JP2000237015A - 浴室用鏡 - Google Patents
浴室用鏡Info
- Publication number
- JP2000237015A JP2000237015A JP11041772A JP4177299A JP2000237015A JP 2000237015 A JP2000237015 A JP 2000237015A JP 11041772 A JP11041772 A JP 11041772A JP 4177299 A JP4177299 A JP 4177299A JP 2000237015 A JP2000237015 A JP 2000237015A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- grooves
- film
- water
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 38
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 5
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 abstract description 4
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 abstract description 4
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 abstract description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 abstract description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- -1 pentanole Chemical compound 0.000 description 39
- 239000010408 film Substances 0.000 description 37
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 22
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 22
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000003287 bathing Methods 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 1-monostearoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWGKJDSIEKMTRX-AAZCQSIUSA-N Sorbitan monooleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O NWGKJDSIEKMTRX-AAZCQSIUSA-N 0.000 description 2
- IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N Sorbitan monopalmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N 0.000 description 2
- HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N Sorbitan monostearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWZFANDGMFTDAV-BURFUSLBSA-N [(2r)-2-[(2r,3r,4s)-3,4-dihydroxyoxolan-2-yl]-2-hydroxyethyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O LWZFANDGMFTDAV-BURFUSLBSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229950006451 sorbitan laurate Drugs 0.000 description 2
- 235000011067 sorbitan monolaureate Nutrition 0.000 description 2
- 229950004959 sorbitan oleate Drugs 0.000 description 2
- 229950003429 sorbitan palmitate Drugs 0.000 description 2
- 229950011392 sorbitan stearate Drugs 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- CUNWUEBNSZSNRX-RKGWDQTMSA-N (2r,3r,4r,5s)-hexane-1,2,3,4,5,6-hexol;(z)-octadec-9-enoic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO.OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O CUNWUEBNSZSNRX-RKGWDQTMSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDOUZKKFHVEKRI-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-n-[(prop-2-enoylamino)methyl]propanamide Chemical compound BrCCC(=O)NCNC(=O)C=C CDOUZKKFHVEKRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000972756 Boronia Species 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M Didecyldimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCC RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Natural products NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- 241000588731 Hafnia Species 0.000 description 1
- AOMUHOFOVNGZAN-UHFFFAOYSA-N N,N-bis(2-hydroxyethyl)dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)N(CCO)CCO AOMUHOFOVNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BACYUWVYYTXETD-UHFFFAOYSA-N N-Lauroylsarcosine Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)N(C)CC(O)=O BACYUWVYYTXETD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOYAVUHUXAUPX-KHPPLWFESA-N Oleoyl sarcosine Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)N(C)CC(O)=O DIOYAVUHUXAUPX-KHPPLWFESA-N 0.000 description 1
- 229920006197 POE laurate Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- VBIIFPGSPJYLRR-UHFFFAOYSA-M Stearyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VBIIFPGSPJYLRR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIQPQYFSSSHQBP-UHFFFAOYSA-N acetyl 2,3-dihydroxypropanoate Chemical compound CC(=O)OC(=O)C(O)CO ZIQPQYFSSSHQBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005667 alkyl propylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- UYJXRRSPUVSSMN-UHFFFAOYSA-P ammonium sulfide Chemical compound [NH4+].[NH4+].[S-2] UYJXRRSPUVSSMN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- YSJGOMATDFSEED-UHFFFAOYSA-M behentrimonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C YSJGOMATDFSEED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OCBHHZMJRVXXQK-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-tetradecylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 OCBHHZMJRVXXQK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(III) oxide Inorganic materials O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 229960004670 didecyldimethylammonium chloride Drugs 0.000 description 1
- UAKOZKUVZRMOFN-JDVCJPALSA-M dimethyl-bis[(z)-octadec-9-enyl]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC UAKOZKUVZRMOFN-JDVCJPALSA-M 0.000 description 1
- 235000019329 dioctyl sodium sulphosuccinate Nutrition 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079886 disodium lauryl sulfosuccinate Drugs 0.000 description 1
- KHIQYZGEUSTKSB-UHFFFAOYSA-L disodium;4-dodecoxy-4-oxo-3-sulfobutanoate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(S(O)(=O)=O)CC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(S(O)(=O)=O)CC([O-])=O KHIQYZGEUSTKSB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000010893 electron trap Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229960005191 ferric oxide Drugs 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229940031957 lauric acid diethanolamide Drugs 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 230000003020 moisturizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- UPHWVVKYDQHTCF-UHFFFAOYSA-N octadecylazanium;acetate Chemical compound CC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCN UPHWVVKYDQHTCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 229940049964 oleate Drugs 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- BOWVQLFMWHZBEF-KTKRTIGZSA-N oleoyl ethanolamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)NCCO BOWVQLFMWHZBEF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007540 photo-reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000013615 primer Substances 0.000 description 1
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 108700004121 sarkosyl Proteins 0.000 description 1
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 1
- 239000002453 shampoo Substances 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229960005078 sorbitan sesquioleate Drugs 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- SFVFIFLLYFPGHH-UHFFFAOYSA-M stearalkonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SFVFIFLLYFPGHH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 229940104261 taurate Drugs 0.000 description 1
- XOAAWQZATWQOTB-UHFFFAOYSA-N taurine Chemical compound NCCS(O)(=O)=O XOAAWQZATWQOTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDWRUZRMNKZIAJ-UHFFFAOYSA-N tetradecylazanium;acetate Chemical compound CC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCN VDWRUZRMNKZIAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Mirrors, Picture Frames, Photograph Stands, And Related Fastening Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 浴室、シャワールームなど汚れ負荷量が大き
い環境下において、水膜を保持することによって防曇性
を維持しながら、鮮明な反射像を得ることができ、外観
上も普通の鏡と変わらず、乾いた状態での使用も可能な
鏡を提供する。 【解決手段】 ガラス本体の表面に縦方向に微細な外観
上透明な溝を設けたことを特徴とする。
い環境下において、水膜を保持することによって防曇性
を維持しながら、鮮明な反射像を得ることができ、外観
上も普通の鏡と変わらず、乾いた状態での使用も可能な
鏡を提供する。 【解決手段】 ガラス本体の表面に縦方向に微細な外観
上透明な溝を設けたことを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、浴室、シャワール
ームなど汚染負荷量の大きい環境下において好適に使用
できる鏡に関する。
ームなど汚染負荷量の大きい環境下において好適に使用
できる鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】特公平7−102168に開示されてい
るようにガラス本体の表面に横方向に無数のキズを入れ
て表面に平行な凹凸に形成し、該凹部の先端には極めて
細かいスリットを設けた鏡が提案されている。
るようにガラス本体の表面に横方向に無数のキズを入れ
て表面に平行な凹凸に形成し、該凹部の先端には極めて
細かいスリットを設けた鏡が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記方法によれば、確
かに鏡が清浄な状態である間は、キズの方向が横方向で
あるために鏡の両端まで水が十分に拡がり、水膜を保持
することによって鏡表面の曇りを防ぐことができる。し
かしながら、ひとたび何らかの汚れが付着し、少しでも
水をはじくようになると、今度はキズの方向が横方向で
あるがために、水はその表面張力によって玉になろうと
して鏡の端部から中央へと寄っていき、水膜を保持する
ことができなくなり、曇ってしまうのである。浴室は、
水道水中の金属イオンに起因する汚れ、石鹸かすや皮脂
などの他、洗髪・洗体時に使用する洗浄剤、特にリンス
中の保湿成分でもあるシリコーン、さらさら感を得るた
めのカチオン等、鏡表面が水をはじきやすくなる汚染物
が非常に多い。また、汚染物が多い上に、それらは洗髪
・洗体時に直接飛散したり、シャワーによって間接的に
飛散したり、鏡に付着しやすいのである。このように汚
染負荷量が大きい環境下において、横方向にキズを設け
た鏡が防曇性を保持することは、ほとんど不可能であっ
た。また、すりガラスのように目視にて確認できる程大
きな凹凸を設けた場合、水をかけて鏡表面に水膜を形成
してもその水膜は厚くなり、反射像はぼやけてしまう。
キズが横方向に設けてあるため、なおさら水は下にも落
ちず、横方向にも拡がらず、厚い水膜を形成することに
なるのである。このように反射像がぼやけてしまうた
め、髭剃りなど鮮明な反射像を必要とする行為を行うに
は非常に使いにくいものであった。また、水をかけなけ
れば鏡は使えず、鏡が乾いた状態での使用はできないと
いう不都合もあった。本発明では、以上の事情に鑑み、
汚れ負荷量が大きい環境下において、水膜を保持するこ
とによって防曇性を維持しながら、鮮明な反射像を得る
ことができ、外観上も普通の鏡と変わらず、乾いた状態
での使用も可能な鏡を提供することを目的とする。
かに鏡が清浄な状態である間は、キズの方向が横方向で
あるために鏡の両端まで水が十分に拡がり、水膜を保持
することによって鏡表面の曇りを防ぐことができる。し
かしながら、ひとたび何らかの汚れが付着し、少しでも
水をはじくようになると、今度はキズの方向が横方向で
あるがために、水はその表面張力によって玉になろうと
して鏡の端部から中央へと寄っていき、水膜を保持する
ことができなくなり、曇ってしまうのである。浴室は、
水道水中の金属イオンに起因する汚れ、石鹸かすや皮脂
などの他、洗髪・洗体時に使用する洗浄剤、特にリンス
中の保湿成分でもあるシリコーン、さらさら感を得るた
めのカチオン等、鏡表面が水をはじきやすくなる汚染物
が非常に多い。また、汚染物が多い上に、それらは洗髪
・洗体時に直接飛散したり、シャワーによって間接的に
飛散したり、鏡に付着しやすいのである。このように汚
染負荷量が大きい環境下において、横方向にキズを設け
た鏡が防曇性を保持することは、ほとんど不可能であっ
た。また、すりガラスのように目視にて確認できる程大
きな凹凸を設けた場合、水をかけて鏡表面に水膜を形成
してもその水膜は厚くなり、反射像はぼやけてしまう。
キズが横方向に設けてあるため、なおさら水は下にも落
ちず、横方向にも拡がらず、厚い水膜を形成することに
なるのである。このように反射像がぼやけてしまうた
め、髭剃りなど鮮明な反射像を必要とする行為を行うに
は非常に使いにくいものであった。また、水をかけなけ
れば鏡は使えず、鏡が乾いた状態での使用はできないと
いう不都合もあった。本発明では、以上の事情に鑑み、
汚れ負荷量が大きい環境下において、水膜を保持するこ
とによって防曇性を維持しながら、鮮明な反射像を得る
ことができ、外観上も普通の鏡と変わらず、乾いた状態
での使用も可能な鏡を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明では、ガラス本体
の表面に縦方向に微細な外観上透明な溝を設けた鏡を提
供する。溝を縦方向に設けることで、シャワーなどで水
をかけると水が鏡全体に均一に拡がるため、水膜は良好
な状態で保持され、防曇性を維持することができる。微
細で外観上透明な溝であるため、鮮明な反射像を得るこ
とができ、外観上も普通の鏡と変わらず、乾いた状態で
の使用も可能となる。
の表面に縦方向に微細な外観上透明な溝を設けた鏡を提
供する。溝を縦方向に設けることで、シャワーなどで水
をかけると水が鏡全体に均一に拡がるため、水膜は良好
な状態で保持され、防曇性を維持することができる。微
細で外観上透明な溝であるため、鮮明な反射像を得るこ
とができ、外観上も普通の鏡と変わらず、乾いた状態で
の使用も可能となる。
【0005】本発明の好ましい態様においては、溝の平
均深さ、幅は200nm以下とする。200nm以下、
つまり可視光の波長の半分以下とすることにより、水を
かけた時に形成される水膜の厚みが適切になり、より鮮
明な反射像を得ることができる。また、その溝は目視で
は認識できないものとなり、確実に外観上透明な溝とす
ることができる。
均深さ、幅は200nm以下とする。200nm以下、
つまり可視光の波長の半分以下とすることにより、水を
かけた時に形成される水膜の厚みが適切になり、より鮮
明な反射像を得ることができる。また、その溝は目視で
は認識できないものとなり、確実に外観上透明な溝とす
ることができる。
【0006】本発明の好ましい態様においては、鏡下端
角部を切り落とし、角を無くすようにする。水がかかり
にくく、水をはじきやすい鏡下端角部をあらかじめ無く
しておくことで鏡の撥水化を進行させない。また、鏡の
意匠性も向上する。
角部を切り落とし、角を無くすようにする。水がかかり
にくく、水をはじきやすい鏡下端角部をあらかじめ無く
しておくことで鏡の撥水化を進行させない。また、鏡の
意匠性も向上する。
【0007】本発明の好ましい態様においては、鏡固定
具は鏡の表面に出ていないようにする。固定具が鏡表面
から出ているとその部分に水や汚れがたまりやすく、水
をはじくようになりやすいからである。少しでも水をは
じくようになったところがあるとその部分を基点にして
徐々にその周囲にまで撥水化が及んでいくのである。固
定具を表に出さないようにすることにより、鏡全体の意
匠性が向上し、高級感のある浴室に設置してもその意匠
を損ねることがない。
具は鏡の表面に出ていないようにする。固定具が鏡表面
から出ているとその部分に水や汚れがたまりやすく、水
をはじくようになりやすいからである。少しでも水をは
じくようになったところがあるとその部分を基点にして
徐々にその周囲にまで撥水化が及んでいくのである。固
定具を表に出さないようにすることにより、鏡全体の意
匠性が向上し、高級感のある浴室に設置してもその意匠
を損ねることがない。
【0008】
【実施の形態】鏡表面に溝を付ける方法は、公知の方法
から選択すればよく、機械的に研磨して溝をつける方
法、溝状に被膜を形成する方法、化学的にエッチングし
て溝を設ける方法、溝をつけた型によって成形する方法
などいずれでも良い。また、あらかじめ溝をつけたガラ
スの裏面に反射膜を設けて製鏡してもよく、裏面に反射
膜を設けた通常の鏡、表面に反射膜を設けた鏡など鏡と
して完成したものの表面に溝をつけても良い。機械的に
研磨して溝をつける方法としては、金属酸化物粒子、研
磨紙、研磨剤、ナイロン不織布、たわしなどを用いるこ
とができる。溝状に被膜を形成する方法としては、下記
する金属酸化物のゾルをバーコーター、刷毛、スポン
ジ、布、紙などを使用して、一定方向に塗布することで
可能である。
から選択すればよく、機械的に研磨して溝をつける方
法、溝状に被膜を形成する方法、化学的にエッチングし
て溝を設ける方法、溝をつけた型によって成形する方法
などいずれでも良い。また、あらかじめ溝をつけたガラ
スの裏面に反射膜を設けて製鏡してもよく、裏面に反射
膜を設けた通常の鏡、表面に反射膜を設けた鏡など鏡と
して完成したものの表面に溝をつけても良い。機械的に
研磨して溝をつける方法としては、金属酸化物粒子、研
磨紙、研磨剤、ナイロン不織布、たわしなどを用いるこ
とができる。溝状に被膜を形成する方法としては、下記
する金属酸化物のゾルをバーコーター、刷毛、スポン
ジ、布、紙などを使用して、一定方向に塗布することで
可能である。
【0009】表面に親水性を有する被膜を形成した鏡を
研磨して溝をつけても良い。親水性を有する被膜にさら
に溝を設けることで、より良好に水膜が形成されやすく
なる。ここでいう親水性を有する被膜とは、ポリアミ
ド、ポリアクリル酸などに代表される親水性高分子であ
る。
研磨して溝をつけても良い。親水性を有する被膜にさら
に溝を設けることで、より良好に水膜が形成されやすく
なる。ここでいう親水性を有する被膜とは、ポリアミ
ド、ポリアクリル酸などに代表される親水性高分子であ
る。
【0010】表面に微細な凹凸を有す鏡を研磨して溝を
つけても良い。微細な凹凸表面そのものが親水性を有す
ため、それにさらに溝を設けることで、水膜はより保持
されやすくなる。水膜保持によって、防曇性能の他、自
己清浄化性能、帯電防止(ほこり付着防止)性能も発揮
され、非常に好都合である。鏡表面に微細な凹凸を形成
する方法としては、限定されるものではないが、サンド
ブラスト、エッチングなどによって、鏡表面を研磨ある
いは侵食させて凹凸にする方法、ゾル塗布法、めっき
法、CVD法、スパッタリング、真空蒸着法などよっ
て、鏡表面上に凹凸を有する被膜を形成する方法、成形
型の凹凸を転写する方法などがある。
つけても良い。微細な凹凸表面そのものが親水性を有す
ため、それにさらに溝を設けることで、水膜はより保持
されやすくなる。水膜保持によって、防曇性能の他、自
己清浄化性能、帯電防止(ほこり付着防止)性能も発揮
され、非常に好都合である。鏡表面に微細な凹凸を形成
する方法としては、限定されるものではないが、サンド
ブラスト、エッチングなどによって、鏡表面を研磨ある
いは侵食させて凹凸にする方法、ゾル塗布法、めっき
法、CVD法、スパッタリング、真空蒸着法などよっ
て、鏡表面上に凹凸を有する被膜を形成する方法、成形
型の凹凸を転写する方法などがある。
【0011】鏡表面を直接凹凸にする方法としては、ケ
ミカルエッチングが好ましい。ケミカルエッチングと
は、基材を例えば酸、アルカリ、過酸化物の溶液に浸漬
あるいはその溶液を加温した際に発生する蒸気に接触さ
せ、その化学反応によって表面処理を行う方法である。
使用する溶液としては、塩酸、硫酸、硫化アンモニウ
ム、フッ酸、フッ化ホウ素、ケイフッ化水素酸等の水溶
液が挙げられる。
ミカルエッチングが好ましい。ケミカルエッチングと
は、基材を例えば酸、アルカリ、過酸化物の溶液に浸漬
あるいはその溶液を加温した際に発生する蒸気に接触さ
せ、その化学反応によって表面処理を行う方法である。
使用する溶液としては、塩酸、硫酸、硫化アンモニウ
ム、フッ酸、フッ化ホウ素、ケイフッ化水素酸等の水溶
液が挙げられる。
【0012】鏡表面上に凹凸を有する被膜を形成する方
法としては、金属酸化物の1種以上を含有する層を基材
表面に被覆形成することが好ましい。これによれば、高
度な親水性を呈する所望の凹凸を容易に形成することが
できる。前記酸化物を被覆形成する方法としては、ゾル
塗布法、真空蒸着、スパッタリング、CVD法、めっき
法など公知の方法から選択してもよく、また、それ以外
でも良い。ゾル塗布法によれば、基材の大きさ、形状に
よって、設備上の制約をうけることがないので、特別の
設備を要せず、簡便に実施することができる。CVD
法、スパッタリング、真空蒸着によれば、大きな基材へ
の適用は設備上制約を受けるが、均一で安定した薄膜を
形成することが可能となる。これらの方法において処理
温度を高くすることにより、耐アルカリ性、耐温水性な
どの耐久性をより向上させることが可能である。
法としては、金属酸化物の1種以上を含有する層を基材
表面に被覆形成することが好ましい。これによれば、高
度な親水性を呈する所望の凹凸を容易に形成することが
できる。前記酸化物を被覆形成する方法としては、ゾル
塗布法、真空蒸着、スパッタリング、CVD法、めっき
法など公知の方法から選択してもよく、また、それ以外
でも良い。ゾル塗布法によれば、基材の大きさ、形状に
よって、設備上の制約をうけることがないので、特別の
設備を要せず、簡便に実施することができる。CVD
法、スパッタリング、真空蒸着によれば、大きな基材へ
の適用は設備上制約を受けるが、均一で安定した薄膜を
形成することが可能となる。これらの方法において処理
温度を高くすることにより、耐アルカリ性、耐温水性な
どの耐久性をより向上させることが可能である。
【0013】ここで、金属酸化物としては、シリカ、ア
ルミナ、ジルコニア、セリア、イットリア、ボロニア、
マグネシア、カルシア、フェライト、ハフニア、酸化チ
タン、酸化亜鉛、三酸化タングステン、酸化第二鉄、酸
化第一銅、酸化第二銅、三酸化二ビスマス、酸化スズ、
酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化スト
ロンチウム、酸化バナジウム等の単一酸化物や、チタン
酸バリウム、ケイ酸カルシウム、水ガラス、アルミノケ
イ酸塩、リン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、
チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシ
ウム、アルミノシリケート等の複合酸化物が好適に利用
できる。中でも、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタ
ニア、酸化スズ、酸化亜鉛のいずれかを使用することが
好ましい。小さく細かい凹凸を形成するにはシリカ、ア
ルミナがよく、大きな凹凸を形成するにはジルコニア、
チタニア、酸化スズ、酸化亜鉛が好ましい。ゾル塗布法
においては、粒子径、後述するゾルの性状に関して様々
なものが入手可能なシリカが好ましい。シリカは最も安
価であり、実用性が非常に高い。
ルミナ、ジルコニア、セリア、イットリア、ボロニア、
マグネシア、カルシア、フェライト、ハフニア、酸化チ
タン、酸化亜鉛、三酸化タングステン、酸化第二鉄、酸
化第一銅、酸化第二銅、三酸化二ビスマス、酸化スズ、
酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化スト
ロンチウム、酸化バナジウム等の単一酸化物や、チタン
酸バリウム、ケイ酸カルシウム、水ガラス、アルミノケ
イ酸塩、リン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、
チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシ
ウム、アルミノシリケート等の複合酸化物が好適に利用
できる。中でも、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタ
ニア、酸化スズ、酸化亜鉛のいずれかを使用することが
好ましい。小さく細かい凹凸を形成するにはシリカ、ア
ルミナがよく、大きな凹凸を形成するにはジルコニア、
チタニア、酸化スズ、酸化亜鉛が好ましい。ゾル塗布法
においては、粒子径、後述するゾルの性状に関して様々
なものが入手可能なシリカが好ましい。シリカは最も安
価であり、実用性が非常に高い。
【0014】金属酸化物粒子は水または親水性溶媒にコ
ロイド状に分散させたゾルの形態とされるのが好まし
い。親水性溶媒としては前記金属酸化物を安定に分散さ
せ、基材上に均一かつ平滑な被膜を形成させうるもので
ある限り、特に限定されないが、好ましいものとして
は、沸点が200℃以下の有機溶媒を挙げることができ
る。好ましい有機溶媒の例としては、メタノール、エタ
ノール、n−プロパノール、イソプロパノール、t−ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、n−ブタノ−ル、2−メチ
ルプロパノ−ル、ペンタノ−ル、エチレングリコ−ル、
モノアセトンアルコ−ル、ジアセトンアルコ−ル、エチ
レングリコ−ルモノメチルエ−テル、4−ヒドロキシ−
4−メチル−2−ペンタノン、ジプロピレングリコ−
ル、プロピレングリコ−ル、トリプロピレングリコ−
ル、1−エトキシ−2−プロパノ−ル、1−ブトキシ−
2−プロパノ−ル、1−プロポキシ−2−プロパノ−
ル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル、ジプロ
ピレングリコ−ルモノメチルエ−テル、ジプロピレング
リコ−ルモノエチルエ−テル、トリプロピレングリコ−
ルモノメチルエ−テル、2−ブトキシエタノール等のア
ルコール系溶剤や、n−ヘキサン、トルエン、キシレ
ン、ミネラルスピリット等の炭化水素系溶剤、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤を挙げ
ることができる。
ロイド状に分散させたゾルの形態とされるのが好まし
い。親水性溶媒としては前記金属酸化物を安定に分散さ
せ、基材上に均一かつ平滑な被膜を形成させうるもので
ある限り、特に限定されないが、好ましいものとして
は、沸点が200℃以下の有機溶媒を挙げることができ
る。好ましい有機溶媒の例としては、メタノール、エタ
ノール、n−プロパノール、イソプロパノール、t−ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、n−ブタノ−ル、2−メチ
ルプロパノ−ル、ペンタノ−ル、エチレングリコ−ル、
モノアセトンアルコ−ル、ジアセトンアルコ−ル、エチ
レングリコ−ルモノメチルエ−テル、4−ヒドロキシ−
4−メチル−2−ペンタノン、ジプロピレングリコ−
ル、プロピレングリコ−ル、トリプロピレングリコ−
ル、1−エトキシ−2−プロパノ−ル、1−ブトキシ−
2−プロパノ−ル、1−プロポキシ−2−プロパノ−
ル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル、ジプロ
ピレングリコ−ルモノメチルエ−テル、ジプロピレング
リコ−ルモノエチルエ−テル、トリプロピレングリコ−
ルモノメチルエ−テル、2−ブトキシエタノール等のア
ルコール系溶剤や、n−ヘキサン、トルエン、キシレ
ン、ミネラルスピリット等の炭化水素系溶剤、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤を挙げ
ることができる。
【0015】ゾル塗布法によって基材表面に被膜形成す
る場合においては、金属酸化物0.05〜20重量部、
溶媒99.95〜80重量部とするコーティング組成物
を使用することが好ましい。前記塗布液を基材表面に塗
布することにより、優れた防曇性を有し、光干渉や白濁
のない透明な膜を形成することができる。また、平均粒
子径1〜100nmの粒状金属酸化物、平均径1〜50
nm、平均長さ10〜1000nmの鎖状金属酸化物、
平均径1〜50nm、平均長さ10〜500nmの羽毛
状または棒状金属酸化物のいずれかを使用することが好
ましい。平均粒子径1〜100nmの粒状金属酸化物と
しては、シリカ、ジルコニアなどが、平均径1〜50n
m、平均長さ10〜1000nmの鎖状金属酸化物とし
ては、シリカ、アルミナなどが、平均径1〜50nm、
平均長さ10〜500nmの羽毛状または棒状金属酸化
物としては、アルミナ、チタニアなどが挙げられる。鎖
状、羽毛状、棒状金属酸化物を使用すれば、基材表面に
形成した膜の耐久性を向上させることができる。また、
粒状無機酸化物を使用すれば、所望の凹凸を有した上で
より平滑性の高い膜を形成することができる。
る場合においては、金属酸化物0.05〜20重量部、
溶媒99.95〜80重量部とするコーティング組成物
を使用することが好ましい。前記塗布液を基材表面に塗
布することにより、優れた防曇性を有し、光干渉や白濁
のない透明な膜を形成することができる。また、平均粒
子径1〜100nmの粒状金属酸化物、平均径1〜50
nm、平均長さ10〜1000nmの鎖状金属酸化物、
平均径1〜50nm、平均長さ10〜500nmの羽毛
状または棒状金属酸化物のいずれかを使用することが好
ましい。平均粒子径1〜100nmの粒状金属酸化物と
しては、シリカ、ジルコニアなどが、平均径1〜50n
m、平均長さ10〜1000nmの鎖状金属酸化物とし
ては、シリカ、アルミナなどが、平均径1〜50nm、
平均長さ10〜500nmの羽毛状または棒状金属酸化
物としては、アルミナ、チタニアなどが挙げられる。鎖
状、羽毛状、棒状金属酸化物を使用すれば、基材表面に
形成した膜の耐久性を向上させることができる。また、
粒状無機酸化物を使用すれば、所望の凹凸を有した上で
より平滑性の高い膜を形成することができる。
【0016】基材表面層には前記金属酸化物を前記基材
表面に固定するためのバインダーを含有させることが好
ましい。バインダーにより基材表面との密着性は向上
し、さらに高度な耐久性、耐摩耗性がえられるからであ
る。バインダーとしては、釉薬、水ガラス、シリコーン
等の無機質のバインダー、熱硬化性樹脂、光硬化性樹
脂、熱可塑性樹脂等の有機質のバインダー等が利用でき
る。
表面に固定するためのバインダーを含有させることが好
ましい。バインダーにより基材表面との密着性は向上
し、さらに高度な耐久性、耐摩耗性がえられるからであ
る。バインダーとしては、釉薬、水ガラス、シリコーン
等の無機質のバインダー、熱硬化性樹脂、光硬化性樹
脂、熱可塑性樹脂等の有機質のバインダー等が利用でき
る。
【0017】前記塗布液には、界面活性剤を含むことが
できる。添加が可能な界面活性剤の例としては、スルホ
ン酸ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ−テルアン
モニウム塩、スルホン酸ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエ−テルナトリウム塩、脂肪酸カリセッケン、脂
肪酸ナトリウムセッケン、ジオクチルスルホコハク酸ナ
トリウム、アルキルサルフェ−ト、アルキルエ−テルサ
ルフェ−ト、アルキルサルフェ−トソ−ダ塩、アルキル
エ−テルサルフェ−トソ−ダ塩、ポリオキシエチレンア
ルキルエ−テルサルフェ−ト、ポリオキシエチレンアル
キルエ−テルサルフェ−トソ−ダ塩、アルキルサルフェ
−トTEA塩、ポリオキシエチレンアルキルエ−テルサ
ルフェ−トTEA塩、2−エチルヘキシルアルキル硫酸
エステルナトリウム塩、アシルメチルタウリン酸ナトリ
ウム、ラウロイルメチルタウリン酸ナトリウム、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スルホコハク酸ラウ
リル2ナトリウム、ポリオキシエチレンスルホコハク酸
ラウリル2ナトリウム、ポリカルボン酸、オレオイルザ
ルコシン、アミドエ−テルサルフェ−ト、ラウロイルザ
ルコシネ−ト、スルホFAエステルナトリウム塩等のア
ニオン性界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエ−
テル、ポリオキシエチレントリデシルエ−テル、ポリオ
キシエチレンアセチルエ−テル、ポリオキシエチレンス
テアリルエ−テル、ポリオキシエチレンオレイルエ−テ
ル、ポリオキシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシ
エチレンアルキルエステル、ポリオキシエチレンアルキ
ルフェノ−ルエ−テル、ポリオキシエチレンノニルフェ
ニルエ−テル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエ
−テル、ポリオキシエチレンラウラ−ト、ポリオキシエ
チレンステアレ−ト、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエ−テル、ポリオキシエチレンオレエ−ト、ソルビ
タンアルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタン
アルキルエステル、ポリエ−テル変性シリコ−ン、ポリ
エステル変性シリコ−ン、ソルビタンラウラ−ト、ソル
ビタンステアレ−ト、ソルビタンパルミテ−ト、ソルビ
タンセスキオレエ−ト、ソルビタンオレエ−ト、ポリオ
キシエチレンソルビタンラウラ−ト、ポリオキシエチレ
ンソルビタンステアレ−ト、ポリオキシエチレンソルビ
タンパルミテ−ト、ポリオキシエチレンソルビタンオレ
エ−ト、グリセロ−ルステアレ−ト、ポリグリセリン脂
肪酸エステル、アルキルアルキロ−ルアミド、ラウリン
酸ジエタノ−ルアミド、オレイン酸ジエタノ−ルアミ
ド、オキシエチレンドデシルアミン、ポリオキシエチレ
ンドデシルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミ
ン、ポリオキシエチレンオクタデシルアミン、ポリオキ
シエチレンアルキルプロピレンジアミン、ポリオキシエ
チレンオキシプロピレンブロックポリマ−、ポリオキシ
エチレンステアレ−ト等のノニオン性界面活性剤;ジメ
チルアルキルベタイン、アルキルグリシン、アミドベタ
イン、イミダゾリン等の両性界面活性剤;オクタデシル
ジメチルベンジルアンモニウムクロライド、アルキルジ
メチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラデシル
ジメチルベンジルアンモニウムクロライド、ジオレイル
ジメチルアンモニウムクロライド、1−ヒドロキシ−2
−アルキルイミダゾリン4級塩、アルキルイソキノリニ
ウムブロマイド、高分子アミン、オクタデシルトリメチ
ルアンモニウムクロライド、アルキルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロラ
イド、ベヘニルトリメチルアンモニウムクロライド、ア
ルキルイミダゾリン4級塩、ジアルキルジメチルアンモ
ニウムクロライド、オクタデシルアミン酢酸塩、テトラ
デシルアミン酢酸塩、アルキルプロピレンジアミン酢酸
塩、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド等のカチ
オン性界面活性剤等が挙げられる。
できる。添加が可能な界面活性剤の例としては、スルホ
ン酸ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ−テルアン
モニウム塩、スルホン酸ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエ−テルナトリウム塩、脂肪酸カリセッケン、脂
肪酸ナトリウムセッケン、ジオクチルスルホコハク酸ナ
トリウム、アルキルサルフェ−ト、アルキルエ−テルサ
ルフェ−ト、アルキルサルフェ−トソ−ダ塩、アルキル
エ−テルサルフェ−トソ−ダ塩、ポリオキシエチレンア
ルキルエ−テルサルフェ−ト、ポリオキシエチレンアル
キルエ−テルサルフェ−トソ−ダ塩、アルキルサルフェ
−トTEA塩、ポリオキシエチレンアルキルエ−テルサ
ルフェ−トTEA塩、2−エチルヘキシルアルキル硫酸
エステルナトリウム塩、アシルメチルタウリン酸ナトリ
ウム、ラウロイルメチルタウリン酸ナトリウム、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スルホコハク酸ラウ
リル2ナトリウム、ポリオキシエチレンスルホコハク酸
ラウリル2ナトリウム、ポリカルボン酸、オレオイルザ
ルコシン、アミドエ−テルサルフェ−ト、ラウロイルザ
ルコシネ−ト、スルホFAエステルナトリウム塩等のア
ニオン性界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエ−
テル、ポリオキシエチレントリデシルエ−テル、ポリオ
キシエチレンアセチルエ−テル、ポリオキシエチレンス
テアリルエ−テル、ポリオキシエチレンオレイルエ−テ
ル、ポリオキシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシ
エチレンアルキルエステル、ポリオキシエチレンアルキ
ルフェノ−ルエ−テル、ポリオキシエチレンノニルフェ
ニルエ−テル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエ
−テル、ポリオキシエチレンラウラ−ト、ポリオキシエ
チレンステアレ−ト、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエ−テル、ポリオキシエチレンオレエ−ト、ソルビ
タンアルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタン
アルキルエステル、ポリエ−テル変性シリコ−ン、ポリ
エステル変性シリコ−ン、ソルビタンラウラ−ト、ソル
ビタンステアレ−ト、ソルビタンパルミテ−ト、ソルビ
タンセスキオレエ−ト、ソルビタンオレエ−ト、ポリオ
キシエチレンソルビタンラウラ−ト、ポリオキシエチレ
ンソルビタンステアレ−ト、ポリオキシエチレンソルビ
タンパルミテ−ト、ポリオキシエチレンソルビタンオレ
エ−ト、グリセロ−ルステアレ−ト、ポリグリセリン脂
肪酸エステル、アルキルアルキロ−ルアミド、ラウリン
酸ジエタノ−ルアミド、オレイン酸ジエタノ−ルアミ
ド、オキシエチレンドデシルアミン、ポリオキシエチレ
ンドデシルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミ
ン、ポリオキシエチレンオクタデシルアミン、ポリオキ
シエチレンアルキルプロピレンジアミン、ポリオキシエ
チレンオキシプロピレンブロックポリマ−、ポリオキシ
エチレンステアレ−ト等のノニオン性界面活性剤;ジメ
チルアルキルベタイン、アルキルグリシン、アミドベタ
イン、イミダゾリン等の両性界面活性剤;オクタデシル
ジメチルベンジルアンモニウムクロライド、アルキルジ
メチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラデシル
ジメチルベンジルアンモニウムクロライド、ジオレイル
ジメチルアンモニウムクロライド、1−ヒドロキシ−2
−アルキルイミダゾリン4級塩、アルキルイソキノリニ
ウムブロマイド、高分子アミン、オクタデシルトリメチ
ルアンモニウムクロライド、アルキルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロラ
イド、ベヘニルトリメチルアンモニウムクロライド、ア
ルキルイミダゾリン4級塩、ジアルキルジメチルアンモ
ニウムクロライド、オクタデシルアミン酢酸塩、テトラ
デシルアミン酢酸塩、アルキルプロピレンジアミン酢酸
塩、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド等のカチ
オン性界面活性剤等が挙げられる。
【0018】前記塗布液を基材表面に塗布する方法は、
公知の方法から適宜選択すればよく、エアーガン、エア
レスガン、エアゾールスプレー等を用いたスプレーコー
ティング法、スピンコーティング法、ディップコーティ
ング法、フローコーティング法、ロールコーティング
法、刷毛塗り法、スポンジ塗り等があげられるが、これ
らに限定されるものではない。また、前記塗布液を基材
表面に塗布する前の処理として、各種シャンプーやプラ
イマー類、洗浄剤、コンパウンド類、帯電防止剤等を用
いることもできる。
公知の方法から適宜選択すればよく、エアーガン、エア
レスガン、エアゾールスプレー等を用いたスプレーコー
ティング法、スピンコーティング法、ディップコーティ
ング法、フローコーティング法、ロールコーティング
法、刷毛塗り法、スポンジ塗り等があげられるが、これ
らに限定されるものではない。また、前記塗布液を基材
表面に塗布する前の処理として、各種シャンプーやプラ
イマー類、洗浄剤、コンパウンド類、帯電防止剤等を用
いることもできる。
【0019】塗布液を基材表面に塗布した後の熱処理
は、塗布液、基材の種類・性質に応じて適宜行えばよ
く、自然乾燥、加熱、赤外線・紫外線照射等いずれの方
法でも良い。単に溶媒を揮散させ乾燥したのみでもよい
場合もある。 熱処理を行う場合の方法としては、物品
の表面に表面処理剤を塗布しついで熱処理するが、塗布
および熱処理の回数は2回以上であってもよい。塗布の
みを複数回繰り返した後一度で熱処理すること、塗布と
熱処理の一連の操作を複数回行うことなど、様々な方法
が挙げられる。
は、塗布液、基材の種類・性質に応じて適宜行えばよ
く、自然乾燥、加熱、赤外線・紫外線照射等いずれの方
法でも良い。単に溶媒を揮散させ乾燥したのみでもよい
場合もある。 熱処理を行う場合の方法としては、物品
の表面に表面処理剤を塗布しついで熱処理するが、塗布
および熱処理の回数は2回以上であってもよい。塗布の
みを複数回繰り返した後一度で熱処理すること、塗布と
熱処理の一連の操作を複数回行うことなど、様々な方法
が挙げられる。
【0020】あらかじめ凹凸を形成した基材表面上に、
さらに金属酸化物からなる凹凸層を形成することも可能
である。あらかじめ形成する凹凸は、公知の方法より選
択すれば良いが、前記のようにゾル塗布法、真空蒸着
法、スパッタリング、CVDによって形成することが好
ましく、その凹凸構造は前述の凹凸高さ・幅・表面粗さ
の範囲に入っていることが好ましい。凹凸層を形成する
金属酸化物としては、前述の金属酸化物の中から選べば
良いが、特にシリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニ
ア、酸化スズ、酸化亜鉛を使用することが好ましい。こ
れらの金属酸化物のうち、ジルコニア、チタニア、酸化
スズ、酸化亜鉛等の光触媒活性を有しているものを使用
することが好ましい。光触媒の親水化機能により、室内
の照明や窓からの入射光などから得られる紫外線の存在
下で、より一層親水性を高めることが可能となる。さら
に、光触媒の分解機能により、防汚・防臭などの効果も
期待できる。これらの酸化物のゾルを使用してゾル塗布
法により形成することが好ましい。ゾルは様々な粒子径
・性状のものが入手可能であり、表面に形成した凹部に
入り込ませるために最適なものを選ぶことができる。酸
化物ゾルは前述の各種金属酸化物が挙げられるが、中で
も粒子径が50nm以下のものが好ましい。あらかじめ
形成した凹凸に入り込むため、基材表面の表面積は大き
くなり、一層親水性が高まるからである。また、スパッ
タあるいはCVDによって前記酸化物の被膜を形成する
方法も好ましい。スパッタあるいはCVDによれば、被
膜形成する前の親水性複合材の凹凸を生かした被膜を形
成することが可能となる。CVDやスパッタにおいて処
理温度を高くすることにより、耐アルカリ性、耐温水性
などの耐久性をより向上させることが可能である。
さらに金属酸化物からなる凹凸層を形成することも可能
である。あらかじめ形成する凹凸は、公知の方法より選
択すれば良いが、前記のようにゾル塗布法、真空蒸着
法、スパッタリング、CVDによって形成することが好
ましく、その凹凸構造は前述の凹凸高さ・幅・表面粗さ
の範囲に入っていることが好ましい。凹凸層を形成する
金属酸化物としては、前述の金属酸化物の中から選べば
良いが、特にシリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニ
ア、酸化スズ、酸化亜鉛を使用することが好ましい。こ
れらの金属酸化物のうち、ジルコニア、チタニア、酸化
スズ、酸化亜鉛等の光触媒活性を有しているものを使用
することが好ましい。光触媒の親水化機能により、室内
の照明や窓からの入射光などから得られる紫外線の存在
下で、より一層親水性を高めることが可能となる。さら
に、光触媒の分解機能により、防汚・防臭などの効果も
期待できる。これらの酸化物のゾルを使用してゾル塗布
法により形成することが好ましい。ゾルは様々な粒子径
・性状のものが入手可能であり、表面に形成した凹部に
入り込ませるために最適なものを選ぶことができる。酸
化物ゾルは前述の各種金属酸化物が挙げられるが、中で
も粒子径が50nm以下のものが好ましい。あらかじめ
形成した凹凸に入り込むため、基材表面の表面積は大き
くなり、一層親水性が高まるからである。また、スパッ
タあるいはCVDによって前記酸化物の被膜を形成する
方法も好ましい。スパッタあるいはCVDによれば、被
膜形成する前の親水性複合材の凹凸を生かした被膜を形
成することが可能となる。CVDやスパッタにおいて処
理温度を高くすることにより、耐アルカリ性、耐温水性
などの耐久性をより向上させることが可能である。
【0021】また、基材の最表面には、金属粒子を光還
元法により、固定することも可能である。この場合、電
子捕捉効果を有する金属を添加することにより、親水機
能を高めることができる。電子捕捉効果を有する金属と
は、Pt、Pd、Au、Ag、Cu、Ni、Fe、C
o、Zn等のイオン化傾向の小さく、自身が還元されや
すい金属をいう。これらの金属は、複数併用しても構わ
ない。この場合の金属の平均粒子径は200nm以下で
あることが好ましい。光の干渉、乱反射による発色、白
濁を防止するためである。
元法により、固定することも可能である。この場合、電
子捕捉効果を有する金属を添加することにより、親水機
能を高めることができる。電子捕捉効果を有する金属と
は、Pt、Pd、Au、Ag、Cu、Ni、Fe、C
o、Zn等のイオン化傾向の小さく、自身が還元されや
すい金属をいう。これらの金属は、複数併用しても構わ
ない。この場合の金属の平均粒子径は200nm以下で
あることが好ましい。光の干渉、乱反射による発色、白
濁を防止するためである。
【0022】また、基材表面に形成した金属酸化物層粒
子の間隙にその間隙よりも小さな粒径の粒子を充填させ
ることも可能である。間隙に粒子を充填することで、基
材表面の表面積を大きくすることができ、親水性の向上
につながる。また、間隙に充填した粒子によって、金属
酸化物層粒子を結合させることができ、基材への密着性
が向上する。前記間隙より小さい粒径の粒子としては、
Sn、Ti、Ag、Cu、Zn、Fe、Pt、Co、P
d、Ni等が挙げられる。前記電子捕捉効果を有する金
属を充填すれば、さらなる親水性の向上が期待できる。
子の間隙にその間隙よりも小さな粒径の粒子を充填させ
ることも可能である。間隙に粒子を充填することで、基
材表面の表面積を大きくすることができ、親水性の向上
につながる。また、間隙に充填した粒子によって、金属
酸化物層粒子を結合させることができ、基材への密着性
が向上する。前記間隙より小さい粒径の粒子としては、
Sn、Ti、Ag、Cu、Zn、Fe、Pt、Co、P
d、Ni等が挙げられる。前記電子捕捉効果を有する金
属を充填すれば、さらなる親水性の向上が期待できる。
【0023】縦方向につける溝は垂直、斜線状、放射線
状、いずれでもよく、その間隔は等間隔であってもラン
ダムでも良い。水をはじきやすい両端部は、水のかかり
やすく水膜の保持されやすい中央付近よりも、溝の間隔
を狭くするほうが好ましい。また、溝は鏡の上端から下
端まで連続であっても、非連続であってもよい。鏡の中
央付近には水がかかりやすいため、中央付近から下部ま
での溝を多く設けることも一案である。
状、いずれでもよく、その間隔は等間隔であってもラン
ダムでも良い。水をはじきやすい両端部は、水のかかり
やすく水膜の保持されやすい中央付近よりも、溝の間隔
を狭くするほうが好ましい。また、溝は鏡の上端から下
端まで連続であっても、非連続であってもよい。鏡の中
央付近には水がかかりやすいため、中央付近から下部ま
での溝を多く設けることも一案である。
【0024】固定具を突出させない方法としては、公知
の方法より適宜選択されてよいが、鏡の裏面に係止する
ための金具を取付ける方法や、固定具を使わず、鏡を直
接壁面に接着する方法や磁石にて取付ける方法等を用い
ても良い。
の方法より適宜選択されてよいが、鏡の裏面に係止する
ための金具を取付ける方法や、固定具を使わず、鏡を直
接壁面に接着する方法や磁石にて取付ける方法等を用い
ても良い。
【0025】
【実施例】(実施例1)200mm×300mmの鏡を
5枚準備した。そのうち1枚は、下端角部を丸くカット
した。4枚のうち2枚および下端角部を丸くカットした
鏡をセリア粒子によって縦方向に研磨し、溝をつけた。
1枚はセリア粒子によって横方向に研磨し、溝をつけ
た。残りの1枚は比較のため何の処理も施さなかった。
これらの5枚の鏡を浴室内に設置して実入浴試験を行っ
た。縦方向に溝をつけた長方形の鏡2枚のうち、1枚は
鏡の固定具を使用せず、裏面に強力磁石を貼り付けて設
置した。比較試料を含む残りの4枚の鏡は従来通りの固
定具を用いて設置した。尚、入浴は1日4人とし、評価は
入浴終了後、鏡に水をかけ、2分後に鏡表面が水膜を維
持しているか否かを目視にて確認した。結果は各々の鏡
が水膜を維持できた日数を示した。その結果を下表に示
す。
5枚準備した。そのうち1枚は、下端角部を丸くカット
した。4枚のうち2枚および下端角部を丸くカットした
鏡をセリア粒子によって縦方向に研磨し、溝をつけた。
1枚はセリア粒子によって横方向に研磨し、溝をつけ
た。残りの1枚は比較のため何の処理も施さなかった。
これらの5枚の鏡を浴室内に設置して実入浴試験を行っ
た。縦方向に溝をつけた長方形の鏡2枚のうち、1枚は
鏡の固定具を使用せず、裏面に強力磁石を貼り付けて設
置した。比較試料を含む残りの4枚の鏡は従来通りの固
定具を用いて設置した。尚、入浴は1日4人とし、評価は
入浴終了後、鏡に水をかけ、2分後に鏡表面が水膜を維
持しているか否かを目視にて確認した。結果は各々の鏡
が水膜を維持できた日数を示した。その結果を下表に示
す。
【0026】
【表1】
【0027】表1からわかるように、水膜を維持できる
日数は、横溝を設けた鏡と従来鏡とで大差はない。しか
し、縦溝をつけた鏡では飛躍的に良くなった。また、角
部を丸くカットした鏡、裏面で固定した鏡はさらに水膜
を維持できた日数が延びた。このことから、鏡に縦溝を
つけることは、水膜を維持するために有効であることが
確認できた。また、下部角部を無くすこと、固定具を突
出させないことは水膜を良好に維持していく上でさらに
有効であることが確認できた。
日数は、横溝を設けた鏡と従来鏡とで大差はない。しか
し、縦溝をつけた鏡では飛躍的に良くなった。また、角
部を丸くカットした鏡、裏面で固定した鏡はさらに水膜
を維持できた日数が延びた。このことから、鏡に縦溝を
つけることは、水膜を維持するために有効であることが
確認できた。また、下部角部を無くすこと、固定具を突
出させないことは水膜を良好に維持していく上でさらに
有効であることが確認できた。
【0028】(実施例2)サイズ200mm×300m
mの鏡を4枚準備し、下記のように4種類の試料を作成
した。試料1としてセリア粒子で、試料2として120
0番の研磨紙で縦方向に溝をつけた鏡を作成した。次に
スピンコート法にてシリカゾルを塗布した鏡をナイロン
不織布(住友スリーエム製、スコッチ・ブライト、バス
シャインのハード面)にて一定方向に強く擦り、試料3
を作成した。バーコート法にてシリカゾルを鏡に塗布し
て試料4を作成した。それぞれの鏡について、溝が形成
されているかを確認し、溝の深さ・幅を測定した後、鏡
の外観と反射像についての評価をおこなった。尚、溝形
成の有無は、電界放射型走査電子顕微鏡(日立製作所
製、S4100型)にて確認し、溝の深さと幅は、走査
型プローブ顕微鏡(デジタルインスツルメンツ社製、D
3000)のAFM(原子間力顕微鏡)モードにて測定
した。外観・反射像は、10人のモニターに下記の4段
階の基準で評価してもらった。結果を表2に示す。 外観 3点:溝(傷)は見えない 2点:溝(傷)は見えるが気にならない 1点:溝(傷)が少し気になる(我慢できる) 0点:溝(傷)がとても気になる(我慢できない) 水をかけた時の反射像の鮮明度 3点: ぼやけることなく鮮明な反射像が得られる 2点: 一部ぼやけるが使用に問題はない 1点: 全体的にぼやけるが何とか使用できる(我慢で
きる) 0点: 反射像はぼやけて使えない(我慢できない)
mの鏡を4枚準備し、下記のように4種類の試料を作成
した。試料1としてセリア粒子で、試料2として120
0番の研磨紙で縦方向に溝をつけた鏡を作成した。次に
スピンコート法にてシリカゾルを塗布した鏡をナイロン
不織布(住友スリーエム製、スコッチ・ブライト、バス
シャインのハード面)にて一定方向に強く擦り、試料3
を作成した。バーコート法にてシリカゾルを鏡に塗布し
て試料4を作成した。それぞれの鏡について、溝が形成
されているかを確認し、溝の深さ・幅を測定した後、鏡
の外観と反射像についての評価をおこなった。尚、溝形
成の有無は、電界放射型走査電子顕微鏡(日立製作所
製、S4100型)にて確認し、溝の深さと幅は、走査
型プローブ顕微鏡(デジタルインスツルメンツ社製、D
3000)のAFM(原子間力顕微鏡)モードにて測定
した。外観・反射像は、10人のモニターに下記の4段
階の基準で評価してもらった。結果を表2に示す。 外観 3点:溝(傷)は見えない 2点:溝(傷)は見えるが気にならない 1点:溝(傷)が少し気になる(我慢できる) 0点:溝(傷)がとても気になる(我慢できない) 水をかけた時の反射像の鮮明度 3点: ぼやけることなく鮮明な反射像が得られる 2点: 一部ぼやけるが使用に問題はない 1点: 全体的にぼやけるが何とか使用できる(我慢で
きる) 0点: 反射像はぼやけて使えない(我慢できない)
【0029】
【表2】
【0030】表2からわかるように、いずれの鏡も縦方
向に溝が形成されていることが確認できた。セリア粒子
で溝をつけた鏡、シリカゾルをコーティングした後、ナ
イロン不織布にて擦った鏡、シリカゾルをバーコーティ
ングした鏡は、溝(傷)は見えず、鮮明な反射像がえら
れることがわかった。一方、研磨紙で溝をつけた鏡は、
溝が見えてやや気になり、反射像はぼやけることがわか
った。溝の深さ・幅は細かいほど外観、反射像とも良い
評価が得られた。このことから、溝の深さ・幅が200
nm以下であれば、外観上透明な溝となり、鮮明な反射
像が得られることが示唆された。
向に溝が形成されていることが確認できた。セリア粒子
で溝をつけた鏡、シリカゾルをコーティングした後、ナ
イロン不織布にて擦った鏡、シリカゾルをバーコーティ
ングした鏡は、溝(傷)は見えず、鮮明な反射像がえら
れることがわかった。一方、研磨紙で溝をつけた鏡は、
溝が見えてやや気になり、反射像はぼやけることがわか
った。溝の深さ・幅は細かいほど外観、反射像とも良い
評価が得られた。このことから、溝の深さ・幅が200
nm以下であれば、外観上透明な溝となり、鮮明な反射
像が得られることが示唆された。
【0031】
【発明の効果】浴室、シャワールームなど汚れ負荷量が
大きい環境下において、水膜を保持することによって防
曇性を維持しながら、鮮明な反射像を得ることができ、
外観上も普通の鏡と変わらず、乾いた状態での使用も可
能な鏡を提供することが可能になった。
大きい環境下において、水膜を保持することによって防
曇性を維持しながら、鮮明な反射像を得ることができ、
外観上も普通の鏡と変わらず、乾いた状態での使用も可
能な鏡を提供することが可能になった。
【図1】 本発明の一態様を示す正面図である。
【図2】 本発明の異なる一態様を示す正面図である。
【図3】 固定具を鏡表面に突出させない様に固定した
例を示す側面図である。
例を示す側面図である。
【図4】 従来例(横方向に溝をつけた鏡)を示す正面
図を示す。
図を示す。
【図5】 図4の従来例の固定状態を示す側面図であ
る。
る。
1 : 鏡 2 : 鏡
固定具 3 : 壁
固定具 3 : 壁
Claims (4)
- 【請求項1】 鏡表面に、縦方向に微細な外観上透明な
溝を設けたことを特徴とする浴室用鏡。 - 【請求項2】 前記溝の平均深さおよび幅は200nm
以下であることを特徴とする請求項1記載の浴室用鏡。 - 【請求項3】 前記鏡は下端角部の角を無くしたことを
特徴とする請求項1または2に記載の浴室用鏡。 - 【請求項4】 前記鏡の固定具は、鏡表面に突出してい
ないことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記
載の浴室用鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11041772A JP2000237015A (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 浴室用鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11041772A JP2000237015A (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 浴室用鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000237015A true JP2000237015A (ja) | 2000-09-05 |
Family
ID=12617687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11041772A Pending JP2000237015A (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 浴室用鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000237015A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009193002A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Housetec Inc | 成形構造体 |
| JP2010047362A (ja) * | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Fujitec Co Ltd | エレベータの鏡装置 |
| JP2019177069A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | Toto株式会社 | 鏡の固定構造 |
-
1999
- 1999-02-19 JP JP11041772A patent/JP2000237015A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009193002A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Housetec Inc | 成形構造体 |
| JP2010047362A (ja) * | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Fujitec Co Ltd | エレベータの鏡装置 |
| JP2019177069A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | Toto株式会社 | 鏡の固定構造 |
| JP7077723B2 (ja) | 2018-03-30 | 2022-05-31 | Toto株式会社 | 鏡の固定構造 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW517082B (en) | A process for pre-treating the surface of a substrate before the formation of a photocatalytically hydrophilifiable coating, the cleaning agent used therein and the undercoating composition. | |
| KR100787255B1 (ko) | 친수성 부재, 그의 제조방법, 그의 제조를 위한 코팅제 및 장치 | |
| JPWO2000053689A1 (ja) | 親水性部材、その製造方法、その製造のためのコーティング剤および装置 | |
| JP2000308860A (ja) | 複合材の清浄化方法及びセルフクリーニング性複合材機構 | |
| JP2000279905A (ja) | 複合材の清浄化方法及びセルフクリーニング性複合材機構 | |
| JP2000135755A (ja) | 親水性複合材 | |
| US20090188407A1 (en) | Method for treating surfaces | |
| JPH1150006A (ja) | 光触媒性親水性被膜形成前の表面の前処理法並びにそれに用いられる洗浄剤およびアンダーコート組成物 | |
| JPH11309379A (ja) | 光触媒性親水性部材、及び光触媒性親水性コ−ティング組成物 | |
| JP2000237015A (ja) | 浴室用鏡 | |
| JP2000318083A (ja) | 親水性複合部材 | |
| JP2000262908A (ja) | 複合材の清浄化方法及びセルフクリーニング性複合材機構 | |
| JP2000279296A (ja) | 浴室用鏡 | |
| JP2000321412A (ja) | 浴室用防曇性鏡 | |
| JP2000262368A (ja) | 親水性鏡、その親水化方法及びガラスの親水化方法 | |
| JP2000026756A (ja) | コーティング組成物、基材表面のコーティング方法、表面にコーティングされた基材 | |
| PL202986B1 (pl) | Spłukiwana toaleta lub umywalka oraz sposób zabezpieczania przed plamami spłukiwanej toalety lub umywalki | |
| JP3250607B2 (ja) | 光触媒性親水性被膜の形成方法ならびに光触媒性親水性被膜形成用基材洗浄剤および光触媒性親水性被膜形成材料 | |
| JP2003238207A (ja) | 防曇物品とその製造方法 | |
| JP2000308861A (ja) | 複合材の清浄化方法及びセルフクリーニング性複合材機構 | |
| US20040157758A1 (en) | Method for cleaning and protecting siliceous surfaces using co-polymer compounds | |
| JP2000265162A (ja) | 浴室部材 | |
| JP2000321411A (ja) | 浴室用防曇性鏡 | |
| JP2000071359A (ja) | 機能材 | |
| JP2000086933A (ja) | 光触媒性親水性部材、及び、光触媒性親水性コ−ティング組成物 |