JP2000200747A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number	Priority date	Publication date	Assignee	Title
JP2002076484A (ja) *	2000-09-04	2002-03-15	Mitsubishi Cable Ind Ltd	高出力パルス光源
CN1316698C (zh) *	2000-12-28	2007-05-16	松下电器产业株式会社	短波长激光模件及其制造方法
JP2002329911A (ja) *	2001-04-27	2002-11-15	Komatsu Ltd	レーザ装置、増幅器、及び紫外線レーザ装置
JP2004046146A (ja) *	2002-05-23	2004-02-12	Fuji Photo Film Co Ltd	露光ヘッド
DE60316989T2 (de) *	2002-12-10	2008-07-24	Nikon Corp.	Ultraviolett-lichtquelle, phototherapievorrichtung mit verwendung einer ultraviolett-lichtquelle und belichtungssystem mit verwendung einer ultraviolett-lichtquelle
EP1615067B1 (de) *	2003-03-24	2015-09-23	Nikon Corporation	Optisches element, optisches system, lasereinrichtung, belichtungseinrichtung, maskenprüfeinrichtung und kristallverarbeitungseinrichtung
EP1724633B1 (de) *	2004-03-08	2017-01-04	Nikon Corporation	Laserlichtquelleneinrichtung, belichtungsvorrichtung mit dieser laserlichtquelleneinrichtung und maskenuntersuchungseinrichtung
WO2006023448A2 (en) *	2004-08-25	2006-03-02	Kla-Tencor Technologies Corporation	Fiber amplified based light source for semiconductor inspection
GB0520853D0 (en) *	2005-10-14	2005-11-23	Gsi Lumonics Ltd	Optical fibre laser
JP2007114697A (ja) *	2005-10-24	2007-05-10	Sony Corp	光源装置
US20070127005A1 (en)	2005-12-02	2007-06-07	Asml Holding N.V.	Illumination system
JP2007318069A (ja) *	2005-12-06	2007-12-06	Nikon Corp	露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法、投影光学系
JP2008078629A (ja) *	2006-09-20	2008-04-03	Imra America Inc	ファイバ・レーザおよびファイバ増幅器用の希土類がドープされ有効区域が大きい光ファイバ
JP2009210609A (ja) *	2008-02-29	2009-09-17	Sumitomo Electric Ind Ltd	光導波体
JP5595740B2 (ja) *	2010-01-15	2014-09-24	株式会社メガオプト	レーザ装置
CN102130416B (zh)	2010-01-15	2014-09-10	株式会社美加奥普托	激光装置
JP4590578B1 (ja)	2010-04-01	2010-12-01	レーザーテック株式会社	光源装置、マスク検査装置、及びコヒーレント光発生方法
US8988768B2 (en)	2011-01-19	2015-03-24	Nikon Corporation	Laser device
JP5704179B2 (ja)	2011-02-10	2015-04-22	株式会社ニコン	レーザ装置における電気光学変調器の調整方法、及びレーザ装置
JPWO2012165495A1 (ja) *	2011-06-03	2015-02-23	株式会社メガオプト	レーザ装置
JP2015153919A (ja) *	2014-02-17	2015-08-24	三星ダイヤモンド工業株式会社	光ファイバ、及びこれを用いたレーザ発振器
TWI709006B (zh) *	2014-04-01	2020-11-01	日商尼康股份有限公司	圖案描繪裝置及圖案描繪方法
NL2015100A (en) *	2014-07-30	2016-07-07	Asml Netherlands Bv	Alignment sensor and lithographic apparatus background.
DE112016002585T5 (de)	2015-06-10	2018-05-24	Furukawa Electric Co., Ltd.	Pulslaservorrichtung
WO2018105733A1 (ja)	2016-12-09	2018-06-14	古河電気工業株式会社	パルスレーザ装置、加工装置及びパルスレーザ装置の制御方法
JP7313453B2 (ja) *	2019-08-30	2023-07-24	ギガフォトン株式会社	レーザ装置、レーザ加工システム及び電子デバイスの製造方法
JP7524960B2 (ja) *	2020-10-21	2024-07-30	日本電信電話株式会社	紫外光照射システム及び紫外光照射方法

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