JPH11143055A - 平版印刷版の作成方法及び平版印刷用原版 - Google Patents

平版印刷版の作成方法及び平版印刷用原版

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JPH11143055A
JPH11143055A JP31374097A JP31374097A JPH11143055A JP H11143055 A JPH11143055 A JP H11143055A JP 31374097 A JP31374097 A JP 31374097A JP 31374097 A JP31374097 A JP 31374097A JP H11143055 A JPH11143055 A JP H11143055A
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JP31374097A
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Takao Nakayama
隆雄 中山
Koji Kamiyama
宏二 神山
Takashi Yamada
隆 山田
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】アルカリ現像液を必要とせず、画像部と非画像
部の識別性が高く、優れた画質の印刷画面を作りうる印
刷方法を提供する。さらに、その印刷原版を反復して使
用できる印刷方法を提供する。 【解決手段】活性光の照射によって親水性に変化する特
定構造の金属酸化物の薄層を表面に有する印刷用原版に
活性光を照射して全面を親水性とし、この面にヒートモ
ードで描画を行うことによって、画像領域がインクを受
け入れた印刷面を形成させて印刷を行う印刷方法。ま
た、使用した印刷版から版面上に残存するインクを洗浄
除去して印刷原版として反復して印刷を行うことを特徴
とする印刷方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般軽印刷分野、
とりわけ平版印刷、特に簡易に印刷版を製作できる新規
なオフセット印刷方法及び印刷版に関するものである。
さらに具体的には、印刷用原版の反復再生使用を可能に
する平版印刷方法とその印刷用原版に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】平版印刷法とりわけオフセット印刷法
は、数多くの印刷方法の中でも印刷版の製作工程が簡単
であるために、とくに一般的に用いられてきており、現
在の主要な印刷手段となっている。この印刷技術は、油
と水の不混和性に基づいており、画像領域には油性材料
つまりインクが、非画像領域には湿し水が選択的に保持
される。したがって印刷される面と直接あるいはブラン
ケットと称する中間体を介して間接的に接触させると画
像部のインクが転写されて印刷が行われる。
【０００３】オフセット印刷の主な方法は、アルミニウ
ム基板を支持体としてその上にジアゾ感光層を塗設した
ＰＳ板である。ＰＳ板においては、アルミニウム基板を
支持体としてその表面を砂目立て、陽極酸化、その他の
諸工程を施してインク受容能と非画像部のインク反発性
を強め、耐刷力を向上させ、印刷面の精彩化を図るなど
を行い、その表面に印刷用画像を形成させる。したがっ
てオフセット印刷は、簡易性に加えて耐刷力や印刷面の
高精彩性などの特性も備わってきている。しかしなが
ら、印刷物の普及に伴って、オフセット印刷法の一層の
簡易化が要望され、数多くの簡易印刷方法が提案されて
いる。
【０００４】その代表例がAgfa-Gevaert社から市販され
たCopyrapid オフセット印刷版をはじめ、米国特許３５
１１６５６号、特開平７−５６３５１号などでも開示さ
れている銀塩拡散転写法による印刷版作製に基づく印刷
方法であって、この方法は、１工程で転写画像を作るこ
とができて、かつその画像が親油性であるために、その
まま印刷版とすることができるので、簡易な印刷方法と
して実用されている。しかしながら、簡易とはいいなが
らこの方法もアルカリ現像液による拡散転写現像工程を
必要としている。現像液による現像工程を必要としない
さらに簡易な印刷方法が要望されている。
【０００５】画像露光を行ったのちのアルカリ現像液に
よる現像工程を省略した簡易印刷版の製作方法の開発は
上記の背景から行われてきた。現像工程を省略できるこ
とから無処理刷版とも呼ばれるこの簡易印刷版の技術分
野では、これまでに主として像様露光による画像記録
面上の照射部の熱破壊による像形成、像様露光による
照射部の親油性化（ヒートモード硬化）による画像形
成、同じく照射部の親油性化であるが、光モード硬化
によるもの、ジアゾ化合物の光分解による表面性質の
変化、画像部のヒートモード溶融熱転写などの諸原理
に基づく手段が提案されている。
【０００６】上記の簡易オフセット印刷方法として開示
されている技術には、米国特許第３，５０６，７７９
号、同第３，５４９，７３３号、同第３，５７４，６５
７号、同第３，７３９，０３３号、同第３，８３２，９
４８号、同第３，９４５，３１８号、同第３，９６２，
５１３号、同第３，９６４，３８９号、同第４，０３
４，１８３号、同第４，０８１，５７２号、同第４，６
９３，９５８号、同第７３１，３１７号、同第５，２３
８，７７８号、同第５，３５３，７０５号、同第５，３
８５，０９２号、同第５，３９５，７２９号等の米国特
許及び欧州特許第１０６８号などがある。
【０００７】これらは、製版に際して現像液を必要とし
ないように考案されているが、親油性領域と親水性領域
との差異が不十分であること、したがって印刷画像の画
質が劣ること、解像力が劣り、先鋭度の優れた印刷画面
が得にくいこと、画像面の機械的強度が不十分で傷がつ
きやすいこと、そのために保護膜を設けるなどによって
却って簡易性が損なわれること、長時間の印刷に耐える
耐久性が不十分なことなどのいずれか一つ以上の欠点を
伴っていて、単にアルカリ現像工程を無くすだけでは実
用性は伴わないことを示している。印刷上必要とされる
諸特性を具備し、かつ簡易に印刷版を製作できる印刷版
作成方法への強い要望は、いまだに満たされていない。
【０００８】上記した無処理型印刷版作成方法の一つに
ジルコニアセラミックが光照射によって親水性化するこ
とを利用した印刷版作製方法が特開平９−１６９０９８
号で開示されている。しかし、ジルコニアの光感度は不
十分であり、かつ疎水性から親水性への光変換効果が不
十分のため画像部と非画像部の識別性が不足している。
【０００９】上記した現像液を必要としない簡易な印刷
方法とともに、使用済みの印刷用原版を簡単に再生して
再使用できる手段があれば、コストの低減と廃棄物の軽
減の２面から有利である。印刷用原版の再生使用には、
その再生操作の簡易性が実用価値を左右するが、再生操
作の簡易化は難度の高い課題であり、従来殆ど検討され
きておらず、わずかに上記の特開平９−１６９０９８号
でジルコニアセラミックという特殊な原版用材料につい
て開示されているに過ぎない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
している第１の課題は、アルカリ性現像液を必要としな
い簡易性と実用レベルの十分の画質を有するオフセット
印刷方法、具体的には、第１にアルカリ現像液を必要と
せず、第２に優れた解像力を有し、第３に画像部と非画
像部の識別性が高く、したがって優れた画質の印刷画面
を作りうる印刷方法を提供することである。本発明の第
２の解決課題は、印刷画質を損なうことなく簡易性を具
備した印刷方法という上記の課題に加えて、さらに印刷
原版を反復して使用することもできる印刷方法を提供す
ることである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者たちは、上記の
目的を達成するために、鋭意検討の結果、特定の金属酸
化物が光の照射によって表面の親水性が変化する現象と
変化した親水性が熱処理によってもとに戻る性質を有す
ることを認め、この現象を印刷方法の簡易化と印刷版の
再利用化に応用して上記の課題を解決できる可能性に着
目して鋭意検討を重ねて本発明を完成するに至った。す
なわち、本発明は、下記の通りである。
【００１２】１．ＲＴｉＯ3 （Ｒはアルカリ土類金属原
子）、ＡＢ2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ10（Ａは水素原子又は
アルカリ金属原子、Ｂはアルカリ土類金属原子又は鉛原
子、Ｃは希土類原子、Ｄは周期律表の５Ａ族元素に属す
る金属原子、Ｅは同じく４Ａ族元素に属する金属原子、
ｘは０〜２の任意の数値を表す）、ＳｎＯ2 ，Ｂｉ2 Ｏ
3 及びＦｅ2 Ｏ3 の少なくとも一つからなる薄層を表面
に有する印刷用原版に活性光による全面照射を行った
後、ヒートモードの描画を行って印刷版を作成すること
を特徴とする平版印刷版の作成方法。
【００１３】２．使用した印刷版面上に残存するインク
を洗浄除去したのち、その印刷用原版を用いて反復して
印刷を行うことを特徴とする上記１に記載の平版印刷版
の作成方法。
【００１４】３．オフセット印刷機の版胴の印刷面側の
表面に上記１に記載の薄層を設けたことを特徴とする上
記１又は２に記載の平版印刷版の作成方法。
【００１５】４．印刷面側の表面に上記１に記載の薄層
を有し、上記１〜３に記載の平版印刷方法に使用するこ
とを特徴とする平版印刷用原版。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明は、特定の金属酸化物の薄層
が活性光の照射を受けてその表面が親水性へと性質を変
える特性を有することと、熱によってその変化した表面
の性質がもとの性質に戻ることとを発見し、それらの現
象をインクの受容性と反撥性の識別へ応用して、それを
オフセット印刷用の印刷版の作製と、使用済みの印刷版
の再生に応用する技術を確立したことを特徴点としてい
る。
【００１７】以下の説明では、本発明に使用する上記の
特定の金属酸化物を「光触媒型金属酸化物」と呼ぶ。そ
の詳細を述べる前に、蛇足ながら、本明細書で用いてい
る用語について触れておくと、活性光とは、光触媒型金
属酸化物が吸収すると励起されて、その表面を親水性に
変化させる光を指しており、その光源や波長などの詳細
は後述する。また、「全面照射」は、印刷面の全面にわ
たって実質的に一様で局部的な不均一が実用上認められ
ない照射を指している。これに対して「像様露光」は、
受光面照度が画像状に分布するように変調された光によ
る露光である。「ヒートモード」とは、当業界で通常用
いている意味で用いており、微細な発熱媒体を画像状に
接触させて熱の作用による描画を行う方法以外にも、吸
収した光が熱エネルギーに変換される結果、光化学的な
変化でなく熱の作用による変化がもたらされる現象を利
用する方式を指しており、ヒートモードの描画には赤外
線、高照度短時間の可視光及びレーザービームなどが用
いられる。また、以下の記載において「薄膜」と「薄
層」は同義である。
【００１８】本発明に使用する光触媒型金属酸化物につ
いて説明する。ＲＴｉＯ3 のＲはマグネシウム、カルシ
ウム、ストロンチウム、バリウム、ベリリウムなどの周
期律表のアルカリ土類元素に属する金属原子であり、と
くにストロンチウムとバリウムが好ましい。上記のＲ
は、その合計が上記の式に化学量論的に整合する限り２
種以上のアルカリ土類金属原子を共有することができ
る。
【００１９】一般式ＡＢ2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ10で表さ
れる化合物において、Ａは水素原子及びナトリウム、カ
リウム、ルビジウム、セシウム、リチウムなどのアルカ
リ金属原子から選ばれる１価原子で、その合計が上記の
式に化学量論的に整合する限りそれらの２種以上を共存
してもよい。
【００２０】Ｂは、上記のＲと同義のアルカリ土類金属
原子又は鉛原子であり、上記同様に化学量論的に整合す
る限り２種以上の原子が共存してもよい。Ｃは希土類原
子であり、好ましくはスカンジウム、イットリウムのほ
かランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオジウム、
ホルミウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウ
ム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウムなどのラン
タノイド系元素に属する原子であり、
【００２１】Ｄは周期律表の５Ａ族元素から選ばれた１
種以上で窒素、リン、ヒ素、アンチモン、ビスマスが挙
げられる。また、化学量論関係を満たす限り、２種以上
の５Ａ族元素が共存してもよい。Ｅは同じくシリコン、
ゲルマニウム、錫、鉛などの４Ａ族元素に属する金属原
子であり、また、２種以上の４Ａ族の金属原子が共存し
てもよい。ｘは０〜２の任意の数値を表す。
【００２２】本発明においては、以上のＲＴｉＯ3 、Ａ
Ｂ2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ10、ＳｎＯ 2 ，Ｂｉ2 Ｏ3 及び
Ｆｅ2 Ｏ3 の少なくとも一つを単独あるいは２種以上を
組み合わせからなる薄層を感光層として印刷用原版表面
に設ける。
【００２３】この薄層は、活性光の照射によって表面が
親水性になる性質を有する。この特性を利用して、活性
光を用いて像様露光を行って露光面に像様の親水性部分
を生成させたのち、その面を印刷用インクに接触させ
て、画像領域がインクを受け入れた印刷面を形成させて
印刷を行い、印刷の終了後使用した印刷版面上に残存す
るインクを洗浄除去し、次いで原版を一様に８０°Ｃ以
上に加熱すると、親水性化していた露光部の表面層がも
との疎水性に戻り全面が均一なインク受容性の疎水性表
面となるので、印刷原版が再生される。したがってその
印刷用原版を用いて反復して印刷を行うことができるの
が本発明のオフセット印刷方法の特徴である。
【００２４】上記の金属酸化物が光触媒反応によってそ
の表面が親水性化する現象は、特開平９−７０５４１
号、同９−７７５３５号などで公知であるが、活性光に
よって表面が親水性化させることと同時に、その表面を
ヒートモードの光照射や熱エネルギーそのものによる加
熱によって疎水性化させることも可能であって、それら
の現象を原版を反復使用する新たな方式のオフセット印
刷に応用するという着想は、新しい技術思想である。
【００２５】本発明に使用する上記の光触媒型金属酸化
物を原版の表面に設けるには、たとえば、上記酸化物
微粒子の分散物を印刷版の原版上に塗設する方法、塗
設したのち焼成してバインダーを減量或いは除去する方
法、印刷版の原版上に上記酸化物を各種の真空薄膜法
で膜形成する方法、例えば金属元素のアルコレートの
ような有機化合物を原版上に塗布したのち、加水分解さ
せ、さらに焼成酸化を施して適当な厚みの金属薄膜とす
る方法、上記金属を含む塩酸塩、硝酸塩などの水溶液
を加熱スプレーする方法など、既知の任意の方法を用い
ることができる。
【００２６】上記又はのチタン酸バリウム微粒子を
塗設する方法には、チタン酸バリウムとシリコンの混合
分散物を塗布して表面層を形成させる方法、チタン酸バ
リウムとオルガノポリシロキサンまたはそのモノマ−と
の混合物を塗布する方法などがある。また、酸化物層の
中に酸化物と共存するできるポリマーバインダーに分散
して塗布することもできる。酸化物微粒子のバインダ−
には、チタン酸バリウム微粒子に対して分散性を有する
ポリマーを広く用いることができる。好ましいバインダ
ーポリマーの例としては、ポリエチレンなどのポリアル
キレンポリマー、ポリブタジエン、ポリアクリル酸エス
テル、ポリメタクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポ
リ蟻酸ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリビニルアルコール、部分鹸化ポ
リビニルアルコール、ポリスチレンなどの疎水性バイン
ダーが好ましく、それらの樹脂を混合して使用してもよ
い。この方法の場合にはチタン酸バリウム以外にチタン
酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロ
ンチウム又はそれらの分子間化合物、混合物も同様に薄
膜形成可能である。
【００２７】同様にして、の塗設方法でＣｓＬａ2
ＮｂＴｉ2 Ｏ10微粒子を塗設することが可能である。Ｃ
ｓＬａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10微粒子は、その化学量論に対応
するＣｓ2 ＣＯ3,Ｌａ2 Ｏ3,ＮｂＯ5,ＴｉＯ2 を乳鉢で
微粉砕して、白金るつぼに入れ、１３０°C で５時間焼
成し、それを冷却してから乳鉢に入れて数ミクロン以下
の微粒子に粉砕した。このＣｓＬａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10微
粒子を前記しチタン酸バリウムと同様にバインダーの中
に分散し、塗布して薄膜を形成した。この方法は、Ｃｓ
Ｌａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10型微粒子に限られず、ＨＣａ1.5
Ｌａ0.5 Ｎｂ2. 5 Ｔｉ0.5 Ｏ10，ＬａＮｂＴｉ2 Ｏ10な
ど前述のＡＢ2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ10、（０≦ｘ≦２）
に適用される。
【００２８】上記の真空薄膜形成法を用いた光触媒型
金属酸化物層の形成方法としては、一般的にはスパッタ
リング法あるいは真空薄膜形成法が用いられる。スパッ
タリング法では、あらかじめ単体もしくは２元の酸化物
ターゲットを準備する。例えば、チタン酸バリウムター
ゲットを用いて蒸着膜用の支持体の温度を４５０°Ｃ以
上に保ち、アルゴン／酸素混合雰囲気中でＲＦスパッタ
リングを行うことによりチタン酸バリウム決勝薄膜が得
られる。結晶性の制御には必要に応じてポストアニーリ
ングを３００〜９００°Ｃで行えばよい。本方法は前述
のＲＴｉＯ3 （Ｒはアルカリ土類金属原子）をはじめ他
の前記光触媒型金属酸化物にも、結晶制御に最適な基板
温度を調整すれば同様の考え方で薄膜形成が可能であ
る。例えば酸化錫薄膜を設ける場合には基板温度１２０
°Ｃ、アルゴン／酸素混合雰囲気中でＲＦスパッタリン
グを行うことによりチタン酸バリウム結晶薄膜が得比５
０／５０、ＲＦパワー２００Ｗで本目的に沿う薄膜が得
られる。
【００２９】上記の金属アルコレートを用いる方法
も、バインダーを使用しないで目的の薄膜形成が可能な
方法である。チタン酸バリウムの薄膜を形成するにはバ
リウムエトキシドとチタニウムブトキシドの混合アルコ
ール溶液を表面にＳｉＯ2 を有するシリコン基板上に塗
布し、その表面を加水分解したのち、２００°Ｃ以上に
加熱してチタン酸バリウムの薄膜を形成することが可能
である。本方式は前述した他のＲＴｉＯ3 （Ｒはアルカ
リ土類金属原子）、ＡＢ2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ10（Ａ，
Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞれ前記の定義の内容を表す）、
ＳｎＯ2 ，Ｂｉ2Ｏ3 及びＦｅ2 Ｏ3 の薄膜形成に適用
することができる。
【００３０】上記の光触媒性機能を発現する金属酸化
物薄膜を形成する方法も、バインダーを含まない系の目
的の薄膜の形成が可能である。ＳｎＯ2 の薄膜を形成す
るにはＳｎＣｌ4 の塩酸水溶液を２００°Ｃ以上に加熱
した石英又は結晶性ガラス表面に吹きつけて薄膜を生成
することができる。本方式は、ＳｎＯ2 薄膜のほか，前
述したＲＴｉＯ3 （Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ
2-x Ｃx Ｄ3-x Ｅx Ｏ 10（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞ
れ前記の定義の内容を表す）、Ｂｉ2 Ｏ3 及びＦｅ2 Ｏ
3 のいずれの薄膜形成にも適用することができる。
【００３１】金属酸化物薄膜の厚みは、上記のいずれの
場合も１〜１０００００オングストロ−ムがよく、好ま
しくは１０〜１００００オングストロ−ムである。さら
に好ましくは３０００オングストロ−ム以下として光干
渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作用を十分に
発現させるには厚みが５０オングストローム以上あるこ
とが好都合である。
【００３２】バインダーを使用した場合の上記光触媒型
金属酸化物の薄層において、金属酸化物の体積率は５０
〜１００％であり、好ましくは９０％以上を酸化物が占
めるのがよく、さらに好ましくは酸化物の連続層つまり
実質的に１００％であるのがよい。また、光照射によっ
て表面の親水性が変化する性質を増進させるためにある
種の金属をドーピングすることは有効な場合があり、こ
の目的にはイオン化傾向が小さい金属のドーピングが適
しており、Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｆ
ｅ，Ｃｏをドーピングするのが好ましい。また、これら
の好ましい金属を複数ドーピングしてもよい。
【００３３】本発明に係わる印刷版は、いろいろの形態
と材料を用いることができる。例えば、印刷機の版胴の
表面に光触媒型金属酸化物を蒸着、浸漬あるいは塗布す
るなど上記した方法で直接酸化物層を設ける方法、金属
板の表面に光触媒型金属酸化物層を設けてそれを版胴に
巻き付けて印刷版とする方法、その金属板としては、ア
ルミニウム板、ステンレス鋼、ニッケル、銅板が好まし
く、また可撓性（フレキシブル）な金属板を用いること
が出来る。また、ポリエステル類やセルローズエステル
などのフレキシブルなプラスチック支持体も用いること
が出来る。防水加工紙、ポリエチレン積層紙、含浸紙な
どの支持体上に酸化物層を設けてもよく、それを印刷版
として使用してもよい。
【００３４】本発明において、光触媒型金属酸化物の層
を支持体上に設ける場合、使用される支持体としては、
寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチッ
ク（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アル
ミニウム、亜鉛、銅、ステンレス等）、プラスチックフ
ィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上
記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、
もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。
【００３５】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、アルミニウム、又は印刷版上で腐食しにくいＳＵＳ
板であり、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価で
あるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウ
ム板は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成分
とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニ
ウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィ
ルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素に
は、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合
金中の異元素の含有量は高々１０重量％以下である。本
発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウ
ムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製
造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでも
よい。このように本発明に適用されるアルミニウム板
は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知
公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することがで
きる。本発明で用いられる支持体の厚みはおよそ０．０
５mm〜０．６mm程度、好ましくは０．１mm〜０．４mm、
特に好ましくは０．１５mm〜０．３mmである。
【００３６】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示さ
れているように両者を組み合わせた方法も利用すること
ができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必
要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理され
た後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるため
に陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化
処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形
成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、
塩酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。
【００３７】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ/dm2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０
秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量
は１．０g/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、
平板印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に
傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ
易くなる。
【００３８】光触媒型金属酸化物の表面層を有する印刷
原版は、本来親油性であり、インクを受容するが、像様
露光を行うと光の照射を受けた部分は、親水性となり、
インクを受け付けなくなる。そのようにしてから、ヒー
トモードの像様露光を行うとその受光部が親油性に変化
してインクを受容する性質を持つようになる。したがっ
て像様露光した印刷原版にオフセット印刷用インクに接
触させて非画像領域が湿し水を保持し、画像領域がイン
クを受け入れた印刷面を形成させ、該印刷面を印刷され
る面と接触させてインクを転写することによって印刷が
行われる。
【００３９】本発明の基本となっている「光の照射によ
る親油性と親水性の間の変化」はきわめて顕著である。
画像部と非画像部の親水性と親油性の差が大きいほど識
別効果が顕著であり、印刷面が鮮明となり、同時に耐刷
性も大きくなる。親水性と親油性の相違度は、水滴に対
する接触角によって表すことができる。親水性が大きい
ほど水滴は広がりをみせて接触角が小さくなり、逆に水
滴を反発する（はっ水性つまり親油性）場合は接触角が
大きくなる。つまり、本発明の光触媒型金属酸化物表面
層を有する原版は、本来水に対して高い接触角を有して
いるが、活性光の照射を受けるとその接触角が急激に低
下し、親油性のインクをはじく性質に変化するので、版
面上に画像状にインク保持部と水保持部ができて紙など
の受像シートと接触することによってその被印刷面にイ
ンクが転写される。
【００４０】本発明では、親油性画像形成に先立って活
性光による全面露光を行って、印刷版面を均一に親水性
にする。全面露光に使用する活性光について述べると、
同時に全面を照射するいわゆる面露光方式又はスリット
状の光の移動による全面露光方式であっても、あるいは
光束のビームを全面にわたって走査させるスキャニング
露光方式でもよい。後者の場合は、ビームの走査間隔が
実質的に印刷に支障無い程度に小さければ一様の全面露
光とみてよい。一般的に光源がレーザー光源であれば、
ビームスキャニング露光方式が好都合であり、電球や放
電管のようなインコヒーレントな発散型光源であれば面
露光方式が好都合である。光触媒型金属酸化物を主成分
とする薄層を励起させる活性光は、４００ｎｍ以下に感
光域を有するので、水銀灯、タングステンハロゲンラン
プ、その他のメタルハライドランプ、キセノン灯、その
他紫外線光を発する放電管などを用いることが出来る。
また、励起光としては、発振波長を３２５ｎｍに有する
ヘリウムカドミウムレーザーや発振波長を３５１．１〜
３６３．８ｎｍに有する水冷アルゴンレーザーも用いる
ことができる。さらに近紫外レーザー発振が確認されて
いる窒化ガリウムレーザー系では、発振波長を３６０〜
４４０ｎｍに有するInGaＮ系量子井戸半導体レーザー、
及び３６０〜４３０ｎｍに発振波長を有する導波路 MgO
-LiNbO3 反転ドメイン波長変換デバイス型のレーザーも
適用できる。
【００４１】照射光量に応じて、表面層の光触媒型金属
酸化物を光吸収励起によって親水性に変化して行き、表
面層を構成する光触媒型金属酸化物がすべて活性化する
とそれ以上の光照射によってさらに親水性の程度が変化
することはない。好ましい照射光の強さは、光触媒型金
属酸化物の画像形成層の性質によって異なり、また活性
光の波長や分光分布によっても異なるが、通常は印刷用
画像で変調する前の面露光強度が０．０５〜１００ｊｏ
ｕｌｅ／ｃｍ2 ，好ましくは０．０５〜１０ｊｏｕｌｅ
／ｃｍ2 ，より好ましくは０．０５〜５ｊｏｕｌｅ／ｃ
ｍ 2 である。また、光照射には相反則がほぼ成立してお
り、例えば１０ｍＷ／ｃｍ2 で１００秒の露光を行って
も、１Ｗ／ｃｍ2 で１秒の露光を行っても、同じ効果が
得られるので活性光を発光する限り光源の選択には制約
はない。この照射光量は、レーザーによるスキャニング
方式あるいはな発散型光源を用いる面露光方式でもとく
に支障がないレベルの光量である。
【００４２】全面が均一に親水化された印刷版面に親油
性の画像部分を形成するには、その印刷版面を画像様に
加熱することによって行われる。画像様に加熱する手段
としては、熱ヘッド、光から熱への変換ヘッド（光熱変
換ヘッド）、熱線を画像マスクを通して照射する方法等
がある。熱ヘッドによる画像様加熱では、微細な発熱体
を接触させて画像様に加熱する方法が代表的である。画
像様に露光する方法には、スキャニング方式、面露光方
式のいずれでもよい。前者は、ビームによる画像様の書
き込みであり、後者は熱線不透過性の画像マスクを通し
て高照度のフラッシュ露光又はスリット移動露光などで
ある。前者の光源としてとくに好ましいのは、赤外線光
源であり、赤外線レーザー光源からの光ビームを走査さ
せるスキヤニング露光方式でもよい。後者の場合も、赤
外線光源がよく、赤外線電球による面露光方式の画像焼
き付けが好ましい。また、大容量コンデンサーに蓄えた
電気を一度に放出させて高照度短時間フラッシュ露光に
よっても描画できる。適切な露光量は、０．０５〜１０
joule ／ｃｍ2 、好ましくは０．０５から５joule ／ｃ
ｍ2 である。
【００４３】本発明は、ヒートモードの記録において、
描画工程を像様露光以外の発熱体との接触電熱描画によ
って行う場合の好ましい描画手段は、感熱記録方式のプ
リンターに用いられるサーマルヘッドによる印字、印画
である。
【００４４】上記の疎水性から親水性への光による変化
をもたらす感光性は、性質及び機構共に従来開示されて
いるジルコニアセラミック（特開平９−１６９０９８）
の感光性とは異なるものである。たとえば、感度につい
ては、ジルコニアセラミックに対しては７Ｗ／μｍ2 の
レーザー光と記されており、レーザー光のパルス持続時
間を１００ナノ秒として７０joule ／ｃｍ2 であって光
触媒型金属酸化物層の感度より約１桁低い。機構的に
も、十分解明されてはいないが、親油性有機付着物の光
剥離反応と考えられており、ジルコニアの光変化機構と
は異なっている。
【００４５】全面照射によって親水性化した光触媒型金
属酸化物の表面層へ画像焼き付けヒートモード露光ある
いはヒートモード接触加熱描画を行ったのち、印刷原版
は現像処理することなく、そのままオフセット印刷工程
に送ることができる。従って通常の公知の平版印刷法に
比較して簡易性を中心に多くの利点を有する。すなわち
上記したようにアルカリ現像液による化学処理が不要で
あり、それに伴うワイピング、ブラッシングの操作も不
要であり、さらに現像廃液の排出による環境負荷も伴わ
ない。
【００４６】以上のようにして得られた平版印刷版の全
面露光部は十分に親水性化しているが、所望により、水
洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガム
や澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明
の画像記録材料を印刷用版材として使用する場合の後処
理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いるこ
とができる。その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。ま
た、塗布した後でスキージー、あるいは、スキージーロ
ーラーで、その塗布量を均一にすることは、より好まし
い結果を与える。整面液の塗布量は一般に０．０３〜
０．８g/m2（乾燥重量）が適当である。この様な処理に
よって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけ
られ、多数枚の印刷に用いられる。
【００４７】次に印刷を終えた印刷版の再生工程につい
て記す。印刷終了後の印刷版は疎水性の石油系溶剤を用
いて付着しているインクを洗い落とす。溶剤としては市
販の印刷用インキ溶解液として芳香族炭化水素、例えば
ケロシン、アイソパ−などがあり、それらを用いること
ができるほか、ベンゾール、トルオール、キシロール、
アセトン、メチルエチルケトン及びそれらの混合溶剤を
用いてもよい。
【００４８】インクを洗浄除去した印刷版は、高温に曝
さないかぎり任意の場所に保管して次の印刷に備える。
この使用済み印刷版は、前記した全面露光によって表面
が親水性となって再びヒートモードの像様露光を繰り返
して再度印刷に使用することができる。
【００４９】本発明に係わる印刷原版の反復再生可能回
数は、完全に把握できていないが、少なくとも１５回以
上であり、おそらく版面の除去不能な汚れ、修復が実際
的でない刷面の傷や、版材の機械的な変形（ひずみ）な
どによって制約されるものと思われる。
【００５０】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに説明する
が、本発明はこれに限定されない。 実施例１ ９９．５重量％アルミニウムに、銅を０．０１重量％、
チタンを０．０３重量％、鉄を０．３重量％、ケイ素を
０．１重量％含有するＪＩＳ Ａ１０５０アルミニウム
材の厚み０．３０mm圧延板を、４００メッシュのパミス
トン（共立窯業製）の２０重量％水性懸濁液と、回転ナ
イロンブラシ（６，１０−ナイロン）とを用いてその表
面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを１５重
量％水酸化ナトリウム水溶液（アルミニウム４．５重量
％含有）に浸漬してアルミニウムの溶解量が５g/m2にな
るようにエッチングした後、流水で水洗した。更に、１
重量％硝酸で中和し、次に０．７重量％硝酸水溶液（ア
ルミニウム０．５重量％含有）中で、陽極時電圧１０．
５ボルト、陰極時電圧９．３ボルトの矩形波交番波形電
圧（電流比ｒ＝０．９０、特公昭５８−５７９６号公報
実施例に記載されている電流波形）を用いて１６０クロ
ーン／dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
水洗後、３５℃の１０重量％水酸化ナトリウム水溶液中
に浸漬して、アルミニウム溶解量が１g/m2になるように
エッチングした後、水洗した。次に、５０℃、３０重量
％の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、水洗し
た。
【００５１】さらに、３５℃の硫酸２０重量％水溶液
（アルミニウム０．８重量％含有）中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密
度１３A/dm2で電解を行い、電解時間の調節により陽極
酸化皮膜重量２．７g/m2とした。この支持体を水洗後、
７０℃のケイ酸ナトリウムの３重量％水溶液に３０秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られた
アルミニウム支持体は、マクベスＲＤ９２０反射濃度計
で測定した反射濃度は０．３０で、中心線平均粗さは
０．５８μｍであった。次いでこのアルミニウム支持体
をスパッタリング装置内にセットし、５．０ｘ１０-7To
rrまで真空排気する。支持体を５００°Ｃに加熱し、Ａ
ｒ／Ｏ2 が６０／４０（モル比）となるようにガス圧を
５ｘ１０-3Torrに調製した。６インチφのチタン酸バリ
ウムの焼結ターゲットにＲＦパワー２００Ｗを投入して
膜圧１０００Åのチタン酸バリウム薄膜を形成した。Ｘ
線解析法によれば、この薄膜は多結晶体であった。サイ
ズを５１０×４００mmにカットしてサンプルとした。協
和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER CA-Dを用い
て空中水滴法で試料の表面の接触角を測定したところ５
５度であった。
【００５２】このチタン酸バリウム薄膜表面にウシオ電
気社製USIO焼き付け用光源装置ユニレックＵＲＭ−６０
０形式ＧＨ−６０２０１Ｘを用いて、光強度２５mW/cm2
のもとで２分間全面照射を行った。再び上記の接触角測
定装置で測定したところ、水に対する（空中水滴）接触
角は版面中のいずれの部分も５〜７度の間にあった。こ
の試料に出力１０Ｗの固体赤外線レーザー光をビーム幅
４５ミクロンに絞って走査露光によって描画を行った。
【００５３】このようにしてレーザー光描画して得た印
刷版を、サクライ社製オリバー５２片面印刷機にセット
し、湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製
NewChampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オフ
セット印刷を行った。スタートから終了まで非画像部に
汚れのない鮮明な印刷物が得られ、印刷版の損傷も認め
られなかった。
【００５４】実施例２ 次いで実施例１で使用した印刷版の表面を印刷用インキ
洗浄液ダイクリーンＲ（発売元；大日本インキ化学工業
社）をウエスにしみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除
去した。ついで実施例１と同じ条件でウシオ電気社製US
IO焼き付け用光源装置ユニレックＵＲＭ−６００形式Ｇ
Ｈ−６０２０１Ｘを用いて、光強度２５mW/cm2のもとで
２分間全面露光を行った。表面の接触角は、試料表面の
どの部分も５〜７度の間に戻っていた。ついで、この試
料に実施例１の出力１０Ｗの固体赤外線レーザーを用い
て同条件下で描画画像のみが異なるレーザー画像露光を
行った。
【００５５】この版を、サクライ社製オリバー５２片面
印刷機にセットし、湿し水を純水、インキを大日本イン
キ化学工業社製Newchampion Ｆグロス８５墨を用いて５
００枚オフセット印刷を行った。赤外線レーザー描画部
分がインクを受容して、バックグラウンドは湿し水で保
護された版によって、スタートから終了まで鮮明な印刷
物が得られ、印刷版の損傷も認められなかった。以上の
繰り返しを５回行ったところ、版の光による表面性変化
の感度、レーザー描画の感度、接触角の反復再現性など
に変化は見られなかった。以上、実施例１と２の結果か
ら、チタン酸バリウム感熱層をアルミニウム支持体上に
設けた印刷原版によって、ヒートモードの光描画による
印刷が可能で、かつその版をインク洗浄除去のみによっ
て再生反復使用できることが示された。
【００５６】実施例３ アルミニウム支持体上に実施例１と全く同様にして印刷
用原板試料を作成した。この原板にウシオ電気社製USIO
焼き付け用光源装置ユニレックＵＲＭ−６００形式ＧＨ
−６０２０１Ｘを用いて、光強度１０mW/cm2のもとで２
５分間全面照射を行った。再び上記の接触角測定装置で
測定したところ、接触角は５〜７度の間にあった。Ta-S
iO2 発熱抵抗体上にサイアロン耐磨耗保護層を設けた１
５０μｍｘ１５０μｍのサーマルヘッドを２５０μｍ間
隔に並べた感熱プリンターを用いて、チタン酸バリウム
表面層と接触させて昇温印字を行った。使用したサーマ
ルヘッドは、２０ｍｓｅｃ通電によって４５０°Ｃに達
することを別途温度測定を行って確認した。記録速度
は、４００ｍｓｅｃ／ｍで行った。
【００５７】このようにして得た印刷版を、サクライ社
製オリバー５２片面印刷機にセットし、湿し水を純水、
インキを大日本インキ化学工業社製New Champion Ｆグ
ロス８５墨を用いて５００枚オフセット印刷を行った。
スタートから終了まで非画像部に汚れのない鮮明な印刷
物が得られ、印刷版の損傷もみとめられなかった。
【００５８】実施例４ 実施例３で印刷を終わった版の表面を印刷用インキ洗浄
液ダイクリーンＲ（発売元；大日本インキ化学工業社）
をウエスにしみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去し
た。これを実施例３と同じ条件でウシオ電気社製USIO焼
き付け用光源装置ユニレックＵＲＭ−６００形式ＧＨ−
６０２０１Ｘを用いて、光強度１０mW/cm2のもとで２５
分間全面照射を行った。表面の接触角は、試料表面のど
の部分も５〜７度の間にあった。ついで、この試料の表
面に実施例３のサーマルヘッドを用いて同条件下で洗浄
済みのチタン酸バリウム表面層をプリンターによる通電
昇温により実施例３とは異なる文字パターンの印字を行
った。
【００５９】この版を、サクライ社製オリバー５２片面
印刷機にセットし、湿し水を純水、インキを大日本イン
キ化学工業社製Newchampion Ｆグロス８５墨を用いて５
００枚オフセット印刷を行った。スタートから終了まで
鮮明な印刷物が得られ、印刷版の損傷も認められなかっ
た。以上の繰り返しを５回実施したところ、版の親水性
化への光感度、接触角およびヒートモード描画の感熱性
などに変化は認められなかった。この結果から、チタン
酸バリウム薄膜層は、プリンターヘッドによる直接加熱
描画によっても簡易な印刷が可能でしかも印刷原版をイ
ンク洗浄除去することにより、反復再生使用できること
が示された。
【００６０】実施例５ 厚さ１００ミクロンのステンレス板支持体をスパッタリ
ング装置内にセットし、５ｘ１０-7Torrまで真空排気を
行った。支持体を120 °Ｃに加熱してアルゴン／酸素混
合ガス（５０／５０モル比）のガス圧を５ｘ１０-3 Tor
r になるように調節した。６インチφＳｎＯ2 焼結ター
ゲットにＲＦパワー１５０Ｗを投入し、膜圧１０００オ
ングストロームの酸化錫の薄膜を形成した。この原板の
サイズを５１０×４００mmにカットしてサンプルとし
た。
【００６１】協和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE ME
TER CA-Dを用いて空中水滴法で表面の接触角を測定した
ところ５１度を得た。これにウシオ電気社製USIO焼き付
け用光源装置ユニレックＵＲＭ−６００形式ＧＨ−６０
２０１Ｘを用いて、光強度２５mW/cm2のもとで１０分間
露光を行った。上記の接触角測定装置を用いて再び接触
角を測定したところ、接触角は５度に低下していた。
【００６２】この酸化錫薄膜に実施例１と同様に固体赤
外線レーザー光を照射して光熱変換によるヒートモード
露光による描画を行った。この版を、サクライ社製オリ
バー５２片面印刷機にセットし、湿し水を純水、インキ
を大日本インキ化学工業社製New ChampionＦグロス８５
墨を用いて１０００枚オフセット印刷を行った。スター
トから終了まで非画像部に汚れのない鮮明な印刷物が得
られ、印刷版の損傷も認められなかった。
【００６３】実施例６ 実施例５に使用した印刷版の表面を印刷用インキ洗浄液
ダイクリーンＲ（発売元；大日本インキ化学工業社）を
ウエスにしみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去し
た。この状態で実施例５と同じ光源（ウシオ電気社製焼
き付け用光源装置）を使い、同じ光強度（２５mw/cm2）
で１０分間全面照射を行った。空中水滴法で表面の接触
角を測定したところ５度を得た。さらに実施例５と同じ
赤外線レーザー光により異なる画像の描画を行った。
【００６４】この版を、サクライ社製オリバー５２片面
印刷機にセットし、湿し水を純水、インキを大日本イン
キ化学工業社製Newchampion Ｆグロス８５墨を用いて１
０００枚オフセット印刷を行った。スタートから終了ま
で鮮明な印刷物が得られ、印刷版の損傷も認められなか
った。以上の繰り返しを５回実施したところ、版の親水
性化への光感度、接触角およびヒートモード描画に対す
る感光性などの変化は認められなかった。この結果か
ら、酸化錫感光層をアルミニウム支持体上に設けた印刷
原版を使用した場合も、ヒートモード描画による簡易な
印刷が可能でしかも印刷原版を反復再生使用できること
が示された。
【００６５】実施例７ 実施例１と同様にして陽極酸化処理したアルミニウム支
持体をＣｓＬａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10の化学量論比に相当す
るセシウムエトキシド、チタンブトキシド、ァンタンイ
ソブトキシド、ニオブエトキシドを含む２０％のエタノ
ール溶液に浸漬して表面を加水分解したのち２００°Ｃ
以上に加熱することによってアルミニウム支持体表面に
ＣｓＬａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10の厚み１０００オングストロ
ームの薄膜を形成させた。
【００６６】この複合金属酸化物薄膜付きアルミニウム
板をサイズは５１０×４００mmにカットしてサンプルと
した。この表面をウシオ電気社製USIO焼き付け用光源装
置ユニレックＵＲＭ−６００形式ＧＨ−６０２０１Ｘを
用いて、光強度２５mW/cm2のもとで５分間全面露光を行
った。協和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METERCA-
Dを用いて空中水滴法で表面の接触角を測定したところ
１０度を得た。
【００６７】この光触媒型金属酸化物薄膜付きアルミニ
ウム板に実施例３のプリンターを用いて実施例３と同条
件でヒートモード印字を行った。次いでこの版を、サク
ライ社製オリバー５２片面印刷機にセットし、湿し水を
純水、インキを大日本インキ化学工業社製New Champion
Ｆグロス８５墨を用いて５００枚オフセット印刷を行
った。スタートから終了まで非画像部に汚れのない鮮明
な印刷物が得られ、印刷版の損傷も認められなかった。 実施例８ 次いでこの版の表面を印刷用インキ洗浄液ダイクリーン
Ｒ（発売元；大日本インキ化学工業社）をウエスにしみ
込ませて丁寧に洗浄してインキを除去した。前と同じ光
源（ウシオ電気社製焼き付け用光源装置）を使い、同じ
光強度（２５mw/cm2）で５分間露出を行った。空中水滴
方法で表面の接触角を測定したところ露光部１０度であ
った。この版に実施例７のプリンターを用いて同じ条件
で異なるヒートモード印字を行った。
【００６８】この版を、サクライ社製オリバー５２片面
印刷機にセットし、湿し水を純水、インキを大日本イン
キ化学工業社製Newchampion Ｆグロス８５墨を用いて１
０００枚オフセット印刷を行った。スタートから終了ま
で鮮明な印刷物が得られ、印刷版の損傷も認められなか
った。この結果から、ＣｓＬａ2 ＮｂＴｉ2 Ｏ10感光層
も、インク受容部と湿し水保持部との区別が保たれて作
業工程を簡易化でき、しかも印刷原版を熱処理によって
再生使用できることが示された。
【００６９】実験例１ チタン酸バリウム層を有する実施例１の試料を用いて露
光前後の接触角の変化及び露光により接触角が低下した
試料に熱処理を加えたときの接触角の増加速度を協和界
面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER CA-Dを用いて空
中水滴法によって求めた測定値を表１に示す。この表か
ら、露光によって極めて顕著な疎水性から親水性への変
化が起こること及びそれが１３０°Ｃでも２時間以内、
２００°Ｃでは数分でもとの疎水性表面に戻ることが示
される。強力なヒートモードの光照射や熱転写による描
画ではさらに短時間にさらに高温の期間が得られるの
で、親水性化が速やかに起こることが容易に理解でき
る。
【００７０】
【表１】
【００７１】
【発明の効果】表面に前記した光触媒型金属酸化物を主
成分とする薄層を有する本発明の印刷原板は、活性光の
照射によって表面が親水性化し、次いで赤外線、レーザ
ー光線などの光熱エネルギー変換が可能な光の照射又は
電熱媒体との接触によるヒートモードの描画により印刷
画面が形成され、現像液が不要で、かつ印刷面の鮮明性
が保たれたオフセット印刷が可能となり、かつ使用した
印刷原版を再度活性光によって親水性化して再生し、反
復使用することができる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ＲＴｉＯ3 （Ｒはアルカリ土類金属原
    子）、ＡＢ2-x Ｃx Ｄ 3-x Ｅx Ｏ10（Ａは水素原子又は
    アルカリ金属原子、Ｂはアルカリ土類金属原子又は鉛原
    子、Ｃは希土類原子、Ｄは周期律表の５Ａ族元素に属す
    る金属原子、Ｅは同じく４Ａ族元素に属する金属原子、
    ｘは０〜２の任意の数値を表す）、ＳｎＯ2 ，Ｂｉ2 Ｏ
    3 及びＦｅ2 Ｏ3 の少なくとも一つからなる薄層を表面
    に有する印刷用原版に活性光による全面照射を行った
    後、ヒートモードの描画を行って印刷版を作成すること
    を特徴とする平版印刷版の作成方法。
  2. 【請求項２】 使用した印刷版面上に残存するインクを
    洗浄除去したのち、その印刷用原版を用いて反復して印
    刷を行うことを特徴とする請求項１に記載の平版印刷版
    の作成方法。
  3. 【請求項３】 オフセット印刷機の版胴の印刷面側の表
    面に請求項１に記載の薄層を設けたことを特徴とする請
    求項１又は２に記載の平版印刷版の作成方法。
  4. 【請求項４】 印刷面側の表面に請求項１に記載の薄層
    を有し、請求項１〜３に記載の平版印刷方法に使用する
    ことを特徴とする平版印刷用原版。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2001353974A (ja) * 2000-05-03 2001-12-25 Heidelberger Druckmas Ag 金属チタンからなる版への、制御された画線付与と消去
US6450635B1 (en) 1998-12-09 2002-09-17 Dai Nippon Printing Co., Ltd Color filter and process for producing the same
US6815125B1 (en) 1999-06-30 2004-11-09 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Color filter and process for producing the same
US7032514B2 (en) 2000-06-26 2006-04-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing method, original printing plate and printing press

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6450635B1 (en) 1998-12-09 2002-09-17 Dai Nippon Printing Co., Ltd Color filter and process for producing the same
US6554420B2 (en) 1998-12-09 2003-04-29 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Color filter and process for producing the same
US6815125B1 (en) 1999-06-30 2004-11-09 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Color filter and process for producing the same
JP2001353974A (ja) * 2000-05-03 2001-12-25 Heidelberger Druckmas Ag 金属チタンからなる版への、制御された画線付与と消去
US7032514B2 (en) 2000-06-26 2006-04-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing method, original printing plate and printing press

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