JP2000234169A - 個別かつ選択的に制御される加工物ホルダー、及び静電容量的に連結された水晶モニターを備えたベースプレータまたは真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マスキングされた基板または各加工物の位置
を個別かつ選択的に制御することができる加工物ホルダ
ーを備えたベースプレータまたは真空蒸着装置を提供す
ることにある。 【解決手段】 マスキングされた基板または加工物１１
をメッキするための真空蒸着チャンバ５２と、マスキン
グされた基板または加工物１１に材料をメッキまたは蒸
着可能に真空蒸着チャンバ５２内に配設されたメッキ装
置５６と、回転駆動機構４４に連結された回転駆動装置
２７と、回転駆動装置２７に連結され、選択的に回転可
能な加工物ホルダー１０と、加工物ホルダー１０に備え
られたフリッップギア１４と、このフリップギア１４と
選択的に連結可能で、加工物ホルダー１０を少なくとも
１つのメッキポジションと少なくとも１つの非メッキポ
ジションとの間で選択的に回転させるフリッパ制御機構
３１とを備えるベースプレータまたは真空蒸着装置１と
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ベースプレータま
たは真空蒸着装置に係り、特に、個別かつ選択的に制御
される加工物ホルダー、及び静電容量的に連結された水
晶モニターを備えたベースプレータまたは真空蒸着装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】ベースプレータまたは真空蒸着装置は、
半導体工業などにおいて、マスク内に配置された基板に
メッキ材を蒸着するために用いられている。従来のベー
スプレータは、一般に、メッキ装置からのメッキ材が基
板の表面に均一に蒸着されるように、ターンテーブルま
たは回転板上にいくつかの基板と共にマスクを保持して
運ぶためのマスクホルダーを備えている。このような従
来のベースプレータは、米国特許第４，２０７，８３６
号、第４，１２１，５３７号、第５，４７４，６４１
号、第５，４０３，４００号、５，１５４，８１０号な
どに開示されている。これらの従来技術となる特許によ
れば、ターンテーブルまたは回転板は、各々、通常、中
心に配設された軸によって支持されて回転され、このた
め中央部の表面領域は塞がれている。このように、これ
らのターンテーブルまたは回転板の中央部は、少なくと
もいくつかの部材やまたはターンテーブルまたは回転板
の表面領域が占めている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、メッキ材、つ
まり蒸着材は、ターンテーブルまたは回転板中央部の表
面領域や部材などに接触して付着する可能性があるので
望ましくない。なぜならば、蒸着材が付着すれば、定期
的なクリーニングが必要となり、また、部材が傷んだ
り、耐用年数が短くなったりするからである。したがっ
て、これらの表面領域や部品などへの蒸着材の付着を各
々最小限に抑える必要がある。また、回転板の中央部
は、通常、この中央部に衝突する蒸着材に表面領域や部
材などができる限り曝されないようにすることが必要で
あり、そして望まれている。

【０００４】マスキングされた基板の両面をメッキでき
るように、マスクホルダーを回転させるか、または向き
を変えるベースプレータまたは真空蒸着装置が存在す
る。この従来技術のベースプレータまたは真空蒸着装置
の問題点は、複数のマスクホルダーの全てをマスキング
された各基板のいずれか一方のメッキ可能な表面、また
はマスキングされた各基板の他方のメッキ可能な表面に
同時に回転させるか、または向きを変えることができる
のみであるという点にある。つまり、これらのベースプ
レータまたは真空蒸着装置は、メッキ工程またはメッキ
作業の間、マスキングされた基板をメッキ可能なポジシ
ョンにすることができるだけであって、メッキできない
ポジションにすることはできない。また、これらのベー
スプレータまたは真空蒸着装置は、マスキングされた各
基板のポジションを個別かつ選択的に制御することはで
きず、マスキングされた各基板に蒸着されている蒸着材
の量を制御することもできない。したがって、マスキン
グされた各基板が異なる量の蒸着材を必要とする場合に
は、これら従来技術のベースプレータまたは真空蒸着装
置は、別なまたは追加のメッキ作業、または所望の成果
を得るためのメッキ作業を必要とする。また、これら従
来技術のベースプレータまたは真空蒸着装置の場合に
は、メッキ作業中、マスキングされる基板が、複数のマ
スクホルダーの一部にしか装着されていない状況が起こ
る可能性があるため、効率が悪い。このような別の追加
のメッキ作業が必要であること、そして従来技術のベー
スプレータまたは真空蒸着装置が有する非効率性とによ
って、メッキ工程、作業回数、時間、費用などが増大す
る。

【０００５】基板上に蒸着されているメッキ材の量を測
定し、監視するために、一般に水晶モニターがベースプ
レータに連結される。水晶モニターは、通常、マスクと
メッキノズル上方の所定の位置に取り付けられる。水晶
モニターは、通常、ベースプレータまたは真空蒸着装置
の蓋、またはカバーに取り付けることができる。しか
し、メッキ量の従来の測定方法では、水晶モニターは、
回転マスク面の上方の固定された位置に取り付けられる
ので、本質的に、ある程度の不正確さ、または偏差を有
している。したがって、計算は、その不正確な測定値を
調整して行なうことが必要であるが、これらの計算値は
プログラミングを必要とし、依然として、あるレベルの
誤差、または不正確さを有している可能性がある。

【０００６】このような偏差または不正確さの問題を克
服するために、水晶モニター取り付けに関する従来技術
の方法及び装置が開発されている。この問題を解決でき
るような従来技術の方法及び装置の例が米国特許第４，
１２１，５３７号、第４，２０７，８３６号、第５，０
６、５２２号に開示されている。これらの従来技術とな
る特許の方法及び装置は、一般に、回転板への水晶モニ
ターの取り付けを教示している。このような取り付け方
法の主な問題点は、通常回転板には取り付けられず、固
定された位置に取り付けられる制御回路と、水晶モニタ
ーとの間に電気的連結を行う必要があることにある。こ
れら、従来技術の方法及び装置の中には、この電気的連
結の問題を、水晶モニターと制御回路とを、中央部に位
置する軸や連結部材などを介して、静電容量的または電
気誘導的、またはその両方により連結することによって
解決しているものがある。しかし、回転板の中央部に位
置する軸や連結部材などを利用することは、上述のよう
に、軸や連結部材などが中央部に位置することにより、
通常、ベースプレータからの蒸着材に曝されてしまうと
いう問題があり望ましくない。

【０００７】したがって、本発明は、回転リングと静止
リングとを有するべースプレータと真空蒸着チャンバで
あって、回転リングが静止リングに対して回転し、各リ
ングがほとんど開口された中心部を有するベースプレー
タと真空蒸着チャンバとを開示して提供する。さらに、
本発明は、回転リングに連結され、個別かつ選択的に制
御される加工物ホルダーであって、各々、メッキポジシ
ョンと非メッキポジションとの間で個別かつ選択的に制
御できる加工物ホルダーを開示して提供する。また、本
発明は、回転リングの周縁部に取り付けられる水晶モニ
ターであって、回転リングを静止リングに対して回転さ
せることによって制御回路に連結される水晶モニターを
開示して提供する。本発明は、このようにして従来技術
の問題点、不利な点、制約などを解決する。

【０００８】上述した諸問題を解決し、本発明の趣旨に
基づく上記及びその他の目的、利点及び利益などを達成
するために、実施例を示し、概略的な説明を加えなが
ら、本発明の簡潔な要約を以下に述べる。

【０００９】本発明の目的は、蒸着材が露出され得る表
面積が比較的小さいか、または最小である回転板を有す
るべースプレータまたは真空蒸着装置、及びその構成部
材を提供することにある。

【００１０】本発明の別の目的は、クリーニングを比較
的必要としないベースプレータまたは真空蒸着装置と部
材とを提供し、部材のより長い耐用年数を提供すること
にある。

【００１１】本発明の別の目的は、マスキングされた各
基板または各加工物の位置を個別かつ選択的に制御する
ことができるベースプレータまたは真空蒸着装置を提供
することにある。

【００１２】本発明のさらなる目的は、マスキングされ
た各基板または各加工物に蒸着される材料の量を個別か
つ選択的に制御することができるベースプレータまたは
真空蒸着装置を提供することにある。

【００１３】本発明のさらに別の目的は、マスキングさ
れた基板または加工物の各々を、メッキ工程またはメッ
キ作業の間、メッキポジションにも非メッキポジション
にも個別かつ選択的に制御することができるベースプレ
ータまたは真空蒸着装置を提供することにある。

【００１４】本発明の別の目的は、水晶モニターが、基
板または加工物上に蒸着されている材料の量をより正確
に監視できるようにしたベースプレータまたは真空蒸着
装置を提供することにある。

【００１５】本発明の別の目的は、水晶モニターをべー
スプレータまたは真空蒸着チャンバに取り付け、これを
制御回路に静電容量的に連結して、それにより、開口さ
れた中央部が、べースプレータまたは真空蒸着チャン
バ、またはそれらの近傍に常に存在するようにすること
にある。

【００１６】本発明のさらなる目的は、水晶モニター
と、基板または加工物とをべースプレータまたは真空蒸
着チャンバの周縁部に取り付け、また、この周縁部で水
晶モニターを制御回路に静電容量的に連結することにあ
る。

【００１７】本発明のさらに別の目的は、メッキ工程を
より費用効率のよいものとし、同じレベルまたは所望の
レベルのメッキを行うのに、より短い時間と、より少な
い作業回数しか要らないようにすることにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明の上記諸目的は、
ベースプレータまたは真空蒸着装置用の選択的に回転可
能な加工物ホルダーによって達成される。この加工物ホ
ルダーは、回転可能なマスクホルダーとフリップギアと
を備えている。回転可能なマスクホルダーは、ベースプ
レータまたは真空蒸着装置の回転可能な従動板に回転可
能に連結することができる。この回転可能なマスクホル
ダーは、少なくとも１つのマスクまたは加工物を保持す
ることができ、少なくとも１つのメッキポジションと少
なくとも１つの非メッキポジションとの間を選択的に回
転することができる。フリップギアは、少なくとも１つ
の係合部を備えている。このフリップギアは、回転可能
なマスクホルダーに連結され、少なくとも１つの係合部
は、回転可能なマスクホルダーを回転またはさせるかま
たは向きを変えるためにフリッパレバーを受容し、この
フリッパレバーと選択的に係合する。

【００１９】回転軸が、回転可能な従動板に回転可能に
連結される。回転軸の一端は、フリップギアに連結さ
れ、回転軸の他端は、回転可能なマスクホルダーに連結
される。フリップギアの少なくとも１つの係合部が有す
る係合縁部は、フリッパレバーと接触してフリップギア
を回転させることができる。さらに、この係合縁部は、
回転可能なマスクホルダーが適切に回転して所望のポジ
ションになるように、フリップギアを案内して位置決め
するため、少なくとも１つのフリッパローブを備えてい
る。少なくとも１つの係合部は、４つの係合部であって
もよく、これら４つの係合部は、ほぼ十字形を形成する
よう互いに間隔をおいて配設してもよい。これらのの４
つの係合部は、マスクホルダーがほぼ９０度回転するよ
うに互いに間隔をおいて配設される。このほぼ９０度の
回転が、回転可能なマスクホルダーを少なくとも１つの
メッキポジションまたは少なくとも１つの非メッキポジ
ションに位置決めする。マスクホルダーブラケットは、
ベースプレータまたは真空蒸着装置の回転可能な従動板
に回転可能に取り付けることができる。回転可能なマス
クホルダーとフリップギアとは、このマスクホルダーブ
ラケットに連結される。

【００２０】本発明の上記諸目的は、回転電子装置をベ
ースプレータまたは真空蒸着装置の制御回路に連結する
静電容量的な連結装置によって達成される。この連結装
置は、回転コンデンサリングと静止コンデンサリングと
を有する。回転コンデンサリングは、回転電子装置をこ
の回転コンデンサリングに連結できるように、中央部に
開口領域を有する。静止コンデンサリングは、静止コン
デンサリングを制御回路に連結できるように、中央部に
開口領域を有する。回転コンデンサリングは、静止コン
デンサリングに対して位置決めされて回転させられる。
回転コンデンサリングと静止コンデンサリングとの間に
は静電容量的に連結されているギャップが存在し、これ
により回転電子装置は、回転可能であり、制御回路に連
結可能である。回転コンデンサリングを回転させるた
め、少なくとも１つの回転駆動機構がこの回転コンデン
サリングに駆動力を伝達できるように連結される。この
少なくとも１つの回転駆動機構は、回転コンデンサリン
グの周縁部に駆動力を伝達できるように連結される。

【００２１】さらに、本発明の上記諸目的は、マスキン
グされた基板または加工物をメッキするための真空蒸着
チャンバ、この真空蒸着チャンバに結合された蓋、マス
キングされた基板または加工物に材料をメッキまたは蒸
着することができるように真空蒸着チャンバ内に配設さ
れたメッキ装置、回転駆動機構に連結された回転駆動装
置、この回転駆動装置に連結されて少なくとも１つの選
択的に回転可能な加工物ホルダーを備えた少なくとも１
つの加工物ホルダー、そしてこの少なくとも１つの選択
的に回転可能な加工物ホルダーを少なくとも１つのメッ
キポジションと少なくとも１つの非メッキポジションと
の間で選択的に回転させるために、少なくとも１つの選
択的に回転可能な加工物ホルダーと選択的に係合できる
少なくとも１つのフリッパ制御機構を備えたベースプレ
ータまたは真空蒸着装置によって達成される。回転駆動
装置は、さらに回転可能な従動板を含む。少なくとも１
つの選択的に回転可能な加工物ホルダーは、各々、回転
可能なマスクホルダーとフリップギアとを有する。回転
可能なマスクホルダーは、回転可能な従動板に回転可能
に連結され、少なくとも１つのマスクまたは加工物を保
持することができ、少なくとも１つのメッキポジション
と少なくとも１つの非メッキポジションとの間で選択的
に回転することができる。フリップギアは、回転可能な
マスクホルダーに連結され、少なくとも１つの係合部を
有する。この少なくとも１つの係合部は、回転可能なマ
スクホルダーを回転させるか、または向きを変えるため
のフリッパ制御機構を受容して、このフリッパ制御機構
と係合することができる。回転軸が回転可能な従動板に
回転可能に連結される。この回転軸の一端は、フリップ
ギアに連結され、この回転軸の他端は、回転可能なマス
クホルダーに連結される。少なくとも１つの係合部の係
合縁部が、フリップギアを回転させるためのフリッパ制
御機構に係合可能である。この係合縁部は、さらに、回
転可能なマスクホルダーが適切に回転して所望のポジシ
ョンになるようにフリップギアを案内して位置決めする
ための１つのフリッパローブを有している。

【００２２】マスクホルダーブラケットは、回転可能な
従動板に取り付けられ、これにより、回転可能なマスク
ホルダーとフリップギアとが、マスクホルダーブラケッ
トに回転可能に連結される。さらに、フリッパ制御機構
は、選択的に制御される作動機構と、この作動機構に連
結されたフリッパレバーとを備えている。この作動機構
は、フリッパレバーを選択的に作動し、少なくとも１つ
の選択的に回転可能なマスクホルダーの向きを変える。
また、この作動機構は、フリッパレバーを選択的に非作
動状態にし、少なくとも１つの選択的に回転可能なマス
クホルダーの向きを変えない状態にする。少なくとも１
つの選択的に回転可能なマスクホルダーは、複数の選択
的に回転可能なマスクホルダーであり、その各々が、フ
リッパ制御機構を選択的に制御することによって、個別
かつ選択的に所定のポジションに制御される。

【００２３】静電容量的な連結装置が、回転電子装置を
制御回路に連結する。さらに、この静電容量的な連結装
置は、回転コンデンサリングと静止コンデンサリングと
を含み、回転コンデンサリングは、静止コンデンサリン
グに対して位置決めされて、回転させられる。回転コン
デンサリングと該静止コンデンサリングとの間には静電
容量的に連結されているギャップが存在し、これにより
回転電子装置は回転可能でありながら、制御回路に静電
容量的に連結可能となる。回転駆動機構は、回転コンデ
ンサリングを周縁部で回転させるために、回転コンデン
サリングに駆動力を伝達できるように連結される。ま
た、回転駆動機構は、回転駆動装置の周縁部で駆動力を
伝達できるように連結される。

【００２４】さらに、本発明の上記諸目的は、マスキン
グされた基板をメッキするための真空蒸着チャンバ、こ
の真空蒸着チャンバに連結された蓋、基板または加工物
に材料をメッキまたは蒸着するために真空蒸着チャンバ
内に配設されたメッキ装置、回転駆動機構に連結された
回転駆動装置、この回転駆動装置に連結された少なくと
も１つの加工物ホルダー、回転駆動装置に連結された回
転電子装置、ベースプレータまたは真空蒸着装置の作動
を制御する制御回路、そして回転電子装置を制御回路に
連結するための静電容量的な連結装置を備えたベースプ
レータまたは真空蒸着装置によって達成される。さら
に、静電容量的な連結装置は、回転コンデンサリングと
静止コンデンサリングとを有している。回転コンデンサ
リングは、静止コンデンサリングに対して位置決めさ
れ、回転させられる。回転コンデンサリングと該静止コ
ンデンサリングとの間には静電容量的に連結されている
ギャップが存在し、これにより、回転電子装置は回転可
能でありながら、制御回路に静電容量的に連結可能であ
る。回転駆動機構は、回転コンデンサリングの周縁部で
駆動力を伝達できるように連結される。

【００２５】さらに、本発明の上記諸目的は、マスキン
グされた基板または加工物をメッキするための真空蒸着
チャンバ、この真空蒸着チャンバに連結された蓋、マス
キングされた基板または加工物に材料をメッキまたは蒸
着することができるよう真空蒸着チャンバ内に配設され
たメッキ装置、回転駆動機構に連結された回転駆動装
置、この回転駆動装置に連結されて少なくとも１つの選
択的に回転可能な加工物ホルダーを含む少なくとも１つ
の加工物ホルダー、そして、この少なくとも１つの選択
的に回転可能な加工物ホルダーを選択的に向きを変える
ためにこの少なくとも１つの選択的に回転可能な加工物
ホルダーに連結された少なくとも１つのフリップギアと
選択的に係合できる少なくとも１つのフリッパ制御機構
を有するベースプレータまたは真空蒸着装置を使用する
方法によっても達成される。

【００２６】マスキングされた基板または加工物は、少
なくとも１つの選択的に回転可能な加工物ホルダーに装
着される。回転駆動機構は、回転駆動装置を回転させる
のに用いられる。少なくとも１つのフリッパ制御機構
は、少なくとも１つのフリップギアと選択的に係合し、
少なくとも１つの選択的に回転可能な加工物ホルダー
を、少なくとも１つのメッキポジションと少なくとも１
つの非メッキポジションとの間で選択的に回転させる。
少なくとも１つの選択的に回転可能な加工物ホルダーに
装着されたマスキングされた基板または加工物の内、少
なくとも１つのメッキポジションにあるマスキングされ
た基板または加工物がメッキされる。少なくとも１つの
フリッパ制御機構は、少なくとも１つのフリップギアと
選択的に係合し、少なくとも１つの選択的に回転可能な
加工物ホルダーを所定の角度だけ選択的に回転させる。
この所定の回転角度が、加工物ホルダーを少なくとも１
つのメッキポジションまたは少なくとも１つの非メッキ
ポジションに位置決めする。所定の角度は、９０度であ
る。

【００２７】本発明の上記諸目的は、回転電子装置を電
子回路に結合するための静電容量的な連結装置を用いる
方法によって達成される。この静電容量的な連結装置
は、中央部に開口領域を有する回転コンデンサリング
と、中央部に開口領域を有する静止コンデンサリングと
を備えている。回転電子装置は、回転コンデンサリング
に連結される。電子回路は、静止コンデンサリングに結
合される。回転コンデンサリングは、静止コンデンサリ
ングに対して位置決めされ、回転させられる。このと
き、回転コンデンサリングと静止コンデンサリングとの
間には静電容量的に連結されているギャップが存在し、
これにより回転電子装置は回転でき、電子回路に静電容
量的に連結される。回転コンデンサリングは、周縁部で
駆動力を伝達されて回転させられる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい一実施形
態について図１乃至８を参照して説明する。図１は、本
発明を適用してなるベースプレータまたは真空蒸着装置
の一実施形態の一部を破断して示した斜視図である。図
２は、選択的に回転可能な加工物ホルダーの斜視図であ
る。図３は、図２に示した加工物ホルダーの分解組立図
である。図４は、加工物ホルダー用のフリップギアの斜
視図である。図５は、本発明を適用してなるベースプレ
ータまたは真空蒸着装置の一実施形態の分解組立図であ
る。図６（ａ）〜（ｃ）は、作動したフリッパレバーに
よって、非メッキポジションからメッキポジションまで
回転する加工物ホルダーの動作を示す斜視図である。図
７は、静止リングに取り付けられる回転駆動装置の斜視
図である。図８は、回転駆動装置の一部を破断して示し
た側面図である。

【００２９】なお、特別の注釈を付けない限り、クレー
ムと本明細書に用いた語句は、当業者が普通に、そし
て、習慣的に用いている意味で用いている。もし、普通
とは別の意味を持たせるよう意図した場合には、本明細
書において、その語句が特別の意味で用いられているこ
とを特に述べることにする。同様に、「発明の実施の形
態」で用いる「機能」や「手段」という語句の使用に関
して、発明を定義するために、３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．第１１
２条第６段の規定を行使する意図で用いたものではな
い。もし、３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．第１１２条第６段の規定に
よって発明を定義しようとする場合には、クレームにお
いて、「するための手段」または「するためのステッ
プ」などという語句や機能的表現で構造や材料またはそ
の機能をサポートする動作を詳しく説明することなく記
載するであろう。仮に、クレームにおいて、機能を実施
する「ための手段」や「ためのステップ」を詳述してい
るとき、クレームが構造や材料またはステップのその手
段をサポートする動作を詳述している場合、３５Ｕ．
Ｓ．Ｃ．第１１２条第６段を行使する意図で用いたもの
ではない。さらに、もし３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．第１１２条第
６段の規定によって発明を定義するとしても、本発明
は、好ましい実施形態に説明された特定の構造、材料ま
たは動作のみに限定されるものではなく、クレームで請
求された機能を果たすあらゆる構造、材料または動作、
並びにクレームで請求された機能を果たすための全ての
公知または今後開発される同様の構造、材料、または動
作をも含むものである。

【００３０】本発明は、静電容量的に連結され、回転可
能な蒸着用水晶モニター２６と、個別かつ選択的に回転
可能な加工物ホルダー１０とを有するベースプレータま
たは真空蒸着装置１（今後「ベースプレータ１」と称
す）である。図１は、真空蒸着チャンバ５２とこれに連
結された蓋５４とを有するベースプレータ１を示す。メ
ッキ装置５６は、加工物ホルダー１０によって支持され
たマスキングされた基板または加工物１１（図６（ａ）
〜（ｃ）に示す）に材料を均一にメッキまたは蒸着する
ように、真空蒸着チャンバ５２内の中心部に配置されて
いる。回転リング２８または他の回転する従動板を有す
る回転駆動装置２７が加工物ホルダー１０を支持して回
転させる。各々の加工物ホルダー１０は、マスキングさ
れた基板または加工物１１と、チャンバ５２で処理また
はメッキされるべきマスキングされた基板または加工物
１１を保持する回転可能なマスクホルダー１２とを有す
る。回転リング２８と駆動ギアリング３６（図５に示
す）とを含む回転駆動装置２７は、大部分に開口が形成
された中央部６０を有する。加工物ホルダー１０は、中
央に配置されたメッキ装置５６の周りを回転できるよう
に、回転リング２８に取り付けられている。回転駆動装
置２７は、支持ローラ４６、４８（図５に示す）によっ
て支持され、回転駆動機構４４（図５に示す）によっ
て、回転駆動装置２７の周縁部に駆動力が伝達されて回
転させられる。したがって、中央部６０は、メッキ工程
やベースプレータ１の表面または部材などに悪影響を及
ぼす可能性のある障害物がほとんど無い。

【００３１】各々のマスクホルダー１２は、マスクホル
ダー１２の中に保持されたマスキングされた基板または
加工物１１が、メッキポジションと非メッキポジション
との間で向きを変えるかまたは回転できるように、メッ
キ工程またはメッキ作業の間、個別かつ選択的に回転さ
せることができる。ベースプレータ１は、メッキ工程ま
たはメッキ作業の間、各々のマスクホルダー１２の回転
を個別かつ選択的に制御するために各々の加工物ホルダ
ー１０と選択的に係合できるフリッパレバー３２を選択
的に作動させるフリッパ作動機構３１を有している。さ
らに、図１は、マスキングされた基板または加工物１１
に蒸着されている材料の量を監視するために回転リング
２８に連結された水晶モニター２６を示す。この水晶モ
ニター２６は、メッキ工程またはメッキ作業の間、ベー
スプレータ１の動作を制御する制御回路５８に静電容量
的に連結されている。

【００３２】図２及び３は、選択的に回転可能な加工物
ホルダー１０の構成を示す。加工物ホルダー１０は、回
転軸２２、回転軸２２の一端に連結されたフリップギア
１４そして回転軸２２の他端に連結された回転可能なマ
スクホルダー１２などを有する。連結部材２１、２３
が、回転軸２２とマスクホルダー１２との間に取り付け
られる。加工物押さえ２４が、マスキングされた基板ま
たは加工物１１をマスクホルダー１２内に保持するため
の押さえネジ２４Ａを用いて、回転可能なマスクホルダ
ー１２に取り付けられている。図１及び５を参照する
と、回転軸２２は、マスクホルダーブラケット３０に回
転可能に連結され、このマスクホルダーブラケット３０
は回転リング２８に連結されている。図２、３、４のフ
リップギア１４は、ほぼ十字形を形成するように間隔を
おいて配置されている４つの係合部１６を有する。各々
の係合部１６は、少なくとも１つの係合縁部１８を有す
る。この係合縁部１８は、フリッパレバー３２の係合部
３４と接触または係合し、これにより、フリップギア１
４と、これに連結されたマスクホルダー１２とを回転さ
せることができる（図６Ａ〜６Ｃ参照）。回転可能なマ
スクホルダー１２が適切に回転して所望のポジションに
なるようにフリップギア１４を案内し、位置決めするた
め、フリッパローブ２０がフリップギア１４の各々の係
合部１６に配設されている。ピン２５により、回転可能
な加工物ホルダー１０の部品を連結することができる。
フリップギア１４を軸２２に保持するために、座金２９
Ａと共に押さえネジ２９が軸の一端に固定される。

【００３３】図５は、ベースプレータ１の構成部材と部
品の相対位置とを示す組立分解図である。加工物ホルダ
ー１０と水晶モニー２６とは、図５に示すように、回転
駆動装置２７に取り付けられる。この回転駆動装置２７
は、駆動ギアリング３６が結合された回転リング２８を
有している。駆動ギアリング３６の周縁部は、回転駆動
機構４４の駆動ギア４５と係合することで駆動力が伝達
され、回転駆動装置２７と回転リング２８を回転させ
る。回転コンデンサリング４０が、回転駆動装置２７の
下方部分に連結され、また、絶縁用スペーサ３８が、駆
動ギアリング３６と回転コンデンサリング４０との間に
配置され、駆動ギアリング３６と回転コンデンサリング
４０との間を電気的に絶縁する。

【００３４】ベースプレータ１のチャンバ５２の内側下
方部分には、水平ローラサポートアセンブリー４６と、
垂直ローラサポートアセンブリー４８とが配置されてお
り、水平ローラサポートアセンブリー４６と垂直ローラ
サポートアセンブリー４８とは、チャンバ５２の底部
に、チャンバ５２の内側周縁部に沿う数カ所の位置に取
り付けられる。水平ローラサポートアセンブリー４６
は、各々、チャンバマウント４６Ａと水平ローラホイー
ル４６Ｂとを有する。垂直ローラサポートアセンブリー
４８は、各々、チャンバマウント４８Ａと垂直ローラホ
イール４８Ｂとを有する。静止コンデンサリング４２
は、チャンバ５２の底部に装着されている。この静止コ
ンデンサリング４２は、ローラサポートアセンブリー４
６、４８がリング４２のリング部分の近くに位置し、ホ
イール４６Ｂ、４８Ｂがリング４２のわずかに上方に位
置するよう配置される。回転駆動装置２７、駆動ギアリ
ング３６、そしてコンデンサリング４０は、アセンブリ
６２として連結され、このアセンブリ６２は、ローラサ
ポートアセンブリー４６、４８によって位置決めされて
支持される。垂直ローラホイール４８Ｂは、アセンブリ
６２の重量を支え、垂直ローラサポートアセンブリー４
８は、アセンブリ６２が回転できるようにする。水平ロ
ーラホイール４６Ｂは、ほぼ単一の垂直回転軸に沿うア
センブリ６２の回転を維持する。すなわち、アセンブリ
６２は、回転中に種々の垂直回転軸に沿って搖動するこ
とはない。

【００３５】回転駆動機構４４は、駆動ギア４５を有し
ており、また、回転駆動機構４４は、チャンバ５２の底
部の、静止コンデンサリング４２の外側周縁部近傍に取
り付けられる。駆動ギア４５は、駆動ギアリング３６と
の係合により連結され、アセンブリ６２の回転を制御可
能に駆動することができる。回転駆動機構４４は、駆動
ギア４５を制御すべき方向に回転させ、この駆動ギア４
５の回転により、アセンブリ６２が駆動されて回転す
る。リング状の部材を使用することにより、加工物ホル
ダー１０が取り付けられ、駆動部材が配設されるされて
いる中央部６０に開口を設けることができる。アセンブ
リ６２は、アセンブリ６２の周縁部に配置され取り付け
られた駆動部材によるアセンブリ６２の周縁部への駆動
力の伝達によって駆動される。このように、駆動部材と
アセンブリ６２の位置をメッキ装置５６から離れた周縁
部に設定したことにより、加工物ホルダー１０と駆動部
材の位置またはその近傍の中央部６０に開口を設けるこ
とができる。これにより、これらの加工物ホルダー１０
と駆動部材は、メッキ蒸着材料に曝されることがほとん
ど無くなるか、もしくは最小限度に抑えられる。

【００３６】アセンブリ６２は、図１に示すように、反
時計方向に回転する（時計方向に回転することもでき
る）。加工物ホルダー１０は、アセンブリ６２に連結さ
れている。フリッパ制御機構３１は、図１及び図６Ａ〜
６Ｃに示すように、作動機構３５とフリッパレバー３２
とを有する。このフリッパレバー３２は、加工物ホルダ
ー１０のフリップギア１４と係合するフリッパ係合部３
４を備える。フリッパレバー３２は、作動機構３５にヒ
ンジで連結され、作動機構３５は、フリッパレバー３２
を係合位置と非係合位置との間で選択的に制御すること
を可能にする。加工物ホルダー１０の向きを変えるべき
ときは、作動機構３５は、フリッパレバー３２を選択的
に作動させ、加工物ホルダー１０と係合させる。加工物
ホルダー１０の向きを変える必要がないときは、作動機
構３５はフリッパレバー３２を選択的に作動させず、加
工物ホルダー１０と非係合状態にしておく。

【００３７】言い換えると、加工物ホルダー１０の向き
を変えるべきときは、フリッパレバー３２は、接近して
くる加工物ホルダー１０のフリップギア１４の軌道上に
入った状態になることによってフリップギア１４と係合
する。一方、加工物ホルダー１０の向きを変える必要が
ないときは、フリッパレバー３２は、接近してくる加工
物ホルダー１０のフリップギア１４の軌道から外れた状
態になることによってフリップギア１４と係合しない。
図６（ａ）〜（ｃ）は、フリッパレバー３２が、接近し
てくるフリップギア１４の軌道の中へ入った状態になっ
たとき、係合したフリッパレバー３２によって、加工物
ホルダー１０がどのように非メッキポジションからメッ
キポジションへ向きを変えるのかを例示している。図６
（ａ）は、マスキングされた基板または加工物１１を保
持したマスクホルダー１２が、非メッキポジション、す
なわち初期の垂直直立位置にあることを示している。ア
センブリ６２が回転すると、図６（ａ）に示すように、
フリッパレバー３２のフリッパ係合部３４は、フリップ
ギア１４の下方に位置する係合部１６に設けられた係合
縁部１８に到達して接触する。アセンブリ６２が続けて
回転すると、図６Ｂに示すように、フリッパ係合部３４
は、フリップギア１４の係合部１６と接触し続け、マス
クホルダー１２は、回転して向きを変え始める。図６
（ｂ）は、フリップギア１４とマスクホルダー１２と
が、４５度回転したことを示す。このアセンブリ６２の
回転は、図６（ｃ）に示すように、フリッパ係合部３４
がフリップギア１４のフリッパローブ２０と接触するま
で続く。この時点で、フリップギア１４とマスクホルダ
ー１２とは、初期の垂直直立位置から９０度回転したこ
とになり、マスクホルダー１２は、水平なメッキポジシ
ョンにある。フリッパローブ２０は、これがフリッパ係
合部３４と接触しているとき、マスクホルダー１２が適
切に回転して所望のポジションになるように、フリップ
ギア１４を案内して位置決めする。アセンブリ６２の回
転は、図６（ｃ）に示すように、フリップギア１４がフ
リッパレバー３２から離れるまで続く。フリッパレバー
３２は、次に向きを変えられる加工物ホルダー１０のた
めに、加工物ホルダー１０の軌道の位置にある状態にす
ることができ、また、次の加工物ホルダー１０の向きを
変える必要がない場合には軌道から外れた状態にするこ
とができる。しかし、もし、マスクホルダー１２の向き
を変えて非メッキポジションに戻してやる必要があると
きには、フリッパレバー３２は、アセンブリ６２の次の
周回で、そのマスクホルダー１２に係合させる。

【００３８】アセンブリ６２が１回転することによっ
て、係合したフリッパレバー３２により、加工物ホルダ
ー１０を９０度回転できる。アセンブリ６２が２回転す
れば、係合したフリッパレバー３２により、加工物ホル
ダー１０を１８０度回転できる。アセンブリ６２が３回
転すれば、係合したフリッパレバー３２により加工物ホ
ルダー１０を２７０度回転できる。アセンブリ６２が４
回転すれば、係合したフリッパレバー３２により、加工
物ホルダー１０を３６０度回転できる。フリッパレバー
３２は、アセンブリ６２の所望の回転の間、加工物ホル
ダー１０と係合状態または非係合状態になるよう、制御
とプログラムの少なくとも１方が行われる。このような
フリッパレバー３２の制御により、マスキングされた基
板または加工物１１を保持するマスクホルダー１２を含
む加工物ホルダー１０が所望の回数（すなわち所望の回
転）個別かつ選択的に向きを変えることが可能となる。
これにより、アセンブリ６２の適当な回転の間、いくつ
かのマスクホルダー１２は、メッキポジションに向きを
変えることができ、他のマスクホルダー１２は、非メッ
キポジションに向きを変えることができる。さらに、フ
リッパレバー３２の制御により、加工物ホルダー１０
を、必要なときまたは所望のときに向きを変えることま
たは回転させることが可能になる。したがって、ベース
プレータ１は、マスキングされた基板または加工物１１
にメッキすべき蒸着材の量にもよるが、アセンブリ６２
の所定の回転の間、メッキする必要のあるマスキングさ
れた基板または加工物１１を有する加工物ホルダー１０
を選択的にメッキポジションへ向きを変えることがで
き、また、これと同じアセンブリ６２の回転の間、メッ
キする必要のないマスキングされた基板または加工物１
１を有する加工物ホルダー１０は、非メッキポジション
にすることができる。ベースプレータ１は、アセンブリ
６２の適当な回転数の間、所定の加工物ホルダー１０を
いつメッキポジションにすべきか、そして、いつ非メッ
キポジションにすべきかを決定するために、予めプログ
ラミングされた制御器またはコンピュータなどを備える
こともできる。ベースプレータ１は、所定の加工物ホル
ダー１０がフリッパレバー３２に接近中であるときにフ
リッパレバー３２の作動と非作動を決定し、タイミング
調整するための部材、装置、アセンブリなどを有してい
る。

【００３９】図７及び８は、アセンブリ６２に連結され
た水晶モニター２６を示す。この水晶モニター２６は、
回転駆動装置２７の回転リング２８に取り付けられて連
結される。水晶モニター２６は、ポゴ端子６４を介し
て、回転コンデンサリング４０に電気的に連結される。
ポゴ端子６４は、水晶モニター２６に接続され、回転リ
ング２８と駆動ギア３６とに貫通する開口に挿入され
る。ポゴ端子６４は、回転コンデンサリング４０に連結
された端子リード線６６を備えている。アセンブリ６２
は、ローラサポートアセンブリー４６、４８に装着さ
れ、前述のように、ローラサポートアセンブリー４６、
４８によって支持される。アセンブリ６２は、駆動機構
４４の駆動ギア４５によって駆動されて回転するが、回
転コンデンサリング４０と静止コンデンサリング４２と
の間に静電容量のギャップ６８ができるように、静止コ
ンデンサリング４２の上方に位置決めされて回転する。
静止コンデンサリング４２は、制御回路５８に連結され
ている。したがって、水晶モニター２６は、回転リング
２８上にあって、回転することができる。これら回転リ
ング２８と静止コンデンサリング４２との静電容量的に
連結されたリングを用いることによって、独特の静電容
量的な連結装置が得られ、メッキ工程やベースプレータ
１の表面または部材などに悪影響を及ぼす可能性のある
障害物がほとんど無い開口を有する中央部６０を得るこ
とができる。

【００４０】水晶モニター２６は、加工物ホルダー１０
によって保持されたマスキングされた基板または加工物
１１上にメッキされている蒸着材のレベルを監視する。
水晶モニター２６は、できる限り正確な計測値を得るた
めに、加工物ホルダー１０と同じ回転面内に位置するよ
うに加工物ホルダー１０と同じ周縁部に取り付けられて
いる。計測値は、水晶モニター２６によって得られる。
水晶モニター２６に静電容量的に連結された制御回路５
８は、水晶モニター２６から制御回路５８に伝達された
計測値に応じて、ベースプレータ１のメッキ量を制御す
る。また、制御回路５８は、必要に応じて、またはプロ
グラミングされた指令にしたがって、加工物ホルダー１
０の向きを変えるため、フリッパ制御機構３１の作動と
非作動とを制御する。

【００４１】以上、本発明の好ましい一実施形態につい
て図面を参照しながら説明した。特別の注釈を付けない
限り、クレームと本明細書に用いた語句は、当業者が普
通にまたは慣用的に用いる意味で用いている。出願時点
で出願人に分かっていた本発明の好ましい実施形態と最
良の態様についての上記記載は、説明の目的で提示した
ものである。本発明は、開示された通りの詳細な態様に
限定するつもりはなく、上記記載の考え方に沿って、多
くの修正や変更が可能である。本実施形態を選択して説
明したのは、本発明の原理及びその実際の適用を説明す
るためであり、当業者が様々な実施形態と様々な変更に
より、本発明の最良の実施が行えるようにするためであ
る。したがって、本発明は、本明細書において示した実
施形態に限定されるものではない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用してなるベースプレータまたは真
空蒸着装置の一部を破断して示した斜視図である。

【図２】選択的に回転可能な加工物ホルダーの斜視図で
ある。

【図３】 図２に示した加工物ホルダーの分解組立図で
ある。

【図４】加工物ホルダー用のフリップギアの斜視図であ
る。

【図５】本発明を適用してなるのベースプレータまたは
真空蒸着装置の一実施形態の分解組立図である

【図６】（ａ）は、作動したフリッパレバーによって、
非メッキポジションからメッキポジションまで回転する
加工物ホルダーの動作の初期状態を示す斜視図、（ｂ）
は、作動したフリッパレバーによって、非メッキポジシ
ョンからメッキポジションまで回転する加工物ホルダー
の動作の回転している状態を示す斜視図、（ｃ）は、作
動したフリッパレバーによって、非メッキポジションか
らメッキポジションまで回転する加工物ホルダーの動作
の回転終了状態を示す斜視図である。

【図７】静止リングに取り付けられる回転駆動装置の斜
視図である。

【図８】回転駆動装置の一部を破断して示した側面図で
ある。

【符号の説明】

１ ベースプレータまたは真空蒸着装置 １０ 加工物ホルダー １１ マスクされた基板または加工物 １４ フリップギア ２６ 水晶モニター ２７ 回転駆動装置 ４０ 回転コンデンサリング ４２ 静止コンデンサリング ５２ 真空蒸着チャンバ ５６ メッキ装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジェームス アール．フィッツシモンズ アメリカ合衆国，85331 アリゾナ州，ケ ーブ クリーク，ノース シックスティー エイトス ストリート 31125

Claims (36)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マスクホルダーとフリップギアとを備え
   てなるベースプレータまたは真空蒸着装置用の選択的に
   回転可能な加工物ホルダーであり、 前記マスクホルダーは、少なくとも１つのマスクまたは
   加工物を保持可能であり、かつ前記ベースプレータまた
   は真空蒸着装置の回転可能な従動板に回転可能に連結さ
   れ、少なくとも１つのメッキポジションと少なくとも１
   つの非メッキポジションとの間で選択的に回転可能であ
   り、 前記フリップギアは、少なくとも１つの係合部を有し、
   かつ前記マスクホルダーに連結されており、前記少なく
   とも１つの係合部は、前記マスクホルダーの向きを変え
   るために、フリッパレバーを受容して該フリッパレバー
   と選択的に係合可能であることを特徴とする加工物ホル
   ダー。
2. 【請求項２】 前記従動板に回転可能に連結された回転
   軸を備えてなり、該回転軸は、一端が前記フリップギア
   に連結され、他端が前記マスクホルダーに連結されてい
   ることを特徴とする請求項１に記載の加工物ホルダー。
3. 【請求項３】 前記少なくとも１つの係合部の係合縁部
   は、前記フリップギアを回転させるための前記フリッパ
   レバーと接触可能であることを特徴とする請求項１に記
   載の加工物ホルダー。
4. 【請求項４】 前記係合縁部は、前記マスクホルダーが
   適切に回転して所望のポジションになるように、前記フ
   リップギアを案内して位置決めするための１つのフリッ
   パローブを有することを特徴とする請求項４に記載の加
   工物ホルダー。
5. 【請求項５】 前記少なくとも１つの係合部が、４つの
   係合部であることを特徴とする請求項１に記載の加工物
   ホルダー。
6. 【請求項６】 前記４つの係合部が、ほぼ十字形を形成
   するように間隔をおいて配設されていることを特徴とす
   る請求項５に記載の加工物ホルダー。
7. 【請求項７】 前記４つの係合部が間隔をおいて配設さ
   れ、前記回転可能なマスクホルダーが、ほぼ９０度回転
   し、該ほぼ９０度の回転が、前記マスクホルダーを前記
   少なくとも１つのメッキポジションまたは前記少なくと
   も１つの非メッキポジションに位置決めすることを特徴
   とする請求項５に記載の加工物ホルダー。
8. 【請求項８】 前記従動板に取り付け可能なマスクホル
   ダーブラケットを備え、該マスクホルダーブラケットに
   は、前記マスクホルダーと前記フリップギアとが回転可
   能に連結されていることを特徴とする請求項１に記載の
   加工物ホルダー。
9. 【請求項９】 回転電子装置をベースプレータまたは真
   空蒸着装置の制御回路に連結するための静電容量的な連
   結装置であり、 中央部に開口を有し、前記回転電子装置に連結可能な回
   転コンデンサリングと、 中央部に開口を有し、前記制御回路に連結可能な静止コ
   ンデンサリングとを備えてなり、 前記回転コンデンサリングは、前記静止コンデンサリン
   グに対して位置決めされて回転し、前記回転コンデンサ
   リングと前記静止コンデンサリングとの間には静電容量
   的に連結されているギャップを有し、前記回転電子装置
   は、回転し、かつ前記制御回路に静電容量的に連結され
   ていることを特徴とする静電容量的な連結装置。
10. 【請求項１０】 前記回転コンデンサリングを回転させ
    るために、前記回転コンデンサリングに駆動力を伝達可
    能に連結されている少なくとも１つの回転駆動機構を備
    えてなることを特徴とする請求項９に記載の静電容量的
    な連結装置。
11. 【請求項１１】 前記少なくとも１つの回転駆動機構
    が、前記回転コンデンサリングの周縁部で駆動力を伝達
    可能に前記回転コンデンサリングと連結されていること
    を特徴とする請求項１０に記載の静電容量的な連結装
    置。
12. 【請求項１２】 マスキングされた基板または加工物を
    メッキするための真空蒸着チャンバと、 該真空蒸着チャンバに連結された蓋と、 前記マスキングされた基板または加工物に材料をメッキ
    または蒸着可能に前記真空蒸着チャンバ内に配設された
    メッキ装置と、 回転駆動機構に連結された回転駆動装置と、 少なくとも１つの選択的に回転可能な加工物ホルダーを
    含み、前記回転駆動装置に連結されている少なくとも１
    つの加工物ホルダーと、 前記少なくとも１つの選択的に回転可能な加工物ホルダ
    ーと選択的に連結可能で、前記少なくとも１つの選択的
    に回転可能な加工物ホルダーを、少なくとも１つのメッ
    キポジションと少なくとも１つの非メッキポジションと
    の間で選択的に回転させる少なくとも１つのフリッパ制
    御機構とを備えてなるベースプレータまたは真空蒸着装
    置。
13. 【請求項１３】 前記回転駆動装置は、回転可能な従動
    板を含み、前記少なくとも１つの選択的に回転可能な加
    工物ホルダーが前記従動板に回転可能に連結され、 前記少なくとも１つの選択的に回転可能な加工物ホルダ
    ーは、回転可能なマスクホルダーと、少なくとも１つの
    係合部とを含み、 前記マスクホルダーは、少なくとも１つのマスクまたは
    加工物を保持し、前記少なくとも１つのメッキポジショ
    ンと前記少なくとも１つの非メッキポジションとの間で
    選択的に回転可能であり、前記係合部は、前記マスクホ
    ルダーに連結され、前記マスクホルダーの向きを変える
    ためのフリッパ制御機構を受容して該フリッパ制御機構
    に係合可能であることを特徴とする請求項１２に記載の
    ベースプレータまたは真空蒸着装置。
14. 【請求項１４】 前記少なくとも１つの選択的に回転可
    能な加工物ホルダーは、前記従動板に回転可能に連結さ
    れた回転軸を含み、該回転軸は、一端が前記フリップギ
    アに連結され、他端が前記回転可能なマスクホルダーに
    連結されていることを特徴とする請求項１３に記載のベ
    ースプレータまたは真空蒸着装置。
15. 【請求項１５】 前記少なくとも１つの係合部の係合縁
    部が、前記フリップギアを回転させるための前記フリッ
    パ制御機構と係合可能であることを特徴とする請求項１
    ３に記載のベースプレータまたは真空蒸着装置。
16. 【請求項１６】 前記係合縁部は、前記マスクホルダー
    が適切に回転して所望のポジションになるように、前記
    フリップギアを案内して位置決めするための１つのフリ
    ッパローブを有することを特徴とする請求項１５に記載
    のベースプレータまたは真空蒸着装置。
17. 【請求項１７】 前記少なくとも１つの係合部が、４つ
    の係合部であることを特徴とする請求項１３に記載のベ
    ースプレータまたは真空蒸着装置。
18. 【請求項１８】 前記４つの係合部が、ほぼ十字形を形
    成するように間隔をおいて配置されていることを特徴と
    する請求項１７に記載のベースプレータまたは真空蒸着
    装置。
19. 【請求項１９】 前記４つの係合部が間隔をおいて配置
    され、前記マスクホルダーがほぼ９０度刻みで回転可能
    であり、該ほぼ９０度刻みの回転により、前記マスクホ
    ルダーが前記少なくとも１つのメッキポジションと前記
    少なくとも１つの非メッキポジションとに位置決めされ
    るようにしたことを特徴とする請求項１７に記載のベー
    スプレータまたは真空蒸着装置。
20. 【請求項２０】 前記従動板に取り付けられたマスクホ
    ルダーブラケットを備えてなり、前記マスクホルダーと
    前記フリップギアとが、前記マスクホルダーブラケット
    に回転可能に連結されていることを特徴とする請求項１
    ３に記載のベースプレータまたは真空蒸着装置。
21. 【請求項２１】 前記フリッパ制御機構が、選択的に制
    御される作動機構と、 該作動機構に連結されたフリッパレバーとを含み、 前記作動機構が前記フリッパレバーを選択的に作動させ
    たとき、前記少なくとも１つの選択的に回転可能な加工
    物ホルダーの向きが変わり、前記作動機構が前記フリッ
    パレバーを選択的に作動させないとき、前記少なくとも
    １つの選択的に回転可能な加工物ホルダーと前記フリッ
    パレバーが係合しないことを特徴とする請求項１２に記
    載のベースプレータまたは真空蒸着装置。
22. 【請求項２２】 前記少なくとも１つの選択的に回転可
    能な加工物ホルダーが、複数の選択的に回転可能な加工
    物ホルダーであり、前記フリッパ制御機構を選択的に制
    御することにより、前記複数の選択的に回転可能な加工
    物ホルダーの各々が、個別かつ選択的に所定のポジショ
    ンに制御されることを特徴とする請求項２１に記載のベ
    ースプレータまたは真空蒸着装置。
23. 【請求項２３】前記回転駆動装置に結合された回転電子
    装置と、 該回転電子装置に静電容量的に連結され、前記ベースプ
    レータまたは真空蒸着装置の動作を制御する制御回路と
    を備えてなることを特徴とする請求項１２に記載のベー
    スプレータまたは真空蒸着装置。
24. 【請求項２４】 前記回転電子装置を前記制御回路に連
    結するための静電容量的な連結装置を備えてなることを
    特徴とする請求項２３に記載のベースプレータまたは真
    空蒸着装置。
25. 【請求項２５】 前記静電容量的な連結装置は、前記回
    転電子装置に連結可能な中央部に開口を有する回転コン
    デンサリングと、前記制御回路に連結可能な中央部に開
    口を有する静止コンデンサリングとを含み、 前記回転コンデンサリングは、前記静止コンデンサリン
    グに対して位置決めされて回転し、前記回転コンデンサ
    リングと前記静止コンデンサリングとの間には静電容量
    的に連結されているギャップが存在しており、前記回転
    電子装置は、回転可能であり、かつ前記制御回路に静電
    容量的に連結可能であることを特徴とする請求項２３に
    記載のベースプレータまたは真空蒸着装置。
26. 【請求項２６】 前記回転駆動機構は、前記回転コンデ
    ンサリングを回転させるために、該回転コンデンサリン
    グに駆動力を伝達可能に連結されていることを特徴とす
    る請求項２５に記載のベースプレータまたは真空蒸着装
    置。
27. 【請求項２７】 前記回転駆動機構が、前記回転コンデ
    ンサリングの周縁部に駆動力を伝達可能に連結されてい
    ることを特徴とする請求項２５に記載のベースプレータ
    または真空蒸着装置。
28. 【請求項２８】 前記回転駆動機構が、前記回転駆動装
    置の周縁部に駆動力を伝達可能に連結されることを特徴
    とする請求項１２に記載のベースプレータまたは真空蒸
    着装置。
29. 【請求項２９】 マスキングされた基板をメッキするた
    めの真空蒸着チャンバと、 該真空蒸着チャンバに連結された蓋と、 前記基板または加工物に材料をメッキまたは蒸着するた
    めに、前記真空蒸着チャンバ内に配設されたメッキ装置
    と、 回転駆動機構に連結された回転駆動装置と、 該回転駆動装置に連結された少なくとも１つの加工物ホ
    ルダーと、 前記回転駆動装置に連結された回転電子装置と、 前記ベースプレータまたは真空蒸着装置の動作を制御す
    る制御回路と、 前記回転電子装置を前記制御回路に連結するための静電
    容量的な連結装置とを備えてなり、 該静電容量的な連結装置は、中央部に開口を有し、前記
    回転電子装置に連結可能な回転コンデンサリングと、中
    央部に開口を有し、前記制御回路に連結可能な静止コン
    デンサリングとを含み、 前記回転コンデンサリングは、前記静止コンデンサリン
    グに対して位置決めされて回転し、前記回転コンデンサ
    リングと前記静止コンデンサリングとの間には静電容量
    的に連結されたギャップが存在しており、前記回転電子
    装置は、回転可能であり、かつ前記制御回路に静電容量
    的に連結可能であるベースプレータまたは真空蒸着装
    置。
30. 【請求項３０】 前記回転駆動機構は、前記回転コンデ
    ンサリングを回転させるために、前記回転コンデンサリ
    ングに駆動力を伝達可能に連結されていることを特徴と
    する請求項２９に記載のベースプレータまたは真空蒸着
    装置。
31. 【請求項３１】 前記回転駆動機構は、前記回転コンデ
    ンサリングの周縁部に駆動力を伝達可能に連結されるこ
    とを特徴とする請求項２９に記載のベースプレータまた
    は真空蒸着装置。
32. 【請求項３２】 マスキングされた基板または加工物を
    メッキするための真空蒸着チャンバと、該真空蒸着チャ
    ンバに連結された蓋と、前記マスキングされた基板また
    は加工物に材料をメッキまたは蒸着することができるよ
    う前記真空蒸着チャンバ内に配設されたメッキ装置と、
    回転駆動機構に結合された回転駆動装置と、該回転駆動
    装置に連結され、少なくとも１つの選択的に回転可能な
    加工物ホルダーを含む加工物ホルダーと、前記少なくと
    も１つの選択的に回転可能な加工物ホルダーを選択的に
    回転させるために、前記少なくとも１つの選択的に回転
    可能な加工物ホルダーに連結された少なくとも１つのフ
    リップギアと、該フリップギアに選択的に係合できる少
    なくとも１つのフリッパ制御機構とを備えたベースプレ
    ータまたは真空蒸着装置を使用する方法であり、 前記マスキングされた基板または加工物を前記少なくと
    も１つの選択的に回転可能な加工物ホルダーに装着する
    ステップと、 前記回転駆動機構を用いて、前記回転駆動装置を回転さ
    せるステップと、 前記少なくとも１つの選択的に回転可能な加工物ホルダ
    ーを、少なくとも１つのメッキポジションと少なくとも
    １つの非メッキポジションとの間で選択的に回転させる
    ために、前記少なくとも１つのフリッパ制御機構を前記
    少なくとも１つのフリップギアに選択的に係合させるス
    テップと、 前記少なくとも１つの選択的に回転可能な加工物ホルダ
    ーに装着され、前記少なくとも１つのメッキポジション
    にある前記マスキングされた基板または加工物をメッキ
    するステップとを含むことを特徴とする方法。
33. 【請求項３３】 前記選択的に係合するステップが、 前記少なくとも１つのフリッパ制御機構を前記少なくと
    も１つのフリップギアに係合させて前記少なくとも１つ
    の選択的に回転可能な加工物ホルダーを所定の角度だけ
    回転させ、前記所定の角度の回転により、前記回転可能
    な加工物ホルダーを前記少なくとも１つのメッキポジシ
    ョンまたは前記少なくとも１つの非メッキポジションに
    位置決めするステップを含むことを特徴とする、請求項
    ３２に記載の方法。
34. 【請求項３４】 前記所定の角度が９０度であることを
    特徴とする請求項３３に記載の方法。
35. 【請求項３５】 回転電子装置を電子回路に結合するた
    めの静電容量的な連結装置を用いる方法であり、 前記静電容量的な連結装置に、中央部に開口を有する回
    転コンデンサリングと、中央部に開口を有する静止コン
    デンサリングとを設けるステップと、 前記回転電子装置を前記回転コンデンサリングに連結す
    るステップと、 前記電子回路を前記静止コンデンサリングに連結するス
    テップと、 前記前記回転コンデンサリングと前記静止コンデンサリ
    ングとの間には静電容量的に連結されたギャップが存在
    し、前記回転電子装置が回転し、かつ前記電子回路に静
    電容量的に連結するように、前記回転コンデンサリング
    を前記前記静止コンデンサリングに対して位置決めして
    回転するステップとを含むことを特徴とする方法。
36. 【請求項３６】 前記回転するステップが、前記回転コ
    ンデンサリングを周縁部で駆動して回転させるステップ
    をさらに含むことを特徴とする請求項３５に記載の方
    法。