tensioactivo [Softanol™ 120 (0,45 g)] y una solucion de NaHCO3 (10 % en peso; 0,09 g). El reactor y la mezcla se calentaron a 85 °C. En un recipiente de coalimentacion se mezclaron DAAM (1,817 g) y agua desionizada (9,545 g). Se mezclaron estireno (9,1 g) y acrilato de n-butilo (9,1 g) en un recipiente de alimentacion de monomero. Se anadio al reactor persulfato de amonio (0,18 g) diluido en agua desionizada (1,106 g) seguido por la adicion simultanea de la coalimentacion (alimentada durante mas de 55 minutos) y la alimentacion de monomero (alimentada durante mas de 60 minutos). Cuando finalizaron las alimentaciones, los recipientes se lavaron con agua desionizada (1,51 g para la coalimentacion, y 0,76 g para la alimentacion de monomero). A continuacion se anadio al reactor una segunda alimentacion de monomero de metacrilato de metilo (9,1 g) y estireno (9,1 g) durante 50 minutos. Despues de enfriar a temperatura ambiente, se anadieron agua (3,46 g), amomaco (0,17 g) y dihidrazida de acido adfpico (0,91 g). La dispersion de polfmero se filtro a continuacion y se recolecto como un lfquido blanco que tiene un contenido de solidos de 43,0 % en peso, un pH de aproximadamente 7,8 y una viscosidad de aproximadamente 800 cps
Ejemplo 4. Preparacion de tinta. La emulsion funcional de DAAM preparada en el Ejemplo 3F, se mezclo con una dispersion de pigmento a base de agua para preparar una tinta. Una solucion de policarbodiimida (dispersada en agua) se anadio a continuacion a la tinta antes de la aplicacion sobre un sustrato. La tinta se aplico sobre el sustrato de polfmero y la pelteula se dejo curar a temperatura ambiente o temperaturas elevadas. La tinta se extiende generalmente utilizando un probador manual sobre un sustrato de polipropileno y se dejo secar durante la noche antes de la prueba para determinar las propiedades de resistencia. La resistencia de las pelteulas curadas se midio a continuacion utilizando resistencia de frotamiento a soluciones de Windex® utilizando una prueba de frotamiento de Sutherland. La emulsion con el DAAM anadido proporciono una calificacion de 3 o mayor (desde 3-5) debido al sistema de curado doble. Las emulsiones sin PCDl o DAAM dan una puntuacion significativamente mas baja que o igual a 3 (puntuaciones entre 1-3).
Una tinta azul se preparo mezclando dispersion de azul Flexverse III BGD-3153 (dispersion de pigmento 15:3 de azul de ftalocianina de cobre de Sun Chemical) con la emulsion en una relacion de 35 a 65 con un dispersor de alta velocidad durante 5 minutos. A continuacion, la viscosidad de la tinta se ajusto a 100 mPa s (cps) diluyendo con una solucion de dispersion de color (35/65 de dispersion de color al agua). En un recipiente separado, una solucion de policarbodiimida (a 60 % de solidos) se preparo con agua (50/50). La solucion de policarbodiimida se mezclo a continuacion con la tinta en una relacion de 100 partes de tinta por 6 partes de policarbodiimida.
Una tinta preparada con la emulsion anterior y con PCDI anadido, se extendio sobre una pelteula de polietileno tratada con corona con un probador manual flexo (360 lmeas) y se curo en un horno a 60 °C durante 10 minutos.
Ejemplo 5. Las impresiones del Ejemplo 4 se sometieron a continuacion a una prueba de frotamiento de Sutherland y resistencia a Windex®. Para la prueba, se aplico Windex® (5 ml; sin dilucion) se aplico a una tela con blanqueador de calidad 5 que posteriormente se fijo sobre un bloque de 0,90 kg del probador de frotamiento de Sutherland, durante 15 ciclos a una velocidad N.° 1. El sustrato se clasifico de acuerdo con la eliminacion de la tinta del sustrato. La escala de puntuacion es de 1 a 5, indicando 1 que la tinta se disolvio del sustrato, un 2 indica que la tinta se suavizo y se volvio untuosa, un 3 indica que la tinta resulta aranada y se despega, un 4 indica que la tinta se estropea ligeramente y un 5 indica que no hubo efecto sobre la tinta (excelente resultado). Ver Fig. 1 para los paneles estandar en la prueba de frotamiento de Sutherland que muestra la eliminacion de la tinta.
Las pelteulas impresas con las emulsiones de tinta del Ejemplo 4 exhibieron una puntuacion de 5, mientras que otras muestras sin el PCDI exhibieron una puntuacion de 2. La Fig. 2 muestra las extensiones de las impresiones azules
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sometidas a pruebas de frotamiento de Sutherland, con tintas preparadas no utilizando PCDI anadido (A), y aquellas con reticulante de PCDI anadido al 4 % (B) y 6 % (C). La adicion de PCDI mejora claramente la resistencia al frotamiento de la tinta impresa.
Ejemplo 6. Las impresiones tambien se prepararon utilizando una prensa de Moser para determinar la resolubilidad de las emulsiones de tinta. La prensa de Moser se puede ejecutar en cualquiera de los formatos de huecograbado o impresion flexografica. Para un experimento tipico de resolubilidad, la configuracion de huecograbado es la elegida normalmente. En el experimento, la prensa de Moser, que esta equipada con un cilindro de huecograbado de 13,5 cm de diametro y 18,0 cm de ancho se hizo funcionar a una velocidad de 20 metros por minuto y la temperatura del horno es 60 °C.
La resolubilidad se realizo mediante el recuento del numero de impresiones que se necesitan para recuperar la calidad de impresion original despues de la parada de la prensa durante cinco minutos. La calidad de impresion se determino mediante un juicio visual. La Fig. 3 es un ejemplo de impresiones despues del reinicio a 1 impresion (A) y a 10 impresiones (B). El area resaltada en la impresion es el area no sumergida cuando la prensa se detuvo y se examino. Es el area de interes para verificar la capacidad de una tinta para recuperar su densidad de color antes de la suspension del procedimiento de impresion. Las emulsiones descritas anteriormente proporcionan una resolubilidad de menos de 30 impresiones, de acuerdo con el ensayo de prensa de Moser, mientras que las muestras de control sin el sistema de reticulacion doble requieren mas de 100 impresiones para volver a la calidad de la impresion original.
Tabla 1: Comparacion de las emulsiones DAAM-ADH con otros tipos de sistemas de curado de tinta.
Tecnologfa
DAAM/ADH1 Control 12 Control 22
Resistencia a Windex®3
5 1 5
Ensayo de prensa de Moser
Resolubilidad4
<30 >100 >100
Estabilidad de la tinta5 % de cambio de viscosidad en 5 dfas
0 % 45 % 81 %
DAAM-ADH es la tinta preparada en el Ejemplo 4 en una pelfcula estirada, 4 pm de espesor en humedo. Ver Tabla 3 siguiente. 1 Resistencia a una tinta extendida medida mediante la prueba de frotamiento de Sutherland en una escala de 1-5. 2 La resolubilidad se mide mediante la prueba de impresion Moser, donde el numero es el numero de impresiones despues de una parada programada para regresar a la calidad de impresion completa. 3 La estabilidad de la tinta se da como un % de cambio de viscosidad despues de 5 dfas.
Tabla 2: Composicion de emulsiones de tinta de control
Control 1 ( %) Control 2 ( %)
% de solidos
48,9 48,9
Dispersion de resina y pigmento
19,6 19
Polfmero de latex
27,5 26,7
PCDI
5,1 0,0
Aziridina
0 2,9
Di(propilenglicol) dimetil eter
3,4 0,0
Agua
44,4 51,4
Total
100,0 100,0
Solidos totales
55,6 48,6
EQUIVALENTES
La presente divulgacion no se debe limitar en terminos de las realizaciones particulares descritas en esta solicitud. Muchas modificaciones y variaciones se pueden hacer sin apartarse de su espmtu y alcance, como sera evidente para los expertos en la materia. Los procedimientos y composiciones funcionalmente equivalentes dentro del alcance de la divulgacion, ademas de los enumerados en el presente documento, seran evidentes para los expertos
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en la materia a partir de las descripciones anteriores. Tales modificaciones y variaciones se pretende que entren dentro del alcance de las reivindicaciones adjuntas. La presente divulgacion se limitara solamente por los terminos de las reivindicaciones adjuntas, junto con el alcance completo de equivalentes a los que tales reivindicaciones se ajustan. Se entiende que esta divulgacion no se limita a procedimientos, reactivos, compuestos, composiciones o sistemas biologicos particulares, que pueden por supuesto variar. Tambien se debe entender que la terminologfa utilizada en el presente documento esta destinada a describir realizaciones particulares solamente, y no se pretende que sea limitante.
Como se utiliza en el presente documento, “aproximadamente” se entendera por personas con conocimientos ordinarios en la tecnica y variara en cierta medida dependiendo del contexto en el que se utiliza. Si hay usos del termino que no estan claros para los expertos con conocimientos ordinarios en la materia, dado el contexto en el que se utiliza, “aproximadamente” significara hasta mas o menos 10 % del termino particular.
El uso de los terminos “uno” y “una” y “el” y “la” y referentes similares en el contexto de la descripcion de los elementos (sobre todo en el contexto de las siguientes reivindicaciones) se debe interpretar que abarca tanto el singular como el plural, a menos que se indique lo contrario en el presente documento o se contradiga claramente por el contexto. La citacion de intervalos de valores en el presente documento pretende simplemente servir como un procedimiento abreviado para referirse individualmente a cada valor separado que entra dentro del intervalo, a menos que se indique lo contrario en el presente documento, y cada valor separado se incorpora en la memoria descriptiva como si fuera citado individualmente en el presente documento. Todos los procedimientos descritos en el presente documento se pueden realizar en cualquier orden adecuado a menos que se indique lo contrario en el presente documento o se contradiga claramente por el contexto. El uso de todos y cada uno de los ejemplos, o lenguaje ejemplar (por ejemplo, “tal como”) proporcionado en el presente documento, esta destinado simplemente a esclarecer mejor las realizaciones y no supone una limitacion en el alcance de las reivindicaciones a menos que se indique lo contrario. Ningun lenguaje en la memoria descriptiva debe interpretarse como una indicacion de cualquier elemento no reivindicado como esencial.
Las realizaciones, descritas de forma ilustrativa en el presente documento pueden practicarse de manera adecuada en la ausencia de cualquier elemento o elementos, limitacion o limitaciones, no divulgados espedficamente en el presente documento. Asf, por ejemplo, las expresiones “que comprende”, “que incluye”, “que contiene”, etc. se leeran en sentido amplio y sin limitacion. Ademas, los terminos y expresiones empleados en el presente documento se han utilizado como terminos de descripcion y no de limitacion, y no hay intencion en el uso de tales terminos y expresiones de excluir ningun equivalente de las caractensticas mostradas y descritas o porciones de las mismas, pero se reconoce que son posibles varias modificaciones dentro del alcance de la tecnologfa reivindicada. Ademas, la frase “que consiste esencialmente en” se entiende que incluye los elementos enumerados espedficamente y aquellos elementos adicionales que no afectan materialmente a las caractensticas basicas y nuevas de la tecnologfa reivindicada. La frase “que consiste en” excluye cualquier elemento no especificado.
Ademas, donde las caractensticas o aspectos de la divulgacion se describen en terminos de grupos de Markush, los expertos en la materia reconoceran que la divulgacion tambien se describe de este modo en terminos de cualquier miembro individual o subgrupo de miembros del grupo de Markush.
Como se entendera por un experto en la materia, para todos y cada uno de los propositos, particularmente en terminos de proporcionar una descripcion escrita, todos los intervalos divulgados en el presente documento tambien abarcan todos y cada uno de los posibles subintervalos y combinaciones de subintervalos de los mismos. Cualquier intervalo enumerado puede ser facilmente reconocido como que describe suficientemente y que permite que el mismo intervalo sea desglosado en al menos mitades, tercios, cuartos, quintos, decimos, etc. iguales. Como un ejemplo no limitativo, cada intervalo discutido en el presente documento puede ser desglosado facilmente en un tercio inferior, tercio medio y tercio superior, etc. Como tambien entendera un experto en la materia todo lenguaje tal como “hasta”, “al menos”, “mayor que”, “menor que”, y similares, incluye el numero citado y se refiere a intervalos que pueden ser posteriormente desglosados en subintervalos como se discutio anteriormente. Por ultimo, como entendera un experto en la materia, un intervalo incluye cada miembro individual.
Todas las publicaciones, solicitudes de patente, patentes concedidas y otros documentos mencionados en esta memoria descriptiva se incorporan en el presente documento como referencia como si cada publicacion individual, solicitud de patente, patente concedida, u otro documento fuera espedfica e individualmente indicada para ser incorporada como referencia en su totalidad. Las definiciones que estan contenidas en el texto incorporado como referencia se excluyen en la medida en que contradigan las definiciones en esta divulgacion.
Aunque ciertas realizaciones se han ilustrado y descrito, se debe entender que se pueden hacer cambios y modificaciones en el presente documento de conformidad con la habilidad ordinaria en la materia sin apartarse de la tecnologfa en sus aspectos mas amplios como se define en las siguientes reivindicaciones.

Claims (14)

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    REIVINDICACIONES
    1. Una composicion de revestimiento a base de agua que comprende:
    una fase continua que comprende agua y un sistema de reticulacion doble, en la que: el sistema de reticulacion doble comprende:
    un polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico, en el que el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico es una resina soluble en alcali; una policarbodiimida;
    un polfmero de latex funcionalizado con ceto; y una dihidrazida; y
    la composicion de revestimiento a base de agua sufre un aumento de viscosidad inferior al 25 % despues de 5 dfas de almacenamiento en un recipiente cerrado en condiciones ambientales.
  2. 2. La composicion de revestimiento a base de agua de la reivindicacion 1, en la que el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico comprende monomeros polimerizados seleccionados del grupo que consiste en acido acnlico, metacrilato de etilo, metacrilato de metilo, acrilato de butilo, metacrilato de butilo, acrilato de 2-etilhexilo, acrilato de etilo, acetato de vinilo, acrilato de metilo, metacrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de glicidilo, metacrilato de glicidilo y mezclas de cualquiera de dos o mas de los mismos.
  3. 3. La composicion de revestimiento a base de agua de la reivindicacion 1, en la que el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico es un copolfmero que comprende estireno, metacrilato de metilo, acrilato de butilo y acido acnlico.
  4. 4. La composicion de revestimiento a base de agua de la reivindicacion 1, en la que el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico tiene un peso molecular medio en numero de aproximadamente 500 a 100.000 g/mol.
  5. 5. La composicion de revestimiento a base de agua de la reivindicacion 1, en la que el polfmero de latex funcionalizado con ceto comprende diacetona acrilamida, diacetona metacrilamida, acrilato de diacetona, metacrilato de diacetona, (met)acrilato de acetoacetoximetilo, (met)acrilato de 2-(acetoacetoxi)etilo, (met)acrilato de 2- acetoacetoxipropilo, butanodiol-1,4-acrilato-acetilacetato, vinil metil cetona, vinil etil cetona y vinil isobutil cetona, acetoacetato de alilo, acetoacetato de vinilo o vinil acetoacetamida.
  6. 6. La composicion de revestimiento a base de agua de la reivindicacion 1 o 5, en la que el polfmero de latex funcionalizado con ceto comprende diacetona acrilamida.
  7. 7. La composicion de revestimiento a base de agua de la reivindicacion 1, en la que la dihidrazida es un compuesto de formula I:
    imagen1
    en la que: R1 es alquileno, cicloalquileno, arileno, alquilenarileno, alquilenarilalquileno, heterociclileno, alquilenheterociclileno, alquilenheterociclilalquileno, heteroarileno, alquilenheteroarileno o alquilenheteroarilalquileno.
  8. 8. La composicion de revestimiento a base de agua de la reivindicacion 1, en la que la dihidrazida es dihidrazida adfpica.
  9. 9. La composicion de revestimiento a base de agua de la reivindicacion 1, en la que la policarbodiimida es un compuesto de formula:
    imagen2
    en la que: R es alquilenilo, arilenilo, aralquilenilo, heteroarilenilo, heteroarilalquilenilo, heterociclilenilo o heterociclilalquilenilo.
  10. 10. La composicion de revestimiento a base de agua de la reivindicacion 9, en la que R es 2,2,4- trimetilhexametileno;
    5
    10
    15
    20
    25
    30
    imagen3
    imagen4
  11. 11. La composicion de revestimiento a base de agua de la reivindicacion 1, en la que el poUmero de soporte de poKmero con funcionalidad acido carbox^lico tiene un mdice de acidez de 20 a 150.
  12. 12. Un procedimiento para preparar una composicion de revestimiento a base de agua que comprende:
    mezclar una policarbodiimida con una emulsion soportada por un polfmero reticulable para formar una composicion de tinta; en la que:
    la composicion de tinta comprende un sistema de reticulacion doble; y
    la emulsion soportada por el polfmero reticulable se prepara mediante un segundo procedimiento, comprendiendo el segundo procedimiento:
    cargar en un reactor un polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico neutralizado disuelto en agua;
    cargar en el reactor un (met)acrilato y un monomero estirenico;
    cargar en el reactor un monomero funcionalizado con ceto disuelto en agua;
    cargar en el reactor una dihidrazida disuelta en agua; y
    cargar en el reactor una base; y
    agitar el polfmero de soporte con funcionalidad acido carboxflico neutralizado, el (met)acrilato, el monomero estirenico, el monomero funcionalizado con ceto, la dihidrazida y la base a una temperatura y durante un periodo de tiempo suficientes para preparar la emulsion soportada por el polfmero reticulable.
  13. 13. El procedimiento de la reivindicacion 12, que comprende ademas: aplicar la composicion de tinta basada en agua a un sustrato y eliminar el agua para formar un sustrato revestido de tinta.
  14. 14. Un sustrato revestido con una composicion de revestimiento de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 -10, en el que:
    el sustrato revestido con la composicion de revestimiento presenta una puntuacion en la prueba de frotamiento de Sutherland con Windex® de 4 o mas;
    la prueba de frotamiento de Sutherland comprende frotar el sustrato revestido con el revestimiento con un pano empapado en blanqueador de calidad 5 y un peso de 0,90 kg durante 15 ciclos con un ajuste de velocidad de N.° 1, en presencia de Windex® en el revestimiento; y el sustrato comprende polietileno.
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