JP2000202291A - 新規触媒、過酸化水素の製造方法、及び酸化工程での過酸化水素の使用 - Google Patents
新規触媒、過酸化水素の製造方法、及び酸化工程での過酸化水素の使用Info
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Abstract
であった工業的な規模での利用するのに十分に高い生産
性を持つ、過酸化水素の製造法を提供することにある。 【解決手段】 本発明は、スルホン基により官能化され
た酸性の活性炭に担持された第VIII族の金属からなる
触媒、該触媒を用いる水素と酸素からの過酸化水素の合
成方法、及びチタン−シリカライトにより触媒される酸
化工程での過酸化水素溶液の使用に関するものである。
Description
官能化された酸性の活性炭に担持された第VIII族の金
属からなる触媒、該触媒を用いる、水素と酸素から過酸
化水素を直接合成する方法、並びに、チタン−シリカラ
イトにより触媒される酸化工程での過酸化水素溶液の使
用、に関するものである。
いて漂白剤として、環境の分野で殺生物剤として、また
化学工業において広く用いられている、産業上重要な生
成物である。
ーロッパ特許第100,119号)、カルボニル化合物
のアンモオキシム化(米国特許第4,794,198
号)、アンモニアのヒドロキシルアミンへの酸化(米国
特許第5,320,819号)、及び芳香族炭化水素のヒ
ドロキシル化(米国特許第4,369,783号)のよう
な、チタンシリカライトにより触媒される一連の酸化反
応に過酸化水素を用いることが、当該技術分野で知られ
ている。
互に酸化・還元させることを基本とする合成法で得られ
る過酸化水素の水溶液が用いられる。しかしながら、こ
れらの方法には、多量の試薬を用いて作業する必要があ
ること、数多くの工程が必要とされること、中間体の価
格が比較的高いこと、及び不活性な副生物が生成される
ことから生じる、本質的な欠点がある。その為、過酸化
水素を合成する為のその他の方法が当該技術分野で提案
されている。それらの中には、水素と酸素から過酸化水
素を直接合成する為に、キャリアに担持された貴金属、
好ましくはパラジウムからなる触媒系を用いる方法があ
る。
細書には、木炭に担持されたパラジウムをベースとする
触媒を用いる過酸化水素の合成法が記載されている。こ
の方法では、反応を、モル比が少なくとも2:1である
水素イオンと臭化物イオンの存在下、水中で行う。これ
らのH+イオンとBr-イオンは、硫酸、燐酸、塩酸、も
しくは硝酸のような強酸と、臭素塩とを組み合わせて供
給する。高濃度の過酸化水素を得る為には、通常、2.
5〜10g/リットルの量の酸が必要とされる。
ーブの腐食といった技術的な性質の問題の他に、触媒の
活性相(金属)が反応媒体に溶解し、その結果、触媒そ
のものの活性や寿命が低下するといった重大な問題も生
じる。更に、反応媒体に溶解した金属は、現在利用でき
る再循環法を用いて回収するのが難しい。それに加え
て、この方法は臨界条件下で機能する。反応混合物の5
%を超える(通常18%)濃度の水素を用いるからであ
るが、その為、この方法は、水素/酸素混合物の爆発限
界の範囲に入る。
オンとBr-イオンをHBrとして直接供給する、過酸
化水素の改良された合成法に関するものである。この方
法に従って作業する場合、過酸化水素を得る為には、1
0-4モル/リットルを超えるBr-イオンが必要とされ
る。多量のハロゲン化物を用いると、触媒の金属と生成
される過酸化水素溶液の両方が不安定になる、という問
題が生じる。
に酸及び/又は臭素イオンがなくても実施できる別の方
法が提案された。例えば、ヨーロッパ特許出願第49
2,064号明細書には、ハロゲン化樹脂、特に臭素化
スチレン/ジビニルベンゼン樹脂に担持されたパラジウ
ムをベースとする触媒を用いる、水素と酸素から過酸化
水素を合成する方法が記載されている。この反応は、硫
酸、燐酸、もしくは硝酸から選ばれる酸の存在下、水中
で行う。しかしながら、この方法で作業すると、得られ
る過酸化水素の濃度は約0.58%である。
には、酸化モリブデン、酸化ジルコン、及び酸化タング
ステンから選ばれる酸キャリア、もしくは超酸キャリア
に担持されたパラジウム、もしくはプラチナをベースと
する触媒を用いる、水素と酸素から過酸化水素を合成す
る方法が記載されている。この反応は、反応混合物1リ
ットル当たり0.1ミリモルを超える量の、臭素塩から
選ばれる促進剤の存在下、水中で行う。この方法に従っ
て作業すると、過酸化水素が1%以下の濃度で得られ
る。
は、水に溶けないようにしたヘテロポリ酸に担持させた
パラジウム、もしくはプラチナをベースとする触媒を用
いる、水素と酸素から過酸化水素を合成する方法が記載
されている。この反応は、臭素イオン(臭化ナトリウム
0.5ミリモル/リットル)の存在下、水中で行う。約
1.1%の量の過酸化水素が得られる。
法は、生成される過酸化水素の量についていえば、関心
のもたれる工業的なスケールで利用するのに十分に高い
生産性をもつものではない。その為、過酸化水素の製造
の分野では、更なる改良が必要なことは明らかである。
炭に担持された第VIII族の金属からなる触媒の使用を
基本とする簡単で便利な方法により、当該技術分野での
これらの要求を満たすことができるということが、今回
分かった。
出されることのない酸性の官能基を含む官能化された活
性炭を用いるのは、特に以下の点で極めて有利である。 (i)極めて少量(<10-4モル/リットル)のハロゲ
ン化物の使用可能性。 (ii)遊離酸なしでの、もしくは微量の遊離酸(H+<
10-4モル/リットル)の存在下での作業の可能性。 (iii)安定な触媒の製造。溶液中の貴金属の量は、3
ppb未満である。 (iv)安定な過酸化水素溶液の製造。 (v)高濃度の過酸化水素溶液の製造。 これは、例えば溶剤除去のような中間処理作業を必要と
しないので、酸化工程で引き続き過酸化水素を用いるの
に有利である。特に、本発明の方法により得られる過酸
化水素の濃度は、チタン−シリカライトにより触媒され
る酸化反応に、濃縮工程なしに直接用いるのに非常に適
している。
は、上記の反応に直接使用するのに不利になることはな
い。後の工程で可能性のある、塩もしくは酸性度の導入
が最低限に押さえられるからである。
スルホン基により官能化された酸性の活性炭に担持され
た第VIII族の金属からなる触媒に関するものである。
本発明の更なる目的は、スルホン基により官能化された
活性炭の製造方法に関するものである。本発明はまた、
スルホン基により官能化された活性炭、及び金属をベー
スとする触媒用のキャリアとしてのその活性炭の使用に
関するものである。
ャリアに担持された第VIII族の金属からなる触媒系の
存在下、溶剤中で、水素と酸素から過酸化水素を製造す
る為の方法であって、該キャリアがスルホン基により官
能化された活性炭であることを特徴とする方法に関する
ものである。更に本発明は、上記のようにして得られた
過酸化水素溶液の、チタン−シリカライトにより触媒さ
れる酸化工程での使用に関するものである。本発明のそ
の他の目的は、以下の説明、及び特許請求の範囲から明
らかである。
の例は、表面積が少なくとも100m2/gの市販の活
性炭である。表面積が300m2/gを超える活性炭を
用いるのが好ましい。使用する活性炭は、粉末、粒子、
ペレット等の形態のものであって良い。活性炭は、その
ままで用いることができる。或いは、通常1〜10重量
%の塩酸水溶液である希釈された溶液を用いて、50〜
80℃で、活性炭を予め処理する。
ムから選ぶのが好ましいスルホン化剤を用いて行う。活
性炭の官能化は、通常、スルホン化剤:活性炭の重量比
を1:20から20:1、好ましくは1:5から5:1
として行う。官能化反応は、50〜350℃、好ましく
は70〜200℃の温度で、温度とスルホン化剤を考慮
して選択した長さの時間、行う。
浄水が中性になる迄、水で洗浄する。官能化した活性炭
を、酸化剤を用いて引き続き処理する。過酸化水素の希
釈水溶液(1〜4重量%)を、スルホン化活性炭:過酸
化水素溶液の重量比が1:10から1:100、好まし
くは1:20から1:50となるように用いるのが好ま
しい。得られる懸濁液を、攪拌しながら1〜4時間、3
0〜100℃、好ましくは50〜70℃の温度に保つ。
その後、濾過し、洗浄水中に酸化剤がなくなるまで洗浄
した後、100〜120℃の温度で乾燥させる。
S)で特性確認すると、C−SO3H基に固有のピーク
が存在していることが分かる。この方法により、固体サ
ンプルの表面に存在している化学種(約5nm以内)、
或る元素の酸化の状態、及び特定の原子のリガンドにつ
いての情報がもたらされる。実際は、シグナルの位置
を、周囲との電子交換により求める。
の約50ppmであると推定することができる(125
7ミクロン2×5nm)。分析は超高真空(UHV)
(10-10Torr)中で行う。その為、表面に物理的
に吸着している種が除去され、実質的に化学的に結合し
ている種が分析される。サンプルが良好な導電体である
為、分析は表面の静電荷の問題に影響されることはな
い。その為、「結合エネルギー」軸上に記録されるピー
クの位置は、誤差による影響を受けない。それらが、適
切な内部基準により検量されているからである。半定量
分析(原子%)により、測定することのできない水素以
外の、感度限界を超えて存在している全ての元素の原子
濃度がもたらされる。硫黄のシグナル(S)の高分解能
分析により、相対的な化学的環境についての指標が与え
られる。
て示すものである。スルホン化した活性炭のサンプルの
硫黄は、約3eV(結合エネルギー)の広がりをもっ
て、左右対称であることが分かる。これは、単一ではあ
るが、エネルギー的に異なる種が表面上に存在している
ことを示すものである。参考用のハンドブック(Handboo
k of XPS、 J. Chastain編、PE Corporation、ミズーリ
ー州、米国、1992年、60〜61頁)に記載されているデー
タと比較すると分かるように、エネルギーの極大ピーク
の位置(168.4±0.2eV)は、167〜169e
Vにあることが期待されるスルホンタイプの硫黄種(−
SO2OH)の存在を明確に示している。この種は、ス
ルフィドタイプの硫黄(161〜163eV)、もしく
はスルフェートタイプ(169〜171eV)の硫黄と
混同されることはない。
すると、キャリアに対する硫黄含有率が0.3〜0.5重
量%の、官能化された活性炭が得られる。しかしなが
ら、出発キャリア、及び作業条件によっては、これらの
値よりも小さいか、もしくは大きい量が導入されること
がある。0.1〜1.0重量%の硫黄量は、本発明の目的
には十分である。
活性炭に、第VIII族の金属を担持させることによって
作る。第VIII族の金属の非限定的な例は、パラジウ
ム、プラチナ、ルテニウム、イリジウム、ロジウム、及
びこれらの組み合わせである。パラジウム、もしくはプ
ラチナを用いるのが好ましい。パラジウムが特に好まし
い。官能化した活性炭に担持させる金属の量は、0.0
5〜5重量%、好ましくは0.1〜1重量%である。
を含浸させるか、もしくは吸着させ、必要に応じて、そ
の後、従来の方法に従って、水素もしくは化学的還元剤
を用いて金属を還元することにより行うことができる。
酢酸塩、ハロゲン化物、及び蓚酸塩から選ばれる金属塩
を用いるのが好ましい。本発明の触媒は、ハロゲン化化
合物から選ばれる促進剤の存在下、溶剤中で水素と酸素
から過酸化水素を直接製造する方法において特に有利で
ある。触媒は、通常、触媒に含まれる金属が反応媒体1
リットルにつき10-6〜10 -2モルとなるような量で用
いる。触媒を、触媒に含まれる金属が反応媒体1リット
ルにつき10-4〜10-3モルとなるような量で用いる
と、有利な結果が得られる。
れらの混合物から選ばれるものである。アルコールの例
は、メチルアルコール、エチルアルコール、及びイソプ
ロピルアルコールである。メチルアルコールが好まし
い。重量比が99/1から1/99、好ましくは90/
10から5/95の水:アルコール混合物を用いるのが
好ましい。
ム、臭化カリウム、臭素酸ナトリウム、もしくは臭化ア
ンモニウムのような臭素の化合物、及び塩化ナトリウ
ム、塩化カリウム、塩化アンモニウムのような塩素の化
合物である。臭素の化合物が、本発明の目的には好まし
い。特に好ましいのは、臭化水素酸、臭化ナトリウム、
及び臭化カリウムである。促進剤は通常、ハロゲン化物
イオンの濃度が反応媒体1リットルにつき10-7モルを
超えるような、好ましくは反応媒体1リットルにつき1
0-6〜10-4モルとなるような量で用いる。
下、不活性ガス(例えば窒素)を用いて、もしくは用い
ずに、一般的には大気圧よりも高い全圧で、好ましくは
50〜300気圧で、酸素と水素を反応媒体中で反応さ
せることにより実施する。H2/O2のモル比は1/1〜
1/100であって、好ましくは1/5〜1/50であ
り、また液状の反応媒体と接触している気相中の水素の
濃度を、H2/O2混合物の爆発限界外である、反応混合
物の4.5モル%未満の値に保つのが都合が良い。
粋な酸素の代わりに空気を用いて行うことができる。反
応は典型的には、0〜90℃、好ましくは15〜50℃
の温度で行う。反応終了後、過酸化水素を含む溶液を回
収し、触媒を濾過により分離して回収し、次の反応に再
循環させる。
チで行うこともできるし、連続的に行うこともできる。
得られる過酸化水素の溶液は、そのままで用いることが
できる。しかしながら、必要ならば、蒸留により溶剤を
除去する為に、濃縮処理に付すことができる。
で試薬を過酸化水素に変化させて、酸性度のない、もし
くは僅かな酸性度や微量の塩しか含んでいない過酸化水
素の溶液をもたらすことができる。このようにして得ら
れた過酸化水素の溶液は、過酸化水素の使用を含む酸化
工程に、酸や溶剤の処理といった複雑な中間処理作業を
行うことなく、直接用いることができる。
溶液は、前記の特許明細書に記載されているようなチタ
ンシリカライトにより触媒される酸化工程に、直接用い
ることができる。本発明の方法で得られる過酸化水素溶
液が、それらの工程を実施する為の最適反応条件と、以
下の点で非常に良く合致するからである。 − 溶液中の過酸化水素の濃度、 − 酸性度がないこと、又は僅かな酸性度、もしくは微
量の塩しか存在しないこと、 − 様々な比率で水、アルコール、もしくはそれらの混
合物からなっている溶剤媒体の組成。
以下の工程(a)〜(e)が含まれる。 (a)スルホン基により官能化された酸性の活性炭に担
持された第VIII族の金属からなる触媒の存在下、促進
剤を含む溶剤中で、水素と酸素を反応させることにより
過酸化水素を調製する工程、(b)過酸化水素を含む反
応混合物を回収する工程、(c)過酸化水素を含む反応
混合物を、チタン−シリカライトをベースとする触媒の
存在下で、オレフィン、芳香族炭化水素、アンモニア、
及びカルボニル化合物から選ばれる基質と接触させて所
望の酸化生成物を得る工程、(d)工程(c)の反応混
合物から酸化生成物を回収する工程、及び(e)工程
(c)で存在することのある未反応の基質と、工程
(a)及び工程(c)での反応溶剤を再循環させる工
程。
−シリカライトの例は、米国特許第4,410,501号
明細書に記載されているMFI構造を持つチタン−シリ
カライト、及び、例えばアルミニウム、鉄、ホウ素、も
しくはガリウムのような三価の金属により変性された上
記のチタン−シリカライトである。後者は、ヨーロッパ
特許第226,257号、第226,258号、及び第2
66,825号の各明細書に記載されている。
に記載されているMEL構造、もしくはMFIとMEL
の中間の構造をもつチタン−シリカライトも用いること
ができる。
もつチタン−シリカライトである。 xTiO2 *(1−x)SiO2 式中、xは0.0001〜0.04の数を表す。上記のチ
タンシリカライトは、米国特許第4,410,501号明
細書に記載されている方法に従って調製することができ
る。この明細書には、それらチタンシリカライトの構造
特性も明記されている。
させようとする基質を考慮して選択する。特に、オレフ
ィンのエポキシ化は、ヨーロッパ特許第100,119
号明細書に記載されているようにして行うことができ
る。本発明の方法により得られた過酸化水素のヒドロア
ルコール溶液を用いると、オレフィンのエポキシ化にお
いて選択性が向上し、また同時に、酸性度、及び/又
は、濃度が高いとエポキシ化反応を阻害する塩が実質的
に存在しない為に、処理作業が単純化される。実際、過
酸化水素の溶液は、僅かな酸性度(pH約4〜6、市販
の過酸化水素のpHより高い)しかないものが、安定化
剤なしに得られる。
ノン、過酸化水素、及びアンモニアからのシクロヘキサ
ノンオキシムの生成)、ターブタノール(TBA)の代
わりに過酸化水素のメタノール溶液を用いると、シクロ
ヘキサノンオキシムの分離工程、及び溶剤(メタノー
ル)の再循環が単純化される。TBAとは違い、過酸化
水素のメタノール溶液は、水と共沸混合物を生成するこ
とがないからである。
は、本発明そのものの範囲をどのようにも限定するもの
ではないと、解釈されるべきものである。
gを、5重量%のHCl水溶液が600ml入っている
1リットルのガラス製のフラスコに仕込む。この懸濁液
を攪拌しながら80℃にし、この温度に2.5時間保
つ。この懸濁液を室温(20〜25℃)に冷却し、濾過
して回収した活性炭を、塩化物が除去される迄、蒸留水
で洗浄し、120℃のオーブン中で2時間乾燥させる。
スコに仕込み、96%の硫酸を40ml、ゆっくり(約
2〜3分かけて)添加する。この活性炭−酸混合物を均
質にし、その後、油浴中で120℃に8時間加熱する。
反応終了後、室温に冷却し、このように処理した活性炭
を、蒸留水が500ml入っている1リットルのガラス
製のフラスコにゆっくり注ぎ入れる。その後、活性炭を
濾過して回収し、洗浄水が中性になる迄、蒸留水で洗浄
する。
の水溶液(3.5重量%)150ml中に懸濁させ、得
られる懸濁液を攪拌しながら、70℃に2時間保つ。そ
の後、それを濾過し、洗浄水中に過酸化水素がなくなる
迄、洗浄する。スルホン化した活性炭を回収して、12
0℃のオーブン中で2時間乾燥させる。光電子分光法
(XPS)で生じるX線により特性確認を行うと、C−
SO3Hのシグナルに相当するピークの存在が認められ
る(図1)。
子%)を、表1に示す。
1)について元素分析を行った。その結果(単位:mg
/kg)を表3に示す。硫黄含有量は、0.39重量%
である。
の温度で4時間行う。光電子分光法(XPS)で生じる
X線により特性確認を行うと、C−SO3Hのシグナル
に相当するピークの存在が認められる(図2)。
子%)を、表2に示す。
2)について元素分析を行った。その結果(単位:mg
/kg)を表3に示す。硫黄含有量は、0.48重量%
である。
活性炭4gを、250mlのガラス製のフラスコに仕込
む。この懸濁液を攪拌しながら、酢酸パラジウムのアセ
トン溶液(アルドリッヒ社製の98%の酢酸パラジウム
を86mg、アセトン20mlに溶かしたもの)を、2
〜3分かけて滴下する。この溶液を、40〜50℃の湯
浴に入れたロータリーエバポレーターで10〜20分間
濃縮して、溶剤の約30〜50%を除去する。それを、
ポンプを用いて濾過し、水で洗浄し、空気中で乾燥させ
た後、110℃のオーブン中で2時間乾燥させる。官能
化した活性炭に担持させたパラジウムを1%含む触媒が
得られる。
した活性炭を4g用いる。官能化した活性炭に担持させ
たパラジウムを1%含む触媒が得られる。
に生える松の木のスルホン化していない粉末状の活性炭
(CECA)を用いる。
×10-6モル)、及びHBrを6ppm含んでいる水:
メタノール(重量比1:8)溶液(反応混合物1リット
ル中のBr-は6×10-5モル)を9g、ガラス製の円
筒形の容器、テフロン製の磁気攪拌器、マノメーター、
及び熱交換器を取り付けたAISI316ステンレスス
チール製の100mlのオートクレーブに仕込む。
ット制御して閉じ、その後、水素4体積%、酸素4体積
%、及び窒素92体積%からなる、全圧が65atmの
予め調製した気体の混合物を仕込む。1分間に900回
の回転数で1時間攪拌し、気相を15分毎に、上記の組
成をもつ気体の混合物で置換する。
容物を濾過して触媒を除去し、溶液のアリコートを、過
マンガン酸カリウムで滴定分析して過酸化水素の濃度を
測定すると、反応混合物の2.9重量%であることが分
かる。溶液の重量、及び過酸化水素の濃度の増加量か
ら、転化水素についての選択率は50%である。
し、例4に記載したように調製した触媒を23mg用い
る。過酸化水素を3.1重量%含む溶液が得られる。溶
液の重量の増加量から、転化水素についての選択率は5
8%である。
し、例5に記載したように調製した触媒を23mg用い
る。過酸化水素の含有率が0.25重量%の溶液が得ら
れる。転化水素についての選択率は7%である。
とのできる磁気攪拌器、圧力調節器、恒温ジャケット、
及びガス流量調節器を取り付けた、ハステロイCスチー
ル製の300mlのオートクレーブ中で実験を行う。例
4に記載したように調製した触媒を0.45g(Pd4.
2×10-5モル)、及びHBrを4ppm含んでいる水
(反応混合物1リットル中のBr-は5×10-5モル)
を150g、このオートクレーブに仕込む。
6体積%、酸素46.4体積%、及び窒素50体積%か
らなる気体の混合物を用いて100atmに加圧する。
その後、1分間に1400回の回転数で攪拌を行い、連
続的なガス流量を300リットル/時として圧を100
atmに保つ。15分毎に反応器から採った気相のアリ
コートをガスクロマトグラフィーで分析することによ
り、反応を追跡する。テスト中、水素の転化率を一定に
保つ(45%)。
の濃度は12.5重量%となる。転化水素についての選
択率は60%である。溶液のSO4 --イオン含有率は、
3ppmである。
rを3ppm含んでいる(反応混合物1リットル中のB
r-は3×10-5モル)、重量比が10:90の水:メ
タノール混合物を150g用いる。15℃で、過酸化水
素の調製を行う。テスト中、水素の転化率は80%で一
定である。反応2時間後に、過酸化水素の濃度は13.
1重量%となった。転化水素についての選択率は75%
である。溶液のSO4 --イオン含有率は、2.5ppmで
ある。
量調節器を取り付けた、ハステロイCスチール製の38
0mlのオートクレーブを用いる。例3に記載したよう
に調製した触媒を0.60g(Pd5.6×10-5モ
ル)、及びHBrを5ppm含んでいる水(反応混合物
1リットル中のBr-は6.2×10-5モル)を200
g、このオートクレーブに仕込む。
6体積%、酸素36.4体積%、及び窒素60体積%か
らなる気体の混合物を用いて95atmに加圧する。そ
の後、1分間に1400回の回転数で攪拌を行い、同混
合気体を連続的に流して、この圧に保つ。テスト中、H
Brを5ppm含む水溶液を、1時間当たり120g連
続的に供給し、オートクレーブの液面を一定に保つのに
必要な体積の液体を排出させる。反応は、25℃で8時
間行う。反応器から15分毎に採った気相のアリコート
と、1時間毎に液相から採ったアリコートをガスクロマ
トグラフィーにより分析して、反応を追跡する。テスト
中、水素の転化率を85%に一定に保つ。
5重量%となる。転化水素についての選択率は60%で
ある。溶液のSO4 --イオン含有率は、2ppmであ
る。反応8時間後の過酸化水素の濃度、及び転化水素に
ついての選択率は、それぞれ6.5%、及び60%で一
定であり、また溶液のSO4 --イオン含有率は、1pp
m未満である。
水:メタノール混合物を反応媒体として用い、反応温度
を20℃とし、また水:メタノール混合物を1時間当た
り200g、連続的に供給する。テスト中、水素の転化
率を85%に一定に保つ。反応4時間後にサンプリング
を行うと、溶液の過酸化水素濃度は5.8重量%であ
る。20時間のテスト期間中、この値はずっと一定であ
る。水素に対する選択率は84%である。20時間後の
溶液のSO4 --イオン濃度は1ppm未満である。
を用い、反応時間を60時間に長くする。反応60時間
後の水素の転化率は88%で一定であり、過酸化水素の
濃度は6.2重量%で一定であり、また水素に対する転
化率は86%である。30時間後の反応溶出液のSO4
--イオン濃度は0である。
率2.05重量%)を5g、メタノール500gに入れ
たものを、気体効果のある機械的攪拌機と、サーモスタ
ット系(反応溶液中に沈めた内部コイル、及び外部循環
ジャケット)を取り付けた1リットルの反応器中で懸濁
させる。この系を40℃にサーモスタット制御し、プロ
ピレンで1.2atmに加圧し(反応中、ずっとこの圧
に保つ)、例13に記載したようにして得た6.22%
の過酸化水素溶液を266g、酸化剤の添加が15分で
終わるように、連続的に添加する。
している過酸化水素をヨードメトリーにより測定し、一
方、反応生成物をガスクロマトグラフィーにより定量す
る。結果は、以下の通りである。過酸化水素の転化率=
96%プロピレンオキシドに対する選択率=97%
率2.05重量%)を10g、 −メタノール 41重量%、 −水 31重量%、 −シクロヘキサノン 20重量%、及び −アンモニア 8重量% からなる混合物500gに入れたものを、気体効果のあ
る機械的攪拌機と、サーモスタット系(反応溶液中に沈
めた内部コイル、及び外部循環ジャケット)を取り付け
た1リットルの反応器中で懸濁させる。この系を80℃
にサーモスタット制御し、ヘリウムで1.5atmに加
圧し、例13で得た過酸化水素溶液(6.22%)を6
7.5g、連続的に5時間添加する。
している過酸化水素をヨードメトリーにより測定し、一
方、反応生成物をガスクロマトグラフィーにより定量す
る。結果は、以下の通りである。 シクロヘキサノンの転化率=92.5% シクロヘキサノンに対する選択率=96% 過酸化水素の転化率は、定量的である。
(XPS)により測定した結果を示すグラフであって、
C−SO3Hのシグナルに相当するピークを示すグラフ
である。特に、硫黄単独のピークを拡大して示したもの
である。
(XPS)により測定した結果を示すグラフであって、
C−SO3Hのシグナルに相当するピークを示すグラフ
である。特に、硫黄単独のピークを拡大して示したもの
である。
Claims (39)
- 【請求項1】水素と酸素から過酸化水素を直接合成する
のに用いることのできる、キャリアに担持された第VII
I族に属する金属からなる触媒であって、該キャリアが
スルホン基により官能化された酸性の活性炭である触
媒。 - 【請求項2】第VIII族に属する金属が、パラジウム、
プラチナ、ルテニウム、イリジウム、ロジウム、もしく
はこれらの組み合わせから選ばれるものである、請求項
1に記載の触媒。 - 【請求項3】金属がパラジウムである、請求項2に記載
の触媒。 - 【請求項4】第VIII族に属する金属の量がキャリアの
0.05〜5重量%である、請求項1に記載の触媒。 - 【請求項5】第VIII族に属する金属の量がキャリアの
0.1〜1重量%である、請求項4に記載の触媒。 - 【請求項6】官能化された活性炭が硫黄を0.1〜1重
量%含んでいる、請求項1に記載の触媒。 - 【請求項7】下記(a)〜(e)からなる工程により得
られる、請求項1に記載の触媒。 a)活性炭をスルホン化剤と、スルホン化剤:活性炭の
重量比を1:20から20:1として、50〜350℃
の温度で、接触させる工程、 b)官能化した活性炭を、洗浄水が中性になる迄、水で
洗浄する工程、 c)工程b)で得たスルホン化活性炭を、30〜100
℃の温度で酸化剤を用いて処理する工程、 d)工程c)で得た官能化した活性炭を、洗浄水中に酸
化剤がなくなる迄洗浄し、100〜120℃の温度で乾
燥させる工程、及び最後に e)第VIII族の金属を、スルホン基で官能化した活性
炭に担持させる工程。 - 【請求項8】活性炭を50〜80℃の温度で、塩酸の1
〜5重量%水溶液を用いて洗浄する工程a’)が、工程
a)の前にある、請求項7に記載の触媒。 - 【請求項9】工程a)において、スルホン化剤:活性炭
の重量比が1:5から5:1であり、温度が70〜20
0℃である、請求項7に記載の触媒。 - 【請求項10】スルホン化剤が硫酸、SO3、及びオレ
ウムから選ばれるものである、請求項7に記載の触媒。 - 【請求項11】工程c)において、1〜4重量%の濃度
の過酸化水素の水溶液を、スルホン化活性炭と過酸化水
素の水溶液の重量比を1:10から1:100として用
いる、請求項7に記載の触媒。 - 【請求項12】スルホン化活性炭と過酸化水素の水溶液
の重量比が1:20から1:50である、請求項11に
記載の触媒。 - 【請求項13】工程c)における温度が50〜70℃で
ある、請求項7に記載の触媒。 - 【請求項14】金属触媒のキャリアとして用いることの
できる、スルホン基により官能化された酸性の活性炭。 - 【請求項15】キャリアに担持された第VIII族の金属
からなる触媒の存在下、促進剤を含む溶剤中で水素と酸
素を反応させて過酸化水素を直接合成する方法であっ
て、該キャリアがスルホン基により官能化された酸性の
活性炭である方法。 - 【請求項16】第VIII族の金属が、パラジウム、プラ
チナ、ルテニウム、イリジウム、ロジウム、もしくはこ
れらの組み合わせから選ばれるものである、請求項15
に記載の方法。 - 【請求項17】金属がパラジウムである、請求項16に
記載の方法。 - 【請求項18】促進剤がハロゲンを含有する化合物であ
る、請求項15に記載の方法。 - 【請求項19】ハロゲンを含有する化合物が、臭化水素
酸、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭素酸ナトリウ
ム、臭化アンモニウム、及び塩化ナトリウム、塩化カリ
ウム、塩化アンモニウムのような塩素の化合物からなる
群から選ばれるものである、請求項18に記載の方法。 - 【請求項20】化合物が臭化水素酸、臭化ナトリウム、
もしくは臭化カリウムである、請求項19に記載の方
法。 - 【請求項21】促進剤を、ハロゲン化物イオンの濃度が
反応媒体1リットルにつき10-7モルを超えるような量
で用いる、請求項15に記載の方法。 - 【請求項22】促進剤を、ハロゲン化物イオンの濃度が
反応媒体1リットルにつき10-6〜10-4モルとなるよ
うな量で用いる、請求項21に記載の方法。 - 【請求項23】反応媒体が、水、アルコール、もしくは
これらの混合物から選ばれるものである、請求項15に
記載の方法。 - 【請求項24】アルコールがメタノール、エタノール、
イソプロパノールから選ばれるものである、請求項23
に記載の方法。 - 【請求項25】アルコールがメタノールである、請求項
24に記載の方法。 - 【請求項26】反応媒体が重量比99:1から1:99
の水:アルコール混合物である、請求項15に記載の方
法。 - 【請求項27】水:アルコールの重量比が90:10か
ら5:95である、請求項26に記載の方法。 - 【請求項28】反応を0〜70℃の温度で行う、請求項
15に記載の方法。 - 【請求項29】温度が15〜50℃である、請求項28
に記載の方法。 - 【請求項30】反応を大気圧より高い全圧で、且つ水
素:酸素のモル比を1:1から1:100として行う、
請求項15に記載の方法。 - 【請求項31】全圧が50〜300気圧であり、且つ水
素:酸素のモル比が1:5から1:50である、請求項
30に記載の方法。 - 【請求項32】酸素源として空気を用いて反応を行う、
請求項15に記載の方法。 - 【請求項33】触媒を、触媒に含まれる金属が反応媒体
1リットルにつき10-6〜10-2モルとなるような量で
用いる、請求項15に記載の方法。 - 【請求項34】触媒を、触媒に含まれる金属が反応媒体
1リットルにつき10-4〜10-3モルとなるような量で
用いる、請求項33に記載の方法。 - 【請求項35】下記工程(a)〜(e)からなる、基質
の接触酸化方法。 (a)スルホン基により官能化された酸性の活性炭に担
持された第VIII族の金属からなる触媒の存在下、促進
剤を含む溶剤中で水素と酸素を反応させて過酸化水素を
調製する工程、 (b)過酸化水素を含む反応混合物を回収する工程、 (c)チタン−シリカライトをベースとする触媒の存在
下で、過酸化水素を含む反応混合物を、オレフィン、芳
香族炭化水素、アンモニア、及びカルボニル化合物から
選ばれる基質と接触させて所望の酸化生成物を得る工
程、 (d)工程(c)の反応混合物から酸化生成物を回収す
る工程、及び (e)工程(c)で存在することのある未反応の基質
と、工程(a)及び工程(c)での反応溶剤を再循環さ
せる工程。 - 【請求項36】工程(c)において、触媒が、MFI構
造をもつチタン−シリカライト、及びMEL構造もしく
はMFIとMELの中間の構造をもつチタン−シリカラ
イトから選ばれるものである、請求項35に記載の方
法。 - 【請求項37】MFI構造をもつチタン−シリカライト
が、アルミニウム、鉄、ホウ素、もしくはガリウムから
選ばれる三価の金属で変性されている、請求項36に記
載の方法。 - 【請求項38】触媒が、下記式をもつチタン−シリカラ
イトである、請求項35に記載の方法。 xTiO2 *(1−x)SiO2 (式中、xは0.0001〜0.04の数を表す)。 - 【請求項39】該方法が連続的に行われる、請求項35
に記載の方法。
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