JP2000215528A

JP2000215528A - 光情報記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JP2000215528A
Application number: JP11018287A
Authority: JP
Inventors: Tomoyoshi Itaya; 知良板谷; Yoshihisa Usami; 由久宇佐美
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-01-27
Filing date: 1999-01-27
Publication date: 2000-08-04
Anticipated expiration: 2019-01-27
Also published as: JP3987651B2

Abstract

(57)【要約】【課題】色素溶液の飛散を防止することで外観不良の発
生を防止し、光情報記録媒体の歩留まりの向上を図る。【解決手段】基板２０２上に、レーザ光の照射により情
報を記録することができる色素記録層を有するヒートモ
ード型の光情報記録媒体の製造方法において、基板２０
２を回転させながら色素記録層を形成するための色素溶
液を基板２０２上に塗布する場合に、色素溶液の塗布開
始時点からバルブ全開となる時点までの時間が０．１秒
以上となるようにしている。この条件を満足させるため
に、第１のスピードコントローラ４６２の開度を５％以
上、５０％以下にすることによって、バルブ装置４０８
におけるバルブの開き速度を最高速度に対して５％以
上、５０％以下にしている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
情報の記録及び再生を行うことができるヒートモード型
の光情報記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、レーザ光により１回限りの情報
の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）として
は、追記型ＣＤ（いわゆるＣＤ−Ｒ）やＤＶＤ−Ｒなど
があり、従来のＣＤ（コンパクトディスク）の作製に比
べて少量のＣＤを手頃な価格でしかも迅速に市場供給で
きる利点を有しており、最近のパーソナルコンピュータ
などの普及に伴ってその需要も増している。

【０００３】ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体の代表的な構
造は、厚みが約１．２ｍｍの透明な円盤状基板上に有機
色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、
更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである（例
えば特開平６−１５０３７１号公報参照）。

【０００４】また、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体は、
２枚の円盤状基板（厚みが約０．６ｍｍ）を各情報記録
面をそれぞれ内側に対向させて貼り合わせた構造を有
し、記録情報量が多いという特徴を有する。

【０００５】そして、これら光情報記録媒体への情報の
書き込み（記録）は、近赤外域のレーザ光（ＣＤ−Ｒで
は通常７８０ｎｍ付近、ＤＶＤ−Ｒでは６３５ｎｍ付近
の波長のレーザ光）を照射することにより行われ、色素
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
し、物理的あるいは化学的な変化（例えばピットの生
成）が生じて、その光学的特性を変えることにより情報
が記録される。

【０００６】一方、情報の読み取り（再生）も、通常、
記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射すること
により行われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位
（ピットの生成による記録部分）と変化しない部位（未
記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報
が再生される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板上の内
周側の透明部分には、光ディスクの製造履歴を示すロッ
ト番号や製造メーカー、ディスク種別表示等の印字をす
る場合がある。これらの印字形態は、光ディスクへの記
録そのものには影響はないが、外観上の品質が重視され
る。

【０００８】上述のような光情報記録媒体においては、
図１４に示すように、基板５００上に有機色素による記
録層を形成する場合、基板５００を回転させながら色素
溶液５０２をノズル５０４を通して基板５００上に塗布
するようにしているため、基板５００上に落下した色素
溶液５０２が四方に飛散する場合があり、内周側におけ
る透明部分５０６の外観不良を招くおそれがある。

【０００９】そこで、図１４の二点鎖線で示すように、
色素溶液５０２の飛沫を付着させたくない部分にマスク
５０８を設置する方法が考えられるが、塗布処理を行う
たびに色素溶液５０２の飛沫によってマスク５０８の表
面が汚れ、乾いたときに、塵埃として飛散することにな
り、欠陥発生の原因となるという新たな問題が生じるお
それがある。

【００１０】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、色素溶液の飛散を防止することで外観不
良の発生を防止し、光情報記録媒体の歩留まりの向上を
図ることができる光情報記録媒体の製造方法を提供する
ことを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に、レ
ーザ光の照射により情報を記録することができる記録層
を有するヒートモード型の光情報記録媒体の製造方法に
おいて、前記基板を回転させながら前記記録層を形成す
るための溶液を前記基板上に塗布する場合に、前記溶液
の塗布開始時点から溶液の塗布速度が一定になるまでの
時間を０．１秒以上、１秒以下とすることが好ましい。
ここで、溶液の塗布開始時点とは、ノズルの先端から溶
液が出始めた時点を指す。

【００１２】通常、溶液の吐出量は、溶液の塗布開始時
点から時間の経過に伴って過渡的に変化し、最終的に一
定の吐出量に落ち着く（安定する）ことになる。つま
り、上述の「溶液の塗布開始時点から溶液の塗布速度が
一定になるまでの時間」とは、溶液の塗布開始時点から
溶液の吐出量が一定に落ち着く（安定する）までの時間
を指す。

【００１３】そして、この時間を０．１秒以上、１秒以
下とすることにより、溶液が基板に落下した時点での溶
液の四方への飛散を防止することができ、外観不良の発
生を防止することができる。これは、光情報記録媒体の
歩留まりの向上につながる。

【００１４】前記製造方法において、バルブの開閉によ
って前記溶液の前記基板に対する吐出の実行及び停止を
行うバルブ装置を使用した場合においては、前記バルブ
の開き速度を最高速度に対して５％以上、５０％以下に
することで達成できる。つまり、溶液を吐出するバルブ
装置におけるバルブの開き速度を遅くすればよい。

【００１５】また、前記バルブの開閉を流体圧で行うべ
く、前記バルブ装置に供給される流体の流量を制御する
ためのスピードコントローラを使用した場合において
は、前記流体の流量を決定する前記スピードコントロー
ラの開度を５％以上、５０％以下にすればよい。

【００１６】そして、前記溶液としては色素含有有機溶
剤であってもよい。また、塗布を開始する位置は前記基
板上であることが適当であり、前記基板上における内周
側の塗布しない部分から５ｍｍ以上離れていること、つ
まり、記録層として形成されるべき領域の内周側の端部
から５ｍｍ以上外周側寄りの部分であることが好まし
い。

【００１７】塗布を開始する位置が基板上における内周
側の塗布しない部分から十分離れていれば、溶液が飛散
しても問題とならない。飛散した飛沫がその後の塗布処
理で流れ去ってしまうからである。

【００１８】塗布開始直後においては、溶液の吐出量が
時間の経過に伴って過渡的に変化し、安定しないため、
最内周から少し離れた位置で塗布を開始することが好ま
しい。最内周から塗布を開始すると、塗布むらの原因と
なり、記録層の内周端がきれいな円形にならなくなるお
それがある。

【００１９】塗布を開始したら、その後少なくとも１回
は内周側にノズルを動かすと、記録層の内周端がきれい
な円形になる。

【００２０】但し、基板の外で塗布を開始してしまう
と、溶液が基板の外周端部に当たったときに様々な方向
に飛散し、塗布部近辺を汚してしまったり、基板の裏面
に溶液が付着するなどの問題が生ずる。

【００２１】従って、塗布の開始位置は、基板上が好ま
しく、更に好ましくは基板の外周端部から５ｍｍ以上内
周寄りがよい。また、前記基板上における内周側の塗布
しない部分から５ｍｍ以上、好ましくは１０ｍｍ以上、
更に好ましくは１５ｍｍ以上外周寄りがよい。

【００２２】前記溶液にかかる圧力は１ｋｇｆ／ｃｍ²
以下が好ましい。一般に、基板に溶液を塗布する場合、
急激に溶液の吐出が開始されるときに溶液の四方への飛
散が発生するが、溶液にかかる圧力が少ないときには、
大きく飛散しないために外観不良等の問題は生じない。

【００２３】しかし、圧力が低すぎると、単位時間の吐
出量が少なくなって、塗布速度が遅くなるため、規定量
の溶液を塗布するのに時間がかかり、その結果、スルー
プットの減少を招き、生産効率が低下するおそれがあ
る。

【００２４】従って、溶液にかかる圧力の好ましい範囲
は、上述したように、上限については１ｋｇｆ／ｃｍ²
以下、好ましくは０．８ｋｇｆ／ｃｍ²以下、最も好ま
しくは０．６ｋｇｆ／ｃｍ²以下である。下限について
は、０．０２ｋｇｆ／ｃｍ²以上、好ましくは０．０５
ｋｇｆ／ｃｍ²以上、最も好ましくは０．１ｋｇｆ／ｃ
ｍ²以上である。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光情報記録媒
体の製造方法を例えばＣＤ−Ｒ等の光ディスクを製造す
るシステムに適用した実施の形態例（以下、単に実施の
形態に係る製造システムと記す）を図１〜図１３を参照
しながら説明する。

【００２６】本実施の形態に係る製造システム１０は、
図１に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出
圧縮成形によって基板を作製する２つの成形設備（第１
及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂ）と、基板の一主
面上に色素溶液を塗布して乾燥させることにより、該基
板上に色素記録層を形成する塗布設備１４と、基板の色
素記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより形
成し、その後、光反射層上にＵＶ硬化液を塗布した後、
ＵＶ照射して前記光反射層上に保護層を形成する後処理
設備１６とを有して構成されている。

【００２７】第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂ
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮
成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝
又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）が形
成された基板を作製する成形機２０と、該成形機２０か
ら取り出された基板を冷却する冷却部２２と、冷却後の
基板を段積みして保管するためのスタックポール２４が
複数本設置された集積部２６（スタックポール回転台）
を有する。

【００２８】塗布設備１４は、３つの処理部３０、３２
及び３４から構成され、第１の処理部３０には、前記第
１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂから搬送された
スタックポール２４を収容するためのスタックポール収
容部４０と、該スタックポール収容部４０に収容された
スタックポール２４から１枚ずつ基板を取り出して次工
程に搬送する第１の搬送機構４２と、該第１の搬送機構
４２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除
去を行う静電ブロー機構４４とを有する。

【００２９】第２の処理部３２は、第１の処理部３０に
おいて静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送
する第２の搬送機構４６と、該第２の搬送機構４６によ
って搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素溶液を
塗布する色素塗布機構４８と、色素塗布処理を終えた基
板を１枚ずつ次工程に搬送する第３の搬送機構５０とを
有する。この色素塗布機構４８は６つのスピンコート装
置５２を有して構成されている。

【００３０】第３の処理部３４は、前記第３の搬送機構
５０にて搬送された１枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗
浄機構５４と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送す
る第４の搬送機構５６と、該第４の搬送機構５６によっ
て搬送された基板に対してロット番号等の刻印を例えば
インクジェットによって行う番号付与機構５８と、ロッ
ト番号等の刻印を終えた基板を次工程に搬送する第５の
搬送機構６０と、該第５の搬送機構６０によって搬送さ
れた基板に対して欠陥の有無並びに色素記録層の膜厚の
検査を行う検査機構６２と、該検査機構６２での検査結
果に応じて基板を正常品用のスタックポール６４あるい
はＮＧ用のスタックポール６６に選別する選別機構６８
とを有する。

【００３１】第１の処理部３０と第２の処理部３２との
間に第１の仕切板７０が設置され、第２の処理部３２と
第３の処理部３４にも同様の第２の仕切板７２が設置さ
れている。第１の仕切板７０の下部には、第２の搬送機
構４６による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図
示せず）が形成され、第２の仕切板７２の下部には、第
３の搬送機構５０による基板の搬送経路を塞がない程度
の開口（図示せず）が形成されている。

【００３２】後処理設備１６は、塗布設備１４から搬送
された正常品用のスタックポール６４を収容するための
スタックポール収容部８０と、該スタックポール収容部
８０に収容されたスタックポール６４から１枚ずつ基板
を取り出して次工程に搬送する第６の搬送機構８２と、
該第６の搬送機構８２によって搬送された１枚の基板に
対して静電気の除去を行う第１の静電ブロー機構８４
と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送す
る第７の搬送機構８６と、該第７の搬送機構８６によっ
て搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリング
にて形成するスパッタ機構８８と、光反射層のスパッタ
リングを終えた基板を次工程に順次搬送する第８の搬送
機構９０と、該第８の搬送機構９０によって搬送された
基板の周縁（エッジ部分）を洗浄するエッジ洗浄機構９
２とを有する。

【００３３】また、この後処理設備１６は、エッジ洗浄
を終えた基板に対して静電気の除去を行う第２の静電ブ
ロー機構９４と、静電ブロー処理を終えた基板の一主面
に対してＵＶ硬化液を塗布するＵＶ硬化液塗布機構９６
と、ＵＶ硬化液の塗布を終えた基板を高速に回転させて
基板上のＵＶ硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構９
８と、ＵＶ硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板に
対して紫外線を照射することによりＵＶ硬化液を硬化さ
せて基板の一主面に保護層を形成するＵＶ照射機構１０
０と、前記基板を第２の静電ブロー機構９４、ＵＶ硬化
液塗布機構９６、スピン機構９８及びＵＶ照射機構１０
０にそれぞれ搬送する第９の搬送機構１０２と、ＵＶ照
射された基板を次工程に搬送する第１０の搬送機構１０
４と、該第１０の搬送機構１０４によって搬送された基
板に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するための欠
陥検査機構１０６と、基板に形成されたグルーブによる
信号特性を検査するための特性検査機構１０８と、これ
ら欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での検査
結果に応じて基板を正常品用のスタックポール１１０あ
るいはＮＧ用のスタックポール１１２に選別するための
選別機構１１４とを有する。

【００３４】ここで、１つのスピンコート装置５２の構
成について図２〜図８を参照しながら説明する。

【００３５】このスピンコート装置５２は、図２及び図
３に示すように、溶液供給装置４００、スピナーヘッド
装置４０２及び飛散防止壁４０４を有して構成されてい
る。

【００３６】溶液供給装置４００は、図４に示すよう
に、内部に色素溶液が充填され、レギュレータ４５０に
よって前記色素溶液にかかる圧力が調整された加圧タン
ク４５２と、色素溶液の基板２０２への吐出及びその停
止をバルブの開閉によって制御するバルブ装置４０８
と、加圧タンク４５２からバルブ装置４０８に引き回さ
れ、該加圧タンク４５２に充填された色素溶液をバルブ
装置４０８に供給するための導管４５４とを有し、色素
溶液はバルブ装置４０８のノズル４０６を通してその所
定量が基板２０２の表面上に滴下されるようになってい
る。加圧タンク４５２において色素溶液にかかる圧力は
１ｋｇｆ／ｃｍ²以下に設定してある。

【００３７】この溶液供給装置４００は、図２及び図３
に示すように、ノズル４０６を下方に向けて支持する支
持板４１０と該支持板４１０を水平方向に旋回させるモ
ータ４１２とを有するハンドリング機構４１４によっ
て、待機位置から基板２０２の上方の位置に旋回移動で
きるように構成されている。

【００３８】バルブ装置４０８は、図４に示すように、
急速排気弁４５６が設けられて内部のバルブの開閉が流
体圧で行われるようになっており、流体の供給系４５８
と排気系４６０にそれぞれ流体の流量を調整するための
スピードコントローラ（第１及び第２のスピードコント
ローラ４６２及び４６４）が接続されている。

【００３９】前記急速排気弁４５６は、流体の供給系４
５８が接続される入力ポート４６６と、バルブ装置本体
４６８が接続される出力ポート４７０と、流体の排気系
４６０に接続される排気ポート４７２とを有する。

【００４０】流体の供給系４５８から導入された流体
は、急速排気弁４５６の入力ポート４６６と出力ポート
４７０を通じてバルブ装置本体４６８内に供給され、こ
の流体の供給に応じたバルブ装置本体４６８内の圧力増
加に伴って内部のバルブが開方向に動作するようになっ
ている。従って、バルブの開き速度（バルブの単位時間
当たりの開度の変化）は、単位時間当たりの流体の供給
量に比例することになり、この供給量は、第１のスピー
ドコントローラ４６２の開度によって調整可能となって
いる。

【００４１】バルブが開方向に動作することにより、加
圧タンク４５２から供給された色素溶液がバルブ装置４
０８のノズル４０６を通じて吐出され、基板２０２上に
塗布されることになる。このとき、図５に示すように、
バルブの開度の増加に対応して吐出量が時間の経過に伴
ってほぼ比例的に増加し、ある時間を経過した段階、即
ち、バルブが全開となった段階で吐出量が一定となる。

【００４２】つまり、バルブが開く過程にある過渡段階
においては、塗布速度がほぼ比例的に増加し、バルブが
全開となった段階で塗布速度が一定となる。

【００４３】吐出量が比例的に増加する過渡段階での吐
出量の変化幅（特性上の傾き）は、バルブの開き速度に
依存し、該開き速度が小さくなるのに従って小さくな
る。換言すれば、第１のスピードコントローラ４６２の
開度を小さくすればするほど吐出量の変化幅（特性上の
傾き）が小さくなり、色素溶液の塗布開始時点ｔ０から
バルブ全開となる時点（色素溶液の塗布速度が一定にな
る時点）ｔ１までの時間τｓが長くなる。反対に、第１
のスピードコントローラ４６２の開度を大きくすればす
るほど吐出量の変化幅が大きくなり、色素溶液の塗布開
始時点ｔ０からバルブ全開となる時点ｔ１までの時間τ
ｓが短くなる。ここで、色素溶液の塗布開始時点ｔ０と
は、ノズル４０６の先端から色素溶液が出始めた時点を
指す。

【００４４】本実施の形態では、色素溶液の塗布開始時
点ｔ０からバルブ全開となる時点ｔ１までの時間τｓが
０．１秒以上、１秒以下となるようにしている。この条
件を満足させるために、本実施の形態では、第１のスピ
ードコントローラ４６２の開度を５％以上、５０％以下
にすることによって、バルブの開き速度を最高速度に対
して５％以上、５０％以下にしている。

【００４５】これにより、色素溶液が基板２０２に落下
した時点での色素溶液の四方への飛散を防止することが
でき、外観不良の発生を防止することができる。

【００４６】また、バルブ装置本体４６８内の流体は前
記出力ポート４７０及び排気ポート４７２を通じて流体
の排気系４６０に導かれるようになっており、この流体
の排気量に応じたバルブ装置本体４６８内の圧力減少に
伴って内部のバルブが閉方向に動作する。従って、バル
ブの閉じ速度は、単位時間当たりの流体の排気量に比例
することになり、この排気量は、第２のスピードコント
ローラ４６４の開度によって調整可能となっている。

【００４７】バルブが閉方向に動作することにより、ノ
ズル４０６を通じての色素溶液の吐出が停止し、１枚の
基板２０２に対する色素塗布処理が終了することとな
る。

【００４８】このとき、図５に示すように、バルブの開
度の減少に対応して、吐出量が時間の経過に伴ってほぼ
比例的に減少し、バルブが全閉となった段階で色素溶液
の吐出量が０、即ち、色素溶液の吐出が停止する。

【００４９】この場合も、吐出量が比例的に減少する段
階での吐出量の変化幅（特性上の傾き）は、バルブの閉
じ速度に依存し、該閉じ速度が小さくなるのに従って小
さくなる。換言すれば、第２のスピードコントローラ４
６４の開度を小さくすればするほど吐出量の変化幅が小
さくなり、色素溶液の塗布停止開始時点ｔ２からバルブ
全閉となる時点（色素溶液の吐出量が０になる時点）ｔ
３までの時間τｅが長くなる。反対に、第２のスピード
コントローラ４６４の開度を大きくすればするほど吐出
量の変化幅が大きくなり、色素溶液の塗布停止開始時点
ｔ２からバルブ全閉となる時点ｔ３までの時間τｅが短
くなる。

【００５０】本実施の形態では、色素溶液の塗布停止開
始時点ｔ２からバルブ全閉となる時点ｔ３までの時間τ
ｅがなるべく短くなるように、第２のスピードコントロ
ーラ４６４の開度を１００％に設定している。

【００５１】一方、図２及び図３に示すように、スピナ
ーヘッド装置４０２は、前記溶液供給装置４００の下方
に配置されており、着脱可能な固定具４２０により、基
板２０２が水平に保持されると共に、駆動モータ（図示
せず）により軸回転が可能とされている。

【００５２】スピナーヘッド装置４０２による水平に保
持された状態で回転している基板２０２上に、上記の溶
液供給装置４００のノズル４０６から滴下した色素溶液
は、基板２０２の表面上を外周側に流延する。そして、
余分の色素溶液は基板２０２の外周縁部で振り切られ、
その外側に放出され、次いで塗膜が乾燥されることによ
り、基板２０２の表面上に塗膜（色素記録層２０４）が
形成される。

【００５３】飛散防止壁４０４は、基板２０２の外周縁
部から外側に放出された余分の色素溶液が周辺に飛散す
るのを防止するために設けられており、上部に開口４２
２が形成されるようにスピナーヘッド装置４０２の周囲
に配置されている。飛散防止壁４０４を介して集められ
た余分の色素溶液はドレイン４２４を通して回収される
ようになっている。

【００５４】また、第２の処理部３２（図１参照）にお
ける各スピンコート装置５２の局所排気は、前記飛散防
止壁４０４の上方に形成された開口４２２から取り入れ
た空気を基板２０２の表面上に流通させた後、各スピナ
ーヘッド装置４０２の下方に取り付けられた排気管４２
６を通じて排気されるようになっている。

【００５５】溶液供給装置４００のノズル４０６は、図
６及び図７に示すように、軸方向に貫通孔４３０が形成
された細長い円筒状のノズル本体４３２と、該ノズル本
体４３２を支持板４１０（図３参照）に固定するための
取付部４３４を有する。ノズル本体４３２は、その先端
面及びその先端面から１ｍｍ以上の範囲の外側又は内
側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表面を
有する。このフッ素化合物としては、例えばポリテトラ
フルオロエチレンやポリテトラフルオロエチレン含有物
等を使用することができる。

【００５６】この実施の形態で用いられる好ましいノズ
ル４０６の例としては、例えば、図７に示すように、ノ
ズル本体４３２の先端面及びその先端面から１ｍｍ以上
の範囲をフッ素化合物を用いて形成したノズル４０６
や、図８に示すように、ノズル本体４３２の先端面４４
０及びその先端面４４０から１ｍｍ以上の範囲の外側又
は内側、あるいは両方の壁面４４２及び４４４をフッ素
化合物を用いて被覆したノズル４０６を挙げることがで
きる。

【００５７】ノズル本体４３２の先端面及びその先端面
から１ｍｍ以上の範囲をフッ素化合物で形成する場合、
強度などを考慮すると、実用的には、例えばノズル本体
４３２をステンレススチールで形成し、その先端面及び
その先端面から最大で５ｍｍの範囲をフッ素化合物で形
成することが好ましい。

【００５８】また、図８に示すように、ノズル本体４３
２の先端面４４０及びその先端面４４０から１ｍｍ以上
の範囲の外側又は内側、あるいは両方の壁面４４２及び
４４４をフッ素化合物で被覆する場合、ノズル本体４３
２の先端面４４０から１０ｍｍ以上、更に好ましくは、
ノズル本体４３２の全領域をフッ素化合物で被覆するこ
とが好ましい。被覆する場合のその厚みは、特に制限は
ないが、５〜５００μｍの範囲が適当である。また、ノ
ズル本体４３２の材質としては、上記のように、ステン
レススチールが好ましい。ノズル本体４３２に形成され
た貫通孔４３０の径は一般に０．５〜１．０ｍｍの範囲
である。

【００５９】次に、この製造システム１０によって光デ
ィスクを製造する過程について図９Ａ〜図１１をも参照
しながら説明する。

【００６０】まず、第１及び第２の成形設備１２Ａ及び
１２Ｂにおける成形機２０において、ポリカーボネート
などの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形
されて、図９Ａに示すように、一主面にトラッキング用
溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）２
００が形成された基板２０２が作製される。

【００６１】前記基板２０２の材料としては、例えばポ
リカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフ
ィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望に
よりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐
湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。また、グルーブ２００の深さは、０．０
１〜０．３μｍの範囲であることが好ましく、その半値
幅は、０．２〜０．９μｍの範囲であることが好まし
い。

【００６２】成形機２０から取り出された基板２０２
は、後段の冷却部２２において冷却された後、一主面が
下側に向けられてスタックポール２４に積載される。ス
タックポール２４に所定枚数の基板２０２が積載された
段階で、スタックポール２４はこの成形設備１２Ａ及び
１２Ｂから取り出されて、次の塗布設備１４に搬送さ
れ、該塗布設備１４におけるスタックポール収容部４０
に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自
走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。

【００６３】スタックポール２４がスタックポール収容
部４０に収容された段階で、第１の搬送機構４２が動作
し、スタックポール２４から１枚ずつ基板２０２を取り
出して、後段の静電ブロー機構４４に搬送する。静電ブ
ロー機構４４に搬送された基板２０２は、該静電ブロー
機構４４において静電気が除去された後、第２の搬送機
構４６を介して次の色素塗布機構４８に搬送され、６つ
のスピンコート装置５２のうち、いずれか１つのスピン
コート装置５２に投入される。スピンコート装置５２に
投入された基板２０２は、その一主面上に色素溶液が塗
布された後、高速に回転されて色素溶液の厚みが均一に
された後、乾燥処理が施される。これによって、図９Ｂ
に示すように、基板２０２の一主面上に色素記録層２０
４が形成されることになる。

【００６４】即ち、スピンコート装置５２に投入された
基板２０２は、図２に示すスピナーヘッド装置４０２に
装着され、固定具４２０により水平に保持される。次
に、加圧式タンクから供給された色素溶液は、バルブ装
置４０８によって所定量が調整され、基板２０２上の内
周側にノズル４０６を通して滴下される。

【００６５】このノズル４０６は、上述したように、そ
の先端面及びその先端面から１ｍｍ以上の範囲の外側又
は内側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表
面を有しているため、色素溶液の付着が生じにくく、ま
た、これが乾燥して色素の析出やその堆積物が生じにく
く、従って、塗膜を塗膜欠陥などの障害を伴うことなく
スムーズに形成させることができる。

【００６６】なお、色素溶液としては色素を適当な溶剤
に溶解した色素溶液が用いられる。色素溶液中の色素の
濃度は一般に０．０１〜１５重量％の範囲にあり、好ま
しくは０．１〜１０重量％の範囲、特に好ましくは０．
５〜５重量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３重量％
の範囲にある。

【００６７】駆動モータによってスピナーヘッド装置４
０２は高速回転が可能である。基板２０２上に滴下され
た色素溶液は、スピナーヘッド装置４０２の回転によ
り、基板２０２の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形
成しながら基板２０２の外周縁部に到達する。

【００６８】特に、本実施の形態では、図１１に示すよ
うな処理手順で基板２０２上に色素溶液を塗布する。ま
ず、図１１のステップＳ１において、基板２０２を回転
数＝約２７０ｒｐｍまで上昇させると同時に、溶液供給
装置４００における支持板４１０（図３参照）を水平方
向に回転させてノズル４０６を例えば基板２０２の半径
４６ｍｍの位置までもっていく。

【００６９】その後、ステップＳ２において、基板２０
２の回転数を２７０ｒｐｍとしたまま、色素溶液の塗布
を開始し、その状態で支持板４１０を水平方向に回転さ
せてノズル４０６を基板２０２上の所定の位置Ｐｓ（図
４及び図１２参照）まで約２秒で移動させる。

【００７０】ここで、所定の位置Ｐｓとは、図４及び図
１２に示すように、基板２０２の外周端部Ｐ１から５ｍ
ｍ以上内周寄りの位置であって、前記基板２０２上にお
ける内周側の塗布しない部分、即ち、色素記録層２０４
として形成されるべき領域の内周側の端部Ｐ０から５ｍ
ｍ以上、好ましくは１０ｍｍ以上、更に好ましくは１５
ｍｍ以上外周寄りの位置である。本実施の形態では半径
２３ｍｍの位置としている。

【００７１】次に、ステップＳ３において、色素溶液の
塗布を開始し、一度内周側に移動した後、色素溶液の塗
布を行いながら、支持板４１０を水平方向に回転させて
ノズル４０６を半径４０ｍｍの位置まで約３秒かけて移
動させ、同時に基板２０２の回転数を５５０ｒｐｍまで
上昇させる。

【００７２】その後、ステップＳ４において、色素溶液
の塗布を停止し、支持板４１０を水平方向に回転させて
ノズル４０６を元の位置（初期状態）に戻す。

【００７３】次に、ステップＳ５において、基板２０２
の回転数を６３０ｒｐｍまで６秒かけて上昇させる。

【００７４】その後、ステップＳ６において、基板２０
２の回転数を６．３秒かけて１４００ｒｐｍまで上昇さ
せる。

【００７５】そして、ステップＳ７において、基板２０
２の回転数を１．７秒かけて２２００ｒｐｍまで上昇さ
せ、その後、基板２０２の回転数（＝２２００ｒｐｍ）
を５秒間維持させる。

【００７６】ステップＳ５〜ステップＳ７での回転数の
上昇によって、基板２０２の外周縁部に達した余分の色
素溶液は、更に遠心力により振り切られ、基板２０２の
縁部の周囲に飛散する。飛散した余分の色素溶液は、図
２及び図３に示すように、飛散防止壁４０４に衝突し、
更にその下方に設けられた受皿に集められた後、ドレイ
ン４２４を通して回収される。塗膜の乾燥はその形成過
程及び塗膜形成後に行われる。塗膜（色素記録層）の厚
みは、一般に２０〜５００ｎｍの範囲に、好ましくは５
０〜３００ｎｍの範囲に設けられる。

【００７７】また、上述のステップＳ１〜ステップＳ７
における色素塗布処理においては、図示しない空調シス
テムによって、塗布設備１４に送り込む清浄な空気の風
速を約０．４ｍ／ｓｅｃ以下に設定している。つまり、
基板２０２の色素塗布面に対する空調風速を約０．４ｍ
／ｓｅｃ以下に設定するようにしている。

【００７８】前記ステップＳ７での処理が終了した段階
で、基板２０２の回転を停止させて基板２０２に対する
色素溶液の塗布処理が終了する。

【００７９】ここで、色素記録層２０４に用いられる色
素は特に限定されない。使用可能な色素の例としては、
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノ
キサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色
素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎ
ｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、
アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、イン
ドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシ
アニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジ
インモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることが
できる。これらの色素のうちでは、シアニン系色素、フ
タロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリ
ウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサ
リン系色素が好ましい。

【００８０】色素記録層２０４を形成するための塗布剤
の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテー
トなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロル
メタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの
塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；
シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，
２，３，３−テトラフロロ−１−プロパノールなどのフ
ッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル
類などを挙げることができる。

【００８１】前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮し
て単独または二種以上を適宜併用することができる。好
ましくは、２，２，３，３−テトラフロロ−１−プロパ
ノールなどのフッ素系溶剤である。なお、色素溶液中に
は、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、そして潤滑
剤など各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。

【００８２】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４
−１４６１８９号等の各公報に記載されている。

【００８３】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。

【００８４】結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量
は、色素１００重量部に対して、一般に２０重量部以下
であり、好ましくは１０重量部以下、更に好ましくは５
重量部以下である。

【００８５】なお、色素記録層２０４が設けられる側の
基板２０２の表面には、平面性の改善、接着力の向上お
よび色素記録層２０４の変質防止などの目的で、下塗層
が設けられてもよい。

【００８６】下塗層の材料としては例えば、ポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質、およびシランカップリング剤などの表面改質剤を
挙げることができる。

【００８７】下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して色素溶液を調整した後、この色素溶液をス
ピンコート、ディップコート、エクストルージョンコー
トなどの塗布法を利用して基板表面に塗布することによ
り形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．０
０５〜２０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μｍ
の範囲で設けられる。

【００８８】色素記録層２０４が形成された基板２０２
は、第３の搬送機構５０を介して次の裏面洗浄機構５４
に搬送され、基板２０２の一主面の反対側の面（裏面）
が洗浄される。その後、基板２０２は、第４の搬送機構
５６を介して次の番号付与機構５８に搬送され、図１２
に示すように、基板２０２の一主面又は裏面における内
周側の透明部分４７４に対してロット番号等の刻印４７
６がインクジェットによって行われる。

【００８９】その後、基板２０２は、第５の搬送機構６
０を介して次の検査機構６２に搬送され、基板２０２の
欠陥の有無や色素記録層２０４の膜厚の検査が行われ
る。この検査は、基板２０２の裏面から光を照射してそ
の光の透過状態を例えばＣＣＤカメラで画像処理するこ
とによって行われる。この検査機構６２での検査結果は
次の選別機構６８に送られる。

【００９０】上述の検査処理を終えた基板２０２は、そ
の検査結果に基づいて選別機構６８によって正常品用の
スタックポール６４か、ＮＧ用のスタックポール６６に
搬送選別される。

【００９１】正常品用のスタックポール６４に所定枚数
の基板２０２が積載された段階で、正常品用のスタック
ポール６４はこの塗布設備１４から取り出されて、次の
後処理設備１６に搬送され、該後処理設備１６のスタッ
クポール収容部８０に収容される。この搬送は、台車で
行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにし
てもよい。

【００９２】正常品用のスタックポール６４がスタック
ポール収容部８０に収容された段階で、第６の搬送機構
８２が動作し、スタックポール６４から１枚ずつ基板２
０２を取り出して、後段の第１の静電ブロー機構８４に
搬送する。第１の静電ブロー機構８４に搬送された基板
２０２は、該第１の静電ブロー機構８４において静電気
が除去された後、第７の搬送機構８６を介して次のスパ
ッタ機構８８に搬送される。

【００９３】スパッタ機構８８に投入された基板２０２
は、図９Ｃに示すように、その一主面中、周縁部分（エ
ッジ部分）２０６を除く全面に光反射層２０８がスパッ
タリングによって形成される。

【００９４】光反射層２０８の材料である光反射性物質
はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例と
しては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属ある
いはステンレス鋼を挙げることができる。

【００９５】これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼で
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはＡｇもしくはその合金
である。

【００９６】光反射層２０８は、例えば、前記光反射性
物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティン
グすることにより記録層の上に形成することができる。
反射層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲、
好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましくは５
０〜３００ｎｍの範囲で設けられる。

【００９７】光反射層２０８が形成された基板２０２
は、第８の搬送機構９０を介して次のエッジ洗浄機構９
２に搬送され、図１０Ａに示すように、基板２０２の一
主面中、エッジ部分２０６が洗浄されて、該エッジ部分
２０６に形成されていた色素記録層２０４が除去され
る。その後、基板２０２は、第９の搬送機構１０２を介
して次の第２の静電ブロー機構９４に搬送され、静電気
が除去される。

【００９８】その後、基板２０２は、同じく前記第９の
搬送機構１０２を介してＵＶ硬化液塗布機構９６に搬送
され、基板２０２の一主面の一部分にＵＶ硬化液が滴下
される。その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送
機構１０２を介して次のスピン機構９８に搬送され、高
速に回転されることにより、基板２０２上に滴下された
ＵＶ硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。

【００９９】この実施の形態においては、前記光反射層
２０８の成膜後から前記ＵＶ硬化液の塗布までの時間が
２秒以上、５分以内となるように時間管理されている。

【０１００】その後、基板２０２は、同じく前記第９の
搬送機構１０２を介して次のＵＶ照射機構１００に搬送
され、基板２０２上のＵＶ硬化液に対して紫外線が照射
される。これによって、図１０Ｂに示すように、基板２
０２の一主面上に形成された色素記録層２０４と光反射
層２０８を覆うようにＵＶ硬化樹脂による保護層２１０
が形成されて光ディスクＤとして構成されることにな
る。

【０１０１】保護層２１０は、色素記録層２０４などを
物理的及び化学的に保護する目的で光反射層２０８の上
に設けられる。保護層２１０は、基板２０２の色素記録
層２０４が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高
める目的で設けることもできる。保護層２１０で使用さ
れる材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ
₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物質、及び熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、そしてＵＶ硬化性樹脂等の有機物
質を挙げることができる。

【０１０２】保護層２１０は、例えば、プラスチックの
押出加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反射層
２０８上及び／または基板２０２上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して色素溶液を調整したのち、この
色素溶液を塗布し、乾燥することによっても形成するこ
とができる。

【０１０３】ＵＶ硬化性樹脂の場合には、上述したよう
に、そのまま、もしくは適当な溶剤に溶解して色素溶液
を調整したのちこの色素溶液を塗布し、ＵＶ光を照射し
て硬化させることによって形成することができる。これ
らの色素溶液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、Ｕ
Ｖ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよ
い。保護層２１０の層厚は一般には０．１〜１００μｍ
の範囲で設けられる。

【０１０４】その後、光ディスクＤは、第１０の搬送機
構１０４を介して次の欠陥検査機構１０６と特性検査機
構１０８に搬送され、色素記録層２０４の面と保護層２
１０の面における欠陥の有無や光ディスクＤの基板２０
２に形成されたグルーブ２００による信号特性が検査さ
れる。これらの検査は、光ディスクＤの両面に対してそ
れぞれ光を照射してその反射光を例えばＣＣＤカメラで
画像処理することによって行われる。これらの欠陥検査
機構１０６及び特性検査機構１０８での各検査結果は次
の選別機構１１４に送られる。

【０１０５】上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終
えた光ディスクＤは、各検査結果に基づいて選別機構１
１４によって正常品用のスタックポール１１０か、ＮＧ
用のスタックポール１１２に搬送選別される。

【０１０６】正常品用のスタックポール１１０に所定枚
数の光ディスクＤが積載された段階で、該スタックポー
ル１１０が後処理設備１６から取り出されて図示しない
ラベル印刷工程に投入される。

【０１０７】このように、本実施の形態に係る製造シス
テム１０においては、基板２０２を回転させながら色素
記録層２０４を形成するための色素溶液を基板２０２上
に塗布する場合に、色素溶液の塗布開始時点ｔ０からバ
ルブ全開となる時点ｔ１までの時間τｓを０．１秒以
上、１秒以下にして、色素溶液を吐出するバルブ装置４
０８のバルブの開き速度を遅くするようにしたので、塗
布開始時点ｔ０において色素溶液がノズル４０６から急
激に吐出するということがなくなり、色素溶液が基板２
０２に落下した時点での色素溶液の四方への飛散を防止
することができる。その結果、外観不良の発生を防止す
ることができ、光ディスクＤの歩留まりの向上を図るこ
とができる。

【０１０８】特に、本実施の形態では、色素溶液の塗布
の開始位置Ｐｓを基板２０２上における内周側の塗布し
ない部分Ｐ０から５ｍｍ以上離れた位置、つまり、色素
記録層２０４として形成されるべき領域の内周側の端部
Ｐ０から５ｍｍ以上外周側寄りの位置としている。

【０１０９】塗布の開始位置Ｐｓが基板２０２上におけ
る内周側の塗布しない部分Ｐ０から十分離れていれば、
色素溶液が飛散しても問題とならない。飛散した飛沫が
その後の塗布処理で流れ去ってしまうからである。

【０１１０】塗布開始直後においては、色素溶液の吐出
量が時間の経過に伴って過渡的に変化し、安定しないた
め、最内周から少し離れた位置で塗布を開始することが
好ましい。最内周から塗布を開始すると、塗布むらの原
因となり、色素記録層２０４の内周端がきれいな円形に
ならなくなるおそれがあるからである。

【０１１１】本実施の形態では、色素溶液の塗布開始時
点ｔ０から一旦、内周側にノズル４０６を動かすように
しているため、色素記録層２０４の内周端がきれいな円
形となる。

【０１１２】なお、基板２０２の外で塗布を開始してし
まうと、色素溶液が基板２０２の外周端部Ｐ１に当たっ
たときに様々な方向に飛散し、塗布部近辺を汚してしま
ったり、基板２０２の裏面に溶液が付着するなどの問題
が生ずる。

【０１１３】従って、塗布の開始位置Ｐｓは、本実施の
形態のように、基板２０２上が好ましく、更に好ましく
は基板２０２の外周端部Ｐ１から５ｍｍ以上内周寄りが
よい。また、前記基板２０２上における内周側の塗布し
ない部分Ｐ０から５ｍｍ以上、好ましくは１０ｍｍ以
上、更に好ましくは１５ｍｍ以上外周寄りがよい。

【０１１４】一方、色素溶液にかかる圧力、即ち加圧タ
ンク４５２での圧力は、本実施の形態では１ｋｇｆ／ｃ
ｍ²以下にしている。一般に、基板２０２に色素溶液を
塗布する場合、急激に色素溶液の吐出が開始されるとき
に、色素溶液の四方への飛散が発生するが、色素溶液に
かかる圧力が少ないときには、大きく飛散しないために
外観不良等の問題は生じない。

【０１１５】しかし、圧力が低すぎると、単位時間の吐
出量が少なくなって、塗布速度が遅くなるため、規定量
の色素溶液を塗布するのに時間がかかり、その結果、ス
ループットの減少を招き、生産効率が低下するおそれが
ある。

【０１１６】従って、色素溶液にかかる圧力の好ましい
範囲は、上述したように、上限については１ｋｇｆ／ｃ
ｍ²以下、好ましくは０．８ｋｇｆ／ｃｍ²以下、最も
好ましくは０．６ｋｇｆ／ｃｍ²以下である。下限につ
いては、０．０２ｋｇｆ／ｃｍ²以上、好ましくは０．
０５ｋｇｆ／ｃｍ²以上、最も好ましくは０．１ｋｇｆ
／ｃｍ²以上である。

【０１１７】

【実施例】次に、１つの実験例について説明する。この
実験例は、図１に示す製造システム１０にて光ディスク
Ｄを作製する場合において、サンプル（実施例１〜４並
びに比較例１〜３）に関し、第１のスピードコントロー
ラ４６２の開度を変えたときの飛散確率、塗布速度が安
定するまでの時間及び塗布率をみたものである。

【０１１８】ここで、飛散確率は、図１２において、基
板２０２上の内周側の透明部分４７４（飛沫が付着して
ほしくない部分）に付着した飛沫の分布に基づいて求め
たもので、飛沫がまったく付着していない場合は０％と
なる。

【０１１９】また、塗布速度が安定するまでの時間は、
図５に示すように、色素溶液の塗布開始時点ｔ０から色
素溶液の塗布速度が一定になる時点（バルブ全開となる
時点）ｔ１までの時間τｓを指す。塗布率は、基板２０
２への色素溶液の塗布状態を色素記録層２０４の膜厚検
査で求めたものであり、正常に塗布された場合を１００
％とした。

【０１２０】色素記録層２０４の形成は以下の通りであ
る。下記の一般式（１）で表されるシアニン色素化合物
２．６５ｇと下記の一般式（２）で表される退色防止剤
０．２６５ｇを組み合わせて配合し、これらを下記の一
般式（３）で表される２，２，３，３−テトラフロロ−
１−プロパノール１００ｃｃに溶解して記録層形成用の
色素溶液を調製した。

【０１２１】

【化１】

【０１２２】

【化２】

【０１２３】

【化３】

【０１２４】その後、表面にスパイラル状のグルーブ
（トラックピッチ：１．６μｍ、グルーブ幅：０．４μ
ｍ、グルーブの深さ：０．１６μｍ）が射出成形により
形成されたポリカーボネート基板（直径：１２０ｍｍ、
厚さ：１．２ｍｍ）のそのグルーブ側の表面に、回転数
を２７０ｒｐｍ〜２０００ｒｐｍまで変化させながら前
記色素溶液をスピンコートにより塗布し、色素記録層２
０４（グルーブ内の厚さ：約２００ｎｍ）を形成した。
色素溶液の塗布処理は図１１に示すステップに沿って行
った。また、加圧タンクの圧力を０．３ｋｇｆ／ｃｍ²
とした。

【０１２５】この実験結果を図１３に示す。この実験結
果から、安定するまでの時間τｓが０．１秒より長い実
施例１〜実施例４並びに比較例１については、飛散確率
が０％であり、外観不良がないことがわかる。

【０１２６】しかし、比較例１については、第１のスピ
ードコントローラ４６２の開度を５％よりも低い２％と
しているため、色素溶液の吐出量不足により、塗布され
ない部分が生じ、塗布率が２０％であった。

【０１２７】従って、この実験結果から、第１のスピー
ドコントローラ４６２の開度として５％以上、５０％以
下が好ましい範囲であり、更に好ましくは２０以上、５
０％以下であることがわかる。

【０１２８】なお、この発明に係る光情報記録媒体の製
造方法は、上述の実施の形態に限らず、この発明の要旨
を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもち
ろんである。

【０１２９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光情
報記録媒体の製造方法によれば、色素溶液の飛散を防止
することができ、外観不良の発生防止並びに光情報記録
媒体の歩留まりの向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す
構成図である。

【図２】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
構成図である。

【図３】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
斜視図である。

【図４】スピンコート装置を構成する溶液供給装置を示
す構成図である。

【図５】バルブ装置から吐出される色素溶液の量（吐出
量）の時間の経過に伴う変化を示す特性図である。

【図６】バルブ装置のノズルを示す平面図である。

【図７】バルブ装置のノズルの一例を示す側面図であ
る。

【図８】バルブ装置のノズルの他の例を一部省略して示
す拡大断面図である。

【図９】図９Ａは基板上にグルーブを形成した状態を示
す工程図であり、図９Ｂは基板上に色素記録層を形成し
た状態を示す工程図であり、図９Ｃは基板上に光反射層
を形成した状態を示す工程図である。

【図１０】図１０Ａは基板のエッジ部分を洗浄した状態
を示す工程図であり、図１０Ｂは基板上に保護層を形成
した状態を示す工程図である。

【図１１】本実施の形態に係る製造システムにおいて、
基板に色素溶液を塗布する場合の処理手順を示す工程ブ
ロック図である。

【図１２】基板上での塗布開始位置を説明するための図
である。

【図１３】実験例の結果を示す図表である。

【図１４】色素溶液の塗布時に生じる色素溶液の飛散を
示す説明図である。

【符号の説明】

１０…製造システム１４…塗布設備４８…色素塗布機構５２…スピンコート
装置２０２…基板２０４…色素記録層４００…溶液供給装置４０６…ノズル４０８…バルブ装置４５２…加圧タンク４５６…急速排気弁４５８…流体の供給
系４６０…流体の排気系４６２…第１のスピードコントローラ４６４…第２のスピードコントローラ４６６…入力ポート４６８…バルブ装置
本体４７０…出力ポート４７２…排気ポート４７４…透明部分４７６…刻印Ｄ…光ディスク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、レーザ光の照射により情報を記
録することができる記録層を有するヒートモード型の光
情報記録媒体の製造方法において、前記基板を回転させながら前記記録層を形成するための
溶液を前記基板上に塗布する場合に、前記溶液の塗布開始時点から溶液の塗布速度が一定にな
るまでの時間が０．１秒以上、１秒以下であることを特
徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】請求項１記載の光情報記録媒体の製造方法
において、バルブの開閉によって前記溶液の前記基板に対する吐出
の実行及び停止を行うバルブ装置を使用し、前記バルブの開き速度を最高速度に対して５％以上、５
０％以下にすることを特徴とする光情報記録媒体の製造
方法。
【請求項３】請求項２記載の光情報記録媒体の製造方法
において、前記バルブの開閉が流体圧で行われる場合に、前記バルブ装置に供給される流体の流量を制御するため
のスピードコントローラを使用し、前記流体の流量を決定する前記スピードコントローラの
開度を５％以上、５０％以下にすることを特徴とする光
情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、前記溶液が色素含有有機溶剤であることを特徴とする光
情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、塗布を開始する位置が、前記基板上であることを特徴と
する光情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】請求項５記載の光情報記録媒体の製造方法
において、塗布を開始する位置が、前記基板上における内周側の塗
布しない部分から５ｍｍ以上離れていることを特徴とす
る光情報記録媒体の製造方法。
【請求項７】請求項１〜６のいずれか１項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、前記溶液にかかる圧力が１ｋｇｆ／ｃｍ²以下であるこ
とを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。