ES2672001T3 - Método para producir una placa de impresión flexográfica - Google Patents

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ES2672001T3 ES14775753.8T ES14775753T ES2672001T3 ES 2672001 T3 ES2672001 T3 ES 2672001T3 ES 14775753 T ES14775753 T ES 14775753T ES 2672001 T3 ES2672001 T3 ES 2672001T3
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Daiki YOSHIOKA
Kazuya Yoshimoto
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Abstract

Un método para producir una placa de impresión flexográfica a partir una placa original de impresión flexográfica provista de una capa de resina fotosensible que comprende una composición de resina fotosensible que contiene al menos (A) un polímero hidrofóbico que comprende un látex dispersable en agua, (B) un compuesto fotopolimerizable y (C) un iniciador de fotopolimerización, donde el método comprende un paso de exposición principal, un paso de revelado y un paso de post-exposición, caracterizado por que una disolución de tratamiento que contiene una primera silicona amino modificada que tiene un equivalente de amina de 1000 g/mol o menor y una segunda silicona amino modificada que tiene un equivalente de amina de 3000 g/mol o mayor en una proporción en masa de desde 2,5:1 hasta 1:6 se pone en contacto con toda la superficie de la placa de impresión flexográfica.

Description

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DESCRIPCION
Método para producir una placa de impresión flexográfica Campo Técnico de la Invención
La presente invención está relacionada con un método para producir una placa de impresión flexográfica que permite una impresión de alta calidad a gran escala.
Técnica Anterior
Como se menciona por ejemplo en los Documentos de Patente 1 a 3, las placas de resina fotosensible habituales para flexografía se producen por medio de pasos de exposición, de revelado y de post-exposición. Un método de impresión que utiliza la placa de resina fotosensible para flexografía es un método de este tipo en el cual se suministra tinta sobre la superficie convexa de placa de resina irregular utilizando un rodillo de suministro de tinta o similar y a continuación se pone en contacto la placa de impresión con el material sobre el que se va imprimir de modo que la tinta existente sobre la superficie convexa se transfiere al material sobre el que se va imprimir. En la flexografía como tal, durante la impresión a largo plazo a menudo se produce adhesión de la tinta a una zona de hombro de la superficie convexa de la placa de impresión o invasión por parte de la tinta de la superficie cóncava (en adelante, se le denominará “contaminación de la superficie de la placa”). Como resultado de esto, se puede imprimir incluso sobre el área que no es el área inherente del patrón, produciendo como resultado un deterioro de la calidad de impresión.
Concretamente en los últimos años, la aplicación de flexografía a una impresión muy precisa ha ido progresando y una impresión de puntos de semitono en grandes números de líneas ha sido llevada a cabo bruscamente para crear la gradación de color y de concentración. Dado que en ese caso los intervalos entre los puntos de semitono se vuelven más pequeños, la tinta tiene mayor propensión a introducirse en las partes cóncavas de los puntos de semitono de la placa de impresión. Cuando la tinta se acumula en las partes cóncavas de la placa de impresión en una cantidad predeterminada o mayor, dicha tinta se transfiere al material a imprimir para generar el sobreentintado de los puntos de trama (“dot bridging") produciendo como resultado un deterioro significativo de la calidad de impresión.
Una de las características de la flexografía es que puede manejar diferentes tipos de tinta tales como tinta acuosa, tinta alcohólica, tinta de tipo disolvente o tinta UV. Por otro lado, ha habido una demanda de impedir contaminación de la superficie de la placa incluso cuando se utiliza cualquier tipo de tinta. Es particularmente necesario impedir contaminación de la superficie de la placa incluso si se utiliza una tinta que tenga alta permeabilidad en el material de la placa tal como tinta de tipo disolvente o tinta UV.
Ya se han propuesto varios métodos relacionados con la prevención de contaminación de la superficie de la placa de una placa de impresión flexográfica. Por ejemplo, el Documento de Patente 4 describe un método en el cual se adhiere aceite de silicona, goma de silicona, barniz de silicona o compuesto de flúor, por medio de aplicación con brocha o pulverización, sobre una placa de impresión que comprende principalmente resina de poliéster. Aunque algunos efectos de prevención para contaminación de la superficie de la placa se consiguen mediante un método de este tipo, la contaminación de la superficie de la placa no se puede impedir en una impresión de puntos de semitono en grandes números de líneas que tengan intervalos estrechos entre los puntos.
En el Documento de Patente 5, se propone un método en el cual se aplica una mezcla de una resina acuosa y una emulsión acuosa de compuesto de silicona o de compuesto de flúor sobre una placa de impresión que comprende un elastómero. En este método, debido al uso de un compuesto de silicona no modificado, un efecto de prevenir la contaminación de la superficie de la placa no es suficiente.
En el Documento de Patente 6, se propone un método para poner en contacto una placa de impresión flexográfica con una disolución que contiene un compuesto de silicona modificado después del paso de exposición durante la producción de placa de impresión flexográfica. En este método, se observa una mejora en el efecto de prevención de la contaminación de la superficie de la placa debido al uso de un compuesto de silicona modificado. Sin embargo, en una impresión a largo plazo, se genera contaminación de la superficie de la placa y, su efecto de persistencia no es suficiente.
En el Documento de Patente 7, se propone un método en el cual un líquido que contiene un compuesto de silicona amino modificada se pone en contacto con una placa de impresión flexográfica que contiene látex con un grado de gelificación de 50% en masa o mayor. En este método, se puede esperar una mejora en una capacidad de impedir contaminación de la superficie de la placa debido a una interacción del compuesto de silicona amino modificada con el látex gelificado y/o debido a una interacción del compuesto de silicona amino modificada con un emulsionante. Sin embargo, el método no satisface ni la prevención de la contaminación de la superficie de la placa ni la persistencia de la misma, por lo cual no es suficiente para una impresión de alta calidad a gran escala.
En el Documento de Patente 8, se propone un método en el cual un compuesto de organosilicio está contenido en una placa de impresión flexográfica. En este método, un ingrediente repelente de tinta está contenido en una
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composición de resina y, en comparación con un método en el cual un ingrediente repelente de tinta es puesto en contacto con una superficie de la placa, se consigue un mejor efecto de persistencia. Sin embargo, el contenido del compuesto de organosilicio en la composición de resina para la placa de impresión es tan pequeño como desde el 0,05% en masa hasta el 1,0% en masa y la cantidad del ingrediente repelente de tinta existente sobre la superficie de la placa de impresión es pequeña. Por lo tanto, no se puede decir que la capacidad de impedir contaminación de la superficie de la placa sea satisfactoria.
Documentos de la Técnica Anterior
Documentos de Patente
Documento de Patente 1: Solicitud de Patente Japonesa Abierta a Inspección Pública (JP-A) N° 171111/98
Documento de Patente 2: Solicitud de Patente Japonesa Abierta a Inspección Pública (JP-A) N° 88555/88
Documento de Patente 3: Solicitud de Patente Japonesa Abierta a Inspección Pública (JP-A) N° 134410/93
Documento de Patente 4: Solicitud de Patente Japonesa Abierta a Inspección Pública (JP-A) N° 47805/76
Documento de Patente 5: Solicitud de Patente Japonesa Abierta a Inspección Pública (JP-A) N° 2002-292985
Documento de Patente 6: WO 2005/064413 Documento de Patente 7: WO 2011/081084 Documento de Patente 8: WO 2007/116941
Exposición de la Invención
Problema que debe resolver la Invención
La presente invención ha sido creada en vista del estado actual de la técnica anterior mencionada anteriormente y su objeto es proporcionar un método para producir una placa de impresión flexográfica que tiene una capacidad de impedir contaminación de la superficie de la placa y una persistencia del efecto de la misma y que permite una impresión de alta calidad a gran escala.
Medios para resolver el Problema
Los presentes inventores han realizado investigaciones entusiastas para conseguir el citado objeto y, como resultado de ello, han encontrado que el objeto anterior se puede conseguir cuando una disolución de tratamiento que contiene dos tipos de siliconas amino modificadas que tienen equivalentes de amina específicos se pone en contacto con toda la superficie de una placa de impresión de resina de una placa original de impresión flexográfica, por lo cual han conseguido la presente invención.
De esta manera, la constitución de la presente invención es como se menciona en los siguientes (1) a (3).
(1) Un método para producir una placa de impresión flexográfica a partir de una placa original de impresión flexográfica provista de una capa de resina fotosensible que comprende una composición de resina fotosensible que contiene al menos (A) un polímero hidrofóbico que comprende un látex dispersable en agua, (B) un compuesto fotopolimerizable y (C) un iniciador de fotopolimerización, donde el método comprende un paso de exposición principal, un paso de revelado y un paso de post-exposición, caracterizado por que una disolución de tratamiento que contiene una primera silicona amino modificada que tiene un equivalente de amina de 1000 g/mol o menor y una segunda silicona amino modificada que tiene un equivalente de amina de 3000 g/mol o mayor en una relación másica de desde 2,5:1 hasta 1:6 se pone en contacto con toda la superficie de la placa de impresión flexográfica.
(2) El método para producir una placa de impresión flexográfica de acuerdo con (1), en el cual se lleva a cabo contacto de la disolución de tratamiento por medio de aplicación de la disolución de tratamiento a la superficie de la placa de impresión o por medio de inmersión de la placa de impresión en la disolución de tratamiento.
(3) El método para producir una placa de impresión flexográfica de acuerdo con (1) ó (2), en el cual se lleva a cabo contacto de la disolución de tratamiento después del paso de revelado e inmediatamente antes del paso de post-exposición.
Ventajas de la Invención
En el método para producir una placa de impresión de acuerdo con la presente invención, la superficie de una placa de impresión de resina se trata con una disolución de tratamiento que contiene dos tipos específicos de siliconas amino modificadas por lo cual se puede dar a la placa de impresión una excelente capacidad de impedir contaminación de la superficie de la placa y una persistencia del efecto del mismo. Como resultado de la utilización de una placa de impresión flexográfica producida mediante el método de producción de acuerdo con la presente invención, no se produce en mucho tiempo una contaminación de la superficie de la placa y se puede llevar a cabo una impresión estable de alta calidad a gran escala.
Mejor modo de llevar a cabo la Invención
En el método para producir una placa de impresión de acuerdo con la presente invención, se produce una placa de impresión flexográfica a partir de una placa original de impresión flexográfica provista de una capa de resina fotosensible que comprende una composición de resina fotosensible que contiene al menos (A) un polímero hidrofóbico que comprende un látex dispersable en agua, (B) un compuesto fotopolimerizable y (C) un iniciador de
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fotopolimerización, donde el método comprende un paso de exposición principal, un paso de revelado y un paso de post-exposición.
En primer lugar, se proporcionará una explicación para una composición de resina fotosensible que constituye la capa de resina fotosensible de la placa original de impresión. La composición de resina fotosensible de la presente invención contiene como ingredientes esenciales (A) un polímero hidrofóbico que comprende un látex dispersable en agua, (B) un compuesto fotopolimerizable y (C) un iniciador de fotopolimerización.
En cuanto al ingrediente (A) (un polímero hidrofóbico que comprende un látex dispersable en agua), se pueden utilizar uno o más tipos del mismo. En concreto para una impresión de alta calidad que sea excelente en la reproducción de imágenes pequeñas, se prefiere utilizar dos o más tipos. Cuando se utilizan dos o más tipos de látices, se pueden conseguir tanto la propiedad de posibilidad de revelado en agua de la parte no expuesta de la placa original de impresión como la resistencia al agua de la parte expuesta de la misma, y es posible producir una placa de impresión flexográfica para una impresión de alta calidad que sea excelente en la reproducción de imágenes pequeñas. Como ingrediente (A), se puede seleccionar de forma apropiada un látex de entre látices convencionales. Por ejemplo, se puede utilizar un látex de polibutadieno, un látex de copolímero de estireno- butadieno, un látex de copolímero de acrilonitrilo-butadieno, un látex de copolímero de metacrilato de metilo- butadieno, etc. Además, estos látices pueden haber sido modificados con (met)acrilato, carboxi, silicona, flúor, etc. En este caso, debido a que una variedad de látex sintético y de látex natural están disponibles en el mercado como látices dispersables en agua, se puede seleccionar uno apropiado de entre ellos.
Entre los anteriores, se utiliza preferiblemente un polímero hidrofóbico que comprende un látex dispersable en agua que contiene un esqueleto de butadieno en una cadena molecular en vista de dureza y elasticidad de caucho. Para ser más específicos, se prefieren un látex de polibutadieno y un látex de copolímero de acrilonitrilo-butadieno. La cantidad de combinación del ingrediente (A) en la composición de resina es preferible que sea del 40 al 80% en masa. Cuando es menor que el 40% en masa, la resistencia como placa de impresión es insuficiente, por lo cual eso no se prefiere. Cuando supera el 80% en masa, un paso de revelado en agua consume mucho tiempo, por lo cual eso no se prefiere.
El ingrediente (B) (un compuesto fotopolimerizable) tiene una función de polimerizar y reticular por irradiación con luz, formando de este modo una red densa en una placa de impresión para conservación de la forma. Preferiblemente, el compuesto (B) fotopolimerizable comprende un oligómero fotopolimerizable. Un oligómero fotopolimerizable es un polímero en el cual un grupo insaturado etilénico se une a una cadena terminal y/o lateral de un polímero conjugado basado en dieno y el cual preferiblemente tiene un peso molecular medio de desde 1.000 hasta 10.000.
El polímero conjugado basado en dieno está formado por un homopolímero de un compuesto insaturado de dieno conjugado o por un copolímero de un compuesto insaturado de dieno conjugado y un compuesto monoetilénicamente insaturado. Ejemplos de un copolímero de este tipo incluyen un polímero de butadieno, un polímero de isopreno, un polímero de cloropreno, un copolímero de estireno-cloropreno, un copolímero de acrilonitrilo-butadieno, un copolímero de acrilonitrilo-isopreno, un copolímero de metacrilato de metilo-isopreno, un copolímero de metacrilato de metilo-cloropreno, un copolímero de acrilato de metilo-butadieno, un copolímero de acrilato de metilo-isopreno, un copolímero de acrilato de metilo-cloropreno, un copolímero de acrilonitrilo-butadieno- estireno y un copolímero de acrilonitrilo-cloropreno-estireno. Entre estos, un polímero de butadieno, un polímero de isopreno y un copolímero de acrilonitrilo-butadieno son preferibles, y un polímero de butadieno y un polímero de isopreno son particularmente preferibles desde el punto de vista de elasticidad de caucho y fotocurabilidad.
Con respecto al compuesto fotopolimerizable, se puede utilizar, si es necesario, un monómero fotopolimerizable de uso habitual tal como el met(a)crilato además de los puestos como ejemplo anteriormente en tal medida que el efecto de la presente invención no resulta deteriorado por ello. Se prefiere que la cantidad de combinación del ingrediente (B) en la composición de resina sea de desde el 10 hasta el 45% en masa. Cuando es menor que el 10% en masa, existe un riesgo de que la tenacidad empeore. Cuando supera el 45% en masa, existe un riesgo de que la propiedad de revelado empeore.
El ingrediente (C) (iniciador de fotopolimerización) puede ser cualquier compuesto siempre que sea capaz de provocar que un grupo insaturado carbono-carbono polimerizable polimerice por irradiación con luz. Entre ellos, se utiliza preferiblemente un compuesto que tiene una función de generar un radical por medio de autodescomposición o extracción de hidrógeno provocada por absorción de luz. Ejemplos específicos de los mismos incluyen benzoin alquil éteres, benzofenonas, antraquinonas, bencilos, acetofenonas, diacetilos y similares. Se prefiere que la cantidad de combinación del ingrediente (C) en la composición de resina sea de desde el 0,1 hasta el 10% en masa. Cuando es menor que el 0,1% en masa, la eficiencia inicial decrece y la reproducibilidad de imagen es inferior. Cuando es mayor del 10% en masa, la sensibilidad se vuelve alta y el control del tiempo de exposición a la luz se vuelve difícil.
A la composición de resina fotosensible de la presente invención se le puede añadir, además de los ingredientes anteriores, un polímero hidrófilo. Los polímeros hidrófilos incluyen preferiblemente polímeros que tienen un grupo
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hidrófilo como por ejemplo -COOH, -COOM (M es un ion metálico monovalente, divalente o trivalente o un ion de amonio sustituido o no sustituido), -OH, -NH2, -SO3H y un grupo fosfato, e incluyen específicamente un polímero de ácido (met)acrílico o sales del mismo, un copolímero de ácido (met)acrílico o sales del mismo con un alquil (met)acrilato, un copolímero de ácido (met)acrílico o sales del mismo con estireno, un copolímero de ácido (met)acrílico o sales del mismo con acetato de vinilo, un copolímero de ácido (met)acrílico o sales del mismo con acrilonitrilo, alcohol polivinílico, carboximetilcelulosa, poliacrilamida, hidroxietilcelulosa, óxido de polietileno, polietileneimina, poliuretano que tiene un grupo -COOM, poliurea uretano que tiene un grupo -COOM, ácido de poliamida que tiene un grupo -COOM, y sales o derivados de los mismos. Se prefiere que la cantidad de combinación del polímero hidrófilo en la composición de resina sea del 2 al 30% en masa. Cuando es menor que el 2% en masa, existe un riesgo de que la propiedad de revelado empeore. Cuando supera el 30% en masa, existe un riesgo de que la resistencia al agua de un relieve empeore.
A la composición de resina fotosensible de la presente invención se puede añadir un inhibidor de la polimerización térmica (estabilizador) en vista de mejora de la estabilidad térmica durante el amasado, mejora de la estabilidad durante el almacenamiento, etc. La cantidad de combinación del inhibidor de polimerización térmica (estabilizador) en la composición de resina suele ser del 0,001 al 5% en masa. Con respecto al inhibidor de polimerización térmica, se puede poner como ejemplo el de tipo fenol, de tipo hidroquinona, de tipo catecol, etc.
En la composición de resina fotosensible, es posible añadir apropiadamente otros ingredientes tales como plastificante, absorbente del ultravioleta, tinte, pigmento, agente desespumante, inhibidor de agregación, compuesto de silicona, y compuesto de flúor para un objetivo de mejorar diferentes características en la medida en que los efectos de la presente invención no sean perturbados por ello.
La composición de resina fotosensible que comprende la combinación anterior se convierte en una capa de resina fotosensible para una placa original de impresión flexográfica por medio de un método conocido convencionalmente. A partir de la placa original de impresión flexográfica provista de una capa de resina fotosensible, se produce una placa de impresión flexográfica mediante los pasos que comprenden paso de exposición principal, paso de revelado y paso de post-exposición de acuerdo con el método convencionalmente conocido.
Los pasos tales como el paso de exposición principal, el paso de revelado y el paso de post-exposición se pueden llevar a cabo bajo las condiciones convencionalmente conocidas que se han utilizado en los métodos habituales para producir placas de impresión.
En cuanto a una fuente de luz para la exposición utilizada en el paso de exposición principal, cualquiera servirá siempre y cuando tenga longitudes de onda de 300 nm a 500 nm y ejemplos de la misma incluyen lámpara de mercurio de alta presión, lámpara fluorescente ultravioleta, lámpara de arco de carbono y lámpara de xenón. Aunque no existe ninguna limitación concreta para la intensidad de exposición en ese momento, un ejemplo de la misma es de 3 a 70 mW/cm2. La intensidad de exposición en ese momento es el valor obtenido por un iluminómetro UV (tipo MO-2) fabricado por la empresa Orc Manufacturing Co., Ltd. utilizando un filtro UV-35.
En cuanto a un aparato de revelado utilizado para el paso de revelado, ejemplos del mismo incluyen un aparato de revelado de tipo por lotes y un aparato de revelado automático de tipo en línea. En cuanto a un método de revelado, ejemplos del mismo incluyen un método de revelado en el cual una placa en un estado de ser sumergida en un revelador se cepilla de modo que una parte no expuesta se disuelve o se elimina por raspado y un método de revelado en el cual se rocía un revelador sobre una superficie de la placa utilizando un spray o similar y, al mismo tiempo, una parte no expuesta se disuelve o se elimina por rascado utilizando un cepillo. En cuanto a un revelador, un ejemplo del mismo es un revelador acuoso que contiene uno o más tipos de tensioactivos no iónicos, aniónicos, catiónicos o anfóteros, en el cual un ejemplo preferido es un revelador acuoso que contiene un tensioactivo aniónico aunque son no limitativos. En vista de la propiedad de revelado, también es posible que contenga un agente desespumante, un agente alcalino, etc. en su interior.
En cuanto a una fuente de luz para la exposición utilizada en el paso de post-exposición, cualquiera servirá siempre y cuando tenga longitudes de onda de 300 nm a 500 nm y ejemplos de la misma incluyen lámpara de mercurio de alta presión, lámpara fluorescente ultravioleta, lámpara de arco de carbono y lámpara de xenón. Aunque no existe ninguna limitación concreta para la intensidad de exposición en ese momento, un ejemplo de la misma es de 3 a 70 mW/cm2. La intensidad de exposición en ese momento es el valor obtenido por un iluminómetro UV (tipo MO-2) fabricado por la empresa Orc Manufacturing Co., Ltd. utilizando un filtro UV-35. La post-exposición se lleva a cabo para polimerizar/reticular la parte no expuesta lavada mediante el paso de revelado por irradiación con luz.
En cuanto a una fuente de luz para la exposición utilizada en un paso que utiliza una lámpara germicida, cualquiera servirá siempre y cuando tenga longitud de onda de 300 nm o menor y se utiliza una lámpara germicida disponible comercialmente, etc. En cuanto a la dosis de irradiación, ésta se realiza eligiendo la condición mediante la cual se consigue un efecto apropiado. Se realiza irradiación con una lámpara germicida para eliminar la pegajosidad de la superficie.
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El método para producir una placa de impresión flexográfica de acuerdo con la presente invención está caracterizado por que, en cualquiera de los pasos anteriores, una disolución de tratamiento que contiene una primera silicona amino modificada con un equivalente de amina de 1000 g/mol o menor y una segunda silicona amino modificada con un equivalente de amina de 3000 g/mol o mayor se pone en contacto con toda la superficie de la placa de impresión flexográfica. Como resultado de esto, un efecto para impedir contaminación de la superficie de la placa puede ser persistente.
La razón por la cual en la presente invención se utilizan en combinación dos tipos de siliconas amino modificadas con diferentes equivalentes de amina es la que se explica a continuación. De esta forma, aunque la primera silicona amino modificada tiene una excelente propiedad de persistencia debido a la abundancia de grupo amino (grupo catiónico; segmento químicamente absorbente) contenido en ella, su solo uso produce como resultado una propiedad de repulsión de tinta insuficiente debido a la corta longitud de cadena del grupo silicona (grupo que tiene baja tensión superficial: segmento de repulsión de tinta) contenido en ella. Aunque la segunda silicona amino modificada tiene una propiedad de repulsión de tinta excelente debido a la larga longitud de cadena del grupo silicona (grupo que tiene baja tensión superficial: segmento de repulsión de tinta) contenido en ella, su solo uso produce como resultado una propiedad de persistencia insuficiente debido a la poca cantidad de grupo amino (grupo catiónico; segmento químicamente absorbente) contenido en ella. Por consiguiente, cuando tanto la primera silicona amino modificada como la segunda silicona amino modificada se utilizan en una proporción apropiada, ellas actúan de una manera complementaria con lo cual se consigue un excelente efecto para impedir contaminación de la superficie de la placa que tiene tanto la propiedad de persistencia como la propiedad de repulsión de tinta.
Como se ha mencionado anteriormente, la primera silicona amino modificada favorece la adsorción química con la superficie de una placa de impresión flexográfica y es excelente en un efecto de persistencia. El equivalente de amina de la primera silicona amino modificada es 1000 g/mol o menor, preferiblemente desde 300 g/mol hasta 1000 g/mol, y más preferiblemente desde 320 g/mol hasta 900 g/mol.
En cuanto a la primera silicona amino modificada, se puede utilizar cualquiera de entre un tipo de cadena lateral, un tipo de dos extremos, un tipo de un extremo y un tipo de cadena lateral y dos extremos, y un ejemplo preferido es una silicona amino modificada de un tipo de cadena lateral en la cual ambos extremos están modificados por grupos alcoxi. Cuando se utiliza una silicona amino modificada de un tipo de cadena lateral en la cual ambos extremos están modificados por grupos alcoxi, una propiedad de fijación de trimetilsiloxano a la superficie de una placa de impresión flexográfica se puede mejorar aún más.
Como se ha mencionado anteriormente, la segunda silicona amino modificada se adsorbe con la superficie de una placa de impresión flexográfica y es excelente en proporcionar una propiedad de repulsión de tinta a la placa de impresión flexográfica. El equivalente de amina de la segunda silicona amino modificada es 3000 g/mol o más, preferiblemente desde 3000 g/mol hasta 10000 g/mol, y más preferiblemente desde 3000 g/mol hasta 9000 g/mol.
Con respecto a la segunda silicona amino modificada, se puede utilizar cualquiera de entre un tipo de cadena lateral, un tipo de dos extremos, un tipo de un extremo y un tipo de cadena lateral y dos extremos y un ejemplo preferido es una silicona amino modificada de un tipo de cadena lateral y un ejemplo más preferido es una silicona amino modificada de un tipo de cadena lateral en la cual ambos extremos están no modificados (es decir, ambos extremos tienen grupos metilo, grupos fenilo o átomos de hidrógeno).
Aunque no existe ninguna limitación concreta para la viscosidad dinámica de la primera silicona amino modificada y de la segunda silicona amino modificada, se prefiere que ésta sea de desde 20 hasta 5000 mm2/s y es más preferible que ésta sea de desde 40 hasta 1000 mm2/s. Cuando la viscosidad dinámica es baja, una propiedad de repulsión de tinta es insuficiente mientras que, cuando es alta, existe propensión a que se produzca una aplicación irregular.
En cuando a la silicona amino modificada, las siguientes, por ejemplo, están disponibles en el mercado.
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Nombre comercial Viscosidad dinámica (mm2/s) Equivalente de amina (g/mol) Fabricante
Primera silicona amino modificada
KF-393 70 350 Shinetsu Chemical
L-655
40 700 Wacker Asahikasei Silicone Co., Ltd.
L-656
25 800 Wacker Asahikasei Silicone Co., Ltd.
KF-857
70 830 Shinetsu Chemical
Otra silicona amino modificada
KF-8004 800 1500 Shinetsu Chemical
KF-8002
1100 1700 Shinetsu Chemical
KF-867
1300 1700 Shinetsu Chemical
WR-1600
1000 1700 Wacker Asahikasei Silicone Co., Ltd.
KF-880
650 1800 Shinetsu Chemical
KF-861
3500 2000 Shinetsu Chemical
Segunda silicona amino modificada
KF-869 1500 3800 Shinetsu Chemical
WR-1300
1000 3300 Wacker Asahikasei Silicone Co., Ltd.
WR-301
1000 3700 Wacker Asahikasei Silicone Co., Ltd.
KF-859
60 6000 Shinetsu Chemical
WR-1100
5000 7000 Wacker Asahikasei Silicone Co., Ltd.
KF-860
250 7600 Shinetsu Chemical
L-653
75 8300 Wacker Asahikasei Silicone Co., Ltd.
Entre las siliconas amino modificadas anteriormente mencionadas disponibles en el mercado, aquellas que tienen equivalente de amina de 1000 g/mol o menor se clasifican dentro de la primera silicona amino modificada. Asimismo, aquellas que tienen equivalente de amina de 3000 g/mol o mayor se clasifican dentro de la segunda silicona amino modificada. Ejemplos de la primera silicona amino modificada incluyen KF-857 (equivalente de amina: 830 g/mol), KF-393 (equivalente de amina: 350 g/mol), L-655 (equivalente de amina: 700 g/mol), L-656 (equivalente de amina: 800 g/mol). Ejemplos de la segunda silicona amino modificada incluyen KF-859 (equivalente de amina: 6000 g/mol), KF-869 (equivalente de amina: 3800 g/mol), KF-860 (equivalente de amina: 7600 g/mol), L-653 (equivalente de amina: 8300 g/mol), WR-1300 (equivalente de amina: 3300 g/mol), WR-301 (equivalente de amina: 3700 g/mol), WR-1100 (equivalente de amina: 7000 g/mol).
En la presente invención, como disolución de tratamiento se utiliza una silicona amino modificada disolviéndola en un disolvente. Ejemplos del disolvente incluyen agua, alcohol (como por ejemplo metanol, etanol o alcohol isopropílico) y un disolvente mixto de agua con alcohol. Si es necesario, en la disolución de tratamiento, se puede utilizar un disolvente como por ejemplo glicerol o alquil glicol éter para mejorar la permeabilidad en la placa o se puede utilizar un compuesto ácido como por ejemplo ácido fórmico o ácido acético, glicerol, tensioactivo o similar para mejorar la estabilidad de disolución de la silicona amino modificada. También es posible utilizar un agente de acoplamiento de silano junto con ella.
La proporción de combinación de la primera silicona amino modificada y de la segunda silicona amino modificada en la disolución de tratamiento es, por ejemplo, de desde 0,05 partes por masa hasta 5 partes por masa, y preferiblemente de desde 0,1 partes por masa hasta 3,0 partes por masa, hasta de 100 partes por masa del disolvente. Cuando la proporción de combinación es pequeña, una propiedad de repulsión de tinta es insuficiente mientras que, cuando es grande, existe propensión a que se produzca una aplicación irregular.
La proporción en masa de la primera silicona amino modificada a la segunda silicona amino modificada en la disolución de tratamiento es de desde 2,5:1 hasta 1:6, preferiblemente de desde 2:1 hasta 1:5, más preferiblemente de desde 2:1 hasta 1:4, y lo más preferiblemente de desde 1,5:1 hasta 1:3,5. Cuando es menor que 2,5:1, existe un riesgo de que la propiedad de repulsión de tinta sea insuficiente mientras que, cuando es mayor de 1:6, existe un riesgo de que la propiedad de persistencia sea insuficiente.
En cuanto a un método de poner en contacto una disolución de tratamiento con una placa de impresión, se puede adoptar cualquiera de los métodos convencionalmente conocidos y ejemplos de los mismos incluyen un método en el cual la disolución de tratamiento se aplica sobre toda la superficie de una placa de impresión utilizando un atomizador, un pulverizador, una brocha, etc. en una etapa apropiada después del paso de exposición, y un método en el cual la placa de impresión se sumerge en la disolución de tratamiento. Cuando se utiliza un método de
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aplicación, se prefiere que la cantidad aplicada sea de desde 1 hasta 100 g/m2 y se prefiere aún más que sea de desde 3 hasta 50 g/m2.
Después de que la disolución de tratamiento se haya puesto en contacto con la placa de impresión, es preferible realizar un secado/tratamiento térmico a la temperatura de desde 40°C y preferiblemente de desde 50°C hasta menos de 100°C. Se prefiere que el tiempo de secado sea de 5 minutos o mayor y se prefiere aún más que sea de 10 minutos o mayor. Como resultado de la realización de este paso de tratamiento térmico, la adsorción química del compuesto de silicona amino modificada con la placa de impresión se vuelve más fuerte.
Aunque un paso de poner en contacto la placa de impresión con la disolución de tratamiento puede ser en cualquier etapa siempre y cuando sea después del paso de exposición principal, se prefiere que sea después del paso de revelado e inmediatamente antes del paso de post-exposición. Esto es así porque, en el método habitual para producir una placa de impresión flexográfica, el secado se realiza después del revelado y, cuando la placa de impresión se pone en contacto con la disolución de tratamiento después del revelado, tanto el secado de un revelador como el secado/tratamiento térmico de una disolución de tratamiento se pueden llevar a cabo al mismo tiempo por lo cual los pasos se pueden simplificar.
Un paso de poner en contacto la placa de impresión con la disolución de tratamiento también se puede realizar después de los pasos de post-exposición y de irradiación con una lámpara germicida. Cuando se hace contacto con la disolución de tratamiento después de los pasos de post-exposición y de irradiación con una lámpara germicida, es preferible realizar el secado/tratamiento térmico una vez más a la temperatura de desde 40°C y preferiblemente de desde 50°C hasta menos de 100°C. Como resultado de este paso de tratamiento térmico, la adsorción química del compuesto de silicona amino modificada con la placa de impresión se puede hacer más fuerte.
Ejemplos
La presente invención se ilustrará ahora de forma específica por medio de los siguientes Ejemplos y Ejemplos Comparativos aunque la presente invención no está limitada a ellos.
Ejemplo 1
Preparación de composición de resina fotosensible
Látex de butadieno (Nipol LX111NF que contiene un 55% de ingredientes no-volátiles; fabricado por la empresa Nippon Zeon) (46 partes en masa) y 11 partes en masa de látex de acrilonitrilo-butadieno (Nipol SX1503 que contiene un 43% de ingredientes no-volátiles; fabricado por la empresa Nippon Zeon); 11 partes en masa de acrilato de oligobutadieno (ABU-4S fabricado por la empresa Kyoeisha Kagaku), 4,5 partes en masa de lauril metacrilato (Éster Ligero L fabricado por la empresa Kyoeisha Kagaku) y 4,5 partes en masa de trimetilolpropano triacrilato (Éster Ligero TMP fabricado por la empresa Kyoeisha Kagaku) como compuestos fotopolimerizables; 0,6 partes en masa de un iniciador de fotopolimerización (Irgacure 651); y 12 partes en masa de un polímero hidrófilo (PFT-3 que contiene 25% de ingredientes no-volátiles, fabricado por la empresa Kyoeisha Kagaku) y 0,06 partes en masa de monoetil éter de hidroquinona como otros ingredientes se mezclaron en un contenedor para preparar una masa. La masa se vertió en el interior de una amasadora de presurización y de ella se extrajeron in vacuo a 80°C tolueno y agua.
Producción de placa original de impresión flexográfica
Dispersión de negro de carbón (AMBK-8 fabricado por la empresa Orient Kagaku Kogyo KK), poliamida copolimerizada (PA223 fabricada por la empresa TOYOBo CO., LTD.), propilén glicol y metanol se mezclaron en una proporción en masa de 45/5/5/45 para preparar un líquido de recubrimiento para capa para ablación por infrarrojos. Después de la aplicación de un tratamiento de liberación sobre ambas caras de una película de PET (E5000 fabricada por la empresa TOYOBO CO., LTD.; espesor: 100 |im), se aplicó a ella el líquido de recubrimiento para capa para ablación por infrarrojos utilizando un recubridor de barra para hacer que el espesor de la capa de recubrimiento después del secado fuera 1,6 |im y a continuación se secó a 120°C durante 5 minutos para preparar un laminado en forma de película (I). La densidad óptica del mismo fue 2,3. Esta densidad óptica se midió mediante un densitómetro de transmisión blanco-y-negro DM-520 (fabricado por la empresa Dainippon Screen). Se mezclaron acetato de polivinilo con un grado de saponificación del 80% (KH20 fabricado por la empresa Nippon Gosei), plastificante (Sanflex SE 270 fabricado por la empresa Sanyo Chemical Industries; poliéter poliol de un tipo de alcohol alifático polihídrico; concentración de sólidos de 85%) y látex NBR (SX1503 fabricado por la empresa Nippon Zeon; concentración de sólidos del 42%) en una proporción en masa de 50/20/30 para proporcionar un líquido de recubrimiento para una capa protectora. El líquido de recubrimiento para una capa protectora se aplicó sobre el laminado en forma de película (I) utilizando un recubridor de barra para hacer que el espesor de la capa de recubrimiento después del secado fuera de 2,0 |im y se secó a 120°C durante 5 minutos para preparar un laminado en forma de película (II). La composición de resina fotosensible anterior se colocó sobre un soporte de película de PET (E5000 fabricado por la empresa TOYOBO CO., LTD.; espesor: 125 |im) sobre el cual se aplicó un adhesivo de un tipo de poliéster copolimerizado y sobre él se depositó un laminado en forma de película (II). Lo anterior se laminó a 100°C utilizando una máquina de prensado con calor para proporcionar una placa original de impresión flexográfica que comprende soporte de PET, capa de adhesivo, capa de resina fotosensible, capa protectora, capa para ablación por infrarrojos y película protectora. El espesor total de la placa fue de 1,70 mm.
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Producción de placa de impresión a partir de placa original de impresión flexográfica
Se irradió con un rayo químico (fuente de luz: Philips 10R; iluminación a 365 nm: 8 mW/cm2) durante un minuto desde el lado del soporte de PET de la placa original de impresión. Después de eso, se despegó de ella la película protectora. Esta placa se envolvió con Esko CDI SPARK 2530 seguido por el conformado de una imagen. Después de la ablación, se retiró la placa y se le devolvió a la forma de placa plana y se irradió la misma con un rayo químico (fuente de luz: Philips 10R; iluminación a 365 nm: 8 mW/cm2) durante siete minutos. Después de eso, se llevó a cabo revelado a 40°C durante ocho minutos utilizando un dispositivo de revelado (Stuck System, disolución acuosa de jabón de lavado al 1%) fabricado por la empresa A&V. Se eliminaron las gotas de agua de la superficie de la placa mediante una varilla de eliminación de agua. Se preparó una disolución de tratamiento para fabricar KF-857 (equivalente de amina: 830 g/mol; fabricado por la empresa Shinetsu Chemical) / KF-859 (equivalente de amina: 60O0 g/mol; fabricado por la empresa Shinetsu Chemical) / alcohol isopropílico = 0,1/0,3/100 (proporción en masa). La disolución de tratamiento se pulverizó sobre toda la superficie de la placa de impresión utilizando un pulverizador. La cantidad aplicada fue 10 g/m2. Después del revelado, se secó en un secador a 60°C durante diez minutos, se irradió la misma con rayo químico durante diez minutos y, finalmente, se irradió la misma con una lámpara germicida durante cinco minutos para eliminar la adhesividad de la superficie.
Ejemplos 2 a 14 y Ejemplos Comparativos 1 a 5
Se realizó la misma operación que en el Ejemplo 1 excepto en que la composición de la silicona amino modificada en la disolución de tratamiento se modificó como se muestra en la Tabla 1 por lo cual se prepararon una composición de resina fotosensible, una placa original de impresión flexográfica y una placa de impresión flexográfica.
Las placas de impresión de los Ejemplos 1 a 14 y de los Ejemplos Comparativos 1 a 5 se evaluaron en cuanto a aplicación irregular, tensión superficial, contaminación de la superficie de la placa y uniformidad de tinta en la parte sólida de acuerdo con los siguientes métodos de evaluación.
(1) Evaluación de aplicación irregular
La aplicación irregular se evaluó comprobando a simple vista la aplicación irregular de la parte sólida utilizando la placa de impresión producida. El caso en que la aplicación irregular fue confirmada con dificultad de un vistazo, el caso en que fue confirmada fácilmente a simple vista y el caso en que se observó con claridad aplicación irregular viscosa, se marcaron como “o”, “A” y “x”, respectivamente.
(2) Evaluación de tensión superficial
La tensión superficial se evaluó utilizando una disolución mezclada para un ensayo de tensión en húmedo (fabricada por la empresa Kanto Chemical). Bajo la atmósfera de 20°C y 60% de HR, se dejaron caer sobre la placa de impresión dos gotas de cada una de las disoluciones mezcladas para un ensayo de tensión en húmedo de 22,6 mN/m, 25,4 mN/m, 27,3 mN/m, 30 mN/m, 31 mN/m, 32 mN/m, 33 mN/m, 34 mN/m, 35 mN/m, 36 mN/m, 37 mN/m, 38 mN/m, 39 mN/m y 40 mN/m y se extendieron dichas gotas con un hisopo de algodón y se evaluó a simple vista el grado de extensión después de 30 segundos. El valor para la disolución mezclada repelida por la superficie de la placa se adoptó como tensión superficial. Cuanto menor es la tensión superficial, mayor es la propiedad de repulsión de tinta y mayor es el efecto de prevención de obstrucción por tinta durante la impresión. A todo esto, se evaluaron las muestras después de impresión durante 500 m, 1000 m, 1500 m y 2000 m.
(3) Evaluación de contaminación de la superficie de la placa
Se evaluó la contaminación de la superficie de la placa utilizando una impresora flexográfica FPR 302 (fabricada por la empresa MCK) y un cilindro anilox de 800 LPI. Como tinta se utilizó una tinta de disolvente (nombre comercial: Bright Flex (fabricada por la empresa DIC)). Como material sobre el que imprimir se utilizó papel recubierto (nombre comercial: Pearl Coat; fabricado por la empresa Oji Paper). La velocidad de impresión fue de 50 m/min. Bajo la condición anterior, se realizó en primer lugar la impresión durante 500 m, y a continuación se recogió la muestra impresa. A continuación se realizó impresión durante otros 500 m y se recogió una muestra después de impresión durante 1000 m en total. La impresión se siguió realizando y se recogió una muestra después de impresión durante 1500 m en total. Finalmente, la impresión se siguió realizando y se recogió una muestra después de impresión durante 2000 m en total. Los puntos de semitono a evaluar estaban en 200 LPI y la contaminación de la superficie de la placa se evaluó para los puntos de semitono de 10% y 20%. Los casos en que la contaminación de la superficie de la impresión fue nula, cuando se generó sólo en el extremo delantero de los puntos de semitono, cuando se generó cerca del terminal de los puntos de semitono y cuando se generó sobre toda la superficie de los puntos de semitono, se marcan “A”, “B”, “C” y “D”, respectivamente.
(4) Evaluación de uniformidad de tinta en parte sólida
La uniformidad de tinta en la parte sólida se juzgó a simple vista evaluando la concentración irregular de tinta sobre la parte sólida. Los casos en los que no fue confirmada, cuando fue parcialmente confirmada y cuando fue confirmada en toda la superficie, se marcaron o, A y x, respectivamente.
La evaluación se realizó utilizando una impresora flexográfica FPR 302 (fabricada por la empresa MCK) y un cilindro anilox de 800 LPI. Como tinta se utilizó una tinta de disolvente (nombre comercial: Bright Flex (fabricada por la empresa DIC). Como material sobre el que imprimir se utilizó papel recubierto (nombre comercial: Pearl Coat; fabricado por la empresa Oji Paper). La velocidad de impresión fue de 50 m/min. Con respecto a la presión de 5 impresión, se aplicó compresión de 0,02 mm mayor que el valor óptimo con el objetivo de acelerar la evaluación de la durabilidad de la impresión. Bajo la condición anterior, se realizó evaluación después de impresión durante 50 m. En cuanto a una placa de impresión, se utilizó una placa con una parte sólida de 5 cm de anchura y 5 cm de longitud.
10 Los resultados de evaluación de las placas de impresión de acuerdo con los Ejemplos 1 a 14 y con los Ejemplos Comparativos 1 a 5 se muestran en la Tabla 1.
[Tabla 1]
Ejemplo
1
2 3 4 5 6 7
Disolución
Primera silicona amino modificada KF-393 (equivalente de amina 350 g/mol) L-655 (equivalente de amina 700 g/mol) 0,1 0,1
Segunda silicona amino modificada
KF-869 (equivalente de amina 3800 g/mol) KF-859 (equivalente de amina 6000 g/mol) 0,3 0,3 0,3 0,3 0,15 0,24
Disolvente
Etanol Alcohol isopropílico 100 100 100 100 100 100 100
Proporción en masa de la primera silicona amino modificada a la segunda silicona amino modificada
1:3 1:3 1:3 1:3 1:3 1:3 1:3
Evaluación
(1) aplicación irregular 0 0 0 0 0 O O
(2) tensión superficial (mN/m)
Después de impresión durante 500 m Después de impresión durante 1000 m Después de impresión durante 1500 m Después de impresión durante 2000 m 23 23 23 23 23 23 23
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23
(3) contaminación de la superficie de la placa
Después de impresión durante 500 m Después de impresión durante 1000 m Después de impresión durante 1500 m Después de impresión durante 2000 m A A A A A A A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
A
(4) uniformidad de tinta en parte sólida
0 0 0 0 0 O O
Ejemplo
8
9 10 11 12 13 14
Disolución
Primera silicona amino modificada KF-393 (equivalente de amina 350 g/mol) L-655 (equivalente de amina 700 g/mol)
Segunda silicona amino modificada
KF-869 (equivalente de amina 3800 g/mol) KF-859 (equivalente de amina 6000 g/mol) 0,75 1,50 0,3 0,27 0,20 0,32 0,135
Disolvente
Etanol Alcohol isopropílico 100 100 80 100 100 100 100
Proporción en masa de la primera silicona amino modificada a la segunda silicona amino modificada
1:3 1:3 1:3 1:2 1:2 1:4 2:1
Evaluación
(1) aplicación irregular O A O O O O O
(2) tensión superficial (mN/m)
Después de impresión durante 500 m Después de impresión durante 1000 m Después de impresión durante 1500 m Después de impresión durante 2000 m 23 23 23 23 23 23 30
23
23
23
23
23
30 30
23
23
23
23
23
30 30
23
23
23
23
23
35 30
(3) contaminación de la superficie de la placa
Después de impresión durante 500 m Después de impresión durante 1000 m Después de impresión durante 1500 m Después de impresión durante 2000 m A A A A A A B
A
A
A
A
A
B B
A
A
A
A
A
B B
A
A
A
A
A
C B
(4) uniformidad de tinta en parte sólida
O A O O O O O
Ejemplo Comparativo
1
2 3 4 5
Disolución
Primera silicona amino modificada KF-393 (equivalente de amina 350 g/mol) L-655 (equivalente de amina 700 g/mol) 0,4 0,4
Segunda silicona amino modificada
KF-869 (equivalente de amina 3800 g/mol) KF-859 (equivalente de amina 6000 g/mol) 0,35 0,4 0,1
Disolvente
Etanol Alcohol isopropílico 100 100 100 100 100
Proporción en masa de la primera silicona amino modificada a la segunda silicona amino modificada
1:7 - - - 3:1
Evaluación
(1) aplicación irregular O O O O O
(2) tensión superficial (mN/m)
Después de impresión durante 500 m 23 23 35 40 35
Después de impresión durante 1000 m
30 30 35 40 35
Después de impresión durante 1500 m
35 40 35 40 35
Después de impresión durante 2000 m
40 40 35 40 35
(3) contaminación de la superficie de la placa
Después de impresión durante 500 m A A C D C
Después de impresión durante 1000 m
B B C D C
Después de impresión durante 1500 m
C D C D C
Después de impresión durante 2000 m
D D C D C
(4) uniformidad de tinta en parte sólida
O O O O O
5
10
15
20
25
30
En los Ejemplos 1 a 10, aunque las combinaciones de la primera silicona amino modificada con la segunda silicona amino modificada son diferentes entre sí, la proporción en masa de la primera silicona amino modificada a la segunda silicona amino modificada es 1:3, la cual es una proporción apropiada por la cual la propiedad de repulsión de tinta de la placa de impresión en la etapa inicial es alta (es decir, la tensión superficial es baja) y su persistencia también es alta. Por lo tanto, no se genera contaminación de la superficie de la placa. En los Ejemplos 11 a 12, aunque la proporción en masa de la primera silicona amino modificada a la segunda silicona amino modificada está dentro de un rango de 1:1 a 1:2, el resultado es el mismo que en el caso en que la proporción en masa es 1:3. En el Ejemplo 13, la proporción en masa de la primera silicona amino modificada a la segunda silicona amino modificada es 1:4 y la persistencia es menor que en los Ejemplos 1 a 12. En el Ejemplo 14, la proporción en masa de la primera silicona amino modificada a la segunda silicona amino modificada es 2:1 por lo cual la propiedad de repulsión de tinta en la etapa inicial es un poco insuficiente y la contaminación de la superficie de la placa se genera a partir de la etapa inicial. En el Ejemplo Comparativo 1, la proporción en masa de la primera silicona amino modificada a la segunda silicona amino modificada es 1:7, por lo cual la propiedad de repulsión de tinta en la etapa inicial es alta (es decir, la tensión superficial es baja) pero la persistencia es inferior a las de los Ejemplos. En el Ejemplo Comparativo 2, se utiliza únicamente la segunda silicona amino modificada y la persistencia es inferior a la del Ejemplo Comparativo 1. En los Ejemplos Comparativos 3 y 4, la segunda silicona amino modificada no se utiliza, por lo cual la propiedad de repulsión de tinta es mala y, en cualquiera de ellos, la contaminación de la superficie de la placa se genera a partir de la etapa inicial de la impresión. En el Ejemplo Comparativo 5, la proporción en masa de la primera silicona amino modificada a la segunda silicona amino modificada es 3:1 por lo cual la propiedad de repulsión de tinta es baja (es decir, la tensión superficial es alta) incluso a partir de la etapa inicial.
Aplicabilidad Industrial
De acuerdo con el método de producción de la presente invención, la contaminación de la superficie de la placa no se genera durante largo tiempo incluso en el caso de impresión utilizando una tinta de tipo disolvente. Por consiguiente, ahora es posible proporcionar una placa de impresión flexográfica que permita impresión estable de alta calidad a gran escala.

Claims (3)

  1. REIVINDICACIONES
    1. Un método para producir una placa de impresión flexográfica a partir una placa original de impresión flexográfica provista de una capa de resina fotosensible que comprende una composición de resina fotosensible que contiene al
    5 menos (A) un polímero hidrofóbico que comprende un látex dispersable en agua, (B) un compuesto fotopolimerizable y (C) un iniciador de fotopolimerización, donde el método comprende un paso de exposición principal, un paso de revelado y un paso de post-exposición, caracterizado por que una disolución de tratamiento que contiene una primera silicona amino modificada que tiene un equivalente de amina de 1000 g/mol o menor y una segunda silicona amino modificada que tiene un equivalente de amina de 3000 g/mol o mayor en una proporción en masa de desde 10 2,5:1 hasta 1:6 se pone en contacto con toda la superficie de la placa de impresión flexográfica.
  2. 2. El método para producir una placa de impresión flexográfica de acuerdo con la reivindicación 1, en el cual se lleva a cabo contacto de la disolución de tratamiento por medio de aplicación de la disolución de tratamiento a la superficie de la placa de impresión o por medio de inmersión de la placa de impresión en la disolución de
    15 tratamiento.
  3. 3. El método para producir una placa de impresión flexográfica de acuerdo con la reivindicación 1 ó 2, en el cual se lleva a cabo contacto de la disolución de tratamiento después del paso de revelado e inmediatamente antes del paso de post-exposición.
    20
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