HK184995A - A device for manufacturing a mould for a disc-shaped registration carrier - Google Patents

A device for manufacturing a mould for a disc-shaped registration carrier Download PDF

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Claims (31)

  1. Gerät zur Herstellung einer Matrize für einen scheibenförmigen Aufzeichnungsträger, wobei das Gerät mit einer Station (28) zum Auftragen einer lichtempfindlichen Schicht, z. B. einer Fotolackschicht, auf ein Substrat (18), mit einer Station (52) zum Belichten der lichtempfindlichen Schicht entsprechend den zu speichernden Aufzeichnungsdaten, mit einer Station (61) zum Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht und Metallisieren der die lichtempfindliche Schicht tragenden Seite des Substrats und mit einer Station (80) zum Auftragen einer Metallauflage versehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß die verschiedenen Stationen (28, 52, 61, 80) in einem Gehäuse (1) untergebracht und Einrichtungen (29, 53, 62, 81) zum Aufnehmen der Substrate (18) in den verschiedenen Stationen vorgesehen sind, während ein in dem Gehäuse angeordneter Transportmechanismus (9 bis 12) mit mindestens einer Transporteinrichtung (11, 12) zum Greifen eines Substrats versehen ist, wobei die Transporteinrichtung (11, 12) zwischen den Stationen in einer waagerechten Ebene in eine erste Richtung und in eine zweite Richtung quer zu der ersten Richtung hin- und hergehend beweglich ist und sich außerdem in dem Gehäuse aufwärts und abwärts bewegen kann.
  2. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gerät an der Stelle einer Zuführstation (3) mit einem um eine senkrechte Achse (20) schwenkbaren und senkrecht beweglichen Arm (23) versehen ist, an dessen einem Ende eine Einrichtung (24) zum Aufheben eines Substrats vorgesehen ist.
  3. Gerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der Einrichtung (24) zum Aufheben des Substrats ein Unterdruck erzeugt werden kann.
  4. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Station (28) zum Auftragen einer lichtempfindlichen Schicht mit einem Drehtisch (29) zum Aufnehmen eines Substrats (18) sowie mit beweglichen, z. B. um senkrechte Achsen (31, 32) schwenkbaren Zuführrohren (33, 34) zum Zuführen von Spülflüssigkeit sowie erstem Auflagematerial und lichtempfindlichem Material zu der Oberseite des auf dem Drehtisch (29) gestützten Substrats (18) versehen ist, während ferner ein um eine senkrechte Achse (35) schwenkbares und senkrecht bewegliches Bürstengerät (36) in der Station vorgesehen ist.
  5. Gerät nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß neben dem Drehtisch (29) eine Pfanne (37) angeordnet ist, über der die Bürste (36) angeordnet sein kann, während die Pfanne (37) mit einem Abflußrohr (38) verbunden ist.
  6. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Gerät mit einer Trocknungsstation (40) zum Trocknen einer aufgetragenen lichtempfindlichen Schicht versehen ist, wobei die Trocknungsstation (40) eine Luftleitung (41) zum Aufnehmen eines Substrats (18) sowie eine Einrichtung zum Leiten von Luft durch die Luftleitung (41) und eine Einrichtung (50) zum Erwärmen der durch die Luftleitung geleiteten Luft aufweist.
  7. Gerät nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine Öffnung in einer oberen Wand der Luftleitung (41) vorgesehen ist, um ein Substrat in die Luftleitung einzuführen, wobei die Öffnung mit einem senkrecht beweglichen Deckel (45) verschlossen werden kann, der um eine senkrechte Drehachse (46) schwenkbar ist.
  8. Gerät nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine Membran (51) in der Luftleitung (41) stromaufwärts vor der Stelle vorgesehen ist, an der ein Substrat (18) in die Luftleitung eingeführt wird.
  9. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche 2 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Trocknungsstation (40) in der Nähe der Zuführstation (3) für die Substrate angeordnet ist.
  10. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Station (61) zum Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht und Metallisieren der entwikkelten lichtempfindlichen Schicht mit einem Drehtisch (62) und einem um eine senkrechte Drehachse (70) schwenkbaren Arm (71) in der Nähe des Drehtischs versehen ist, wobei der Arm Rohre (72) stützt, durch die Fluide zum Behandeln der lichtempfindlichen Schicht und zum Metallisieren zugeführt werden können.
  11. Gerät nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß eine mit einem Abflußrohr verbundene Pfanne (74) neben dem Drehtisch (62) angeordnet ist, über dem der die Rohre (72) stützende Arm (71) geschwenkt werden kann.
  12. Gerät nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß ein Linsen (78) stützender Arm (77), der um eine senkrechte Drehachse schwenkbar ist, in der Nähe des Drehtisches (62) angeordnet ist, während eine Laserlichtquelle unter dem Drehtisch so angeordnet ist, daß Licht, das sich von der Laserquelle durch das- Substrat (18) bewegt (B), durch die Linsen (78) erfaßt und verarbeitet werden kann, um die Qualität des Substrats mit der darauf aufgetragenen entwickelten lichtempfindlichen Schicht zu bestimmen.
  13. Gerät mach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Station (80) zum Auftragen einer Metallauflage auf das Substrat mit einer Stützeinrichtung (81) versehen ist, die um eine waagerechte Achse (84) zwischen einer zum Aufnehmen eines Substrats geeigneten Position und einer Position schwenkbar ist, in der das durch die Stützeinrichtung gestützte Substrat in einen Behälter (125) getaucht wird, der Elektrolysefluid enthält.
  14. Gerät nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß eine an dem Ende eines um eine senkrechte Achse schwenkbaren Arms (90) angebrachte Greifeinrichtung (92 bis 100) in der Station (80) zum Auftragen einer Metallauflage angeordnet ist, wobei die Greifeinrichtung mehrere in Radialrichtung zu der Achse der Greifeinrichtung hin- und hergehend bewegliche Finger (101) zum Aufheben ringförmiger Gegenstände (86) aufweist, die auf dem Substrat zu plazieren sind.
  15. Gerät nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß ein schwenkbarer Arm (109), der um eine senkrechte Achse schwenkbar ist, in der Station zum Auftragen einer Metallauflage angeordnet ist, wobei ein Mechanismus (113 bis 115) zum Befestigen eines Klemmrings (102) an der Stützeinrichtung (81) an dem Ende des Arms angebracht ist.
  16. Gerät nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Klemmring (102) und die zum Aufnehmen des Substrats (18) vorgesehene Stützeinrichtung (81) mit Stiften (104) und im wesentlichen L-förmigen Schlitzlöchern (105) versehen sind, die in Kombination eine Art Bajonettverschluß zum Befestigen des Klemmrings (102) an der Stützeinrichtung (81) bilden.
  17. Gerät nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Mechanismus zum Befestigen des Klemmrings (102) einen Träger (115) aufweist, der um eine Drehachse (112) gegenüber dem Arm (109) drehbar ist, und daß mehrere unter dem Träger vorstehende Stifte (117) an dem Träger befestigt sind, wobei die Stifte an ihren unteren Enden mit Köpfen (118) versehen sind, die sich in das Innere von Schlitzlöchern (119) einpassen, die in dem Inneren des Klemmrings (102) vorgesehen sind und konzentrisch die Drehachse umgeben, und die Schlitzlöcher (119) in der Nähe eines Endes zum Einführen und Herausziehen der an den unteren Enden der Stifte (117) befestigten Köpfe (118) zugänglich sind.
  18. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche 13 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß in der Position, in der sich die Stützeinrichtung (81) in dem Elektrolysefluid enthaltenden Behälter (125) befindet, sich das durch die Stützeinrichtung (81) gestützte Substrat (18) gegenüber einer Öffnung (127) befindet, die in einem in dem Behälter (125) angeordneten Gehäuse (126) vorgesehen ist, das Körner (132) des Materials enthält, aus dem die Auflage zu bilden ist, während ferner eine Einrichtung (133) vorgesehen ist, durch die eine Strömung von zugeführtem frischen Elektrolysefluid entlang der Seite des Substrats (18) erzeugt werden kann, die zu dem Inneren des Gehäuses (126) zeigt.
  19. Gerät nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß eine austauschbare Platte (129) in dem Gehäuse (126) vorgesehen ist, wobei die Platte (129) mit einer Öffnung (130) versehen ist, deren Mitte im wesentlichen mit der Mitte der in dem Gehäuse (126) vorgesehen Öffnung (127) übereinstimmt.
  20. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Gerät versehen ist mit einer Station (141), in der ein Gestell (142) zum Aufnehmen behandelter Substrate (18) sowie ein um eine senkrechte Schwenkachse schwenkbarer und senkrecht beweglicher Arm (140) angeordnet ist, wobei der Arm (140) an seinem Ende mit einer Einrichtung zum Aufheben des Substrats (18) versehen und all dies so gestaltet ist, daß durch den Transportmechanismus (9 bis 12) auf den Arm gelegte Substrate (18) durch den Arm (140) in das Gestell (142) gelegt und außerdem durch den Arm aus dem Gestell entnommen werden können.
  21. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Gerät mit einer Station (141) versehen ist, in der ein Drehtisch (145) angeordnet ist, auf den eine geformte Matrize so plaziert werden kann, daß die Matrize auf der aufgetragenen Auflage ruht, während in der Station ferner ein um eine senkrechte Achse schwenkbarer Arm (147) untergebracht ist, der eine Lichtquelle (146) zum Belichten der Matrize und insbesondere von jedem auf der Matrize vorhandenen restlichen lichtempfindlichen Material stützt.
  22. Gerät nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß in der Station (141) ferner ein um eine senkrechte Schwenkachse schwenkbarer und senkrecht hin- und hergehend beweglicher Arm (148) untergebracht ist, wobei der Arm eine Sprüheinrichtung (149) stützt, durch die eine Spülflüssigkeit und/oder ein Lack auf die Oberseite der Matrize aufgetragen werden kann.
  23. Gerät nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Sprüheinrichtung (149) von einem ringförmigen Mantel (153) umgeben ist, an dessen unterer Seite sich eine untere Kante (155) anschließt, die nach innen schräg aufwärts verläuft.
  24. Gerät nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß der Mantel (153) mit dem Arm so gekoppelt ist, daß er leicht abnehmbar ist.
  25. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Station (52) zum Belichten der lichtempfindlichen Schicht in der Nähe eines Endes des Geräts angeordnet ist.
  26. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Transportmechanismus (9 bis 12) mit zwei Transporteinrichtungen (11, 12) zum Greifen eines Substrats versehen ist, wobei die beiden Transporteinrichtungen (11, 12) an einem in entgegengesetzte Richtungen beweglichen Schieber (9) befestigt sind, während jede der Transporteinrichtungen (11, 12) unabhängig von der anderen Transporteinrichtung aufwärts und abwärts bewegt werden kann.
  27. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß jede Station (28, 52, 61, 80, 40) in einem Raum (2 bis 7) angeordnet ist, in dem eine Einrichtung (158, 159) zum Zuführen von sauberer Luft in den Raum vorgesehen ist.
  28. Verfahren zum Herstellen einer Matrize für einen scheibenförmigen Aufzeichnungsträger, wobei ein Substrat (18), auf dem die Matrize auszubilden ist, automatisch durch eine Transporteinrichtung (11, 12) in einem im Normalbetrieb geschlossenen Gehäuse (1) zwischen mehreren Stationen mit einer Station (28) zum Auftragen einer lichtempfindlichen Schicht auf das Substrat, einer Station (52) zum Belichten der lichtempfindlichen Schicht entsprechend den zu speichernden Aufzeichnungsdaten, einer Station (61) zum Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht und Metallisieren der die lichtempfindliche Schicht tragenden Seite des Substrats und einer Station (80) zum Auftragen einer Metallauflage bewegt wird, wobei die Transporteinrichtung (11, 12) das Substrat (18) ergreift und sich zwischen den Stationen in einer waagerechten Ebene in eine erste Richtung hin- und hergehend und in eine zweite Richtung quer zu der ersten Richtung hin- und hergehend sowie außerdem in dem Gehäuse aufwärts und abwärts bewegt.
  29. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (18) zunächst in einer dazu geeigneten Station (28) saubergespült und/oder -gebürstet wird, wonach eine lichtempfindliche Schicht auf das Substrat in der Station aufgetragen wird.
  30. Verfahren nach Anspruch 28 oder 29, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Auftragen der lichtempfindlichen Schicht das Substrat (18) zu einer Station (40) bewegt wird, in der erwärmte Luft über die lichtempfindliche Schicht geleitet wird, um die lichtempfindliche Schicht zu trocknen.
  31. Verfahren nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (18) in eine verschließbare Luftleitung (41) eingeführt wird, durch die zunächst erwärmte Luft und anschließend Kühlluft geleitet wird.
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TW (1) TW239212B (de)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0618504B1 (de) * 1993-03-25 2001-09-26 Tokyo Electron Limited Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Filmes
US5565034A (en) * 1993-10-29 1996-10-15 Tokyo Electron Limited Apparatus for processing substrates having a film formed on a surface of the substrate
US5518542A (en) * 1993-11-05 1996-05-21 Tokyo Electron Limited Double-sided substrate cleaning apparatus
US6074901A (en) * 1993-12-03 2000-06-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Process for crystallizing an amorphous silicon film and apparatus for fabricating the same
JPH07186194A (ja) * 1993-12-27 1995-07-25 Sony Disc Technol:Kk スタンパーの自動交換装置
US5718763A (en) * 1994-04-04 1998-02-17 Tokyo Electron Limited Resist processing apparatus for a rectangular substrate
JP3196917B2 (ja) * 1994-06-17 2001-08-06 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US5529626A (en) * 1994-10-24 1996-06-25 Nec Electronics, Inc. Spincup with a wafer backside deposition reduction apparatus
JP3235012B2 (ja) * 1995-08-18 2001-12-04 株式会社新川 ダイ移送装置
JP3354761B2 (ja) * 1995-08-30 2002-12-09 オリジン電気株式会社 ディスク用被膜形成装置
DE19537409A1 (de) * 1995-10-09 1997-04-10 Leybold Ag Vorrichtung zur Herstellung von belichteten und metallisierten Substraten
NL1002849C2 (nl) * 1996-04-12 1997-10-15 Od & Me Bv Inrichting voor het bewerken van een schijfvormig substraat alsmede een station geschikt voor koppeling met een dergelijke inrichting.
NL1002848C2 (nl) * 1996-04-12 1997-10-15 Od & Me Bv Grijperinrichting voor het beetpakken van een schijfvormig object.
NL1002879C2 (nl) * 1996-04-16 1997-10-17 Robi Omp Mastering Dev Gmbh Cassette voor een schijfvormige drager of substraat.
NL1002876C2 (nl) * 1996-04-16 1997-10-17 Robi Omp Mastering Dev Gmbh Inrichting voor het vervaardigen van schijfvormige informatiedragers.
US5779799A (en) * 1996-06-21 1998-07-14 Micron Technology, Inc. Substrate coating apparatus
JP3249395B2 (ja) * 1996-06-21 2002-01-21 東京応化工業株式会社 処理ユニット構築体
NL1004837C2 (nl) * 1996-12-19 1998-06-22 O T B Engineering B V Systeem voor het produceren van optische gegevensdragers.
KR20000046116A (ko) * 1998-12-31 2000-07-25 김영환 Cdma무선데이터 서비스를 위한 교환기의 계층 3 메시지 처리 장치
FR2788760B1 (fr) * 1999-01-27 2001-03-23 Cogema Systeme de transfert de chaleur pour reacteur de conversion d'uf6 en oxyde d'uranium
DE29909642U1 (de) * 1999-06-02 2000-10-05 Universalmanufakturing & Logistics GmbH, 30851 Langenhagen Vorrichtung zum Beschichten scheibenförmiger Informationsträger
WO2002095499A1 (en) * 2001-05-23 2002-11-28 Optical Measuring-Equipment & Projects Bv Method for manufacturing a stamper for optical disc production, a stamper obtained by the method, and an optical disc obtained with such stamper
DE10136331A1 (de) * 2001-07-26 2003-02-20 Steag Hamatech Ag Vorrichtung und Verfahren zum Abtasten von Datenträgern
DE10202559A1 (de) * 2002-01-24 2003-07-31 Krauss Maffei Kunststofftech Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen optischer Datenträger
US7644512B1 (en) * 2006-01-18 2010-01-12 Akrion, Inc. Systems and methods for drying a rotating substrate
DE102006015460A1 (de) * 2006-03-31 2007-10-04 Büttner, Dieter Vorrichtung zum Herstellen einer Datenträger-Matrize
EP1965383A1 (de) * 2007-03-02 2008-09-03 Singulus Mastering B.V. Messung der Beugungsordnung
DE102009060649A1 (de) * 2009-12-22 2011-06-30 EISENMANN Anlagenbau GmbH & Co. KG, 71032 Anlage zur Oberflächenbehandlung von Gegenständen

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4650735A (en) * 1982-10-14 1987-03-17 U.S. Philips Corporation Method of manufacturing a metal matrix and an intermediate product obtained in performing the method
US4604027A (en) * 1984-06-21 1986-08-05 At&T Technologies, Inc. Manipulator of articles and methods of moving articles over an extended distance
JPH0620922B2 (ja) * 1984-10-19 1994-03-23 株式会社東芝 被検物の搬送装置
EP0189279B1 (de) * 1985-01-22 1991-10-09 Applied Materials, Inc. Halbleiter-Bearbeitungseinrichtung
JPS61178747A (ja) * 1985-02-04 1986-08-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光デイスクの製造方法およびその装置
JPH0739288B2 (ja) * 1985-09-18 1995-05-01 松下電器産業株式会社 デイスク基板搬送装置
NL8702157A (nl) * 1986-09-10 1988-04-05 Pioneer Electronic Corp Stroombehandelingsstelsel.
JPH0410529A (ja) * 1990-04-27 1992-01-14 Shin Etsu Handotai Co Ltd サセプタ及びウエーハ自動脱着装置
JPH0451444A (ja) * 1990-06-20 1992-02-19 Nec Kyushu Ltd イオン注入装置
JPH04221444A (ja) * 1990-12-20 1992-08-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光ディスク製造装置
DE4127341C2 (de) * 1991-08-19 2000-03-09 Leybold Ag Vorrichtung zum selbsttätigen Gießen, Beschichten, Lackieren, Prüfen und Sortieren von Werkstücken

Also Published As

Publication number Publication date
EP0594255A1 (de) 1994-04-27
CN1091852A (zh) 1994-09-07
JPH06195764A (ja) 1994-07-15
NL9201825A (nl) 1994-05-16
DE69300222D1 (de) 1995-08-03
DE69300222T2 (de) 1995-11-16
EP0594255B1 (de) 1995-06-28
KR0182331B1 (ko) 1999-04-15
RU2113020C1 (ru) 1998-06-10
US5403397A (en) 1995-04-04
KR940008779A (ko) 1994-05-16
US5780205A (en) 1998-07-14
JP2771762B2 (ja) 1998-07-02
CN1039063C (zh) 1998-07-08
ATE124562T1 (de) 1995-07-15
TW239212B (de) 1995-01-21

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