JP2000239900A - 電解処理装置及び電解処理方法 - Google Patents
電解処理装置及び電解処理方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
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- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 周波数に応じた処理ムラを無くし、高い
処理スピード及び高電流密度処理が可能な電解処理装置
及び電解処理方法を提供する。 【解決手段】 金属ウェブ１は、パスローラ２、４を通
ってドラムローラ３に巻き掛けられている。ドラムロー
ラ３の外側には電極５、６が同心円状に設けられてい
る。電極５、６の先端及び後端には、切り欠き部１４
ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄがそれぞれ設けられてい
る。ドラムローラ３は上下方向に進退自在に設けられて
おり、その中心点Ｏを、電極５、６の中心点Ｃより上方
へずらすことができるようになっている。ドラムローラ
３を上方へ移動させると、ドラムローラ３周面と電極
５、６表面との間隔は、下方に行くほど、すなわち切り
欠き部１４ｂ，１４ｃに近づくほど長くなる。
処理スピード及び高電流密度処理が可能な電解処理装置
及び電解処理方法を提供する。 【解決手段】 金属ウェブ１は、パスローラ２、４を通
ってドラムローラ３に巻き掛けられている。ドラムロー
ラ３の外側には電極５、６が同心円状に設けられてい
る。電極５、６の先端及び後端には、切り欠き部１４
ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄがそれぞれ設けられてい
る。ドラムローラ３は上下方向に進退自在に設けられて
おり、その中心点Ｏを、電極５、６の中心点Ｃより上方
へずらすことができるようになっている。ドラムローラ
３を上方へ移動させると、ドラムローラ３周面と電極
５、６表面との間隔は、下方に行くほど、すなわち切り
欠き部１４ｂ，１４ｃに近づくほど長くなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、交流電源を用いて
連続的に金属ウェブに電解エッチング処理を行う電解処
理装置及び電解処理方法に関し、特に、平版印刷版支持
体を製造する際におけるアルミニウムウェブの電解エッ
チングに好適な電解処理装置及び電解処理方法に関する
ものである。
連続的に金属ウェブに電解エッチング処理を行う電解処
理装置及び電解処理方法に関し、特に、平版印刷版支持
体を製造する際におけるアルミニウムウェブの電解エッ
チングに好適な電解処理装置及び電解処理方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】アルミニウム、鉄などの表面に電解エッ
チングする方法は広く実用化されており、要求される品
質や反応効率の向上の目的から交番波形電流を用いるこ
とは一般的に行われている。例えば、特公昭５６−１９
２８０号公報には、アルミニウム板の電解粗面化処理に
おいて陽極時電圧が陰極時電圧より大なるよう印加した
交番波形電圧を用いることにより、オフセット印刷版支
持体として優れた粗面化処理が可能になるという電解エ
ッチング処理方法が開示されている。
チングする方法は広く実用化されており、要求される品
質や反応効率の向上の目的から交番波形電流を用いるこ
とは一般的に行われている。例えば、特公昭５６−１９
２８０号公報には、アルミニウム板の電解粗面化処理に
おいて陽極時電圧が陰極時電圧より大なるよう印加した
交番波形電圧を用いることにより、オフセット印刷版支
持体として優れた粗面化処理が可能になるという電解エ
ッチング処理方法が開示されている。
【０００３】通常、電解エッチング処理は、１〜５％の
硝酸あるいは塩酸等の酸性電解液中において、電流密度
１０Ａ／ｄｍ2〜１００Ａ／ｍ2で行われる。交番波形電
流を用いる場合、例えば、金属ウェブとしてアルミニウ
ム板を用いた時、陽極周期時はＡｌ→Ａｌ3+＋３ｅの溶
解反応が生じ、また、陰極周期時はＨ+＋ｅ→（１／
２）Ｈ2↑とＡｌ3+＋３ＯＨ→Ａｌ（ＯＨ）3の水素ガス
発生反応と同時に水酸化アルミニウムのスマット生成反
応がアルミニウム板上で生じる。
硝酸あるいは塩酸等の酸性電解液中において、電流密度
１０Ａ／ｄｍ2〜１００Ａ／ｍ2で行われる。交番波形電
流を用いる場合、例えば、金属ウェブとしてアルミニウ
ム板を用いた時、陽極周期時はＡｌ→Ａｌ3+＋３ｅの溶
解反応が生じ、また、陰極周期時はＨ+＋ｅ→（１／
２）Ｈ2↑とＡｌ3+＋３ＯＨ→Ａｌ（ＯＨ）3の水素ガス
発生反応と同時に水酸化アルミニウムのスマット生成反
応がアルミニウム板上で生じる。
【０００４】これらの反応は電源の周波数に応じて交互
に起り、これらの基本反応を電解液の種類及び濃度、温
度条件、電流密度、投入電気量等の電解条件を制御する
ことにより、要求される粗面化表面を得ることが一般的
に可能である。
に起り、これらの基本反応を電解液の種類及び濃度、温
度条件、電流密度、投入電気量等の電解条件を制御する
ことにより、要求される粗面化表面を得ることが一般的
に可能である。
【０００５】しかしながら、交番波形電流を用いる場合
は、金属ウェブが電解槽に入った時と出た時との電流周
期により、溶解反応により処理を開始する部分と、終了
する部分との相違があり、金属ウェブの進行方法に対し
て横方向に濃淡ムラ（以下、処理ムラという）が発生す
る。これらの処理ムラは当然のことながら電源の周波数
に応じて発生する。例えば、処理スピードを５０ｍ／ｍ
ｉｎ、電源周波数を６０Ｈｚとした場合、金属ウェブの
長手方向において、１．３９ｃｍピッチで処理ムラが発
生する。また、より高い量産化の観点からは、高い処理
スピード、高電流密度処理が望まれており、また、近年
増加しているマンガンなどを含有した高強度アルミニウ
ム支持体では、周波数を低下させることで高品質の平版
印刷版支持体を製造するという傾向もある。
は、金属ウェブが電解槽に入った時と出た時との電流周
期により、溶解反応により処理を開始する部分と、終了
する部分との相違があり、金属ウェブの進行方法に対し
て横方向に濃淡ムラ（以下、処理ムラという）が発生す
る。これらの処理ムラは当然のことながら電源の周波数
に応じて発生する。例えば、処理スピードを５０ｍ／ｍ
ｉｎ、電源周波数を６０Ｈｚとした場合、金属ウェブの
長手方向において、１．３９ｃｍピッチで処理ムラが発
生する。また、より高い量産化の観点からは、高い処理
スピード、高電流密度処理が望まれており、また、近年
増加しているマンガンなどを含有した高強度アルミニウ
ム支持体では、周波数を低下させることで高品質の平版
印刷版支持体を製造するという傾向もある。
【０００６】しかしながら、上述した電源周波数に応じ
た不均一性は、発生のメカニズムからして、処理スピー
ドが高くなるほど、また、電流密度が高くなるほど、そ
して、周波数が低くなるほど、いずれもその程度が強く
なるものである。
た不均一性は、発生のメカニズムからして、処理スピー
ドが高くなるほど、また、電流密度が高くなるほど、そ
して、周波数が低くなるほど、いずれもその程度が強く
なるものである。
【０００７】特開平１−２３０８００号公報には、電極
の先端及び後端に低電流密度ゾーンを設けるとともに、
残りの部分を一定電流密度ゾーンとすることのより、処
理ムラを無くすようにした電解処理装置が提案されてお
り、特開平４−２８９２００号公報には、電源周波数を
１〜３０Ｈｚとした粗面化方法が提案されている。
の先端及び後端に低電流密度ゾーンを設けるとともに、
残りの部分を一定電流密度ゾーンとすることのより、処
理ムラを無くすようにした電解処理装置が提案されてお
り、特開平４−２８９２００号公報には、電源周波数を
１〜３０Ｈｚとした粗面化方法が提案されている。
【０００８】また、特願平１０−１８０１４９号明細書
には、電流周波数を任意に変更することにより、処理ム
ラを無くすようにした電解処理方法が提案されている。
には、電流周波数を任意に変更することにより、処理ム
ラを無くすようにした電解処理方法が提案されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
従来の方法は、高い処理スピードの場合や高電流密度の
場合、また、電解液の条件が変化した場合には、周波数
に応じた処理ムラを完全に無くすことは出来なかった。
従来の方法は、高い処理スピードの場合や高電流密度の
場合、また、電解液の条件が変化した場合には、周波数
に応じた処理ムラを完全に無くすことは出来なかった。
【００１０】本発明の目的は、以上の問題点を解消し、
周波数に応じた処理ムラを無くし、高い処理スピード及
び高電流密度処理が可能な電解処理装置及び電解処理方
法を提供することにある。
周波数に応じた処理ムラを無くし、高い処理スピード及
び高電流密度処理が可能な電解処理装置及び電解処理方
法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、金属ウェ
ブに発生する処理ムラについて鋭意研究し、間接給電セ
ルの金属ウェブの進行方向に対し、後流側電極の上流端
部で特に強く発生することを見出した。そして、その原
因が、電極間に未処理となるゾーンがあることと、この
部分の電流密度が金属ウェブの電気抵抗により非常に高
くなることの２点であることを見出し、本発明を完成さ
せたものである。
ブに発生する処理ムラについて鋭意研究し、間接給電セ
ルの金属ウェブの進行方向に対し、後流側電極の上流端
部で特に強く発生することを見出した。そして、その原
因が、電極間に未処理となるゾーンがあることと、この
部分の電流密度が金属ウェブの電気抵抗により非常に高
くなることの２点であることを見出し、本発明を完成さ
せたものである。
【００１２】本発明の電解処理装置は、金属ウェブが巻
き掛けられるドラムローラと、このドラムローラの外側
において２分割された状態で円弧状に設けられた電極
と、この電極とドラムローラとの間に充填された電解液
とを有する電解処理装置であって、前記ドラムローラが
上下方向に進退自在に形成されていることを特徴として
構成されている。
き掛けられるドラムローラと、このドラムローラの外側
において２分割された状態で円弧状に設けられた電極
と、この電極とドラムローラとの間に充填された電解液
とを有する電解処理装置であって、前記ドラムローラが
上下方向に進退自在に形成されていることを特徴として
構成されている。
【００１３】本発明の電解処理装置においては、ドラム
ローラを上下方向に移動させることができるので、電極
の端部における電流密度が最適となるように制御するこ
とができる。
ローラを上下方向に移動させることができるので、電極
の端部における電流密度が最適となるように制御するこ
とができる。
【００１４】本発明の電解処理方法は、電解液中におい
てドラムローラに金属ウェブを巻き掛けて搬送しつつ、
ドラムローラの周囲に２分割された状態で円弧状に設け
た電極により電解液を介して金属ウェブを電解処理する
方法であって、ドラムローラの中心点を電極の中心点よ
り上方へ移動させた状態で電解処理することを特徴とし
て構成されている。
てドラムローラに金属ウェブを巻き掛けて搬送しつつ、
ドラムローラの周囲に２分割された状態で円弧状に設け
た電極により電解液を介して金属ウェブを電解処理する
方法であって、ドラムローラの中心点を電極の中心点よ
り上方へ移動させた状態で電解処理することを特徴とし
て構成されている。
【００１５】本発明の電解処理方法においては、ドラム
ローラの位置が、電極と同心円上の位置より上方になっ
ているので、電極の端部との距離が長くなり、その結
果、電極の端部における電流密度を小さくしている。
ローラの位置が、電極と同心円上の位置より上方になっ
ているので、電極の端部との距離が長くなり、その結
果、電極の端部における電流密度を小さくしている。
【００１６】ドラムローラの中心点を、ドラムローラと
電極との距離の１０〜４０％の距離上方へ移動させるこ
とが好ましく、ドラムローラの上方へ移動させる距離の
上限は１００％である。
電極との距離の１０〜４０％の距離上方へ移動させるこ
とが好ましく、ドラムローラの上方へ移動させる距離の
上限は１００％である。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明による電解処理装置及び電
解処理方法の一実施形態を図面に基づいて説明する。
解処理方法の一実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１８】図１は連続電解処理装置の一実施形態を示
す模式的説明図である。図１において、１は電解処理さ
れる金属ウェブであり、この金属ウェブ１は、パスロー
ラ２、４を通ってドラムローラ３に巻き掛けられてい
る。このドラムローラ３は後述する電極と金属ウェブ１
との間隔を維持するためのもので、通常、その間隔は５
〜５０ｍｍに設定されている。ドラムローラ３の外側に
は電極５、６が同心円状に設けられており、この電極
５、６の先端及び後端には、低電流密度ゾーンを設ける
ために、金属ウェブ１と電極５、６面との距離を漸次離
していくように、切り欠き部１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，
１４ｄがそれぞれ設けられている。７はコンタクト給電
ローラであり、金属ウェブ１に接触し、金属ウェブ１と
同速で回転駆動されている。
す模式的説明図である。図１において、１は電解処理さ
れる金属ウェブであり、この金属ウェブ１は、パスロー
ラ２、４を通ってドラムローラ３に巻き掛けられてい
る。このドラムローラ３は後述する電極と金属ウェブ１
との間隔を維持するためのもので、通常、その間隔は５
〜５０ｍｍに設定されている。ドラムローラ３の外側に
は電極５、６が同心円状に設けられており、この電極
５、６の先端及び後端には、低電流密度ゾーンを設ける
ために、金属ウェブ１と電極５、６面との距離を漸次離
していくように、切り欠き部１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，
１４ｄがそれぞれ設けられている。７はコンタクト給電
ローラであり、金属ウェブ１に接触し、金属ウェブ１と
同速で回転駆動されている。
【００１９】また、前記ドラムローラ３は上下方向に進
退自在に設けられており、その中心点Ｏを、電極５、６
の中心点Ｃより上方へずらすことができるようになって
いる。すなわち、ドラムローラ３の中心点Ｏと電極５、
６との中心点Ｃを一致させた場合は、図１中実線で示す
ように、ドラムローラ３（金属ウェブ１）周面と電極
５、６表面との間隔は常に一定に保たれており、ドラム
ローラ３を上方へ移動させると、図１中２点鎖線で示す
ように、ドラムローラ３周面と電極５、６表面との間隔
は、下方に行くほど、すなわち切り欠き部１４ｂ，１４
ｃに近づくほど長くなる。
退自在に設けられており、その中心点Ｏを、電極５、６
の中心点Ｃより上方へずらすことができるようになって
いる。すなわち、ドラムローラ３の中心点Ｏと電極５、
６との中心点Ｃを一致させた場合は、図１中実線で示す
ように、ドラムローラ３（金属ウェブ１）周面と電極
５、６表面との間隔は常に一定に保たれており、ドラム
ローラ３を上方へ移動させると、図１中２点鎖線で示す
ように、ドラムローラ３周面と電極５、６表面との間隔
は、下方に行くほど、すなわち切り欠き部１４ｂ，１４
ｃに近づくほど長くなる。
【００２０】電解液８は、ドラムローラ３の真下に配設
した電解液給液部９より供給されてセル内に満たされ、
電解液排出部１０ａ，１０ｂよりセル外に排出され、そ
して、循環タンク１１を経てポンプ１２により電解液給
液部９へ強制循環される。
した電解液給液部９より供給されてセル内に満たされ、
電解液排出部１０ａ，１０ｂよりセル外に排出され、そ
して、循環タンク１１を経てポンプ１２により電解液給
液部９へ強制循環される。
【００２１】１３は交番波形電源であり、この交番波形
電源１３の電源出力端子の一方はコンタクト給電ローラ
７に、他方は電極５、６に接続され電圧印加される。そ
して、この交番波形電源１３には、周波数を任意に設定
できる周波数設定器が内蔵されており、この周波数設定
器を設定することにより交番波形電源１３の出力する交
番波形電流の周波数を０．１Ｈｚ単位で任意に設定でき
るようになっている。
電源１３の電源出力端子の一方はコンタクト給電ローラ
７に、他方は電極５、６に接続され電圧印加される。そ
して、この交番波形電源１３には、周波数を任意に設定
できる周波数設定器が内蔵されており、この周波数設定
器を設定することにより交番波形電源１３の出力する交
番波形電流の周波数を０．１Ｈｚ単位で任意に設定でき
るようになっている。
【００２２】以上のような電解処理装置で金属ウェブ１
を電解処理するには、まず、金属ウェブ１の処理スピー
ド、電解液の種類、濃度及び温度、電流密度、投入電気
量、電解処理時間等の条件を考慮し、不均一な処理ムラ
が最も発生しない周波数を選択し、周波数設定器でこの
選択された周波数となるように調整する。また、ドラム
ローラ３を所定距離上方へ移動させる。
を電解処理するには、まず、金属ウェブ１の処理スピー
ド、電解液の種類、濃度及び温度、電流密度、投入電気
量、電解処理時間等の条件を考慮し、不均一な処理ムラ
が最も発生しない周波数を選択し、周波数設定器でこの
選択された周波数となるように調整する。また、ドラム
ローラ３を所定距離上方へ移動させる。
【００２３】そして、この状態で金属ウェブ１を連続的
に電解エッチング処理し、処理ムラのない金属ウェブ１
を得ることができる。この電解エッチング処理を続け、
電解液濃度等の条件が変化してくると、その都度、最適
な周波数に設定を変更して電解エッチング処理を続け
る。この周波数の設定は自動的に行っても手動で行って
もよい。
に電解エッチング処理し、処理ムラのない金属ウェブ１
を得ることができる。この電解エッチング処理を続け、
電解液濃度等の条件が変化してくると、その都度、最適
な周波数に設定を変更して電解エッチング処理を続け
る。この周波数の設定は自動的に行っても手動で行って
もよい。
【００２４】
【実施例】図１に示す装置を用い、下記の条件により処
理むらの発生程度を比較した。 アルミニウム幅：１０００ｍｍ 処理スピード：６０ｍ／分 電源周波数：６０．１〜６０．５Ｈｚ 平均電流密度：６０Ａ／ｄｍ2 ドラムローラ（アルミニウムウェブ）と電極との距離：
１５ｍｍ ドラムローラの上方への移動量：ドラムローラと電極と
を同心円上に配置した際のドラムローラ（アルミニウム
ウェブ）と電極との距離の１０％，２０％，４０％とし
た。
理むらの発生程度を比較した。 アルミニウム幅：１０００ｍｍ 処理スピード：６０ｍ／分 電源周波数：６０．１〜６０．５Ｈｚ 平均電流密度：６０Ａ／ｄｍ2 ドラムローラ（アルミニウムウェブ）と電極との距離：
１５ｍｍ ドラムローラの上方への移動量：ドラムローラと電極と
を同心円上に配置した際のドラムローラ（アルミニウム
ウェブ）と電極との距離の１０％，２０％，４０％とし
た。
【００２５】各移動量における電極の各位置と相対電流
との関係を図２に示す。この結果より、ドラムローラの
上方への移動量が大きくなるにしたがって、切り欠け１
４ｂ，１４ｃにおける相対電流が小さくなっていること
が分かる。
との関係を図２に示す。この結果より、ドラムローラの
上方への移動量が大きくなるにしたがって、切り欠け１
４ｂ，１４ｃにおける相対電流が小さくなっていること
が分かる。
【００２６】処理むらの発生程度を表１に示す。
【００２７】
【表１】 △ ：発生 ○△：若干発生 ○ ：殆ど発生なし
【００２８】
【発明の効果】本発明は、交番波形電流を用いて金属ウ
ェブに連続的に電解エッチング処理を行う際、ドラムロ
ーラを、電極と同心円上にある位置から上方の位置に任
意に設定することにより、電極の端部における電流密度
を小さくすることができるので、処理ムラを小さくする
ことができる。その結果、高い電解処理スピード及び高
電流密度処理が可能となり、高品質の平版印刷版用支持
体等を安価に製造することができる。
ェブに連続的に電解エッチング処理を行う際、ドラムロ
ーラを、電極と同心円上にある位置から上方の位置に任
意に設定することにより、電極の端部における電流密度
を小さくすることができるので、処理ムラを小さくする
ことができる。その結果、高い電解処理スピード及び高
電流密度処理が可能となり、高品質の平版印刷版用支持
体等を安価に製造することができる。
【００２９】また、ドラムローラの位置を変更すること
により、電流密度を制御することができるので、幅広い
電解処理条件を使用することができる。その結果、品質
性能の向上させることができる。
により、電流密度を制御することができるので、幅広い
電解処理条件を使用することができる。その結果、品質
性能の向上させることができる。
【図１】 本発明による電解処理装置の一実施形態の模
式的説明図である。
式的説明図である。
【図２】 ドラムローラの移動量における電極の各位置
と相対電流との関係を示す図である。
と相対電流との関係を示す図である。
１………金属ウェブ ２，４…パスローラ ３………ドラムローラ ５，６…電極 ７………コンタクト給電ローラ ８………電解液 １３……交番波形電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H114 AA04 AA14 DA04 DA73 EA01 GA04 4K024 BA06 BB16 BC01 CA07 CB08 CB09 CB13 DA07 EA05 GA16
Claims (3)
- 【請求項１】 金属ウェブが巻き掛けられるドラムロー
ラと、このドラムローラの外側において２分割された状
態で円弧状に設けられた電極と、この電極とドラムロー
ラとの間に充填された電解液とを有する電解処理装置で
あって、前記ドラムローラが上下方向に進退自在に形成
されていることを特徴とする電解処理装置。 - 【請求項２】 電解液中においてドラムローラに金属ウ
ェブを巻き掛けて搬送しつつ、ドラムローラの周囲に２
分割された状態で円弧状に設けた電極により電解液を介
して金属ウェブを電解処理する方法であって、ドラムロ
ーラの中心点を電極の中心点より上方へ移動させた状態
で電解処理することを特徴とする電解処理方法。 - 【請求項３】 ドラムローラの中心点を、ドラムローラ
周面と電極表面との距離の１０〜４０％の距離上方へ移
動させる請求項２に記載の電解処理方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11046864A JP2000239900A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 電解処理装置及び電解処理方法 |
| DE60005076T DE60005076T2 (de) | 1999-02-24 | 2000-02-23 | Verfahren und Vorrichtung zur elektrolytischen Behandlung |
| EP00103792A EP1031648B1 (en) | 1999-02-24 | 2000-02-23 | Apparatus and method for electrolytic treatment |
| US09/511,990 US6325912B1 (en) | 1999-02-24 | 2000-02-24 | Apparatus and method for electrolytic treatment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11046864A JP2000239900A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 電解処理装置及び電解処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000239900A true JP2000239900A (ja) | 2000-09-05 |
Family
ID=12759217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11046864A Pending JP2000239900A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 電解処理装置及び電解処理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6325912B1 (ja) |
| EP (1) | EP1031648B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000239900A (ja) |
| DE (1) | DE60005076T2 (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62136596A (ja) * | 1985-12-09 | 1987-06-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 金属ウエブへの連続電解処理装置 |
| JP2581954B2 (ja) * | 1988-07-04 | 1997-02-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷板用アルミニウム支持体の電解処理方法 |
| JP2549557B2 (ja) * | 1989-03-14 | 1996-10-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 電解処理装置 |
| US5066370A (en) * | 1990-09-07 | 1991-11-19 | International Business Machines Corporation | Apparatus, electrochemical process, and electrolyte for microfinishing stainless steel print bands |
| JP2000017500A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電解処理装置及び電解処理方法 |
-
1999
- 1999-02-24 JP JP11046864A patent/JP2000239900A/ja active Pending
-
2000
- 2000-02-23 EP EP00103792A patent/EP1031648B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-23 DE DE60005076T patent/DE60005076T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-02-24 US US09/511,990 patent/US6325912B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE60005076D1 (de) | 2003-10-16 |
| EP1031648A1 (en) | 2000-08-30 |
| US6325912B1 (en) | 2001-12-04 |
| DE60005076T2 (de) | 2004-04-01 |
| EP1031648B1 (en) | 2003-09-10 |
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