JP2000203143A - オフセット印刷方法及び印刷装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】アルカリ性現像液を必要とせず、簡易に製版で
きて、かつ印刷面の画像部と非画像部の識別性が高い実
用レベルの印刷画質を有し、さらに印刷用原板を反復使
用することも可能なオフセット印刷方法及び印刷装置を
提供する。 【解決手段】表面が酸化チタン、酸化亜鉛などの特定の
熱応答特性をもつ物質の一つで構成された印刷用原板を
親水性発現温度（２００℃以上）に加熱して表面を親水
性表面としたのち、疎水性発現温度（５０〜２５０℃）
でヒーモードの描画を施して疎水性の画像領域を形成さ
せ、画像領域に印刷用インクを受容させて行うオフセッ
ト印刷方法及びその装置。また、印刷済みの印刷版面上
に残存するインクを洗浄除去したのち、その印刷用原版
を用いて上記の操作を反復する印刷原板の再使用方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般軽印刷分野、
とくにオフセット印刷、とりわけ簡易に印刷版を製作で
きる新規なオフセット印刷方法及び印刷原板に関するも
のである。その中でもとくに印刷用原板の反復再生使用
を可能にするオフセット印刷方法、その印刷用原板及び
それらによる印刷装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】オフセット印刷法は、数多くの印刷方法
の中でも印刷版の製作工程が簡単であるために、とくに
一般的に用いられてきており、現在の主要な印刷手段と
なっている。この印刷技術は、油と水の非混和性に基づ
いており、画像領域には油性材料つまりインキが、非画
像領域には湿し水が選択的に保持される。したがって印
刷される面と直接あるいはブランケットと称する中間体
を介して間接的に接触させると画像部のインキが転写さ
れて印刷が行われる。

【０００３】オフセット印刷の主な方法は、アルミニウ
ム基板を支持体としてその上にジアゾ感光層を塗設した
ＰＳ板である。ＰＳ板においては、支持体であるアルミ
ニウム基板の表面に砂目立て、陽極酸化、その他の諸処
理を施して画像領域のインキ受容能と非画像部のインキ
反発性を強め、耐刷力を向上させ、印刷面の精彩化を図
るなどを行い、その表面に印刷用画像を形成させる。し
たがってオフセット印刷は、簡易性に加えて耐刷力や印
刷面の高精細性などの特性も備わってきている。

【０００４】高精細化によってオフセット印刷法の利用
が拡がって一般印刷分野に普及する一方において、オフ
セット印刷法の一層の簡易化が要望され、数多くの簡易
印刷方法が提案されている。

【０００５】その代表例がAgfa-Gevaert社から市販され
たCopyrapid オフセット印刷版をはじめ、米国特許３５
１１６５６号、特開平７−５６３５１号などでも開示さ
れている銀塩拡散転写法による印刷版作製に基づく印刷
方法であって、この方法は、１工程で転写画像を作るこ
とができて、かつその画像が親油性であるために、その
まま印刷版とすることができるので、簡易な印刷方法と
して実用されている。しかしながら、簡易とはいいなが
らこの方法もアルカリ現像液による拡散転写現像工程を
必要としている。現像液による現像工程を必要としな
い、しかも簡易な印刷方法が要望されている。

【０００６】画像露光を行ったのちのアルカリ現像液に
よる現像工程を省略した簡易印刷版の製作方法の開発
は、上記の背景から行われてきた。現像工程を省略でき
ることから無処理刷版とも呼ばれるこの簡易印刷版の技
術分野では、これまでに主として像様露光による画像
記録面上の照射部の熱破壊による像形成、像様露光に
よる照射部の親油性化による画像形成、同じく照射部
の親油性化であるが、光モード硬化によるもの、ジア
ゾ化合物の光分解による表面性質の変化、画像部のヒ
ートモード溶融熱転写などの諸原理に基づく手段が提案
されている。

【０００７】上記の簡易オフセット印刷方法として開示
されている技術には、米国特許第３，５０６，７７９
号、同第３，５４９，７３３号、同第３，５７４，６５
７号、同第３，７３９，０３３号、同第３，８３２，９
４８号、同第３，９４５，３１８号、同第３，９６２，
５１３号、同第３，９６４，３８９号、同第４，０３
４，１８３号、同第４，０８１，５７２号、同第４，６
９３，９５８号、同第７３１，３１７号、同第５，２３
８，７７８号、同第５，３５３，７０５号、同第５，３
８５，０９２号、同第５，３９５，７２９号等の米国特
許及び欧州特許第１０６８号などがある。

【０００８】これらは、製版に際して現像液を必要とし
ないように考案されているが、親油性領域と親水性領域
との差異が不十分であること、したがって印刷画像の画
質が劣ること、解像力が劣り、鮮鋭度の優れた印刷画面
が得にくいこと、画像面の機械的強度が不十分で傷がつ
きやすいこと、そのために保護膜を設けるなどによって
却って簡易性が損なわれること、長時間の印刷に耐える
耐久性が不十分なことなどのいずれか一つ以上の欠点を
伴っていて、単にアルカリ現像工程を無くすだけでは実
用性は伴わないことを示している。印刷上必要とされる
諸特性を具備し、かつ簡易に印刷版を製作できる印刷版
作成方法への強い要望は、上記の数々の改良にも係わら
ず、いまだに十分に満たされていない。

【０００９】上記した無処理型印刷版作成方法の一つに
ジルコニアセラミックが光照射によって親水性化するこ
とを利用した印刷版作製方法が特開平９−１６９０９８
号で開示されている。しかし、ジルコニアの光感度は不
十分であり、かつ疎水性から親水性への光変換効果が不
十分のため画像部と非画像部の識別性が不足している。

【００１０】上記した現像液を必要としない簡易な印刷
方法とともに、使用済みの印刷用原板を簡単に再生して
再使用できる手段があれば、コストの低減と廃棄物の軽
減の２面から有利である。印刷用原板の再生使用には、
その再生操作の簡易性が実用価値を左右するが、再生操
作の簡易化は難度の高い課題であり、従来殆ど検討され
きておらず、わずかに上記の特開平９−１６９０９８号
でジルコニアセラミックという特殊な原板用材料につい
て開示されているに過ぎない。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
している課題は、上記事情に鑑みてアルカリ性現像液を
必要とせず、簡易に製版できて、かつ印刷面の画像部と
非画像部の識別性が高く、実用レベルの印刷画質を有
し、さらに印刷用原板を反復して使用することも可能な
オフセット印刷方法を提供することである。本発明の第
２の目的は、上記の印刷方法によって簡易な操作によっ
て実用レベルの印刷品質の印刷を行い、かつ印刷原板を
繰り返して使用することのできる印刷装置を提供するこ
とである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者たちは、上記の
目的を達成するために、鋭意検討の結果、ある種の金属
酸化物及び金属の表面は、熱の作用によって表面の疎水
性〜親水性の程度が変化し、かつその変化は加熱条件に
よって疎水性化、親水性化のいずれの方向にも変わりう
る性質を有することを認め、この性質を版面上への印刷
用画像の形成と印刷終了後の版面の画像の消去に利用す
ることによって上記の課題を解決できる可能性を見いだ
し、これに基づいて本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明は、下記の通りである。

【００１３】１． 印刷用原板を高温親水性発現温度で
加熱することによってその表面を親水性化し、次いで該
原板に疎水性発現温度でヒートモードの描画を施すこと
によって疎水性の画像領域を形成させ、該画像領域を印
刷用インキに接触させることによって画像領域がインキ
を受け入れた印刷面を形成させて印刷を行うことを特徴
とするオフセット印刷方法。

【００１４】２．高温親水性発現温度が２００℃以上で
あり、疎水性発現温度が５０〜２５０℃でかつ前記高温
親水性発現温度よりも低い温度であることを特徴とする
請求項１に記載のオフセット印刷方法。

【００１５】３．印刷に使用した印刷版面上に残存する
インキを洗浄除去したのち、その印刷用原板を用いて上
記１又は２に記載の操作を反復して印刷を行うことを特
徴とする上記１又は２に記載の印刷方法。

【００１６】４．印刷用原板の表面が、周期律表の第３
〜６周期に属していて、かつ０及びVII Ａ（ハロゲン元
素）族以外の元素から選択される金属及びその金属の酸
化物の少なくとも一つによって構成されていることを特
徴とする上記１〜３のいずれか１項に記載のオフセット
印刷方法。

【００１７】５．印刷用原板の表面が、ＴｉＯ₂ 、ＲＴ
ｉＯ₃ （Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ
_3-x Ｅ_x Ｏ₁₀（Ａは水素原子又はアルカリ金属原子、Ｂ
はアルカリ土類金属原子又は鉛原子、Ｃは希土類原子、
Ｄは周期律表の５Ａ族元素に属する金属原子、Ｅは同じ
く４Ａ族元素に属する金属原子、ｘは０〜２の任意の数
値を表す）、ＳｎＯ₂ ，Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＳｉＯ₂ ，ＧｅＯ
₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，ＺｎＯ及びＦｅ₂ Ｏ₃ から選ばれる金
属酸化物の少なくとも一つによって構成されていること
を特徴とする上記１〜４のいずれか１項に記載のオフセ
ット印刷方法。

【００１８】６．印刷用原板の表面が、アルミニウム、
鉄、銅、珪素、ニッケル、ゲルマニウム、亜鉛及び錫か
ら選ばれる金属又は金属合金の少なくとも一つによって
構成されていることを特徴とする上記１〜５のいずれか
１項に記載のオフセット印刷方法。

【００１９】７．前記ヒートモードの描画が、感熱転写
記録用ヘッド及び光・熱変換型輻射線から選ばれる描画
手段の一つによって行われることを特徴とする上記１〜
６のいずれか１項に記載のオフセット印刷方法。

【００２０】８．印刷用原版の表面を親水化する加熱温
度が、３００〜７００℃であることを特徴とする上記１
〜７のいずれか１項に記載のオフセット印刷方法。 ９．親水性化した印刷用原板に施すヒートモードの描画
が、有機化合物の存在下で行うことを特徴とする上記１
〜８のいずれか１項に記載のオフセット印刷方法。

【００２１】１０．ヒートモードの描画において存在さ
せる有機化合物が、温度４００℃において少なくとも１
ｍｍＨｇ以上の蒸気圧を有し、かつ高温親水性発現温度
において安定な有機化合物であることを特徴とする請求
項９に記載のオフセット印刷方法。

【００２２】１１．ヒートモードの描画において存在さ
せる有機化合物が、沸点が３０〜４００℃の範囲にあっ
て、かつ高温親水性発現温度において安定な有機化合物
であることを特徴とする請求項９又は１０に記載のオフ
セット印刷方法。

【００２３】１２．上記１〜１１項のいずれか１項に記
載の方法に使用するオフセット印刷装置であって、印刷
用原板を装着する原板装着部と、該原板を高温親水性発
現温度に加熱してその表面を親水性化する加熱手段と、
該原板に疎水性発現温度でヒートモードの描画を施して
疎水性の画像領域を形成させる描画手段と、該画像領域
に印刷用インキを供給して画像領域がインキを受け入れ
た印刷面を形成させるインキ供給手段と、該印刷面を印
刷される面と接触させて印刷を行う印刷手段と、を有す
ることを特徴とするオフセット印刷装置。

【００２４】１３．印刷終了後、印刷版に残存するイン
キを除去する手段を有することを特徴とする上記１２に
記載のオフセット印刷装置。

【００２５】１４．少なくとも露光手段、描画手段、イ
ンキ供給手段およびインキ除去手段が、版胴の周囲に配
設されてなることを特徴とする上記１２又は１２に記載
のオフセット印刷装置。

【００２６】１５．印刷用原板が版胴の一部を構成して
おり、少なくとも露光手段、描画手段、インキ供給手段
およびインキ除去手段が、版胴の周囲に配設されてなる
ことを特徴とする上記１２〜１４のいずれか１項に記載
のオフセット印刷装置。

【００２７】本発明は、特定の物質（主として上記した
金属酸化物及び金属）の表面物性の特異な熱変化挙動の
発見に基づいてなされたものである。すなわち、この特
定の物質の清浄な表面は、本来親水性であるが、適度
の温度（以後、「疎水性発現温度」という）で加熱を行
うと疎水性に変化すること、さらに高温度（以後、
「高温親水性発現温度」という）に加熱すると再び親水
性となること、及びこれらの表面の性質の変化には履
歴効果があることの発見に基づいている。

【００２８】この性質を利用すれば、第１段階としてま
ず親水性発現温度で高温加熱を行ってその物質の表面を
親水性とし、つぎに第２段階としてその表面を画像状に
疎水性発現温度で加熱して疎水性領域を画像状に形成
し、次いで第３段階として疎水性領域に印刷用インキ
を、親水性領域に湿し水をそれぞれ保持させてオフセッ
ト印刷を行うことが可能である。さらに、印刷の終了後
に使用済みの印刷版のインキを洗浄除去して、その版を
再び親水性発現温度に加熱すると印刷済みの画像が消去
されるので、印刷原板として上記の製版、印刷過程に再
び使用できる。なお、言うまでもないが、上記の第１段
階の親水性発現温度での加熱と第２段階の疎水性発現温
度での加熱の間では、自然冷却あるいは強制冷却によっ
てこの物質の表面を疎水性発現温度以下に下げておく必
要がある。本発明に適用される上記の物質は履歴効果が
あって、一旦高温親水性発現温度で親水化された表面は
冷却の過程で疎水性発現温度領域を経ても疎水性に変化
することなく冷却される。疎水性発現温度領域以下まで
冷却された親水性表面を再び疎水性発現温度に加熱する
と疎水性化する。しかも、ヒートモード描画で得られた
原板上の疎水性画像領域は、履歴効果によって室温下に
おいても安定に維持される。以下の記述において、熱に
対して、及びの特性を有する上記物質を「熱応答
型物質」と呼ぶ。上記の熱応答型物質は、金属及び金属
酸化物の中に多く認められており、これらの金属及び金
属酸化物をそれぞれ「熱応答型金属」及び「熱応答型金
属酸化物」と呼ぶこととする。熱応答型物質と、その特
異な熱応答挙動については、後に詳細に説明する。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。はじめに、本発明で用いる「熱応答
型物質」について説明する。熱応答型物質は、上記、
及びの特性を具備した物質と定義したが、この特性
は、多くの金属及び金属酸化物に見られ、その中にはセ
ラミック、半導体などの機能性材料として用いられてい
るものも含まれている。熱応答型セラミックは、複合金
属酸化物からなっており、熱応答型半導体の多くは、基
底順位と伝導体が近い珪素やゲルマニウムなどの真正半
導体と不純物準位に依存する酸化バナジウムや酸化銅な
どの仮性半導体との両方に見られる。これらセラミック
及び半導体は、本発明に利用する物質の熱応答特性の上
では、他の金属酸化物及び金属と同様であるので、それ
らを「熱応答型金属酸化物」及び「熱応答型金属」に含
めて以下にその順序に説明する。

【００３０】前記した適度の加熱によって疎水性とな
り、さらに加熱すると親水性となる特性を有しており、
かつ履歴現象を示す熱応答型金属酸化物として用いるこ
とのできる金属及び金属酸化物は、いろいろの形態のも
のがあり、単一の金属や金属酸化物、合金や複合酸化物
のいずれの場合もあり、また後者の場合は、固溶体、混
晶、多結晶体、非晶質固溶体、金属酸化物微結晶の混合
物のいずれからもこの特性を有するものが認められる。
このような特性をもつ金属酸化物は、経験的に周期律表
の０と VIIＡ（ハロゲン元素）族を除く第３〜６周期に
属する元素の金属やその金属の酸化物に見いだされる。
これらの金属及び金属酸化物は、印刷版として使用する
際に湿し水に対して過度に溶解してはならないので、水
に対する溶解度は、水１００ミリリットルについて１０
ｍｇ以下、好ましくは５ｍｇ以下、より好ましくは１ｍ
ｇ以下である。

【００３１】「熱応答型金属酸化物」の中でも好ましい
化合物として、まず、酸化チタンと酸化亜鉛から説明す
る。いずれも熱応答性を具備した印刷版材料として本発
明に利用できるが、特に酸化チタンが感度（つまり表面
性の光変化特性）などの点で好ましい。酸化チタンは、
イルメナイトやチタンスラグの硫酸加熱焼成、あるいは
加熱塩素化後酸素酸化など既知の任意の方法で作られた
ものを使用できる。あるいは後述するように金属チタン
を用いて印刷版製作段階で真空蒸着によって酸化物皮膜
とする方法も用いることができる。

【００３２】酸化チタン又は酸化亜鉛を含有する層を原
板の表面に設けるには、たとえば、 酸化チタン微結晶又は酸化亜鉛微結晶の分散物を印刷
版の原板上に塗設する方法、塗設したのち焼成してバ
インダーを減量或いは除去する方法、印刷原板上に蒸
着、スパッタリング、ＣＶＤ、イオンプレーティングな
どの方法で酸化チタン（又は酸化亜鉛）膜を設ける方
法、例えばチタニウムブトキシドのようなチタン有機
化合物を原板上に塗布したのち、焼成酸化を施して酸化
チタン層とする方法など、既知の任意の方法を用いるこ
とができる。本発明においては、真空蒸着又はスパッタ
リングによる酸化チタン層が特に好ましい。

【００３３】上記又はの酸化チタン微結晶を塗設す
る方法には、具体的には無定形酸化チタン微結晶分散物
を塗布したのち、焼成してアナターゼまたはルチル型の
結晶酸化チタン層とする方法、酸化チタンと酸化シリコ
ンの混合分散物を塗布して表面層を形成させる方法、酸
化チタンとオルガノシロキサンなどとの混合物を塗布し
てシロキサン結合を介して支持体と結合した酸化チタン
層を得る方法、酸化物層の中に酸化物と共存するポリマ
ーバインダーに分散して塗布したのち、焼成して有機成
分を除去する方法などがある。酸化物微粒子のバインダ
−には、酸化チタン微粒子に対して分散性を有し、かつ
比較的低温で焼成除去が可能なポリマーを用いることが
できる。好ましいバインダーの例としては、ポリエチレ
ンなどのポリアルキレン、ポリブタジエン、ポリアクリ
ル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリ蟻酸ビニル、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、ポリビニルアルコール、部
分鹸化ポリビニルアルコール、ポリスチレンなどの疎水
性バインダーが好ましく、それらの樹脂を混合して使用
してもよい。

【００３４】上記の酸化チタンの真空蒸着を行うに
は、通常真空蒸着装置内の蒸着用加熱の熱源に金属チタ
ンを置き、真空度１０^-8〜１０^-5Ｔｏｒｒで全ガス圧１
０^-5〜１０^-2Ｔｏｒｒ、酸素分圧比が５〜９０％になる
ようにしながら、チタン金属を蒸発させると、蒸着面に
は酸化チタンの蒸着薄膜が形成される。また、スパッタ
リングによる場合は、例えばスパッタ装置内にチタン金
属ターゲットをセットしてＡｒ／Ｏ₂ 比が６０／４０
（モル比）となるようにガス圧を５×１０^-3Torrに調整
したのち、ＲＦパワー２００Ｗを投入してスパッタリン
グを行って酸化チタン薄膜を基板上に形成させる。

【００３５】一方、本発明に酸化亜鉛層を使用する場
合、その酸化亜鉛層は既知の任意の方法で作ることがで
きる。とくに金属亜鉛板の表面を電解酸化して酸化皮膜
を形成させる方法と、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶ
Ｄ、イオンプレーティングなどによって酸化亜鉛皮膜を
形成させる方法が好ましい。酸化亜鉛の蒸着膜は、上記
の酸化チタンの蒸着と同様に金属亜鉛を酸素ガス存在下
で蒸着して酸化膜を形成させる方法や、酸素のない状態
で亜鉛金属膜を形成させたのち、空気中で温度を約７０
０℃にあげて酸化させる方法を用いることができる。そ
のほか、蓚酸亜鉛の塗布層やセレン化亜鉛の薄層を酸化
性気流中で加熱しても得られる。

【００３６】蒸着膜の厚みは、酸化チタン層、酸化亜鉛
層いずれの場合も１〜１０００００オングストロ−ムが
よく、好ましくは１０〜１００００オングストロ−ムで
ある。さらに好ましくは３０００オングストロ−ム以下
として光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作
用を十分に発現させるには厚みが５０オングストローム
以上あることが好都合である。

【００３７】酸化チタンはいずれの結晶形のものも使用
できるが、とくにアナターゼ型のものが感度が高く好ま
しい。アナターゼ型の結晶は、酸化チタンを焼成して得
る過程の焼成条件を選ぶことによって得られることはよ
く知られている。その場合に無定形の酸化チタンやルチ
ル型酸化チタンが共存してもよいが、アナターゼ型結晶
が４０％以上、好ましくは６０％以上含むものが上記の
理由から好ましい。酸化チタンあるいは酸化亜鉛を主成
分とする層における酸化チタンあるいは酸化亜鉛の体積
率は、それぞれ３０〜１００％であり、好ましくは５０
％以上を酸化物が占めるのがよく、さらに好ましくは酸
化物の連続層つまり実質的に１００％であるのがよい。
しかしながら、表面の親水性／親油性変化特性は、酸化
亜鉛を電子写真感光層に用いるときのような著しい純度
による影響はないので、１００％に近い純度のもの（例
えば９８％）をさらに高純度化する必要はない。それ
は、本発明に利用される物性は、導電性とは関係ない膜
表面の親水性／親油性の性質変化特性、すなわち界面物
性の変化特性であることからも理解できることである。

【００３８】しかしながら、熱の作用によって表面の親
水性が変化する性質を増進させるためにある種の金属を
ドーピングすることは有効な場合があり、この目的には
イオン化傾向が小さい金属のドーピングが適しており、
Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｏ又は
Ｃｒをドーピングするのが好ましい。また、これらの好
ましい金属を複数ドーピングしてもよい。ドーピングを
行った場合も、その注入量は酸化亜鉛や酸化チタン中の
金属成分に対して５モル％以下である。

【００３９】一方、体積率が低いと層の表面の親水性／
親油性の熱応答挙動の敏感度が低下する。したがって、
層中の酸化物の体積率は、３０％以上であることが望ま
しく、とくに実質的に１００％であることが好ましい。

【００４０】ＲＴｉＯ₃ の一般式で示したチタン酸金属
塩模本発明に好ましく適用できる化合物であり、つぎに
この化合物について説明する。一般式ＲＴｉＯ₃ におい
て、Ｒはマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、
バリウム、ベリリウムなどの周期律表のアルカリ土類元
素に属する金属原子であり、とくにストロンチウムとバ
リウムが好ましい。また、２種以上のアルカリ土類金属
原子をその合計が上記の式に化学量論的に整合する限り
共存することができる。

【００４１】次に、一般式ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ_x Ｏ₁₀
で表される化合物について説明する。この一般式におい
て、Ａは水素原子及びナトリウム、カリウム、ルビジウ
ム、セシウム、リチウムなどのアルカリ金属原子から選
ばれる１価原子で、その合計が上記の式に化学量論的に
整合する限りそれらの２種以上を共存してもよい。Ｂ
は、上記のＲと同義のアルカリ土類金属原子又は鉛原子
であり、同様に化学量論的に整合する限り２種以上の原
子が共存してもよい。Ｃは希土類原子であり、好ましく
は、スカンジウム及びイットリウム並びにランタン、セ
リウム、プラセオジウム、ネオジウム、ホルミウム、ユ
ウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ツリウム、イ
ッテルビウム、ルテチウムなどのランタノイド系元素に
属する原子であり、また、その合計が上記の式に化学量
論的に整合する限りそれらの２種以上を共存してもよ
い。Ｄは周期律表の５Ａ族元素から選ばれた一種以上
で、バナジウム、ニオブ、タンタルが挙げられる。ま
た、化学量論関係を満たす限り、２種以上の５Ａ族の金
属原子が共存してもよい。Ｅは同じくチタン、ジルコニ
ウム、ハフニウムなどの４Ａ族元素に属する金属原子で
あり、また、２種以上の４Ａ族の金属原子が共存しても
よい。ｘは０〜２の任意の数値を表す。

【００４２】ＲＴｉＯ₃ や一般式ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ
_x Ｏ₁₀で表される上記化合物を原板の表面に設ける場合
も、酸化チタン及び酸化亜鉛を設ける前記の方法を用い
ることが好ましい。すなわち、上記熱応答型金属酸化
物の微粒子の分散物を印刷版の原板上に塗設する方法、
塗設したのち焼成してバインダーを減量或いは除去す
る方法、印刷版の原板上に上記酸化物を各種の真空薄
膜法で膜形成する方法、例えば金属元素のアルコレー
トのような有機化合物を原板上に塗布したのち、加水分
解させ、さらに焼成酸化を施して適当な厚みの金属薄膜
とする方法、上記金属を含む塩酸塩、硝酸塩などの水
溶液を加熱スプレーする方法など、既知の任意の方法を
用いることができる。

【００４３】例えば、上記、の塗設方法によってチ
タン酸バリウム微粒子を塗設するには、チタン酸バリウ
ムとシリコンの混合分散物を塗布して表面層を形成させ
る方法、チタン酸バリウムとオルガノポリシロキサンま
たはそのモノマ−との混合物を塗布する方法などがあ
る。また、酸化チタンの項で述べたように、酸化物層の
中に酸化物と共存できるポリマーバインダーに分散して
塗布した後、焼成して酸化物層とすることもできる。酸
化物微粒子のバインダ−として好ましいポリマーの例
は、酸化チタン層の項で述べたものと同じである。この
方法の場合にはチタン酸バリウム以外にチタン酸マグネ
シウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム
又はそれらの分子間化合物、混合物も同様に薄膜形成可
能である。

【００４４】同様にして上記、の塗設方法によって
ＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀微粒子を塗設することも可能
である。ＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀微粒子は、その化学
量論に対応するＣｓ₂ ＣＯ₃ , Ｌａ₂ Ｏ₃ , ＮｂＯ₅ ,
ＴｉＯ₂ を乳鉢で微粉砕して、白金るつぼに入れ、１３
０℃ で５時間焼成し、それを冷却してから乳鉢に入れ
て数ミクロン以下の微粒子に粉砕する。このＣｓＬａ₂
ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀微粒子を前記のチタン酸バリウムと同様
にバインダーの中に分散し、塗布して薄膜を形成した。
この方法は、ＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀型微粒子に限ら
ず、ＨＣａ_1.5Ｌａ_0.5 Ｎｂ_2.5 Ｔｉ_0.5 Ｏ₁₀，ＨＬａ
₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀など前述のＡＢ_2-x Ｃ _x Ｄ_3-x Ｅ_x Ｏ
₁₀、（０≦ｘ≦２）に適用される。

【００４５】上記の真空薄膜形成法を用いた熱応答型
金属酸化物層の形成方法としては、一般的にはスパッタ
リング法あるいは真空薄膜形成法が用いられる。スパッ
タリング法では、あらかじめ単一もしくは複合型の酸化
物ターゲットを準備する。例えば、チタン酸バリウムタ
ーゲットを用いて蒸着膜用の支持体の温度を４５０℃以
上に保ち、アルゴン／酸素混合雰囲気中でＲＦスパッタ
リングを行うことによりチタン酸バリウム結晶薄膜が得
られる。結晶性の制御には必要に応じてポストアニーリ
ングを３００〜９００℃で行えばよい。本方法は前述の
ＲＴｉＯ₃ （Ｒはアルカリ土類金属原子）をはじめ他の
前記熱応答型金属酸化物にも、結晶制御に最適な基板温
度を調整すれば同様の考え方で薄膜形成が可能である。
例えば酸化錫薄膜を設ける場合には基板温度１２０℃、
アルゴン／酸素混合雰囲気中でＲＦスパッタリングを行
うことにより酸化錫結晶の本目的に沿う薄膜が得られ
る。

【００４６】上記の金属アルコレートを用いる方法
も、バインダーを使用しないで目的の薄膜形成が可能な
方法である。チタン酸バリウムの薄膜を形成するにはバ
リウムエトキシドとチタニウムブトキシドの混合アルコ
ール溶液を表面にＳｉＯ₂ を有するシリコン基板上に塗
布し、その表面を加水分解したのち、２００℃以上に加
熱してチタン酸バリウムの薄膜を形成することが可能で
ある。本方式の方法も前述した他のＲＴｉＯ₃ （Ｒはア
ルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ_xＯ
₁₀（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞれ前記の定義の内容を
表す）、ＳｎＯ₂ ，ＳｉＯ₂ ，Ｂｉ₂ Ｏ₃ 、ＳｅＯ₂ ，
ＧｅＯ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ 及びＦｅ₂ Ｏ₃ の薄膜形成に適用
することができる。

【００４７】上記によって熱応答性機能を発現する金
属酸化物薄膜を形成させる方法も、バインダーを含まな
い系の薄膜の形成が可能である。ＳｎＯ₂ の薄膜を形成
するにはＳｎＣｌ₄ の塩酸水溶液を２００℃以上に加熱
した石英又は結晶性ガラス表面に吹きつけて薄膜を生成
することができる。本方式は、ＳｎＯ₂ 薄膜のほか，前
述したＲＴｉＯ₃ （Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ
_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ_x Ｏ ₁₀（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞ
れ前記の定義の内容を表す）、ＳｉＯ₂ ，Ｂｉ ₂ Ｏ₃ 、
ＳｅＯ₂ ，ＧｅＯ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ 及びＦｅ₂ Ｏ₃ のいず
れの薄膜形成にも適用することができる。

【００４８】金属酸化物薄膜の厚みは、上記のいずれの
場合も１〜１０００００オングストロ−ムがよく、好ま
しくは１０〜１００００オングストロ−ムである。さら
に好ましくは３０００オングストロ−ム以下として光干
渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作用を十分に
発現させるには厚みが５０オングストローム以上あるこ
とが好都合である。

【００４９】バインダーを使用した場合の上記熱応答型
金属酸化物の薄層において、金属酸化物の体積率は５０
〜１００％であり、好ましくは９０％以上を酸化物が占
めるのがよく、さらに好ましくは酸化物の連続層つまり
実質的に１００％であるのがよい。以上で「熱応答型金
属酸化物」及びそれを原板表面に設ける方法についての
説明を終わり、次に「熱応答型金属」について説明す
る。

【００５０】熱応答型金属として用いることのできる金
属は、前記した適度の加熱によて疎水性となり、さらに
加熱すると親水性となる特性を有しており、かつ履歴現
象を示す金属であれば、いずれの金属でもよく、このよ
うな特性をもつ金属は、経験的に周期律表の０族と VII
Ａ（ハロゲン元素）族を除く第３〜６周期に属する金属
元素に見いだされる。また、周期律表の上記した範囲の
金属の中から見いだされる熱応答特性を有する金属は、
単一組成の金属であっても、複合組成つまり合金であっ
ても本発明に使用することができる。合金の場合は、金
属固溶体、金属間化合物、金属微結晶混合物のいずれで
もよい。また、ステンレススチール（以下、ＳＵＳと記
述する）に見られるように、表面に不働体性の酸化皮膜
が生成していてもよい。また、単一の金属や合金の純度
に関しては、特別な制約はなく、通常の一般的な用途に
用いられているものであれば、本発明に適用できる。

【００５１】好ましい金属は、アルミニウム、鉄、珪
素、ニッケル、亜鉛、ゲルマニウム、錫及び銅並びにそ
れらの合金である。とくに好ましい金属は、アルミニウ
ムである。アルミニウムを用いる場合は、後に説明する
原板用支持体であるアルミニウム板を直接使用すること
が好ましく、したがって、機械的な砂目立てや電解粗面
化などによって表面の親水性を強化したり、陽極酸化を
施したりしたアルミニウム板が用いられる。

【００５２】熱応答型金属の使用形態としては、金属板
をそのまま使用することもできるが、また適当なプラス
チックフィルムあるいは他の金属板を支持体としてその
上に電気メッキ、貼り合わせなどによって設けてもよ
い。支持体上の金属板の厚みは、支持体よりも薄い任意
の厚みを用いることができるが、好ましい厚みは、０．
０１mm〜０．４mm程度、より好ましくは０．０２mm〜
０．２mmである。

【００５３】印刷原板の熱応答性を高めるには、断熱層
を画像形成層の下層に設けることが有効である。光熱変
換による描画を行う場合には、その光に対して機能性表
面が透明である場合には下層に光熱変換層を設けてもよ
い。以上で本発明に用いる熱応答型物質とくに熱応答型
金属酸化物及び金属についての説明を終わる。

【００５４】次に本発明に使用する印刷用原板の形態に
ついて述べる。本発明に係わる印刷原板は、いろいろの
形態と材料を用いることができる。例えば、熱応答型物
質の薄層を印刷機の版胴の基体表面に蒸着、浸漬あるい
は塗布するなど上記した方法で直接設ける方法、支持体
に担持された熱応答型物質や、あるいは支持体を持たな
い熱応答型物質の薄板を版胴の基体に巻き付けて印刷版
とする方法などを用いることができる。また、勿論版胴
上で製版する上記形態以外に、一般的に行われているよ
うに、製版を行った印刷版を輪転式あるいは平台式印刷
機に装着する形態を採ってもよい。

【００５５】熱応答型物質が支持体上に設けられる場
合、使用される支持体は、高温親水性発現温度でも熱分
解せず、寸度的にも安定な板状物であり、アルミニウム
板、ＳＵＳ鋼板、ニッケル板、銅板などの金属板が好ま
しく、特に可撓性（フレキシブル）の金属板を用いるこ
とが好ましい。また、ポリエステル類やセルローズエス
テル類などのフレキシブルなプラスチック支持体も用い
ることが出来る。防水加工紙、ポリエチレン積層紙、含
浸紙などの支持体上に酸化物層を設けてもよく、それを
印刷版として使用してもよい。

【００５６】具体的には、紙、プラスチックシート（例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等のシ
ート）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅、ステンレス等）、プラスチックフィ
ルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィ
ルム等が挙げられる。

【００５７】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、ポリイミドフィルム、アルミニウム、又は印刷版上
で腐食しにくいＳＵＳ板であり、その中でも寸法安定性
がよく、比較的安価であるアルミニウム板と、製版工程
における高温加熱操作に対して安定性の高いポリイミド
フィルムは特に好ましい。

【００５８】好適なポリイミドフィルムは、ピロメリッ
ト酸無水物とｍ−フェニレンジアミンを重合させたの
ち、環状イミド化したポリイミド樹脂フィルムであり、
このフィルムは市販されている（例えば、東レ・デュポ
ン社製の「カプトン」）。

【００５９】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしく
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高
々１０重量％以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられる金
属支持体の厚みはおよそ０．１mm〜０．６mm程度、好ま
しくは０．１５mm〜０．４mm、特に好ましくは０．２mm
〜０．３mmであり、プラスチックや加工紙などその他の
支持体の厚みはおよそ０．１mm〜２．０mm程度、好まし
くは０．２mm〜１．０mmである。

【００６０】アルミニウム支持体を用いる場合は、表面
を粗面化して用いることが好ましい。その場合、所望に
より、粗面化に先立って表面の圧延油を除去するため
の、例えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶
液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表
面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例え
ば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解
粗面化する方法および化学的に表面を選択溶解させる方
法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨
法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの
公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な
粗面化法としては塩酸または硝酸電解液中で交流または
直流により行うなど公知の方法を利用することができ
る。また、粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエッチング処理および中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。陽極酸化の電解質の濃度は電解質の
種類によって適宜決められる。

【００６１】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ/dm²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０
秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量
が１．０g/m²より少ないと耐刷性が不十分であったり、
平板印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に
傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ
易くなる。

【００６２】以上で本発明の印刷方法に使用する印刷原
板の構成について説明したので、次に本発明のオフセッ
ト印刷方法及び印刷装置についての具体的態様を図を用
いて述べる。

【００６３】はじめに、熱応答型金属酸化物及び熱応答
型金属などの本発明に用いる熱応答型物質の表面の熱応
答性をさらに説明する。図１は、前記した〜の熱応
答性を説明するための実験結果の一例を示す図であっ
て、酸化チタンをそれぞれの温度で５分間加熱したとき
の酸化チタン表面の水に対する接触角を協和界面科学
（株）製の接触角測定装置ＣＡ−Ｄを用いて得た測定値
を温度に対してプロットして得た温度・接触角関係を示
す。加熱は、室温から２００℃までは小型高温チャンバ
ーＳＴ−１１０（タバイエスペック社製）によって行
い、２００℃以上では電気炉ＫＭ−１００（（株）東洋
製作所製）によって加熱した。

【００６４】言うまでもなく、表面が親水性であるか、
疎水性であるかの尺度は、水に対する接触角の大きさに
よって表すことができ、接触角が大きいほど疎水性であ
り、疎水性は親油性又は親インキ性と言い換えることも
できる。図１は、酸化チタンを加熱して行くと、表面接
触角が増加して行き、温度が２１０℃のとき極大に達
し、さらに加熱すると接触角が低下することを示してい
る。

【００６５】すなわち、酸化チタンの表面温度を高めて
前述の「疎水性発現温度」に至ると疎水性となり、さら
に温度を高めて前述の「高温親水性発現温度」に至ると
再び親水性となる。表面の全面を高温親水性発現温度に
加熱することによって表面は製版に適した清浄で安定な
親水性表面となるので、再現性の高い印刷版作製を行う
ことができる。高温加熱の手段は、とくに限定されない
が、電熱による加熱が容易であり、制御も行い易い。ま
た、赤外線やレーザー光などの輻射線によるヒートモー
ド加熱も好ましい加熱手段である。

【００６６】高温親水性発現温度の領域は、熱応答型金
属酸化物及び金属の種類や加熱速度によって異なるが、
通常２００℃以上であり、金属酸化物及び金属の種類な
どによってはさらに高い温度となる。親水性とするため
の加熱温度の上限は、金属酸化物及び金属に不都合な化
学的、構造的変化が起こらなければ高くてもよいが、実
用的な親水性が得られるかぎり、さらに温度を高くする
必要はない。また、熱応答型金属酸化物に酸化チタンを
用いる場合には、酸化チタンの相変化を防止するために
７００℃以下とするのがよく、原板の支持体にポリイミ
ドフィルムを用いた場合にはその熱変成を防止するため
に４００℃以下とするのがよい。

【００６７】前記した熱応答性の説明において、「疎水
性発現温度」の領域は、具体的には接触角の極大値に対
してその両側の接触角の低下が２０度以内の領域を指し
ており、インキを受容する実用的疎水性の領域に相当す
る。図１の実験例では、接触角の極大値は５０度で、そ
の両側２０度の疎水性発現温度領域は、１５５〜２４０
℃であるが、一般に熱応答型金属酸化物又は金属並びに
その他の熱応答物質の種類、加熱速度、加熱雰囲気によ
って異なる。例えば、同じ加熱速度と同じ加熱雰囲気に
おいても、酸化チタン、酸化亜鉛、チタン酸バリウムな
ど金属酸化物によって接触角の極大値は異なり、その両
側２０度の範囲に対応する温度範囲も異なっている。ま
た加熱速度を速くするとこの温度範囲は変化する。この
ような多少の相違はあるものの、一般に疎水性発現温度
は、５０〜２５０℃であり、多くは１００〜２５０℃の
温度領域にある。したがって、ヒートモードの描画をこ
の温度領域で行うことによって画像領域と非画像領域の
疎水性と親水性の相違を大きくすることが可能で、した
がって画像部と非画像部との識別性を増大させ、印刷面
の品質を向上させることができることが本発明の特徴で
ある。

【００６８】疎水性の画像部を印刷原板上に形成させる
加熱手段には、赤外線を放射する固体レーザー、又は赤
外線域、可視域光を放射する半導体レーザー、赤外線灯
光、キセノン放電灯、大容量コンデンサーからの放電に
よるフラッシュ光による光・熱変換描画装置、熱融解型
及び昇華型感熱色素転写などの感熱記録ヘッド等による
直接画像記録手段が用いられる。加熱温度を適当な疎水
性発現温度に調節するには、加熱に用いる光源の光強度
を制御したり、感熱記録ヘッドの供給電力や描画速度を
制御することによって行われる。

【００６９】画像の書き込みは、面露光方式、走査方式
のいずれでもよい。前者の場合は、赤外線照射方式や、
キセノン放電灯の高照度の短時間光をマスク画像を通し
て原板上に照射して光・熱変換によって熱を発生させる
方式である。赤外線灯などの面露光光源を使用する場合
には、その照度によっても好ましい露光量は変化する
が、通常は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が
０．１〜１０J/cm² の範囲であることが好ましく、０．
３〜１J/cm² の範囲であることがより好ましい。支持体
が透明である場合は、支持体の裏側から支持体とマスク
画像を通して露光することもできる。その露光時間は、
０．０１〜１ｍｓｅｃ、好ましくは０．０１〜０．１ｍ
ｓｅｃの照射で上記の露光強度が得られるように露光照
度を選択するのが好ましい。照射時間が長い場合には、
熱エネルギーの生成速度と生成した熱エネルギーの拡散
速度の競争関係から露光強度を増加させる必要が生じ
る。

【００７０】後者の場合には、赤外線成分を多く含むレ
ーザー光源を使用して、レーザービームを画像で変調し
て原板上を走査する方式が行われる。レーザー光源の例
として、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、ヘ
リウムカドミウムレーザー、ＹＡＧレーザーを挙げるこ
とができる。レーザー出力が０．１〜３００Ｗのレーザ
ーで照射をすることができる。また、パルスレーザーを
用いる場合には、ピーク出力が１０００Ｗ、好ましくは
２０００Ｗのレーザーを照射するのが好ましい。この場
合の露光量は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が
０．１〜１０J/cm² の範囲であることが好ましく、０．
３〜１J/cm² の範囲であることがより好ましい。支持体
が透明である場合は、支持体の裏側から支持体を通して
露光することもできる。光で加熱する場合は、例えば印
刷原板に光熱変換層を設けて、その層に光エネルギーを
吸収させ、熱を発生させることができる。あるいは、熱
応答型物質それ自体が光を吸収して自ら発熱することに
より加熱することもできる。

【００７１】さらに疎水性発現温度に加熱を行うに際し
て、加熱雰囲気中に混入している微量の不純物や故意に
混合させた有機化合物蒸気などが極大接触角の値とその
温度及び疎水性発現温度の領域に影響を与える。とくに
注目されるのは、接触角が増大する現象である。したが
って、有機化合物蒸気の存在下でヒートモード記録を行
うことによって接触角が増加し、親水性と疎水性の識別
効果を向上させることができる。この作用機構は不明で
あるが、おそらく加熱された原板表面に有機化合物が吸
着して疎水性の皮膜を形成するのではないかと推定して
いる。

【００７２】このような、優れた効果をもつ好ましい有
機化合物は、温度４００℃における蒸気圧が少なくとも
１ｍｍＨｇで、かつ蒸気圧が１ｍｍＨｇとなる温度にお
いて安定な有機化合物である。この程度の蒸気圧を有し
ている有機化合物であればヒートモードの描画を行う際
に存在させることによって、画像部の接触角が増加して
親水性と疎水性の識別性が向上する。より好ましくは、
温度３００℃における蒸気圧が少なくとも１ｍｍＨｇ
で、かつ蒸気圧が１ｍｍＨｇとなる温度において安定な
有機化合物である。さらに好ましくは、沸点が３０〜４
００℃にあって、かつ３０〜４００℃の温度範囲で安定
な有機化合物であり、中でも好ましい沸点範囲は５０〜
３５０℃である。この温度範囲の沸点をもつ有機化合物
は、具体的には脂肪族及び芳香族炭化水素、脂肪族及び
芳香族カルボン酸、脂肪族及び芳香族アルコール、脂肪
族及び芳香族エステル、脂肪族及び芳香族エーテル、有
機アミン類、有機珪素化合物、印刷用インキに添加でき
ることが知られている各種溶剤や可塑剤類の中に見られ
る。

【００７３】好ましい脂肪族炭化水素は、炭素数８〜３
０の、より好ましくは炭素数８〜２０の脂肪族炭化水素
であり、好ましい芳香族炭化水素は、炭素数６〜４０
の、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素で
ある。好ましい脂肪族アルコールは、炭素数２〜３０
の、より好ましくは炭素数２〜１８の脂肪族アルコール
であり、好ましい芳香族アルコールは、炭素数６〜３０
の、より好ましくは炭素数６〜１８の芳香族アルコール
である。好ましい脂肪族カルボン酸は、炭素数２〜２４
の脂肪族カルボン酸であり、より好ましくは炭素数２〜
２０の脂肪族モノカルボン酸及び炭素数４〜１２の脂肪
族ポリカルボン酸であり、また、好ましい芳香族カルボ
ン酸は、炭素数６〜３０の、より好ましくは炭素数６〜
１８の芳香族カルボン酸である。好ましい脂肪族エステ
ルは、炭素数２〜３０の、より好ましくは炭素数２〜１
８の脂肪酸エステルであり、好ましい芳香族エステル
は、炭素数８〜３０の、より好ましくは炭素数８〜１８
の芳香族カルボン酸エステルである。好ましい脂肪族エ
ーテルは、炭素数８〜３６の、より好ましくは炭素数８
〜１８の芳香族エーテルであり、好ましい芳香族エーテ
ルは、炭素数７〜３０の、より好ましくは炭素数７〜１
８の芳香族エーテルである。そのほか、炭素数７〜３０
の、より好ましくは炭素数７〜１８の脂肪族あるいは芳
香族アミドも用いることができる。

【００７４】具体例としては、２，２，４−トリメチル
ペンタン（イソオクタン）、ノナン、デカン、ｎ−ヘキ
サデカン、オクタデカン、エイコサン、メチルヘプタ
ン、２，２−ジメチルヘキサン、２−メチルオクタンな
どの脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、
クメン、ナフタレン、アントラセン、スチレンなどの芳
香族炭化水素；ドデシルアルコール、オクチルアルコー
ル、ｎ−オクタデシルアルコール、２−オクタノール、
ラウリルアルコールなどの１価アルコール；プロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、グリセリン、ヘキシレングリコール、ジプ
ロピレングリコールなどの多価アルコール；ベンジルア
ルコール、４−ヒドロキシトルエン、フェネチルアルコ
ール、１−ナフトール、２−ナフトール、カテコール、
フェノールなどの芳香族アルコール；酢酸、プロピオン
酸、酪酸、カプロン酸、アクリル酸、クロトン酸、カプ
リン酸、ステアリン酸、オレイン酸などの脂肪族１価カ
ルボン酸；しゅう酸、琥珀酸、アジピン酸、マレイン
酸、グルタール酸などの多価脂肪族カルボン酸；安息香
酸、２−メチル安息香酸、４−メチル安息香酸などの芳
香族カルボン酸；酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸−
ｎ−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチ
ル、酪酸メチル、アクリル酸メチル、しゅう酸ジメチ
ル、琥珀酸ジメチル、クロトン酸メチルなどの脂肪族エ
ステル；安息香酸メチル、２−メチル安息香酸メチルな
どの芳香族カルボン酸エステル；イミダゾール、トリエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、シクロヘキシル
アミン、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレンテト
ラミン、アニリン、オクチルアミン、アニリン、フェネ
チルアミンなどの有機アミン；アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、ベンゾフェノンなど
のケトン及びメトキシベンゼン、エトキシベンゼン、メ
トキシトルエン、ラウリルメチルエーテル、ステアリル
メチルエーテルなどのエーテル類、ステアリルアミド、
ベンゾイルアミド、アセトアミドなどのアミド類が挙げ
られる。

【００７５】また、印刷用インキの成分であるアマニ
油、大豆油、けし油、サフラワー油などの油脂類、燐酸
トリブチル、燐酸トリクレシル、フタール酸ジブチル、
ラウリン酸ブチル、フタール酸ジオクチル、パラフィン
ワックスなどの可塑剤も挙げられる。

【００７６】そのほか、沸点が前記の好ましい範囲にあ
るエチレングリコールモノエチルエーテル、シクロヘキ
サノン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソ
ルブアセテート、１，４−ジオキサン、ジメチルホルム
アミド、アクリロニトリルなどの有機溶剤も使用するこ
とができる。

【００７７】好ましい有機珪素化合物は、ジメチルシリ
コーンオイル、メチルフェニリシリコーンオイルなどで
代表されるオルガノポリシロキサン化合物であり、とく
に重合度が１２以下のオルガノポリシロキサン類であ
る。これらの好ましいオルガノポリシロキサンはシロキ
サン結合単位当たり１〜２個の有機基が結合しており、
その有機基は炭素数が１〜１８のアルキル基及びアルコ
キシ基、炭素数が２〜１８のアルケニル基及びアルキニ
ル基、炭素数が６〜１８のアリール基、炭素数が７〜１
８のアラルキル基、炭素数が５〜２０の脂環式基であ
る。また、これらの有機置換基には、さらにハロゲン原
子、カルボキシル基、ヒドロキシ基が置換してもよい。
また、アリール基、アラルキル基、脂環式基には、上記
の炭素数の範囲でメチル基、エチル基又はプロピル基な
どの低級アルキル基がさらに置換していてもよい。

【００７８】本発明に使用できる好ましい有機珪素化合
物の具体例は、下記の化合物であるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。

【００７９】好ましいポリオルガノシロキサン類として
は、炭素数１〜５のアルキル基を有するジアルキルシロ
キサン基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有するジアル
コキシシロキサンを繰り返し単位として端末が炭素数１
〜５のアルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１
〜５のヒドロキアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキ
シ基である重合度２〜１２のポリシロキサン、メトキシ
エトキシシロキサンを繰り返し単位として端末がヒドロ
キシ基、メトキシ基又はエトキシ基である重合度２〜１
２のポリシロキサンが挙げられる。具体的には、重合度
が２〜１０のジメチルシロキサン、重合度が２〜１０の
ジメチルシロキサン−メチルフェニルシロキサン共重合
物、重合度が２〜８のジメチルシロキサン−ジフェニル
シロキサン共重合物、重合度が２〜８のジメチルシロキ
サン−モノメチルシロキサン共重合物でこれらのシリコ
ーン油の端末はトリメチルシラン基である。そのほか、
１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシ
ロキサン、１，５−ビス（３−アミノプロピル）ヘキサ
メチルトリシロキサン、１，３−ジブチル−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサン、１，５−ジブチル
−１，１，３，３，５，５−ヘキサエチルトリシロキサ
ン、１，１，３，３，５，５−ヘキサエチル−１，５−
ジクロロトリシロキサン、３−（３，３，３−トリフル
オロプロピル）−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタ
メチル−トリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン
などが挙げられる。

【００８０】特に好ましい化合物として、いわゆるシリ
コーンオイルがあり、ジメチルシリコーンオイル（市販
品では、例えばシリコーンＫＦ９６（信越化学工業
（株）製）、メチルフェニルシリコーンオイル（市販品
では、例えばシリコーンＫＦ５０（信越化学工業（株）
製）、メチルハイドロジェンシリコーンオイル（市販品
では、例えばシリコーンＫＦ９９（信越化学工業（株）
製）が挙げられる。

【００８１】そのほか、ｎ−デシルトリメトキシシラ
ン、ｎ−デシルトリ−ｔ−ブトキシシラン、ｎ−オクタ
デシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリエト
キシシラン、ジメトキシジエトキシシランなどのシラン
化合物も挙げらることができる。

【００８２】有機化合物の雰囲気のもとで疎水性発現温
度に加熱を行うには、原板表面を覆う加熱部の外套内に
有機化合物充填容器を置いて、加熱時間中に有機化合物
の蒸気を外套内に存在させるのがよい。また、有機化合
物を含浸させた紙や布を外套内に挿入して加熱するのも
よい。

【００８３】以上で本発明における印刷原板の熱応答特
性及び熱応答物質について説明した。つぎにこの原板を
装着して行う印刷方法および装置について説明する。

【００８４】印刷原板は、熱応答型物質の表面に親油性
の画像を付与したのち、現像処理することなく、そのま
まオフセット印刷工程に送ることができる。従って通常
の公知の平版印刷法に比較して簡易性を中心に多くの利
点を有する。すなわち上記したようにアルカリ現像液に
よる化学処理が不要であり、それに伴うワイピング、ブ
ラッシングの操作も不要であり、さらに現像廃液の排出
による環境負荷も伴わない。また、画像形成手段の選択
範囲が広く、上記したような簡易な画像記録手段から容
易に印刷を行うことも利点である。

【００８５】熱応答型物質から得られた平版印刷版の非
画像部は十分に親水性化しているが、所望により、水洗
水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや
澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理してもよい。本発
明の画像記録材料を印刷用版材として使用する場合の後
処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いる
ことができる。その方法としては、該整面液を浸み込ま
せたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布する
か、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布
する方法や、自動コーターによる塗布などが適用され
る。また、塗布した後でスキージーローラーでその塗布
量を均一にすることは、より好ましい結果を与えること
もある。整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８g/m²
（乾燥重量）が適当である。この様な処理によって得ら
れた平版印刷版は、オフセット印刷機等にかけられ、あ
るいは印刷機上で製版され、多数枚の印刷に用いられ
る。

【００８６】次に印刷を終えた印刷版の再生工程につい
て記す。印刷終了後の印刷版は疎水性の石油系溶剤を用
いて付着しているインキを洗い落とす。溶剤としては市
販の印刷用インキ溶解液として芳香族炭化水素、例えば
ケロシン、アイソパ−などがあり、そのほかベンゾー
ル、トルオール、キシロール、アセトン、メチルエチル
ケトン及びそれらの混合溶剤を用いてもよい。画像物質
が溶解しない場合には、布などを用いて軽く拭き取る。
また、トルエン／ダイクリーンの１／１混合溶媒を用い
るとよいこともある。

【００８７】インキを洗浄除去した印刷版を高温親水性
発現温度に加熱することによって版面全体にわたって均
一に親水性を回復する。この加熱温度は、２００℃以上
で、かつ疎水性発現温度の上限を超えた温度で行われる
が、加熱時間は、疎水性発現温度の上限温度の僅かに上
では１０分以上、５０℃上では５分、１００℃上では２
分程度の熱処理時間が好ましい。熱処理時間を延長して
も支障はないが、表面の親水性が回復したのちは時間を
延長してもさらなる利点は生まれない。

【００８８】再生に用いる熱源は、上記した温度と時間
の条件を満たすものであれば任意の手段を利用できる。
加熱手段の例をあげると、直接赤外線照射による放射加
熱、印刷版表面に黒色カーボン紙などの熱線吸収シート
を接触させた間接赤外線照射、温度設定した空気恒温槽
への挿入、ホットプレートその他の熱板との接触加熱、
加熱ローラーとのコンタクトなどが挙げられる。このよ
うにして使用済みの印刷版から再生された印刷用原板
は、活性光への暴露を避けて貯蔵されて次の印刷に備え
る。

【００８９】本発明に係わる印刷原板の反復再生可能回
数は、完全に把握できていないが、少なくとも１５回以
上であり、おそらく反面の除去不能な汚れ、修復が実際
的でない刷面の傷や、版材の機械的な変形（ひずみ）な
どによって制約されるものと思われる。

【００９０】本発明における印刷原板の加熱操作につい
て説明した。次にこの原板を装着して印刷を行う方法及
び装置を、図によって説明する。熱応答型物質を表面に
もつ印刷用原板は、版胴の構成部材として固定されてい
てもよく、また着脱自在であってもよい。以下図２以降
の説明では、本発明の簡易性を顕著に発揮する前者すな
わち版胴が印刷原板となっている例について説明する。

【００９１】図２は、本発明の第１の実施形態によるオ
フセット印刷装置の構成を示す図である。図２に示すよ
うに本発明の第１の実施形態によるオフセット印刷装置
は、酸化チタンや酸化亜鉛など前記した熱応答型物質を
表面に有する版胴１と、版胴１に対して高温親水性発現
温度で加熱して全面親水性とする高温加熱部２と、必要
に応じて設けてある高温加熱した版胴を疎水性発現温度
以下に冷却する冷却部１９と、加熱により全面親水性化
された版胴１に対して疎水性発現温度でヒートモードの
描画を行うための感熱記録部５と、ヒートモードの描画
がなされた版胴１にインキおよび湿し水を供給するイン
キ・湿し水供給部３と、印刷終了後に版胴１に残存する
インキを除去するインキ洗浄部４と、版胴１に保持され
たインキを用紙に転写するための中間体としてのブラン
ケット６と、ブランケット６とともに給送された用紙を
保持する圧胴７とを備え、これらの部材が本体８内に収
容されてなるものである。

【００９２】次いで、感熱記録部５について説明する。
全面が均一に親水化された版胴１に親油性の画像領域を
形成するには、版胴１の表面を感熱記録部５により画像
様に疎水性発現温度に加熱することによって行われる。
この画像様に加熱する手段としては、前記したように、
赤外線灯、レーザー光、接触加熱などの方法を選択でき
る。

【００９３】図３は、感熱記録部の典型的な例である感
熱記録ヘッドを用いた感熱記録部の要素構成図である。
図３に示す接触加熱方式の感熱記録部５は、版胴１の表
面に密着してヒートモードによる描画を行う感熱ヘッド
１８と、編集・レイアウトＷ／Ｓ２０において印刷すべ
き画像から信号化されて記録部に入力される画像信号Ｓ
に基づいて、感熱ヘッド１８を駆動して版胴１の表面に
ヒートモードによる描画を行うための感熱ヘッド駆動部
１９とからなる。感熱ヘッド１８は複数の微細な発熱体
が版胴１の回転軸方向にアレイ状またはマトリクス状に
延在しており、１ラインまたは複数ラインごとに版胴１
にヒートモードによる描画を行うものである。そして、
版胴１が回転することにより、版胴１の表面にヒートモ
ードによる描画がなされ、版胴１における描画がなされ
なかった部分が親水性の非画像領域とされ、描画された
部分が親油性の画像領域とされるものである。

【００９４】図４は、感熱記録部５の別の構成例であ
る。図４に示す別の構成例における感熱記録部５は、レ
ーザー光を出射して版胴１に照射するレーザー光源２１
と、編集・レイアウトＷ／Ｓ２０において印刷すべき画
像から信号化されて記録部に入力される画像信号Ｓに基
づいて、レーザー光源２１を駆動してレーザー光を変調
させて版胴１の表面にヒートモードによる描画を行うた
めのレーザー光源駆動部２２とからなる。光源２１は出
射されるレーザー光を版胴１の回転軸方向に版胴１に対
して相対的に移動して版胴１上を走査するよう構成され
ており、版胴１が回転することにより、版胴１の表面が
変調されたレーザー光により露光され、版胴１における
レーザー光が照射されなかった部分が親水性の非画像領
域とされ、レーザー光が照射された部分が親油性の画像
領域とされて、ヒートモードによる描画がなされるもの
である。レーザーは、赤外線レーザーが好ましいが、印
刷原板に光熱変換機構が組み込まれていれば、必ずしも
赤外線レーザーでなくてもよい。

【００９５】ヒートモードの画像記録を有機化合物の存
在下で行う場合には、図３及び図４に示した感熱記録部
に有機化合物の蒸気を導入するための有機化合物蒸気供
給手段、例えば有機溶剤を満たした蒸発用の容器、さら
にはそれに散気孔を取り付けてあるもの、あるいは簡単
な加熱手段も付属しているものなど、が設けられる。

【００９６】なお、ここではレーザーを直接変調する方
式を示したが、レーザーと音響光学素子のような外部変
調素子との組み合わせによっても同様に描画できること
はもちろんである。

【００９７】また、本発明においては、感熱記録部５と
しては、感熱記録ヘッドやレーザー光のみではなく、赤
外線灯の光などの熱線を熱線不透過性の画像マスクを通
して照射する光・熱変換加熱方式、大容量コンデンサー
を用いる高照度瞬間フラッシュを画像マスクを通して行
う光・熱変換加熱方式も採用することができる。

【００９８】次いで、第１の実施形態の動作について説
明する。まず、高温加熱部２を回転しながら通過する版
胴１の部分は、高温加熱部２の発熱抵抗体からの放熱に
よって版胴１の加熱部を通過した全面が加熱され、これ
により、版胴１の表面は親油性から親水性に変化する。
そして、高温加熱が終了すると、親水性化した版胴は、
疎水性発現温度以下に冷却されるが、この冷却には、放
熱による自然冷却方式のほかに、高温加熱部２を加熱す
ると同時に又は加熱終了後に冷却部９の冷却用ジャケッ
トにも冷水を通し、回転する版胴の高温加熱部２を通過
して親水性化した部分を冷却部９で冷却する強制冷却方
式も用いられる。感熱記録部５では、疎水性発現温度へ
の加熱によってヒートモードによる描画が行われる。像
様の加熱が行われた領域は親油性を有する画像領域とな
り、加熱が行われなかった領域は親水性を有する非画像
領域とされる。そして、ヒートモードによる描画が終了
すると、次いで、インキ・湿し水供給部３よりインキお
よび湿し水が版胴１に供給される。これにより、版胴１
の親油性の画像領域にはインキが保持され、親水性の非
画像領域にはインキが保持されることなく湿し水が保持
される。

【００９９】その後、ブランケット６と圧胴７との間に
矢印Ａに示すように用紙を供給し、版胴１に保持された
インキをブランケット５を介して用紙に転写することに
よりオフセット印刷が行われる。

【０１００】印刷終了後、インキ洗浄部４により版胴１
に残存するインキを除去する。その後、版胴１を高温加
熱部２を通して加熱することにより、版胴１の像様の親
油性領域は消去されて、ヒートモードによる描画前の状
態に戻る。

【０１０１】このように、本発明によるオフセット印刷
装置によれば、全面にわたる高温加熱およびヒートモー
ドによる描画のみで版胴１に印刷画面を形成することが
でき、これにより現像が不要でかつ印刷面の鮮鋭性が保
たれたオフセット印刷を行うことができる。また、版胴
１を洗浄して再度高温加熱することにより元の状態に戻
すことができるため、版胴１を反復使用することがで
き、これにより印刷物を低コストで提供することができ
ることとなる。さらに、印刷装置から版胴１を取り外す
必要がないため、従来のＰＳ版のように印刷装置に組み
込む際にゴミなどが付着することもなくなり、これによ
り、印刷品質を向上させることができる。

【０１０２】また、印刷用原板として版胴１を使用し、
版胴１の周囲に高温加熱部２、インキ・湿し水供給部
３、インキ洗浄部４および感熱記録部５を配設すること
により、単に版胴１を回転させるのみで、原板の全面親
水性化、ヒートモードによる描画およびインキおよび湿
し水の供給、さらには印刷終了後のインキ洗浄を行うこ
とができるため、装置をコンパクトに構成することがで
き、これにより省スペース化を図ることができる。 以
下に本発明の上記の態様にしたがって行われた実施例１
について記す。

【０１０３】〔実施例１〕上記実施形態１による実施例
を示す。９９．５重量％アルミニウムに、銅を０．０１
重量％、チタンを０．０３重量％、鉄を０．３重量％、
ケイ素を０．１重量％含有するＪＩＳＡ１０５０アルミ
ニウム材の厚み０．３０mm圧延板を、４００メッシュの
パミストン（共立窯業製）の２０重量％水性懸濁液と、
回転ナイロンブラシ（６，１０−ナイロン）とを用いて
その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを
１５重量％水酸化ナトリウム水溶液（アルミニウム４．
５重量％含有）に浸漬してアルミニウムの溶解量が５g/
m²になるようにエッチングした後、流水で水洗した。更
に、１重量％硝酸で中和し、次に０．７重量％硝酸水溶
液（アルミニウム０．５重量％含有）中で、陽極時電圧
１０．５ボルト、陰極時電圧９．３ボルトの矩形波交番
波形電圧（電流比ｒ＝０．９０、特公昭５８−５７９６
号公報実施例に記載されている電流波形）を用いて１６
０クローン／dm²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。水洗後、３５℃の１０重量％水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が１g/m²になる
ようにエッチングした後、水洗した。次に、５０℃、３
０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、
水洗した。

【０１０４】さらに、３５℃の硫酸２０重量％水溶液
（アルミニウム０．８重量％含有）中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密
度１３A/dm²で電解を行い、電解時間の調節により陽極
酸化皮膜重量２．７g/m²とした。この支持体を水洗後、
７０℃のケイ酸ナトリウムの３重量％水溶液に３０秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られた
アルミニウム支持体は、マクベスＲＤ９２０反射濃度計
で測定した反射濃度は０．３０で、中心線平均粗さは
０．５８μｍであった。次いでこのアルミニウム支持体
を真空蒸着装置内に入れて、全圧１．５ｘ１０ ^-4Torrに
なるように分圧７０％の酸素ガスの条件下でチタン金属
片を電熱加熱して、アルミニウム支持体上に蒸着して酸
化チタン薄膜を形成した。この薄膜の結晶成分はＸ線解
析法によって無定型／アナターゼ／ルチル結晶構造の比
が１．５／６．５／２であり、TiO₂薄膜の厚さは９００
オングストロームであった。これを版胴１の基体に巻き
付けて機上印刷用の原板とした。

【０１０５】高温加熱部２の発熱抵抗体に通電して、原
板を巻き付けた版胴１をゆっくり回転させた。発熱部を
通過する原板の温度が３００°Ｃ以上（最高３８０°
Ｃ）となる加熱域の通過時間が２分であった。通電を停
止し、自然放置して版胴の温度が室温に戻ってから、協
和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER CA-Dを用い
て空中水滴法で表面の水に対する接触角を測定したとこ
ろ、いずれの部分も７〜９度の間にあった。

【０１０６】次に、感熱記録部５のTa-SiO₂ 発熱抵抗体
上にサイアロン耐磨耗保護層を設けた１５０μｍｘ１５
０μｍのサーマルヘッドを２５０μｍ間隔に並べた発熱
体アレイを用いて、酸化チタン表面層と接触させて昇温
印字を行った。使用したサーマルヘッドは、５ｍｓｅｃ
通電によって２１０°Ｃに、１０ｍｓｅｃ通電によって
４５０°Ｃに達するが、熱伝導度の低い陽極酸化皮膜表
面を２．５ｍ／ｓｅｃで走査しながら連続通電する場合
には、その表面はほぼ２１０°Ｃに保たれることを別途
温度測定を行って確認した。記録速度は、２．５ｍ／ｓ
ｅｃで行った。このとき、接触角は、図１に示した実験
例から，協和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER
CA-Dを用いて空中水滴法で測定した水に対する接触角は
５０度とみなすことができる。

【０１０７】この版胴１をサクライ社製オリバー５２片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴１の損傷も認められなかった。

【０１０８】次いで洗浄部４において、版胴１の表面を
印刷用インキ洗浄液ダイクリーンＲ（発売元；大日本イ
ンキ化学工業社）とトルエンの１／１混合液をウエスに
しみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去した。再び高
温加熱部２を通電して前と同じ条件で加熱した後、室温
まで冷えた状態で前と同様の方法で接触角を測定した。
版表面のどの部分も７〜９度の間にあった。

【０１０９】次いで、この版胴１の表面に上記と同一の
条件でサーマルヘッドによって前とは異なる描画を行っ
た。この版胴１をサクライ社製オリバー５２片面印刷機
に使用して、インキ・湿し水供給部３において湿し水を
純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newchampion
Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オフセット印刷を行
った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得られ、版
胴１の損傷も認められなかった。

【０１１０】以上の繰り返しを５回実施したところ、高
温加熱後の接触角の値、加熱による接触角の回復スピー
ド及び印刷面の画像の鮮明さの変化は認められなかっ
た。この結果から、酸化チタン層をアルミニウム支持体
上に設けた印刷原板を使用し、形態１の印刷装置を用い
て高温加熱とヒートモード印字によって印刷が可能であ
り、しかもインキの洗浄除去のみで印刷原板を反復再生
使用できることが示された。

【０１１１】〔実施例２〕真空蒸着装置中に１００ミク
ロン厚みのＳＵＳ板をセットして全圧５ｘ１０^-3Torrの
真空下でセレン化亜鉛を１０００オングストロームの厚
みに蒸着した。これを空気中６００°Ｃで２時間酸化処
理してＳＵＳ板の片面に酸化亜鉛の薄膜を形成させた。

【０１１２】この酸化亜鉛皮膜付き１００ミクロンＳＵ
Ｓ板を実施例１と同じく、実施形態１の印刷装置の版胴
１の基体に巻き付けて機上製版型の原板とした。

【０１１３】高温加熱部２の発熱抵抗体に通電して、原
板を巻き付けた版胴１をゆっくり回転させた。発熱部を
通過する原板の温度が３００°Ｃ以上（最高３８０°
Ｃ）となる加熱域の通過時間が２分であった。通電を停
止し、自然放置して版胴の温度が室温に戻ってから、協
和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER CA-Dを用い
て空中水滴法で表面の水に対する接触角を測定したとこ
ろ、いずれの部分も１５〜１８度の間にあった。

【０１１４】次に、感熱記録部５のTa-SiO₂ 発熱抵抗体
上にサイアロン耐磨耗保護層を設けた１５０μｍｘ１５
０μｍのサーマルヘッドを２５０μｍ間隔に並べた発熱
体アレイを用いて、酸化チタン表面層と接触させて昇温
印字を行った。使用したサーマルヘッドの走査速度を、
２．５ｍ／ｓｅｃとしたときに通電によって酸化亜鉛の
表面は２１０°Ｃに保たれることを別途温度測定を行っ
て確認した。記録速度は、２．５ｍ／ｓｅｃで行った。

【０１１５】この版胴１をサクライ社製オリバー５２片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴１の損傷も認められなかった。

【０１１６】次いで洗浄部４において、版胴１の表面を
印刷用インキ洗浄液ダイクリーンＲ（発売元；大日本イ
ンキ化学工業社）とトルエンの１／１混合液をウエスに
しみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去した。再び高
温加熱部５を通電して前と同じ条件で加熱した後、室温
まで冷えた状態で前と同様の方法で接触角を測定した。
版表面のどの部分も１５〜１８度の間にあった。

【０１１７】次いで、この版胴１の表面に上記と同一の
条件でサーマルヘッドによって前とは異なる描画を行っ
た。この版胴１をサクライ社製オリバー５２片面印刷機
に使用して、インキ・湿し水供給部３において湿し水を
純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newchampion
Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オフセット印刷を行
った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得られ、版
胴１の損傷も認められなかった。

【０１１８】この結果から、酸化亜鉛層をＳＵＳ支持体
上に設けた印刷原板を使用し、態様１の印刷装置を用い
て高温加熱とヒートモード印字によって印刷が可能であ
り、しかもインキの洗浄除去のみで印刷原板を反復再生
使用できることが示された。

【０１１９】〔実施例３〕実施例１と同様にして陽極酸
化処理したアルミニウム支持体をＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂
Ｏ₁₀の化学量論比に相当するセシウムエトキシド、チタ
ンブトキシド、ランタンイソブトキシド、ニオブエトキ
シドを含む２０％のエタノール溶液に浸漬して表面を加
水分解したのち２８０°Ｃに加熱してアルミニウム支持
体表面にＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀の厚み１０００オン
グストロームの薄膜を形成させた。

【０１２０】この複合金属酸化物薄膜付きアルミニウム
支持体を版胴の基体に巻き付けて原板とした以外は、実
施例１と同じ製版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を
行った。高温加熱による親水性化領域の水に対する接触
角は、１回目及び２回目とも１５〜２２度であり、ま
た、印刷面の品質も１回目及び２回目とも地汚れはな
く、画像領域と非画像領域の識別性も十分であった。

【０１２１】〔実施例４〕実施例１で使用したものと同
じ粗面化処理と陽極酸化処理を施したアルミニウム支持
体を使用してチタン酸バリウムを熱応答性金属酸化物と
した原板を作製した。すなわち、上記アルミニウム支持
体をスパッタリング装置内にセットし、５．０ｘ１０^-7
Torrまで真空排気する。支持体を２００°Ｃに加熱し、
Ａｒ／Ｏ₂が９０／１０（モル比）となるようにガス圧
を５ｘ１０^-3Torrに設定し、ＳｉＯ ₂ のターゲットにＲ
Ｆパワー２００Ｗを投入してＳｉＯ₂ の１μｍの薄層を
形成した。続いてＡｒのガス圧を５ｘ１０^-3Torrに設定
し、ＳｉのターゲットにＲＦパワー２００Ｗを投入して
Ｓｉの１μｍの薄膜を形成した。続いてＡｒのガス圧を
５ｘ１０^-3Torrに設定し、６インチφのチタン酸バリウ
ムの焼結ターゲットにＲＦパワー２００Ｗを投入して膜
厚１０００Åのチタン酸バリウム薄膜を形成した。Ｘ線
解析法によれば、この薄膜は多結晶体であった。

【０１２２】このチタン酸バリウム薄膜と光熱変換性の
Ｓｉ薄膜及びＳｉＯ₂ の断熱層を載せたアルミニウム支
持体を版胴の基体に巻き付けて原板として使用したこと
と、感熱記録部に感熱記録ヘッドの代わりに赤外線レー
ザー光記録装置を使用した以外は、実施例１と同じ製
版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を行った。赤外線
レーザー光記録装置は、出力５００ｍＷの固体赤外線レ
ーザー光をビーム幅４５ミクロンに絞って走査露光によ
って描画を行った。この場合、照射した赤外線光をＳｉ
層が吸収して発熱するのでチタン酸バリウム層を加熱で
きる。なお、感熱ヘッドとの接触によって測定した試験
との比較によって、上記の条件で赤外線レーザー描画を
行った時の光照射部のチタン酸バリウム層の温度は、２
５０℃であることが判っている。高温加熱による親水性
化領域の水に対する接触角は、１回目及び２回目とも１
４〜２０度であり、また、印刷面の品質も１回目及び２
回目とも地汚れはなく、画像領域と非画像領域の識別性
も十分であった。

【０１２３】〔実施例５〕厚み１００ミクロンのポリイ
ミド（無水ピロメリット酸・ｍ−フェニレンジアミン共
重合物）フィルム（商品名；カプトン、東レ・デュポン
社製）を使用して実施例４と同様に光熱変換層を設けて
その上に二酸化チタン薄膜を設けた試料を作製した。す
なわち、上記アルミニウム支持体をスパッタリング装置
内にセットし、５．０ｘ１０^-7Torrまで真空排気する。
支持体を２００℃に加熱し、Ａｒ／Ｏ₂ が９０／１０
（モル比）となるようにガス圧を５×１０^-3Torrに設定
し、ＳｉＯ₂ のターゲットにＲＦパワー２００Ｗを投入
してＳｉＯ₂ の１μｍの薄層を形成した。続いてＡｒの
ガス圧を５×１０^-3Torrに設定し、Ｓｉのターゲットに
ＲＦパワー２００Ｗを投入してＳｉの１μｍの薄膜を形
成した。さらに、Ａｒ／Ｏ₂ が６０／４０（モル比）と
なるようにガス圧を５×１０^-3Torrに設定し、ガス圧を
５×１０^-3Torrに設定し、チタン金属のターゲットにＲ
Ｆパワー２００Ｗを投入して二酸化チタン薄膜を蒸着形
成した。この薄膜の結晶成分はＸ線解析法によって無定
型／アナターゼ／ルチル結晶構造の比が１．５／６．５
／２であり、二酸化チタン薄膜の厚さは９００オングス
トロームであった。この二酸化チタン薄膜と光熱変換性
のＳｉ薄膜及びＳｉＯ₂ の断熱層を載せたポリイミド支
持体を版胴の基体に巻き付けて原板として使用したこと
と、感熱記録部に感熱記録ヘッドの代わりに赤外線レー
ザー光記録装置を使用した以外は、実施例１と同じ製
版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を行った。赤外線
レーザー光記録装置は、出力５００ｍＷの固体赤外線レ
ーザー光をビーム幅４５ミクロンに絞って走査露光によ
って描画を行った。高温加熱による親水性化領域の水に
対する接触角は、１回目及び２回目とも１１〜１７度で
あり、また、印刷面の品質も１回目及び２回目とも地汚
れはなく、画像領域と非画像領域の識別性も十分であっ
た。

【０１２４】〔実施例６〕感熱記録部の空気取り入れ口
に内径約３０ｍｍの硝子管（分液ろ斗を転用）を横向き
に配置し、室内の空気がこの硝子管内を通過して感熱記
録部の内部に取り込まれる構造とした。シリコーンオイ
ル〔商品名シリコーンＫＦ９９（信越化学工業（株）
製〕を含浸させた珪草土を容積率が５０％となるように
硝子管の下半分に流しこんだ。空気取り入れ口の温度
は、この管を通過中に室温から１５０℃に上昇する。シ
リコーンＫＦ９９は、この温度では少なくとも１ｍｍＨ
ｇ以上の蒸気圧を持つので、感熱記録部の内部に取り入
れられた空気は、シリコーンＫＦ９９の蒸気を含んでい
る。空間部の内容積が２リットルの管熱記録部における
空気交換速度は、毎分１０ｖｏｌ％であった。このオル
ガノポリシロキサン化合物の蒸気を導入する以外は、実
施例１と同じ原板と同じ装置を使用して、同じ条件で製
版し、印刷を行い、使用済みの印刷版を同じ方法で再生
して再度印刷を行った。ヒートモード記録した画像領域
の水に対する極大接触角は、１９０℃に現れ、その水に
対する接触角の値（協和界面科学株式会社製CONTACT-AN
GLE METER CA-Dを用いて空中水滴法で測定）は、７３度
であった。この結果を実施例１で得た結果と比較する
と、疎水性発現温度での加熱を有機珪素化合物蒸気の存
在下で行うことによって、接触角が極大となる温度が変
化するが、同時に接触角が著しく増加して親油性〜親水
性の識別性が向上したことが判る。

【０１２５】ついで、この印刷版を使用して、１０００
枚のオフセット印刷を行った。実施例１と同様にスター
トから終了まで鮮明な印刷物が得られたが、さらに印刷
を続けて５０００枚の印刷を行ったときには、シリコー
ンＫＦ９９を存在させないで印刷した実施例１において
は、目視で認められるインキ汚れが生じたが、シリコー
ンＫＦ９９の存在下で印刷を行った実施例６では、イン
キ汚れは認められず、版胴１の損傷も認められなかっ
た。

【０１２６】次いで、本発明の第２の実施形態について
説明する。 〔実施形態２〕図５は本発明の第２の実施形態によるオ
フセット印刷装置の構成を示す図である。図５に示すオ
フセット印刷装置は、図２に示すオフセット印刷装置を
印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂとして４
台直列に本体１２内に配置して構成されるものであり、
それぞれ、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シア
ン）、Ｂ（ブラック）のインキを使用してカラー印刷を
行うものである。

【０１２７】各印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，
１１Ｂの構成および動作は、図２に示すオフセット印刷
装置と同一であるため、詳細な説明は省略する。第２の
実施形態においては、各印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，
１１Ｃ，１１Ｂのインキ・湿し水供給部において供給さ
れるインキの色が、それぞれ、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マ
ゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｂ（ブラック）である点が異
なるものである。

【０１２８】次いで、第２の実施形態の動作について説
明する。まず、印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，
１１Ｂにおいて版胴１をゆっくり回転させながら高温加
熱部の発熱抵抗体に通電することによって版胴１の全面
を３５０℃の高温加熱部を２分間で通過させることによ
り、版胴全面を親水性にした後に、実施例１に記した感
熱ヘッドによる感熱記録により各色を表す画像をヒート
モードによって描画する。そして、各印刷ユニット１１
Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂのインキ・湿し水供給部か
らＹ，Ｍ，Ｃ，Ｂそれぞれの色のインキを供給して、各
印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂの版胴１
にインキおよび湿し水を保持する。その後、図５の矢印
Ｂに示すように用紙を供給して、各印刷ユニット１１
Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂのインキを用紙に転写す
る。すなわち、印刷ユニット１１ＹにおいてはＹのイン
キが転写され、印刷ユニット１１ＭにおいてはＭのイン
キが転写され、印刷ユニット１１ＣにおいてはＣのイン
キが転写され、印刷ユニット１１ＢにおいてはＢのイン
キが転写される。これにより、用紙にはカラー画像が印
刷されることとなる。

【０１２９】印刷終了後、各印刷ユニット１１Ｙ，１１
Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂのインキ洗浄部により版胴に残存す
るインキを除去する。その後、版胴１をゆっくり回転さ
せながら高温加熱部の発熱抵抗体に通電することによっ
て版胴１の全面を３５０℃で１５秒間加熱することによ
り、版胴１はヒートモードによる描画前の状態に戻る。

【０１３０】〔実施形態３〕次いで、本発明の第３の実
施形態について説明する。図６は本発明の第３の実施形
態によるオフセット印刷装置の構成を示す図であり、図
７は図６の要部拡大図である。図６に示すオフセット印
刷装置は、図２に示すオフセット印刷装置を印刷ステー
ション１４Ｙ，１４Ｍ，１４Ｃ，１４Ｂとして本体１５
内において圧胴７の周囲に配置して構成されるものであ
り、それぞれ、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ
（シアン）、Ｂ（ブラック）のインキを使用してカラー
印刷を行うものである。

【０１３１】各印刷ステーション１４Ｙ，１４Ｍ，１４
Ｃ，１４Ｂの構成は同一であり、印刷ステーション１４
Ｙで代表させて図７に示す。図７に示すように、印刷ス
テーション１４Ｙは、第１の実施形態と同様に、酸化チ
タンや酸化亜鉛などの熱応答型物質を主成分とする表面
を有する版胴１と、版胴１を疎水性発現温度よりも高い
高温親水性発現温度に加熱する高温加熱部２と、高温加
熱によって親水性化された版胴１に対してヒートモード
の描画を行うための感熱記録部５と、ヒートモードの描
画がなされた版胴１にインキおよび湿し水を供給するイ
ンキ・湿し水供給部３と、印刷終了後に版胴１に残存す
るインキを除去するインキ洗浄部４と、版胴１に保持さ
れたインキを用紙に転写するための中間体として圧胴７
に接触するブランケット６とが設けられている。また、
高温加熱ののちに版胴を強制的に冷却するための例えば
水冷式ジャケットからなる冷却部１９を設けてもよい。

【０１３２】なお、印刷ステーション１４Ｙ，１４Ｍ，
１４Ｃ，１４Ｂの動作は上述した図２に示すオフセット
印刷装置と同一であるため、詳細な説明は省略する。第
３の実施形態においては、各印刷ステーション１４Ｙ，
１４Ｍ，１４Ｃ，１４Ｂのインキ・湿し水供給部におい
て供給されるインキの色が、それぞれ、Ｙ（イエロ
ー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｂ（ブラック）
である点が異なるものである。

【０１３３】次いで、第３の実施形態の動作について説
明する。まず、印刷ステーション１４Ｙ，１４Ｍ，１４
Ｃ，１４Ｂにおいて版胴を高温加熱部で中間レベルの加
熱温度以上の高温度に加熱して全面を親水性化したの
ち、感熱記録部により疎水性発現温度において各色を表
す画像をヒートモードで描画する。そして、各印刷ステ
ーション１４Ｙ，１４Ｍ，１４Ｃ，１４Ｂのインキ・湿
し水供給部からＹ，Ｍ，Ｃ，Ｂそれぞれの色のインキを
供給して、各印刷ステーション１４Ｙ，１４Ｍ，１４
Ｃ，１４Ｂの版胴１にインキを保持する。その後、図５
の矢印Ｃに示すように用紙を供給して、圧胴７の周囲に
おいて用紙を搬送し、各印刷ステーション１４Ｙ，１４
Ｍ，１４Ｃ，１４Ｂのインキを用紙に転写する。すなわ
ち、印刷ステーション１４ＹにおいてはＹのインキが転
写され、印刷ステーション１４ＭにおいてはＭのインキ
が転写され、印刷ステーション１４ＣにおいてはＣのイ
ンキが転写され、印刷ステーション１４ＢにおいてはＢ
のインキが転写される。これにより、用紙にはカラー画
像が印刷されることとなる。

【０１３４】印刷終了後、各印刷ステーション１４Ｙ，
１４Ｍ，１４Ｃ，１４Ｂのインキ洗浄部により版胴に残
存するインキを除去する。その後、版胴を上記と同じ条
件で高温加熱することにより、版胴はヒートモードによ
る描画前の状態に戻る。

【０１３５】なお、上記第２および第３の実施形態にお
いては、４つの印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，
１１Ｂあるいは４つの印刷ステーション１４Ｙ，１４
Ｍ，１４Ｃ，１４Ｂを用いてカラー印刷を行っている
が、５つあるいはそれ以上の印刷ユニットまたは印刷ス
テーションを設けてカラー印刷を行うようにしてもよ
い。

【０１３６】なお、上記第１〜第３の実施形態において
は、版胴１を使用しているが、これに限定されるのもで
はなく、シート状の印刷用原板を使用してオフセット印
刷を行うものであっても、本発明を適用することができ
るのはもちろんである。

【０１３７】また、上記第１〜第３の実施形態において
は、高温加熱部２から時計回りにインキ洗浄部４、イン
キ・湿し水供給部３および感熱記録部５を配置している
が、これに限定されるものではなく、任意の順序にて配
置することができる。

【０１３８】さらに、上記の各実施形態及び実施例にお
いては、酸化チタンおよび酸化亜鉛を使用した例を説明
したが、これに限定されるものではなく、前記した任意
の熱応答型金属酸化物又は金属を使用することができ
る。

【０１３９】

【発明の効果】本発明の熱応答型物質とくに明細書本文
中に記載の熱応答型金属及び金属酸化物を画像形成層と
した印刷用原板を高温親水性発現温度に加熱して表面を
親水性として、その表面に疎水性発現温度でヒートモー
ドの描画を行って印刷版を作成する印刷方法は、現像な
どの処理を必要とせず、直接印刷版を作成することがで
き、かつ印刷終了後、印刷版のインキを除去して印刷原
板を再生して反復使用することができる。また、原板を
印刷機の版胴に装着し、印刷機上で、親水性化、ヒート
モード描画、インキ・湿し水供給及び印刷後の原板再生
を行う印刷装置を用いて簡易で安価なオフセット印刷を
行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に関わる酸化チタン表面の温度・接触角
の関係を示す図である。

【図２】本発明の第１の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。

【図３】感熱記録部の詳細な構成を示す図である。

【図４】感熱記録部の詳細な構成を示す図である。

【図５】本発明の第２の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。

【図６】本発明の第３の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。

【図７】図６の要部拡大図である。

【符号の説明】

１ 版胴 ２ 高温加熱部 ３ インキ・湿し水供給部 ４ インキ洗浄部 ５ 感熱記録部 ６ ブランケット ７ 圧胴 ８ １２，１５ 本体 ９ 冷却部 １１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂ 印刷ユニット １４Ｙ，１４Ｍ，１４Ｃ，１４Ｂ 印刷ステーション １８ 感熱ヘッド １９ 感熱ヘッド駆動部 ２０ 編集・レイアウトＷ／Ｓ ２１ 赤外線レーザー光源 ２２ 赤外線レーザー光源駆動部 Ｓ 画像信号

フロントページの続き (72)発明者 中村 隆 神奈川県足柄上郡開成町宮台798 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 神山 宏二 神奈川県足柄上郡開成町宮台798 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2C034 AA09 BA02 2H084 AA13 AA14 AA16 AA36 AA38 AA40 AE05 BB02 BB13 CC05 2H113 AA01 AA02 BA05 BB02 DA04 DA07 DA15 DA66 EA02 FA08 FA42 FA44 FA48 2H114 AA04 AA24 AA27 BA05 BA06 BA10 DA04 DA05 DA07 EA04 GA01 GA29 GA32 GA33

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 印刷用原板を高温親水性発現温度で加熱
   することによってその表面を親水性化し、次いで該原板
   に疎水性発現温度でヒートモードの描画を施すことによ
   って疎水性の画像領域を形成させ、該画像領域を印刷用
   インキに接触させることによって画像領域がインキを受
   け入れた印刷面を形成させて印刷を行うことを特徴とす
   るオフセット印刷方法。
2. 【請求項２】 高温親水性発現温度が２００℃以上であ
   り、疎水性発現温度が５０〜２５０℃でかつ前記高温親
   水性発現温度よりも低い温度であることを特徴とする請
   求項１に記載のオフセット印刷方法。
3. 【請求項３】 印刷に使用した印刷版面上に残存するイ
   ンキを洗浄除去したのち、その印刷用原板を用いて請求
   項１又は２に記載の操作を反復して印刷を行うことを特
   徴とする請求項１又は２に記載の印刷方法。
4. 【請求項４】 印刷用原板の表面が、周期律表の第３〜
   ６周期に属していて、かつ０及びVII Ａ族（ハロゲン元
   素）族以外の元素から選択される金属及び該金属の酸化
   物の群の少なくとも一つから構成されていることを特徴
   とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のオフセット
   印刷方法。
5. 【請求項５】 印刷用原板の表面が、ＴｉＯ₂ 、ＲＴｉ
   Ｏ₃ （Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ
   _3-x Ｅ_x Ｏ₁₀（Ａは水素原子又はアルカリ金属原子、Ｂ
   はアルカリ土類金属原子又は鉛原子、Ｃは希土類原子、
   Ｄは周期律表の５Ａ族元素に属する金属原子、Ｅは同じ
   く４Ａ族元素に属する金属原子、ｘは０〜２の任意の数
   値を表す）、ＳｎＯ₂ ，Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＳｉＯ₂ ，ＧｅＯ
   ₂ ，Ａｌ ₂ Ｏ₃ ，ＺｎＯ及びＦｅ₂ Ｏ₃ から選ばれる金
   属酸化物の少なくとも一つによって構成されていること
   を特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のオフ
   セット印刷方法。
6. 【請求項６】 印刷用原板の表面が、アルミニウム、
   鉄、銅、珪素、ニッケル、ゲルマニウム、亜鉛及び錫か
   ら選ばれる金属又は金属合金の少なくとも一つによって
   構成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれ
   か１項に記載のオフセット印刷方法。
7. 【請求項７】 前記ヒートモードの描画が、感熱転写記
   録用ヘッド及び光・熱変換型輻射線から選ばれる描画手
   段の一つによって行われることを特徴とする請求項１〜
   ６のいずれか１項に記載のオフセット印刷方法。
8. 【請求項８】 印刷用原版の表面を親水化する加熱温度
   が、３００〜７００℃であることを特徴とする請求項１
   〜７のいずれか１項に記載のオフセット印刷方法。
9. 【請求項９】 親水性化した印刷用原板に施すヒートモ
   ードの描画が、有機化合物の存在下で行うことを特徴と
   する請求項１〜８のいずれか１項に記載のオフセット印
   刷方法。
10. 【請求項１０】 ヒートモードの描画において存在させ
    る有機化合物が、温度４００℃において少なくとも１ｍ
    ｍＨｇ以上の蒸気圧を有し、かつ高温親水性発現温度に
    おいて安定な有機化合物であることを特徴とする請求項
    ９に記載のオフセット印刷方法。
11. 【請求項１１】 ヒートモードの描画において存在させ
    る有機化合物が、沸点が３０〜４００℃の範囲にあっ
    て、かつ高温親水性発現温度において安定な有機化合物
    であることを特徴とする請求項９又は１０に記載のオフ
    セット印刷方法。
12. 【請求項１２】 請求項１〜１１項のいずれか１項に記
    載の方法に使用するオフセット印刷装置であって、 印刷用原板を装着する原板装着部と、 該原板を高温親水性発現温度に加熱してその表面を親水
    性化する加熱手段と、 該原板に疎水性発現温度でヒートモードの描画を施して
    疎水性の画像領域を形成させる描画手段と、 該画像領域に印刷用インキを供給して画像領域がインキ
    を受け入れた印刷面を形成させるインキ供給手段と、 該印刷面を印刷される面と接触させて印刷を行う印刷手
    段と、を有することを特徴とするオフセット印刷装置。
13. 【請求項１３】 印刷終了後、印刷版に残存するインキ
    を除去する手段を有することを特徴とする請求項１２に
    記載のオフセット印刷装置。
14. 【請求項１４】 少なくとも露光手段、描画手段、イン
    キ供給手段およびインキ除去手段が、版胴の周囲に配設
    されてなることを特徴とする請求項１２又は１３に記載
    のオフセット印刷装置。
15. 【請求項１５】 印刷用原板が版胴の一部を構成してお
    り、少なくとも露光手段、描画手段、インキ供給手段お
    よびインキ除去手段が、版胴の周囲に配設されてなるこ
    とを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか１項に記載
    のオフセット印刷装置。